TWI590850B - 粒子線照射設備 - Google Patents

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TWI590850B TW104111082A TW104111082A TWI590850B TW I590850 B TWI590850 B TW I590850B TW 104111082 A TW104111082 A TW 104111082A TW 104111082 A TW104111082 A TW 104111082A TW I590850 B TWI590850 B TW I590850B
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Description

粒子線照射設備
本發明係關於一種粒子線照射設備，可精確度良好地控制用於粒子線照射裝置之電磁鐵的位置及姿勢等。
習知的粒子線照射裝置，通常同步加速器(synchrotron)等的加速器與治療室係存在於相同平面上。近年來，隨著粒子線照射裝置的大型化，因為戶外氣溫的季節變動或地基下沉等之地殼變動導致建築物的變形而使得對準變得不精確，照射射束無法滿足預定的性能，因此作為其因應措施，乃有必要在使用粒子線照射裝置時依各季節變更運轉參數，或定期性實施電磁鐵等之位置及姿勢等的再調整。在安置粒子線照射裝置時，以對準的方法而言，已揭示一種預先算出與成為建築物內或裝置上之基準點之設定位置的偏移量來進行對準(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。另一方面，在與醫院等鄰接的狹隘土地上建設粒子線照射設施時，往往採用將加速器與治療室配置成上下關係的構造等(例如參照專利文獻3)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2006-344466號公報(第0024段落、第2圖)
專利文獻2：日本特開2006-302818號公報(第0025段落、第2圖)
專利文獻3：日本特開2011-182987號公報(第0032段落、第1圖)
將加速器與治療室配置成上下關係時，會有建築物的構造變得複雜，季節間之溫度變化等所引起之建築物的變形變大的問題。尤其是將加速器或射束輸送系統裝置配置於治療室的上部時，由於設置有裝置的層面(floor)從經由地基改良或打樁所強化的建築物基礎部離開，而於設置有裝置之層面的下部存在治療室等的空間，因此會有該變形更為顯著的問題。此外，在射束輸送系統裝置中，由於控制射束之輸送的電磁鐵分別設置於不同的層面，因此有難以精確度良好地控制電磁鐵之相對的位置及姿勢的問題。
本發明係為了解決上述問題而研創者，其目的在提供一種粒子線照射設備，不僅粒子線照射裝置之加速器等與治療室存在於相同平面上時，即使是配置成上下的關係時，也可進行高精確度的射束照射。
本發明之粒子線照射設備，係具備：第1電磁鐵，設於高能量射束照射系統(High-Energy Beam Transport，HEBT)線的上游側；第2電磁鐵，設於高能量射束照射系統線的下游側；位置資訊取得手段，取得第1電磁鐵與第2電磁鐵的位置資訊；記憶部，預先記憶最初之對準時之第1電磁鐵與第2電磁鐵的位置資訊作為基準位置資訊；調整機構，用以調整第1電磁鐵及第2電磁鐵的位置及姿勢；及控制部，根據記憶於記憶部的基準位置資訊，從再對準時經由位置資訊取得手段所取得之第1電磁鐵與第2電磁鐵的位置資訊，算出自最初的對準時至再對準時為止第1電磁鐵及第2電磁鐵之位置及姿勢的位移量，且依據位移量而藉由調整機構來調整控制第1電磁鐵及第2電磁鐵之位置及姿勢。
依據本發明，由於將設於高能量射束照射系統線之上游側的第1電磁鐵與設於下游側之第2電磁鐵的基準位置資訊預先記憶於記憶部，且於再對準時，根據記憶於記憶部的基準位置資訊來調整第1電磁鐵及第2電磁鐵的位置及姿勢，因此即使建築物因為戶外氣溫的季節變動或地殼變動等而變形時，也可易於調整電磁鐵的位置及姿勢等。
1、1A、1B‧‧‧電磁鐵
2‧‧‧控制部
3‧‧‧記憶部
4‧‧‧變形模擬器
5‧‧‧GPS接收機
10、10-1、10-2、…、10-n‧‧‧攝影機
11、11A、11A-1、11A-2、11A-3、11A-4、11A-5、11B、11B-1、11B-2、11B-3、11B-4、11B-5‧‧‧致動器
12、12A、12A-1、12A-2、12A-3、12A-4、12B、12B-1、12B-2、12B-3、12B-4‧‧‧標的
12M、12M-a、12M-b、12M-c、12M-d‧‧‧座標轉換用標的
13、13A、13A-1、13A-2、13A-3、13B、13B-1、13B-2、13B-3‧‧‧GPS發送機
14、14A-1、14A-2、14B-1、14B-2‧‧‧架台
50‧‧‧GPS衛星
100、200、300‧‧‧粒子線照射設備
第1圖係顯示本發明之實施形態1之粒子線照射設備之構成的方塊圖。
第2圖係顯示本發明之實施形態1之粒子線照射設備之外觀的立體圖。
第3圖係說明本發明之實施形態1之藉由粒子線照射設備所進行之調整方法的圖。
第4圖係說明本發明之實施形態1之藉由粒子線照射設備取得位置資訊的圖。
第5圖係說明本發明之實施形態1之藉由粒子線照射設備控制位置及姿勢之方法的流程圖。
第6圖係顯示本發明之實施形態2之粒子線照射設備之構成的方塊圖。
第7圖係顯示本發明之實施形態2之粒子線照射設備之外觀的立體圖。
第8圖係顯示本發明之實施形態3之粒子線照射設備之構成的方塊圖。
第9圖係顯示本發明之實施形態3之粒子線照射設備之外觀的立體圖。
(實施形態1)
第1圖係顯示本發明之實施形態1之粒子線照射設備100之構成的方塊圖。第2圖係具備有粒子線照射設備100之粒子線照射裝置用之電磁鐵1A的外觀圖。
如第1圖及第2圖所示，粒子線照射設備100係由下列所構成：作為測定部的複數個攝影機10(10-1、10-2、…、10-n[n為整數])，其係為用以取得電磁鐵1(1A、1B)之位置及姿勢等之位置資訊的位置資訊取得手段；記憶部3，係記憶粒子線照射裝置安置時之電磁鐵1(1A、1B)之位置資訊作為基準位置；控制部2，取得經由攝影機10所測定之電磁鐵1(1A、1B)的測定位置與記憶於記憶部3之電磁鐵1(1A、1B)的基準位置且將控制資訊予以輸出；及作為調整機構的致動器11(11A、11B)，係藉由來自控制部2的控制資訊來調整電磁鐵1的位置及姿勢。
在攝影機10中係使用立體攝影機，以測量位於2個分開位置之第1電磁鐵1A及第2電磁鐵1B之相對的位置及姿勢。然而，以加速器與照射室位於建築物之不同層的粒子線照射裝置而言，高能量射束照射系統(High-Energy Beam Transport，以下稱為HEBT系統)線中之2處主要的電磁鐵1A與電磁鐵1B無法完全落入1個攝影機10的視野。因此，必須對於使用攝影機10的測量施行對策。
在本發明之實施形態1中，係使用了下列方法以解決上述之攝影機視野的問題。其係構成為測量位於HEBT系統線之上游側的主要電磁鐵1A、及位於HEBT系統線之下游側的另一主要電磁鐵1B。藉由1台攝影機10-1來測量設於電磁鐵1A上之標的(target)12A(12A-1、12A-2、12A-3、12A-4)的位置。接著，藉由另一個攝影機10-2來測 量設於電磁鐵1B上之標的12B(12B-1、12B-2、12B-3、12B-4)的位置。然而，在此狀態下，電磁鐵1A的位置及姿勢不過是在攝影機10-1所具有的座標系統(x,y,z)上呈現，而電磁鐵1B的位置及姿勢不過是在攝影機10-2所具有的座標系統(x,y,z)上呈現而已。電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢的關係則無法得知。
在此，如第3圖所示，只要在攝影機10-A與攝影機10-B的視野存在重複部分，且在該重複部分內之不同的位置可置放由至少4個(若是2維則為3個)所構成的座標轉換用標的12M(12M-a、12M-b、12M-c、12M-d)，就可從關於4個標的12M(12M-a、12M-b、12M-c、12M-d)之攝影機10-A上之座標的資訊、及攝影機10-B上之座標的資訊，來求出從攝影機10-A上之座標系統至攝影機10-B上之座標系統的座標轉換公式。
具體而言，如下列所示。
從攝影機10-A上的座標系統(x,y,z)至攝影機10-B上之座標系統(x,y,z)的座標轉換公式係具有下列公式的構造。
若欲確定座標轉換公式(1)，必須求出12個未知參數 T11、…、T33、O1、…、O3。
關於座標轉換用標的12M(12M-a、12M-b、12M-c、12M-d)之各者，只要使用數式1，就回歸到解決由4個公式所構成之聯立方程式的問題上。若使用行列表現將該4個公式彙整成1個，可表現如下。
此外，考慮測量誤差等而使用4個以上的標的來求出座標轉換時，可考慮藉由最小平方法來求出。
其中，上標T係顯示轉置矩陣。
在攝影機10-A與攝影機10-B的視野不存在重複部分時，如第4圖所示，可考慮另行準備複數個攝影機，從攝影機10-1至攝影機10-n以各存在少許視野之重複部分之方式串在一起。在相鄰之攝影機之視野重複的位 置分別設置由4個標的所構成的座標轉換用標的12M-1、12M-2、…、12M-(n-1)進行測量，可從各個攝影機之座標系統的座標轉換，最終可求出從攝影機10-1上之座標系統(x1,y1,z1)至攝影機10-n上的座標系統(xn,yn,zn)的座標轉換公式。
如此，藉由使用複數個攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)而使座標系統匹配，即使位於HEBT系統線之上游側之主要的電磁鐵1A、及位於HEBT系統線之下游側之另一主要的電磁鐵1B位於建築物之不同樓層時，也可測量電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢等。
記憶部3係藉由硬碟(harddisk)、可攜式磁碟(removable disk)、記憶體(memory)等的記憶媒體而構成，於安置粒子線照射裝置時(最初的對準時)，記憶經由攝影機10所測量之電磁鐵1的位置及姿勢等的位置資訊作為基準位置。
控制部2係藉由攝影機10取得最初之對準時之電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等的位置資訊，且使記憶部3記憶作為基準位置。此外，控制部2係藉由攝影機10取得再對準時之電磁鐵1(1A、1B)之位置及姿勢等的位置資訊，且與從記憶部3所取出之作為基準位置之電磁鐵1的位置資訊進行比較，來計算伴隨著建築物變形等所造成的位移量等，且依據所算出的位移量等的控制資訊來控制致動器11而調整電磁鐵1的位置及姿勢。控制部2係可藉由泛用的電腦系統等(例如個人電腦)等來實現。
致動器11係搭載於電磁鐵1的架台14(14A-1、14A-2、14B-1、14B-2)。如第2圖所示，致動器11A(11B)係搭載垂直方向(11A(B)-1、11A(B)-2、11A(B)-3)及水平方向(11A(B)-4、11A(B)-5)2個方向共計3個方向(6自由度)量。致動器11(11A、11B)係依據來自控制部2的控制資訊而驅動。
接著使用第5圖來說明本發明之實施形態1之粒子線照射設備100的動作。第5圖係顯示粒子線照射設備100之動作的流程圖。
如第5圖所示，首先在最初的對準時，粒子線照射設備100的控制部2係藉由攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)，來測量位於電磁鐵1(1A、1B)上之4個標的12A-1、12A-2、12A-3、12A-4的位置。從所獲得的位置座標的資料，算出電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等，且取得最初之對準時的位置資訊(步驟S51)。
接下來，控制部2係令記憶部3記憶在步驟S51中所取得之電磁鐵1(1A、1B)之最初之對準時的位置資訊，作為電磁鐵1(1A、1B)之基準位置的位置資訊(步驟S52)。此時，即使位於上游側之主要的電磁鐵1A與位於下游側之電磁鐵1B處在分開之位置的情形下，藉由使用複數個攝影機10-1、10-2、…、10-n，在相鄰之攝像機之視野重複的位置放置座標轉換用標的12M-1、12M-2、…12M-(n-1)進行測量，並設為使電磁鐵1A及電磁鐵1B之座標軸匹配的位置資訊，即成為作為相對之基準位置的位置 資訊。
再者，因為戶外氣溫的季節變動或地殼變動等導致建築物的變形而再度進行對準時，控制部2係藉由攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)，再度測量位於電磁鐵1(1A、1B)上之4個標的12A-1、12A-2、12A-3、12A-4的位置。從所獲得之位置座標的資料，算出電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等，且取得再對準時的位置資訊(步驟S53)。
接著，當在步驟S53取得電磁鐵1(1A、1B)之再對準時的位置資訊時，控制部2即從記憶部3取出基準位置的位置資訊，且比較電磁鐵1(1A、1B)之再對準時的位置資訊與基準位置的位置資訊而算出位移量(步驟S54)。此時，即使電磁鐵1A與電磁鐵1B處於分開之位置的情形下，亦與最初之對準時的情形相同，由於藉由使用複數個攝影機10-1、10-2、…、10-n，測量放置在相鄰之攝影機之視野重複之位置的座標轉換用標的12M-1、12M-2、…、12M-1(n-1)，且設為使電磁鐵1A及電磁鐵1B之座標軸匹配之相對的位置資訊，藉此作為電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置關係而與基準位置進行比較，因此可高精確度地獲得位移量。
最後，控制部2係根據所獲得之電磁鐵1(1A、1B)的位移量，對於電磁鐵1(1A、1B)之垂直方向的致動器(11A-1、11A-2、11A-3、11B-1、11B-2、11B-3)及水平方向的致動器(11A-4、11A-5、11B-4、11B-5)的各者輸出驅動量等的控制資訊且指示驅動，而調整電磁鐵1(1A、1B) 的位置及姿勢等。
綜上所述，在本發明之實施形態1之粒子線照射設備100中，由於控制部2係構成為在最初的對準時，令記憶部3記憶藉由攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)所取得之電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊作為基準位置的位置資訊，且根據記憶於記憶部3之基準位置的位置資訊，於再對準時從經由攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)所取得之電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊取得位移量，因此即使建築物因為戶外氣溫之季節變動或地殼變動等而變形時，也可容易地調整電磁鐵的位置及姿勢等。
由於構成為使用複數個攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)而取得相對的位置資訊，因此即使位於HEBT系統線中之上游側之主要的電磁鐵與位於下游側之電磁鐵位於分開的位置，例如位於建築物之不同的樓層時，也可在將電磁鐵之相對的位置及姿勢等保持為固定的狀態下而精確度良好地調整，而可實現高精確度的射束照射。
(實施形態2)
在實施形態1中，雖已顯示了藉由攝影機10取得再對準時之位置資訊的情形，但在實施形態2中，則顯示藉由模擬取得的情形。
第6圖係顯示本發明之實施形態2之粒子線照射設備200之構成的方塊圖。第7圖係具備有粒子線照射設備200之粒子線照射裝置用之電磁鐵的外觀圖。
如第6圖及第7圖所示，粒子線照射設備200係具備屬於解析部的變形模擬器4，以取代實施形態1之屬於測量部的攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)。變形模擬器4係例如藉由將建築物及裝置等均予以模型化後的有限要素解析而實施變形模擬。控制部2係在最初的對準時，將所測量的電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等的位置資訊預先記憶於記憶部3，且於再對準時藉由變形模擬器4而算出建築物及裝置等的變形量，再根據記憶於記憶部3之作為基準位置的位置資訊，而取得電磁鐵1(1A、1B)之再對準時的位置資訊。
如此，藉由以變形模擬器4算出再對準時之建築物及裝置等的整體變形量且取得位置資訊，即使位於HEBT系統線之上游側之主要的電磁鐵1A、及位於HEBT系統線之下游側之另一主要的電磁鐵1B位於建築物之不同樓層時，也可易於掌握電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢等，而作為電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置關係而與基準位置進行比較，因此可高精確度地獲得位移量。
關於粒子線照射設備200之其他構成及動作，係與第1圖及第5圖所示之實施形態1之粒子線照射設備100之構成及動作相同，因此對於相同部分係賦予相同符號，而說明則予省略。
綜上所述，在本發明之實施形態2之粒子線照射設備200中，係構成為控制部2在最初的對準時，將 所測量的電磁鐵1(1A、1B)之位置及姿勢等的位置資訊預先記憶於記憶部3，且根據記憶於記憶部3之作為基準位置的位置資訊，從再對準時經由變形模擬器4所取得之電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊取得位移量，因此即使建築物因為戶外氣溫的季節變動或地殼變動等而變形時，也可易於調整電磁鐵之位置及姿勢等。
此外，由於構成為使用變形模擬器4而算出建築物及裝置等之整體的變形量，因此即使是位於HEBT系統線中之上游側之主要的電磁鐵與位於下游側的電磁鐵處於分開的位置，例如位於建築物之不同的樓層時，也可在將電磁鐵之相對的位置及姿勢等保持為固定的狀態下而精確度良好地調整，而可實現高精確度的射束照射。
另外，在本實施形態2中，雖構成為於再對準時，藉由變形模擬器4取得電磁鐵1(1A、1B)之再對準時的位置資訊，但不限定於此。亦可於最初的對準時，根據記憶於記憶部3之屬於基準位置的位置資訊，預測電磁鐵1(1A、1B)的位移量，藉此而掌握需要進行再對準的時期，亦可預先訂定再對準的計劃。
(實施形態3)
在實施形態1中，雖已顯示了藉由攝影機10取得再對準時之位置資訊的情形，但在實施形態3中，係顯示藉由GPS接收機取得之情形。
第8圖係為顯示本發明之實施形態3之粒子 線照射設備300之構成的方塊圖。第9圖係為具備有粒子線照射設備300之粒子線照射裝置用之電磁鐵1A的外觀圖。
如第8圖及第9圖所示，粒子線照射設備200係具備屬於接收部的GPS接收機5，以取代實施形態1中之屬於測量部的攝影機10(10-1、10-2、…、10-n)。此外，具備屬於傳送部的GPS發送機13(13A、13B)，以取代實施形態1中之標的12(12A、12B)。GPS發送機13(13A、13B)係在電磁鐵1(1A、1B)上分別各設置3台，且分別觀測來自複數個GPS衛星50的位置等而決定自己的位置來傳送位置資訊。來自所傳送之GPS發送機13(13A、13B)的位置資訊，係藉由設置在建築物內之原點(例如同步加速器的中心點)之GPS接收機5來接收。藉由接收從各3台GPS發送機13(13A、13B)所發送的位置資訊而決定從具有各3台GPS發送機13(13A、13B)之電磁鐵1(1A、1B)所觀看之GPS接收機5的位置。若以GPS接收機5之位置為原點倒算，可求出以GPS接收機5為基準時之電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢等。
控制部2係藉由GPS接收機5來接收最初之對準時從GPS發送機13(13A、13B)所傳送的位置資訊，且以GPS接收機5的位置為原點而算出電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等，藉此取得最初之對準時的位置資訊。此外，於再對準時，同樣地藉由GPS接收機5接收從GPS發送機13(13A、13B)所傳送的位置資訊，且以GPS接收機5 的位置為原點而算出電磁鐵1(1A、1B)的位置及姿勢等，藉此取得再對準時的位置資訊。
如此，藉由從自GPS發送機13(13A、13B)所傳送的位置資訊，以GPS接收機5的位置為原點而取得電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊，即使位於HEBT系統線之上游側之主要的電磁鐵1A、與位於HEBT系統線之下游側之另一主要的電磁鐵1B位於建築物之不同樓層時，亦可易於掌握電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢等。
關於粒子線照射設備300之其他構成及動作，係與第1圖及第5圖所示之實施形態1之粒子線照射設備100之構成及動作相同，對於相同部分係賦予相同符號，說明則予省略。
綜上所述，在本發明之實施形態3之粒子線照射設備300中，由於控制部2係構成為在最初的對準時，從自GPS發送機13(13A、13B)所傳送的位置資訊，將以GPS接收機5的位置為原點所取得之電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊作為基準位置的位置資訊而記憶於記憶部3，且根據記憶於記憶部3之基準位置的位置資訊，從依據再對準時自GPS發送機13(13A、13B)所傳送的位置資訊以GPS接收機5之位置為原點所取得之電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊而取得位移量，因此即使建築物因為戶外氣溫之季節變動或地殼變動等而變形時，也可容易調整電磁鐵的位置及姿勢等。
此外，由於構成為使用GPS接收機5以GPS 接收機5的位置為原點而取得各電磁鐵1(1A、1B)的位置資訊，因此即使位於HEBT系統線中之上游側之主要的電磁鐵與位於下游側的電磁鐵處於分開的位置，例如位於建築物之不同樓層時，亦可在將電磁鐵之相對的位置及姿勢等保持在固定的狀態下而精確度良好地調整，而可實現高精確度的射束照射。
另外，在上述實施形態1至3中，雖已說明了調整電磁鐵1A與電磁鐵1B之雙方的位置及姿勢等，但不限定於此。即使以能夠保持電磁鐵1A與電磁鐵1B之相對的位置及姿勢之方式，而對任一方進行調整，亦可實現高精確度的射束照射。電磁鐵的對準，在位於建築物之不同樓層時，通常不變動接近地面之側的電磁鐵而僅調整容易受到建築物之伸縮影響之上方樓層的電磁鐵以使相對位置不會變動。
此外，本發明在發明範圍內可自由組合各實施形態，或適當變更、省略各實施形態。
1A、1B‧‧‧電磁鐵
2‧‧‧控制部
3‧‧‧記憶部
10-1、10-2、…、10-n‧‧‧攝影機
11A、11B‧‧‧致動器
100‧‧‧粒子線照射設備

Claims (6)

  1. 一種粒子線照射設備，係具備：第1電磁鐵，設於高能量射束照射系統線的上游側；第2電磁鐵，設於前述高能量射束照射系統線的下游側；位置資訊取得手段，取得前述第1電磁鐵與前述第2電磁鐵的位置資訊；記憶部，預先記憶最初之對準時之前述第1電磁鐵與前述第2電磁鐵的位置資訊作為基準位置資訊；調整機構，用以調整前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵的位置及姿勢；及控制部，根據記憶於前述記憶部的基準位置資訊，從再對準時經由前述位置資訊取得手段所取得之前述第1電磁鐵與前述第2電磁鐵的位置資訊，算出自最初的對準時至再對準時為止前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵之位置及姿勢的位移量，且因應前述位移量而藉由前述調整機構來調整控制前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵之位置及姿勢。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之粒子線照射設備，其中，控制部係調整前述第1電磁鐵或前述第2電磁鐵之任一方的位置及姿勢，藉此控制前述第1電磁鐵與前述第2電磁鐵之相對的位置及姿勢。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之粒子線照射設備，其中，前述位置資訊取得手段係由複數個立體攝影 機(stereo camera)所構成，而前述立體攝影機係以相鄰之立體攝影機之視野角度重疊之方式排列，且根據配置於前述視野角度之至少4個標的(target)的位置座標，轉換前述相鄰之立體攝影機的位置座標而使座標系統一致，來取得前述第1電磁鐵與前述第2電磁鐵的位置資訊。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之粒子線照射設備，其中，前述位置資訊取得手段係由變形模擬器(simulator)所構成，且使用前述變形模擬器經由計算而取得前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵的位置資訊。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之粒子線照射設備，其中，前述位置資訊取得手段係由GPS發送機與GPS接收機所構成，前述GPS發送機係在前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵分別配置至少3個，而前述GPS接收機係僅配置1個，用以取得從前述GPS發送機所發送之前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵的位置資訊，而前述控制部係從經由前述GPS接收機所接收的位置資訊，以前述GPS接收機的位置為基準而算出前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵之位置及姿勢的位移量。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之粒子線照射設備，其中，前述第1電磁鐵及前述第2電磁鐵係分別設置在建築物之不同的樓層。
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