JP7278859B2 - 荷電粒子加速装置及びその調整方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施形態を添付図面に基づいて説明する。図1(A)は第1実施形態に係る荷電粒子加速装置10Aの通常状態における上面図であり、図1(B)はそのB-B部分断面図であり、図1(C)はそのC-C部分断面図である。
次に図3及び図4を参照して本発明における第2実施形態について説明する。図3は第2実施形態に係る荷電粒子加速装置10Bの部分上面図である。図4は、図3に示される規制部材30のB-B断面図である。なお、図3及び図4において図1又は図2と共通の構成又は機能を有する部分は、同一符号で示し、重複する説明を省略する。
次に図5を参照して本発明における第3実施形態について説明する。図5(A)は第3実施形態に係る荷電粒子加速装置10Cの設置時における上面図であり、図3(B)は調整段階における上面図であり、図5(C)は通常状態における上面図である。なお、図5において図1又は図2と共通の構成又は機能を有する部分は、同一符号で示し、重複する説明を省略する。
Claims (5)
- 荷電粒子が通過するダクトを貫通させるとともに、前記荷電粒子のビーム軌道を制御する制御機器と、
基礎に固定される架台に支持されるとともに、前記ビーム軌道に干渉しないストローク幅で前記制御機器を前記ビーム軌道に対し交差する方向に可逆的に移動させるステージと、を備え、
前記ステージは、
前記架台に固定される固定板と、
前記制御機器が固定されるとともに前記固定板に対して相対的に移動する移動板と、を有し、
前記制御機器が設置される前記ステージとは別個に、調整段階で稼働させる調整機器を前記ビーム軌道に対し交差する方向に可逆的に移動させるステージを備える荷電粒子加速装置。 - 荷電粒子が通過するダクトを貫通させるとともに、前記荷電粒子のビーム軌道を制御する制御機器と、
基礎に固定される架台に支持されるとともに、前記ビーム軌道に干渉しないストローク幅で前記制御機器を前記ビーム軌道に対し交差する方向に可逆的に移動させるステージと、を備え、
前記ステージは、
前記架台に固定される固定板と、
前記制御機器が固定されるとともに前記固定板に対して相対的に移動する移動板と、を有し、
前記固定板及び前記移動板の少なくとも一方は、通常運転時において前記制御機器が占有する領域を除く領域の一部が分断可能である荷電粒子加速装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の荷電粒子加速装置において、
前記ステージは、さらに、
軸回転することにより、前記固定板に対し前記移動板を移動させる直動機構部を有する荷電粒子加速装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の荷電粒子加速装置において、
前記ステージは、さらに、
前記固定板に対する前記移動板の移動を規制する規制部材を有する荷電粒子加速装置。 - 荷電粒子が通過するダクトを貫通させるとともに、前記荷電粒子のビーム軌道を制御する制御機器と、
基礎に固定される架台に支持されるとともに、前記ビーム軌道に干渉しないストローク幅で前記制御機器を前記ビーム軌道に対し交差する方向に可逆的に移動させるステージと、を備える荷電粒子加速装置の調整方法であって、
前記ダクト、前記制御機器及び前記ステージを一体化させたものを前記架台に対し取り付けて、前記ビーム軌道に対するアライメント調整をする工程と、
前記ビーム軌道から前記制御機器が退避するように前記ステージを移動させる工程と、
前記ビーム軌道に調整機器を配置して、前記荷電粒子の入射条件を調整する工程と、
前記ビーム軌道から前記調整機器を退避させる工程と、
前記ビーム軌道に前記制御機器が復帰するように前記ステージを移動させる工程と、を含む荷電粒子加速装置の調整方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019085396A JP7278859B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
KR1020217024661A KR102616004B1 (ko) | 2019-04-26 | 2020-04-20 | 하전 입자 가속 장치 및 그 조정 방법 |
PCT/JP2020/017066 WO2020218245A1 (ja) | 2019-04-26 | 2020-04-20 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
CN202080017555.0A CN113711699B (zh) | 2019-04-26 | 2020-04-20 | 带电粒子加速装置及其调整方法 |
US17/447,342 US11937362B2 (en) | 2019-04-26 | 2021-09-10 | Charged particle acceleration device and method for adjusting charged particle acceleration device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019085396A JP7278859B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020181759A JP2020181759A (ja) | 2020-11-05 |
JP7278859B2 true JP7278859B2 (ja) | 2023-05-22 |
Family
ID=72942741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019085396A Active JP7278859B2 (ja) | 2019-04-26 | 2019-04-26 | 荷電粒子加速装置及びその調整方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11937362B2 (ja) |
JP (1) | JP7278859B2 (ja) |
KR (1) | KR102616004B1 (ja) |
CN (1) | CN113711699B (ja) |
WO (1) | WO2020218245A1 (ja) |
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-
2019
- 2019-04-26 JP JP2019085396A patent/JP7278859B2/ja active Active
-
2020
- 2020-04-20 WO PCT/JP2020/017066 patent/WO2020218245A1/ja active Application Filing
- 2020-04-20 KR KR1020217024661A patent/KR102616004B1/ko active IP Right Grant
- 2020-04-20 CN CN202080017555.0A patent/CN113711699B/zh active Active
-
2021
- 2021-09-10 US US17/447,342 patent/US11937362B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
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US11937362B2 (en) | 2024-03-19 |
CN113711699B (zh) | 2024-05-14 |
US20210410267A1 (en) | 2021-12-30 |
WO2020218245A1 (ja) | 2020-10-29 |
CN113711699A (zh) | 2021-11-26 |
KR102616004B1 (ko) | 2023-12-21 |
KR20210109617A (ko) | 2021-09-06 |
JP2020181759A (ja) | 2020-11-05 |
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