TWI594866B - Injection molding machine - Google Patents

Description

射出成形機

本申請主張基於2013年3月29日申請之日本專利申請第2013-072869號之優先權。其申請之所有內容藉由參閱援用於該說明書中。

本發明係有關一種射出成形機。

射出成形機具有進行模具裝置的閉模、合模及開模之合模裝置。模具裝置由定模及動模等構成。合模裝置具有：第1固定構件，安裝有定模；第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在第1可動構件與第2可動構件之間。由第2固定構件及第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部(例如參閱專利文獻1)。

(先前技術文獻) (專利文獻)

專利文獻1：國際公開第2005/090052號

以往，存在合模力的平衡不佳而使成形品的周圍產生毛邊等成形品的質量變差的情況。

本發明係鑒於上述課題而完成的，其目的在於提供一種能夠維持合模力的平衡之射出成形機。

為了解決上述課題，依本發明的一態樣提供一種射出成形機，其具備：第1固定構件，安裝有定模；第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與前述第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在前述第1可動構件與前述第2可動構件之間，並且，由前述第2固定構件及前述第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部，而且，具備在距框架之距離不同的複數個位置支撐前述第1固定構件、前述第1可動構件、前述第2可動構件及前述第2固定構件中的至少1個構件之支撐部。

依本發明提供一種能夠維持合模力的平衡之射出成形機。

10‧‧‧合模裝置

11‧‧‧框架

12‧‧‧固定壓板(第1固定構件)

13‧‧‧可動壓板(第1可動構件)

15‧‧‧後壓板(第2固定構件)

18‧‧‧吸附構件(第2可動構件)

21‧‧‧線性馬達

24‧‧‧合模力產生部

25‧‧‧電磁鐵

26‧‧‧吸附部

30‧‧‧模具裝置

32‧‧‧定模

33‧‧‧動模

42‧‧‧固定壓板支撐部

43‧‧‧可動壓板支撐部

45‧‧‧後壓板支撐部

48‧‧‧吸附構件支撐部

148‧‧‧吸附構件支撐部

148b‧‧‧第1連接部

148c‧‧‧第2連接部

248‧‧‧吸附構件支撐部

251‧‧‧第1連結部

252‧‧‧第2連結部

418‧‧‧吸附構件

418a‧‧‧槽部(變形部)

第1圖係表示本發明的第1實施形態之射出成形機的 閉模結束時的狀態之圖。

第2圖係表示本發明的第1實施形態之射出成形機的開模結束時的狀態之圖。

第3圖係表示本發明的第2實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。

第4圖係表示本發明的第3實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。

第5圖係表示本發明的第4實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。

第6圖係表示本發明的第5實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。

以下，參閱附圖對用於實施本發明之形態進行說明，在各附圖中對相同或對應之結構附加相同或對應之符號以省略說明。此外，將進行閉模時的可動壓板的移動方向設為前方，將進行開模時的可動壓板的移動方向設為後方來進行說明。此外，將相對於框架垂直的方向作為上下方向進行說明。前後方向、上下方向及左右方向為相互垂直的方向。另外，本實施形態的射出成形機可以係臥式，亦可以係立式。

[第1實施形態]

第1圖係表示本發明的第1實施形態之射出成形機的 閉模結束時的狀態之圖。第2圖係表示本發明的第1實施形態之射出成形機的開模結束時的狀態之圖。

射出成形機具備進行模具裝置30的閉模、合模及開模之合模裝置10等。模具裝置30例如由定模32及動模33構成。模具裝置30藉由模具調溫器保持既定的溫度。

合模裝置10具有框架11、作為第1固定構件的固定壓板12、作為第1可動構件的可動壓板13、作為第2固定構件(及合模用構件)的後壓板15、作為第2可動構件的吸附構件18、作為模開閉驅動部的線性馬達21及合模力產生部24等。

固定壓板12由固定壓板支撐部42支撐，固定壓板支撐部42進退自如地載置於框架11上。固定壓板12的模具安裝面上安裝有定模32。另外，本實施形態的固定壓板支撐部42與固定壓板12單獨形成，但亦可與固定壓板12一體形成。

可動壓板13由可動壓板支撐部43支撐，可動壓板支撐部43固定於沿著舖設於框架11上之導件(例如導軌)17移動自如的導引塊14上。藉此，可動壓板13相對於框架11進退自如。可動壓板13的模具安裝面上安裝有動模33。另外，本實施形態的可動壓板支撐部43與可動壓板13單獨形成，但亦可與可動壓板13一體形成。

後壓板15經由複數根(例如4根)繫桿16與固定壓板12連結。後壓板15配設於可動壓板13與吸附構件18之間，且由後壓板支撐部45支撐。後壓板支撐部45固定 於框架11。另外，本實施形態的後壓板支撐部45與後壓板15單獨形成，但亦可與後壓板15一體形成。

吸附構件18經由桿19與可動壓板13連結，並與可動壓板13一同移動。配設於可動壓板13與吸附構件18之間之後壓板15上形成有供桿19插穿之插穿孔。

吸附構件18由吸附構件支撐部48支撐，吸附構件支撐部48固定於沿著舖設於框架11上之導件17移動自如的滑動基座20。藉此，吸附構件18在比後壓板15更靠後方移動自如。另外，本實施形態的吸附構件支撐部48與吸附構件18單獨形成，但亦可與吸附構件18一體形成。

線性馬達21使經由桿19連結之可動壓板13及吸附構件18相對於框架11移動。線性馬達21例如配設於吸附構件18與框架11之間，由線性馬達21產生之推力經由吸附構件18被傳遞到可動壓板13。

另外，線性馬達21亦可以配設於可動壓板13與框架11之間，由線性馬達21產生之推力可以經由可動壓板13傳遞到吸附構件18。

線性馬達21包含固定件22及可動件23。固定件22形成於框架11，可動件23形成於滑動基座20。若向可動件23的線圈供給既定電流，則在藉由流過線圈之電流形成之磁場和由固定件22的永久磁鐵形成之磁場的相互作用下使可動件23進退。其結果，使吸附構件18及可動壓板13相對於框架11進退，進行閉模及開模。另外，亦可 將線圈與永久磁鐵的配置互換，此外亦可以使用其他線圈來代替永久磁鐵。

另外，作為模開閉驅動部可以使用旋轉馬達及將旋轉馬達的旋轉運動轉換為直線運動之滾珠螺桿的組合、或液壓缸等，來代替線性馬達21。

合模力產生部24由後壓板15及吸附構件18構成，藉由電磁鐵25之吸附力產生合模力。後壓板15的吸附面的既定部份例如桿19的周圍形成有容納電磁鐵25的線圈之槽，槽的內側形成有電磁鐵25的磁芯。吸附部26包圍吸附構件18的吸附面的既定部份、例如桿19，並且形成於與電磁鐵25對置之部份。若向電磁鐵25的線圈供給電流，則電磁鐵25與吸附部26之間會產生吸附力，而產生合模力。

另外，本實施形態的電磁鐵25與後壓板15單獨形成，但亦可以作為後壓板15的一部份形成。此外，本實施形態的吸附部26與吸附構件18獨立形成，但亦可以作為吸附構件18的一部份形成。此外，亦可將電磁鐵25與吸附部26的配置互換。亦即，亦可在吸附構件18側形成電磁鐵25，在後壓板15側形成吸附部26。此外，亦可以在後壓板側與吸附構件側兩側都形成電磁鐵。

接著，參閱第1圖及第2圖對上述結構的合模裝置10的動作進行說明。

在第2圖所示之開模結束之狀態下驅動線性馬達21來使可動壓板13前進，則如第1圖所示，動模33與定模 32接觸，閉模結束。在閉模結束的時刻，在後壓板15與吸附構件18之間亦即電磁鐵25與吸附部26之間形成既定的間隙δ。

閉模結束之後，藉由驅動電磁鐵25在隔著既定的間隙δ相對置之電磁鐵25與吸附部26之間產生吸附力。藉由該吸附力而在可動壓板13與固定壓板12之間產生合模力。

在合模狀態的定模32與動模33之間形成模穴空間。在模穴空間填充液體狀成形材料(例如熔融樹脂)，所填充之成形材料經固化成為成形品。

之後，若藉由驅動線性馬達21來使可動壓板13後退，則動模33會後退而進行開模。開模之後，從動模33頂出成形品。

接著，對固定構件支撐部42進行說明。

固定壓板支撐部42支撐固定壓板12中與模具安裝面(後端面)相反側的面(前端面)。固定壓板支撐部42亦可以隔著固定壓板12的中心位置(詳細而言，固定壓板12中複數根繫桿16的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，固定壓板支撐部42亦可以支撐固定壓板12的側面。

固定壓板支撐部42從前方支撐作為被支撐構件的固定壓板12，且在框架11與固定壓板12之間形成間隙。固定壓板12能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因固定壓板12的溫度變化而使相對於框架11之固定壓板12的中 心位置上下偏離。此外，從定模32向固定壓板12供給之熱量不易經由固定壓板12的下表面向框架11移動。因此，固定壓板12的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制固定壓板12的翹曲。

固定壓板支撐部42在合模時等對固定壓板12施加轉動力矩之情況下，由於對固定壓板12進行多點支撐，而抑制固定壓板12相對於框架11之傾斜。

固定壓板支撐部42在距框架11的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐固定壓板12。例如，固定壓板支撐部42具有移動自如地載置於框架11上且朝上方延伸之柱部42a、連結柱部42a與固定壓板12之第1臂部42b、及連結柱部42a與固定壓板12之第2臂部42c。柱部42a不與固定壓板12接觸，第1臂部42b的一端部及第2臂部42c的一端部在距框架11的距離不同的位置連結於固定壓板12。

由固定壓板支撐部42支撐固定壓板12之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之固定壓板12的旋轉。因此，能夠抑制固定壓板12相對於框架11之傾斜。能夠維持定模32與動模33的平行度，能夠維持合模力的平衡。固定壓板支撐部42支撐固定壓板12之複數個位置，以固定壓板12的中心位置為基準可包括靠近框架11之位置及遠離框架11之位置，亦可為上下對稱的位置。固定壓板12的翹曲容易呈上下對稱。

接著，對可動壓板支撐部43進行說明。

可動壓板支撐部43支撐可動壓板13中與模具安裝面(前端面)相反側的面(後端面)。可動壓板支撐部43亦可以隔著可動壓板13的中心位置(詳細而言，可動壓板13中的桿19的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，可動壓板支撐部43亦可以支撐可動壓板13的側面。

可動壓板支撐部43從後方支撐作為被支撐構件的可動壓板13，且在導引塊14和框架11與可動壓板13之間形成間隙。可動壓板13能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因可動壓板13的溫度變化而使相對於框架11之可動壓板13之中心位置上下偏離。此外，從動模33向可動壓板13供給之熱量不易經由可動壓板13的下表面向框架11移動。因此，可動壓板13的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制可動壓板13的翹曲。

可動壓板支撐部43在合模時等對可動壓板13施加轉動力矩之情況下，由於對可動壓板13進行多點支撐，而抑制可動壓板13相對於框架11之傾斜。

可動壓板支撐部43在距框架11的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐可動壓板13。例如，可動壓板支撐部43具有：固定於導引塊14且朝上方延伸之柱部43a、連結柱部43a與可動壓板13之第1臂部43b、及連結柱部43a與可動壓板13之第2臂部43c。柱部43a不與可動壓板13接觸，第1臂部43b的一端部及第2臂部 43c的一端部在距框架11的距離不同的位置連結於可動壓板13。

由可動壓板支撐部43支撐可動壓板13之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之可動壓板13的旋轉。因此，能夠抑制可動壓板13相對於框架11之傾斜。能夠維持動模33與定模32的平行度，能夠維持合模力的平衡。可動壓板支撐部43支撐可動壓板13之複數個位置，以可動壓板13的中心位置為基準可包括靠近框架11之位置及遠離框架11之位置，亦可為上下對稱的位置。可動壓板13的翹曲容易呈上下對稱。

接著，對後壓板支撐部45進行說明。

後壓板支撐部45支撐後壓板15中與吸附面(後端面)相反側的面(前端面)。後壓板支撐部45亦可以隔著後壓板15的中心位置(詳細而言，後壓板15中的複數根繫桿16的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，後壓板支撐部45亦可以支撐後壓板15的側面。

後壓板支撐部45從前方支撐作為被支撐構件的後壓板15，且在框架11與後壓板15之間形成間隙。後壓板15能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因後壓板15的溫度變化而使相對於框架11之後壓板15的中心位置上下偏離。此外，電磁鐵25的焦耳熱不易經由後壓板15的下表面向框架11移動。因此，後壓板15的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制後壓板15的翹曲。

後壓板支撐部45在合模時等對後壓板15施加轉動力矩之情況下，由於對後壓板15進行多點支撐，而抑制後壓板15相對於框架11之傾斜。

後壓板支撐部45在距框架11的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐後壓板15。例如，後壓板支撐部45具有固定於框架11且朝上方延伸之柱部45a、連結柱部45a與後壓板15之第1臂部45b、及連結柱部45a與後壓板15之第2臂部45c。柱部45a不與後壓板15接觸，第1臂部45b的一端部及第2臂部45c的一端部在距框架11的距離不同的位置連結於後壓板15。

由後壓板支撐部45支撐後壓板15之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之後壓板15的旋轉。因此，能夠抑制後壓板15相對於框架11之傾斜。閉模結束時在後壓板15與吸附構件18之間形成之間隙呈上下對稱，能夠維持吸附力的平衡，能夠維持合模力的平衡。後壓板支撐部45支撐後壓板15之複數個位置，以後壓板15的中心位置為基準可包括靠近框架11之位置及遠離框架11之位置，亦可為上下對稱的位置。後壓板15的翹曲容易呈上下對稱。

接著，對吸附構件支撐部進行說明。

吸附構件支撐部48支撐吸附構件18中與吸附面(前端面)相反側的面(後端面)。吸附構件支撐部48亦可以隔著吸附構件18的中心位置(詳細而言，吸附構件18 的桿19的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，吸附構件支撐部48亦可以支撐吸附構件18的側面。

吸附構件支撐部48從後方支撐作為被支撐構件的吸附構件18，且在滑動基座20和框架11吸附構件18之間形成間隙。吸附構件18能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因吸附構件18的溫度變化而使相對於框架11之吸附構件18的中心位置上下偏離。此外，流過吸附構件18之渦電流的焦耳熱不易經由吸附構件18的下表面向框架11移動。因此，吸附構件18的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制吸附構件18的翹曲。

吸附構件支撐部48在合模時等對吸附構件18施加轉動力矩之情況下，由於對吸附構件18進行多點支撐，而抑制吸附構件18相對於框架11之傾斜。

吸附構件支撐部48在距框架11的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐吸附構件18。例如，吸附構件支撐部48具有固定於滑動基座20且朝上方延伸之柱部48a、連結柱部48a與吸附構件18之第1臂部48b、及連結柱部48a與吸附構件18之第2臂部48c。柱部48a不與吸附構件18接觸，第1臂部48b的一端部及第2臂部48c的一端部在距框架11的距離不同的位置連結於吸附構件18。

由吸附構件支撐部48支撐吸附構件18之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之吸附 構件18的旋轉。因此，能夠抑制吸附構件18相對於框架11之傾斜。閉模結束時在吸附構件18與後壓板15之間形成之間隙呈上下對稱，能夠維持吸附力的平衡，能夠維持合模力的平衡。吸附構件支撐部48支撐吸附構件18之複數個位置，以吸附構件18的中心位置為基準可包括靠近框架11之位置及遠離框架11之位置，亦可為上下對稱的位置。吸附構件18的翹曲容易呈上下對稱。

[第2實施形態]

本實施形態的吸附構件支撐部，在具有其一端部相對轉動自如地連接於吸附構件之連接部之方面，與第1實施形態的吸附構件支撐部不同。以下，主要對不同點進行說明。

第3圖係表示本發明的第2實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。吸附構件支撐部148支撐吸附構件118的側面。吸附構件支撐部148亦可以隔著吸附構件支撐部118的中心位置(詳細而言，吸附構件118中的桿119的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，吸附構件支撐部148亦可以支撐吸附構件118中與吸附面(前端面)相反側的面(後端面)。

吸附構件支撐部148從側方支撐作為被支撐構件的吸附構件118，且在滑動基座120和框架111與吸附構件118之間形成間隙。吸附構件118能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因吸附構件118的溫度變化而使相對於框架 111之吸附構件118的中心位置上下偏離。此外，流過吸附構件118之渦電流的焦耳熱不易經由吸附構件支撐部148的下表面向框架111移動。因此，吸附構件118的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制吸附構件118的翹曲。

吸附構件支撐部148在合模時等對吸附構件118施加轉動力矩之情況下，由於對吸附構件118進行多點支撐，而抑制吸附構件118相對於框架111之傾斜。

吸附構件支撐部148在距框架111的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐吸附構件118。例如，吸附構件支撐部148具有：各自的一端部連接於吸附構件118之第1連接部148b及第2連接部148c。第1連接部148b的一端部及第2連接部148c的一端部在距框架111的距離不同的位置連接於吸附構件118。

由吸附構件支撐部148支撐吸附構件118之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之吸附構件118的旋轉。因此，能夠抑制吸附構件118相對於框架111之傾斜。閉模結束時在吸附構件118與後壓板之間形成之間隙呈上下對稱，能夠維持吸附力的平衡，能夠維持合模力的平衡。吸附構件支撐部148支撐吸附構件118之複數個位置，以吸附構件118的中心位置為基準可包括靠近框架111之位置及遠離框架111之位置，亦可為上下對稱的位置。吸附構件118的翹曲容易呈上下對稱。

第1連接部148b的一端部由銷接頭等構成，且相對 轉動自如地連接於吸附構件118。因此，第1連接部148b的一端部相對不可轉動地與吸附構件118連接之情況相比，能夠抑制從吸附構件118向吸附構件支撐部148傳遞轉動力矩。能夠抑制吸附構件支撐部148相對於框架111之傾斜，因此能夠抑制吸附構件118相對於框架111之傾斜。另外，第1連接部148b的一端部亦可由軸承等構成，以此來代替銷接頭。

同樣第2連接部148c的一端部由銷接頭等構成，且相對轉動自如地連接於吸附構件118。因此，與第2連接部148c的一端部相對不可轉動地連接於吸附構件118之情況相比，能夠抑制從吸附構件118向吸附構件支撐部148傳遞轉動力矩。能夠抑制吸附構件支撐部148相對於框架111之傾斜，因此能夠抑制吸附構件118相對於框架111之傾斜。另外，第2連接部148c的一端部亦可由軸承等構成，以此代替銷接頭。

另外，本實施形態中，第1連接部148b的一端部及第2連接部148c的一端部兩者相對轉動自如地連接於吸附構件118，但亦可其中任一者相對轉動自如地連接於吸附構件118。

吸附構件支撐部148亦可以具有沿上下方向相對移動自如地與第2連接部148c的另一端部接觸之導件148d。導件148d固定於柱部148a，柱部148a固定於滑動基座120且從滑動基座120向上方延伸。在柱部148a上固定有第1連接部148b的另一端部。第1連接部148b的另一 端部與第2連接部148c的另一端部能夠沿上下方向相對移動，且能夠吸收轉動力矩，因此能夠抑制從吸附構件118向吸附構件支撐部148傳遞轉動力矩。

另外，本實施形態的吸附構件支撐部148具有其一端部相對轉動自如地連接於吸附構件118之連接部計2個，但亦可以具有3個以上。此外，本實施形態的吸附構件支撐部148具有相對移動自如地與連接部的另一端部接觸之導件僅1個，但亦可以具有2個以上。

本實施形態對吸附構件支撐部進行了說明，但亦能夠適用於固定壓板支撐部、可動壓板支撐部、及後壓板支撐部。

例如，固定壓板支撐部可以具有其一端部相對轉動自如地連接於固定壓板之連接部至少1個，還可以具有相對移動自如地與連接部的另一端部接觸之導件。藉由該導件，複數個連接部的另一端部成為相對移動自如。

此外，可動壓板支撐部可以具有其一端部相對轉動自如地連接於可動壓板之連接部至少1個，還可以具有相對移動自如地與連接部的另一端部接觸之導件。藉由該導件，複數個連接部的另一端部成為相對移動自如。

此外，後壓板支撐部可以具有其一端部相對轉動自如地連接於後壓板之連接部至少1個，還可以具有相對移動自如地與連接部的另一端部接觸之導件。藉由該導件，複數個連接部的另一端部成為相對移動自如。

[第3實施形態]

本實施形態的吸附構件支撐部具有：各自的一端部在距框架之距離不同的位置連結於吸附構件之複數個連結部，且在該複數個連結部的另一端部成為相對移動自如之方面與第1實施形態的吸附構件支撐部不同，以下，主要對不同點進行說明。

第4圖係表示本發明的第3實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。吸附構件支撐部248支撐吸附構件218的側面。吸附構件支撐部248亦可以隔著吸附構件218的中心位置(詳細而言，吸附構件218中的桿219的安裝位置的中心位置)而設於其左右兩側。另外，吸附構件支撐部248亦可以支撐吸附構件218中與吸附面(前端面)相反側的面(後端面)。

吸附構件支撐部248從側方支撐作為被支撐構件的吸附構件218，且在框架211等與吸附構件218之間形成間隙。吸附構件218能夠沿上下兩個方向熱變形，不易因吸附構件218的溫度變化而使相對於框架211之吸附構件218的中心位置上下偏離。此外，流過吸附構件218之渦電流的焦耳熱不易經由吸附構件218的下表面向框架211移動。因此，吸附構件218的溫度分佈容易呈上下對稱，能夠抑制吸附構件218的翹曲。

吸附構件支撐部248在合模時等對吸附構件218施加轉動力矩之情況下，由於對吸附構件218進行多點支撐，而抑制吸附構件218相對於框架211之傾斜。

吸附構件支撐部248在距框架211的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐吸附構件218。例如，吸附構件支撐部248具有：各自的一端部在距框架211的距離不同的複數個(例如2個)位置連結於吸附構件218之第1連接部251及第2連接部252。

由吸附構件支撐部248支撐吸附構件218之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之吸附構件218的旋轉。能夠抑制吸附構件218相對於框架211的傾斜。因此，閉模結束時在吸附構件218與後壓板之間形成之間隙呈上下對稱，能夠維持吸附力的平衡，能夠維持合模力的平衡。吸附構件支撐部248支撐吸附構件218之複數個位置，以吸附構件218的中心位置為基準可包括靠近框架211之位置及遠離框架211之位置，亦可為上下對稱的位置。吸附構件218的翹曲容易呈上下對稱。

吸附構件支撐部248還具有：與作為第1連結部251的另一端部、即第1滑動基座251a及作為第2連結部252的另一端部、即第2滑動基座252a分別相對移動自如地接觸之導件253。導件253固定於框架211。第1滑動基座251a及第2滑動基座252a能夠沿前後方向相對移動，能夠吸收轉動力矩，能夠抑制從吸收構件218向吸附構件支撐部248傳遞轉動力矩。

第1連結構件251具有：第1滑動基座251a、從第1滑動基座251a向上方延伸之第1柱部251b、及連結第1 柱部252b與吸附構件218之第1臂部251c。另外，本實施形態的第1連結部251的一端部相對不可轉動地連結於吸附構件218，但亦可相對轉動自如地連結於吸附構件218。

第2連結構件252具有第2滑動基座252a、從第2滑動基座252a向上方延伸之第2柱部252b、及連結第2柱部252b與吸附構件218之第2臂部252c。另外，本實施形態的第2連結部252的一端部相對不可轉動地連結於吸附構件218，但亦相對可轉動自如地連結於吸附構件218。

第1柱部251b比第2柱部252b更長，因此亦可形成為比第2柱部252b更粗。第1連結部251的剛性與第2連結部252的剛性成為相同的程度，吸附構件218的翹曲容易以吸附構件218的中心位置為中心呈上下對稱。另外，第1臂部251c亦可比第2臂部252c更粗。

此外，第1柱部251b比第2柱部252b更長，因此可配設在比第2柱部252b更靠吸附構件218之位置。亦即，第1臂部251c可比第2臂部252c更短。第1連結部251的剛性與第2連結部252的剛性成為相同的程度，吸附構件218的翹曲容易以吸附構件218的中心位置為中心呈上下對稱。另外，亦可以沒有第1臂部251c而使第1柱部251b的上端部與吸附構件218連結。

另外，本實施形態的吸附構件支撐部248雖具有其一端部連結於吸附構件218之連結部計2個，但亦可以具有 3個以上。此外，本實施形態的吸附構件支撐部248雖具有移動自如地與連結部的另一端部接觸之導件僅1個，但亦可以具有複數個。

本實施形態對吸附構件支撐部進行了說明，但亦能夠適用於固定壓板支撐部、可動壓板支撐部、後壓板支撐部。

例如，固定壓板支撐部可具有：各自的一端部在距框架的距離不同的位置與固定壓板連結之第1連結部及第2連結部、及與第1連結部的另一端部及第2連結部的另一端部分別相對移動自如地接觸之導件。藉由該導件，第1連結部的另一端部與第2連結部的另一端部成為相對移動自如。第1連結部的另一端部及第2連結部的另一端部亦可以分別獨立地進退自如地載置於框架。框架亦可以包括在固定壓板支撐部。

此外，可動壓板支撐部可具有：各自的一端部在距框架的距離不同的位置與可動壓板連結之第1連結部及第2連結部、及與第1連結部的另一端部及第2連結部的另一端部分別相對移動自如地接觸之導件。藉由該導件，第1連結部的另一端部與第2連結部的另一端部成為相對移動自如。

此外，後壓板支撐部可具有：各自的一端部在距框架的距離不同的位置與後壓板連結之第1連結部及第2連結部、及與第1連結部的另一端部相對移動自如地接觸之導件。藉由該導件，第1連結部的另一端部與第2連結部的 另一端部成為相對移動自如。第1連結部的另一端部亦可以進退自如地載置於框架。第2連結部的另一端部固定於框架。框架亦可以包括在後壓板支撐部。

[第4實施形態]

本實施形態的吸附構件支撐部，在從後方及下方支撐吸附構件之方面與第1實施形態的吸附構件支撐部不同，以下，主要對不同點進行說明。

第5圖係表示本發明的第4實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。吸附構件支撐部348支撐吸附構件318中與吸附面(前端面)相反側的面(後端面)及下表面。另外。吸附構件支撐部348亦可支撐吸附構件318的側面來代替後端面。

吸附構件支撐部348在合模時等對吸附構件318施加轉動力矩之情況下，由於對吸附構件318進行多點支撐，而抑制吸附構件318相對於框架311之傾斜。

吸附構件支撐部348在距框架311的距離不同的複數個(例如2個)位置支撐吸附構件318。例如，吸附構件支撐部348具有：各自的一端部在距框架311的距離不同的位置與吸附構件318連結之第1連結部351及第2連結部352。

由吸附構件支撐部348支撐吸附構件318之位置在上下方向上存在複數個，與僅有一個之情況相比，能夠抑制以左右方向(圖中與紙面正交之方向)作為旋轉軸線之吸 附構件318的旋轉。能夠抑制吸附構件318相對於框架311之傾斜。因此，閉模結束時在吸附構件318與後壓板之間形成之間隙呈上下對稱，能夠維持吸附力的平衡，能夠維持合模力的平衡。吸附構件支撐部348支撐吸附構件318之複數個位置，以吸附構件318的中心位置為基準可包括靠近框架311之位置及遠離框架311之位置，亦可為上下對稱的位置。吸附構件318的翹曲容易呈上下對稱。

第1連結構件351具有從滑動基座353向上方延伸之柱部351a、及連結柱部351a與吸附構件318之臂部351b。

第1連結部351的一端部相對不可轉動地連結於吸附構件318的後端面。另外，第1連結部351的一端部亦可相對轉動自如地連結於吸附構件318的後端面。

第1連結部351的另一端部固定於滑動基座353。

第2連結部352將沿著舖設於框架311之導件317移動自如的滑動基座353與吸附構件318予以連結。

第2連結部352的一端部相對不可轉動地連結於吸附構件318的下表面。另外，第2連結部352的一端部亦可相對轉動自如地連結於吸附構件318的下表面。

第2連結部352的另一端部固定於滑動基座353。

另外，本實施形態中，第1連結部351的另一端部與第2連結部352的另一端部兩者都固定在滑動基座353上，但只要任意一方固定在滑動基座上即可。例如，第2連結部352的另一端部可相對移動自如地載置於滑動基座 353，亦可相對移動自如地與設置在滑動基座353之導件接觸，以便相對於第1連結部351的另一端部相對移動自如。

由第1連結部351、第2連結部352、及滑動基座353構成吸附構件支撐部348。另外，亦可以沒有第2連結部352。例如，亦可以使第1連結部351的另一端部固定於滑動基座353，滑動基座353相對移動自如地與吸附構件318接觸。此外，亦可以使吸附構件318固定於滑動基座353，第1連結部351的另一端部相對於滑動基座353相對移動自如。在任一情況下均能夠吸收轉動力矩。

本實施形態對吸附構件支撐部進行了說明，但亦能夠適用於固定壓板支撐部、可動壓板支撐部、後壓板支撐部。

例如，固定壓板支撐部可從前方及下方支撐固定壓板，且具有一端部與固定壓板連結之連結部、及與固定壓板接觸之框架。連結部的另一端部成為相對於框架相對移動自如。例如，連結部的另一端部可相對移動自如地與框架接觸，亦可相對移動自如地與設置在框架之導件接觸。框架相對移動自如地與固定壓板接觸。能夠吸收轉動力矩。另外，固定壓板支撐部可從側方及下方支撐固定壓板，亦可從側方、前方及下方支撐固定壓板。

此外，可動壓板支撐部可從後方及下方支撐可動壓板，且具有一端部與可動壓板連結之連結部、及與可動壓板接觸之導引塊。連結部的另一端部成為相對於導引塊相 對移動自如，可動壓板可固定於導引塊上。此外，連結部的另一端部可固定於導引塊，導引塊相對移動自如地與可動壓板接觸。能夠吸收轉動力矩。另外，可動壓板支撐部可從側方及下方支撐可動壓板，亦可從側方、後方及下方支撐可動壓板。

此外，後壓板支撐部可從前方及下方支撐後壓板，且具有其一端部與後壓板連結之連結部、及與後壓板接觸之框架。連結部的另一端部成為相對於框架相對移動自如，後壓板可固定於框架上。此外，連結部的另一端部可固定於框架，框架相對移動自如地與後壓板接觸。能夠吸收轉動力矩。另外，後壓板支撐部可從側方及下方支撐後壓板，亦可從側方、前方及下方支撐後壓板。

[第5實施形態]

本實施形態的吸附構件，在具有以吸收作用於吸附構件之轉動力矩之方式變形之變形部之方面，與第1實施形態的吸附構件不同。以下，主要對不同點進行說明。

第6圖係表示本發明的第5實施形態之吸附構件及吸附構件支撐部之圖。作為被支撐構件的吸附構件418由吸附構件支撐部448支撐，吸附構件支撐部448固定於沿著舖設在框架411上之導件417移動自如的滑動基座420。吸附構件支撐部448構成為與第1實施形態的吸附構件支撐部48相同，但亦可構成為與第2實施形態的吸附構件支撐部148、第3實施形態的吸附構件支撐部248或第4 實施形態的吸附構件支撐部348相同。

吸附構件418具有：以吸收作用於吸附構件418之轉動力矩之方式變形之變形部、即槽部418a。槽部418a亦可在左右方向(圖中與紙面正交之方向)貫穿吸附構件418。藉由槽部418a的變形吸收旋轉力矩，從吸附構件418向吸附構件支撐部448傳遞之轉動力矩縮小。能夠抑制吸附構件支撐部448相對於框架411之傾斜，因此能夠抑制吸附構件418相對於框架411之傾斜。

槽部418a可形成在與吸附構件418的中心位置距框架411的距離大致相同的位置，亦可形成在與電磁鐵的中心位置距框架411的距離大致相同的位置。在電磁鐵所形成之磁場的磁力線幾乎不通過之位置形成槽部418a，因此能夠抑制磁阻的增加，能夠得到較高的吸附力。此外，吸附構件418的變形以吸附構件418的中心位置為中心呈上下對稱地產生，因此能夠抑制吸附構件418相對於框架411之傾斜。

本實施形態對吸附構件進行了說明，但亦能夠適用於固定壓板、可動壓板及後壓板。固定壓板、可動壓板及後壓板亦可以具有：以吸收分別作用於其等之轉動力矩之方式變形之變形部。

以上，對射出成形機的實施形態進行了說明，但本發明並沒有限定於上述實施形態，在申請專利範圍中記載之要旨範圍內能夠進行各種變形，改良。

例如，上述實施形態中，固定壓板支撐部進退自如地 載置於框架，後壓板支撐部固定於框架，但亦可以係後壓板支撐部進退自如地載置於框架，固定壓板支撐部固定於框架。只要能夠容許對應於合模力之繫桿的延伸即可。

此外，連結上述實施形態的可動壓板與後壓板之桿雖為一個，但亦可為複數個。此時，可動壓板支撐部支撐可動壓板之位置，以可動壓板的複數個桿的安裝位置的中心位置為基準可包括靠近框架之位置及遠離框架之位置，亦可以係上下對稱的位置。此外，此時，後壓板支撐部支撐後壓板之位置，以後壓板的複數個桿的安裝位置的中心位置為基準可包括靠近框架之位置及遠離框架之位置，亦可以係上下對稱的位置。

此外，第1圖所示之吸附構件支撐部48中，亦可在吸附構件18與第1臂部(第1連結部)48b之間、吸附構件18與第2臂部(第2連結部)48c之間、第1臂部48b與柱部48a之間、第2臂部48c與柱部48a之間中的至少任一處設置有導件。例如使設置在吸附部件18及柱部48a中的任一處之導件，可相對移動自如地與第1臂部48b及第2臂部48c中的任一個接觸。能夠吸收轉動力矩。關於第1圖所示之後壓板支撐部45、可動壓板支撐部43、及固定壓板支撐部42亦相同。

10‧‧‧合模裝置

11‧‧‧框架

12‧‧‧固定壓板(第1固定構件)

13‧‧‧可動壓板(第1可動構件)

14‧‧‧導引塊

15‧‧‧後壓板(第2固定構件)

16‧‧‧繫桿

17‧‧‧導件

18‧‧‧吸附構件(第2可動構件)

20‧‧‧滑動基座

21‧‧‧線性馬達

22‧‧‧固定件

23‧‧‧可動件

24‧‧‧合模力產生部

25‧‧‧電磁鐵

26‧‧‧吸附部

30‧‧‧模具裝置

32‧‧‧定模

33‧‧‧動模

42‧‧‧固定壓板支撐部

42a‧‧‧柱部

42b‧‧‧第1臂部

42c‧‧‧第2臂部

43‧‧‧可動壓板支撐部

43a‧‧‧柱部

43b‧‧‧第1臂部

43c‧‧‧第2臂部

45‧‧‧後壓板支撐部

45a‧‧‧柱部

45b‧‧‧第1臂部

45c‧‧‧第2臂部

48‧‧‧吸附構件支撐部

48a‧‧‧柱部

48b‧‧‧第1臂部

48c‧‧‧第2臂部

δ‧‧‧間隙

Claims (7)

1. 一種射出成形機，具備：第1固定構件，安裝有定模；第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與前述第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在前述第1可動構件與前述第2可動構件之間，由前述第2固定構件及前述第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部，而且，具備在距框架之距離不同的複數個位置支撐前述第1固定構件、前述第1可動構件、前述第2可動構件及前述第2固定構件中的至少1個構件之支撐部，前述支撐部具有：其一端部相對轉動自如地連接於前述被支撐構件之連接部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之射出成形機，其中，前述支撐部具有複數個前述連接部，該複數個連接部的一端部在距框架之距離不同的位置連接於前述被支撐構件。
3. 如申請專利範圍第2項所述之射出成形機，其中，前述複數個連接部的另一端部成為相對移動自如。
4. 一種射出成形機，具備：第1固定構件，安裝有定模； 第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與前述第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在前述第1可動構件與前述第2可動構件之間，由前述第2固定構件及前述第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部，而且，具備在距框架之距離不同的複數個位置支撐前述第1固定構件、前述第1可動構件、前述第2可動構件及前述第2固定構件中的至少1個構件之支撐部，前述支撐部具有：各自的一端部在距前述框架之距離不同的位置連接於前述被支撐構件之複數個連結部，該複數個連結部的另一端部成為相對移動自如。
5. 如申請專利範圍第4項所述之射出成形機，其中，至少1個前述連結部的一端部相對轉動自如地連結於前述被支撐構件。
6. 一種射出成形機，具備：第1固定構件，安裝有定模；第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與前述第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在前述第1可動構件與前述第2可動構件之間，由前述第2固定構件及前述第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部， 而且，具備在距框架之距離不同的複數個位置支撐前述第1固定構件、前述第1可動構件、前述第2可動構件及前述第2固定構件中的至少1個構件之支撐部，前述支撐部相對移動自如地與前述被支撐構件接觸。
7. 一種射出成形機，具備：第1固定構件，安裝有定模；第1可動構件，安裝有動模；第2可動構件，與前述第1可動構件一同移動；及第2固定構件，配設在前述第1可動構件與前述第2可動構件之間，由前述第2固定構件及前述第2可動構件構成藉由電磁鐵之吸附力產生合模力之合模力產生部，而且，具備在距框架之距離不同的複數個位置支撐前述第1固定構件、前述第1可動構件、前述第2可動構件及前述第2固定構件中的至少1個構件之支撐部，由前述支撐部支撐之被支撐構件，係具有以吸收作用於該被支撐構件之轉動力矩之方式變形之變形部。