TWI597561B - 圖案產生方法、遮罩的製造方法、曝光方法、半導體設備的製造方法、儲存媒體、以及資訊處理裝置 - Google Patents
圖案產生方法、遮罩的製造方法、曝光方法、半導體設備的製造方法、儲存媒體、以及資訊處理裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI597561B TWI597561B TW104122044A TW104122044A TWI597561B TW I597561 B TWI597561 B TW I597561B TW 104122044 A TW104122044 A TW 104122044A TW 104122044 A TW104122044 A TW 104122044A TW I597561 B TWI597561 B TW I597561B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- pattern
- unit
- auxiliary
- mask
- auxiliary pattern
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014149015A JP6415154B2 (ja) | 2014-07-22 | 2014-07-22 | パターンの作成方法、プログラムおよび情報処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201604645A TW201604645A (zh) | 2016-02-01 |
| TWI597561B true TWI597561B (zh) | 2017-09-01 |
Family
ID=55147500
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW104122044A TWI597561B (zh) | 2014-07-22 | 2015-07-07 | 圖案產生方法、遮罩的製造方法、曝光方法、半導體設備的製造方法、儲存媒體、以及資訊處理裝置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9811623B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6415154B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101911993B1 (enExample) |
| CN (1) | CN105278235B (enExample) |
| TW (1) | TWI597561B (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6238687B2 (ja) * | 2013-11-12 | 2017-11-29 | キヤノン株式会社 | マスクパターン作成方法、光学像の計算方法 |
| JP7741394B2 (ja) * | 2022-03-18 | 2025-09-18 | 富士通株式会社 | 設計プログラム、設計方法及び設計装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003324149A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Nec Electronics Corp | ダミーパターンの自動発生方法 |
| JP4040515B2 (ja) | 2003-03-26 | 2008-01-30 | 株式会社東芝 | マスクのセット、マスクデータ作成方法及びパターン形成方法 |
| JP2004294664A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fujitsu Ltd | レチクルの作成方法、およびレチクルの作成プログラム |
| JP3993545B2 (ja) | 2003-09-04 | 2007-10-17 | 株式会社東芝 | パターンの作製方法、半導体装置の製造方法、パターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 |
| JP4713962B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2011-06-29 | 株式会社東芝 | パターン作成方法及び半導体装置製造方法 |
| JP2007057849A (ja) * | 2005-08-24 | 2007-03-08 | Toshiba Microelectronics Corp | パターン検査方法、露光用マスク、およびパターン検査プログラム |
| US7873929B2 (en) | 2006-08-14 | 2011-01-18 | The Regents Of The University Of California | Method, apparatus and system for designing an integrated circuit including generating at least one auxiliary pattern for cell-based optical proximity correction |
| JP4829742B2 (ja) | 2006-10-05 | 2011-12-07 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 膜のパターニング方法及び露光用マスク |
| US8286107B2 (en) | 2007-02-20 | 2012-10-09 | Tela Innovations, Inc. | Methods and systems for process compensation technique acceleration |
| US7763398B2 (en) * | 2007-05-02 | 2010-07-27 | Dongbu Hitek Co., Ltd. | Layout method for mask |
| JP5106220B2 (ja) | 2008-04-10 | 2012-12-26 | キヤノン株式会社 | 原版データ生成プログラム、原版データ生成方法、照明条件決定プログラム、照明条件決定方法およびデバイス製造方法 |
| US8413083B2 (en) | 2009-05-13 | 2013-04-02 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Mask system employing substantially circular optical proximity correction target and method of manufacture thereof |
| CN102738167B (zh) * | 2011-03-31 | 2017-02-22 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体器件及其形成方法 |
| US8631360B2 (en) * | 2012-04-17 | 2014-01-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Methodology of optical proximity correction optimization |
-
2014
- 2014-07-22 JP JP2014149015A patent/JP6415154B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-07 TW TW104122044A patent/TWI597561B/zh active
- 2015-07-17 US US14/802,851 patent/US9811623B2/en active Active
- 2015-07-21 KR KR1020150102789A patent/KR101911993B1/ko active Active
- 2015-07-22 CN CN201510434239.4A patent/CN105278235B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105278235A (zh) | 2016-01-27 |
| KR101911993B1 (ko) | 2018-10-25 |
| TW201604645A (zh) | 2016-02-01 |
| JP2016024372A (ja) | 2016-02-08 |
| US20160026743A1 (en) | 2016-01-28 |
| CN105278235B (zh) | 2019-11-05 |
| KR20160011586A (ko) | 2016-02-01 |
| US9811623B2 (en) | 2017-11-07 |
| JP6415154B2 (ja) | 2018-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101711699B1 (ko) | 마스크 패턴 작성 방법, 기록 매체 및 정보 처리 장치 | |
| US9383638B2 (en) | Method for generating pattern, storage medium, and information processing apparatus | |
| JP5052625B2 (ja) | マスクのレイアウトを設計する方法及びプログラム | |
| JP6399751B2 (ja) | マスクパターン作成方法、プログラム、マスク製造方法、露光方法及び物品製造方法 | |
| KR20170048281A (ko) | 패턴 생성 방법, 프로그램, 정보 처리 장치, 및 마스크 제조 방법 | |
| JP5575024B2 (ja) | マスクパターン補正方法、マスクパターン補正プログラムおよび半導体装置の製造方法 | |
| TWI597561B (zh) | 圖案產生方法、遮罩的製造方法、曝光方法、半導體設備的製造方法、儲存媒體、以及資訊處理裝置 | |
| US9547230B2 (en) | Method for evaluating optical image of pattern, recording medium, and information processing apparatus | |
| JP6141044B2 (ja) | 生成方法、プログラム及び情報処理装置 | |
| TWI474105B (zh) | 遮罩資料產生方法 | |
| JP2011197304A (ja) | マスクデータ作成方法、リソグラフィ用マスクの製造方法、半導体装置の製造方法およびフレア補正プログラム | |
| JP5980065B2 (ja) | マスクデータの作成方法、プログラム、情報処理装置、マスク製造方法、露光方法及びデバイス製造方法 | |
| JP2016024372A5 (enExample) | ||
| US20150356214A1 (en) | Operation method and apparatus for performing lithography-related simulation, and recording medium | |
| KR20130136922A (ko) | 마스크 데이터 생성 방법 | |
| JP2015045720A (ja) | レチクルの製造方法、その製造方法により製造されたレチクル、半導体装置の製造方法及び半導体装置 |