TWI588565B - 用於電光液晶透鏡的雙層電極 - Google Patents

用於電光液晶透鏡的雙層電極 Download PDF

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Description

用於電光液晶透鏡的雙層電極
本發明係關於一種用於電光液晶透鏡的雙層電極。
1、2‧‧‧元件
5、10、15、20、25、30、35、40、45、50‧‧‧曲線
茲參考該等隨附範例圖式，將經由本文提供、非限制性、非窮盡之特定範例實施例的描述更迅速地理解各式各樣潛在、可行、及/或有用的實施例，在該等圖式中：圖1係電活性透鏡的基板之範例實施例的透視圖；圖2係在圖1之部分A-A取得的橫剖面圖；圖3係電活性透鏡的一對基板之範例實施例的透視圖；圖4係範例方程式；圖5係範例相位輪廓圖；圖6係範例相位輪廓圖；圖7係範例方程式；圖8係範例方程式；圖9係範例方程式；圖10a係範例相位輪廓圖； 圖10b係範例相位輪廓圖；圖11a係範例相位輪廓圖；圖11b係範例相位輪廓圖；圖12係範例方程式；圖13係範例方程式；圖14係範例方程式；圖15係範例方程式；圖16係範例方程式；圖17係範例方程式；圖18係液晶透鏡之範例實施例的頂視圖；圖19a係範例圖；圖19b係範例圖；圖20a係範例圖；且圖20b係範例圖。
【發明內容及實施方式】
變焦電光透鏡可使用雙折射材料，諸如，液晶(「LC」)，以在其折射率中實現梯度。此種LC透鏡的設計可基於各種架構，諸如，蝕刻入透明基板中的相息圖浮雕型樣、以可變雙折射率材料填充的透鏡形凹陷、及/或生長、沈積、施用、及/或蝕刻在基板上的已型樣化透明電極結構。在最後的範例中，可將最常使用氧化銦錫(ITO)建造的透明電極用於在橫過液晶層的電場中產生梯度。此電場可在折射率中產生梯度，若適當地建立其， 可在該裝置中導致透鏡作用。
如圖1所示，可能將ITO層沈積在之後可受光微影處理的玻璃及/或塑膠基板上，以型樣化透明電極。在具有球狀焦點之透鏡的情形中，此電極型樣可包括半徑漸增的同心環，由典型為數微米寬，諸如，從約0.1至約10um，的電絕緣間隙分隔。可用電極彼此相對的方式將包含鄰近(非型樣化)電極層的第二基板放置成(或許具有由典型可係約1至約25um厚的液晶(「LC」)層產生的特定分隔)相鄰於第一基板，並可能將薄液晶層夾及/或密封封閉於彼等之間，如圖2所示。
當對照該等型樣化電極電位將適宜電壓陣列連接至此等環電極，並將第二鄰近電極接地至電路時，可產生橫過LC層的電場。該電場可比例於所施加的區域電壓及/或橫過LC層的差動電壓。因此，在該電場中具有適宜的徑向空間梯度，可在LC層中的折射率中導致徑向梯度，並可提供球面透鏡的光學功能。
與使用藉由薄絕緣區域分隔型樣化透明電極的此種透鏡設計關聯的一個潛在問題係電極邊緣可作用為光繞射位置。亦即，當光波碰撞在電光LC透鏡上時，部分光可在各電極的邊緣附近遭繞射。此繞射光將不必然正確地聚焦在透鏡的影像聚焦平面上，在影像中潛在地導致雜散光損耗。再者，此雜散繞射光可導致聚焦平面上的精細聚焦影像退化，產生霧狀及/或模糊影像。此可導致可具有貧乏聚焦品質的透鏡，及/或若可消除或降低此等繞射損耗， 可改善的透鏡。在該等環之間具有薄區域的另一潛在問題係電場的不必要橫向電流可引起破壞液晶的期望定向。在該等環之間具有薄區域的另一潛在問題係未由必要或不必要電場之任一者定向的液晶可在不期望方向上定向，潛在地導致將部分光導向不必要方向，其可使透鏡效能退化。
降低及/或消除上文討論之潛在光損耗的一方法係消除電極之間的透明間隙，同時維持彼等的相互電絕緣。因此，特定範例實施例可將電極層分割為放置成彼此相鄰的二不同層，各層藉由形成自，例如，二氧化矽的鄰近絕緣層與另一者分離。可將第一電極層製造在透明基板上。然而，可將每隔一個電極保持為未蝕刻及/或未施用。例如，從，例如，最中心電極計數電極圈，電極1、3、5、7等可藉由絕緣間隙分隔而留在電極層#1上。然後，可將絕緣層沈積在電極層#1上。最重要的是，可製造可包括具有絕緣間隙在彼等之間的交錯電極2、4、6、8等的第二電極層(#2)，如圖3所示。因此，一半電極可出現在一電極層上，且另一半在另一者上。
可生長、蝕刻、及/或施用該等電極層，使得層#2中的電極可幾乎精準地定位在層#1中的電極之間的絕緣間隙上方，且反之亦然。因此，當觀看該二層電極結構時，如由碰撞光所看見的，因為可將電極層緊密地隔開(例如，相距，諸如，從約0.1微米至約10微米)，可沒有絕緣間隙顯現在電極之間。若光波「看」不到任何電極邊緣，諸如，由絕緣間隙界定的該等邊緣，此等邊緣周圍的 繞射可有效地最小化及/或廢除。
在特定範例實施例中，將電極環連接至電力供應的匯流排線可連接至二分離電極層。此可使用穿過絕緣層的通孔完成，從而容許所有匯流排線沈積在基板或絕緣層之任一者上。
在特定範例實施例中，將電極環連接至電力供應的匯流排線可僅連接至單一電極層，且另一電極層保持未連接。可經由電容及/或電感將來自電連接環的電力轉移該等未連接環。
可使用具有與各層關聯之多層液晶的多層電極，以增加透鏡的光功率。例如，可使用單層電極，以產生一屈光度之光功率的透鏡，該電極單層具有或不具有用於校正由不必要間隙導致之問題的其第二層及與該電極層(等)關聯的對應液晶層。第二(或第三或更多)液晶層及其關聯電極層(等)可用於與第一層組件光通訊，以增加共同運作之二透鏡的全部光功率，諸如，取代具有一屈光度之光功率的一透鏡、二透鏡可具有二屈光度的總光功率。
當設計此等種類的LC透鏡時，每透鏡期望的光彎曲量使用更多環可產生更佳的光學結果。常用於此方面的設計術語係「每波電極」。因此，每光偏振波使用更多電極可在透鏡的聚焦平面形成更小光點。當串聯地使用二或多個液晶透鏡以增加光功率時，可增加光的波長數，但若每透鏡使用的電極數在各透鏡仍保持相同，可降低「每波電極」比率，潛在地降低透鏡的光學品質。於本文揭示用於 減輕此問題的方法。本文揭示的方法不僅可用於減輕光學品質的降低，也可用於改善透鏡的離軸光效能。
一般來說，將二相同理想薄透鏡堆疊在彼此正上方可加倍光功率，且總相位輪廓可保持理想的拋物線。結果，光學效能必需與具有一半焦距長度的單一理想薄透鏡沒有不同。
因此，可能輕易地描畫出堆疊二相同LC透鏡可加倍光功率及/或可解決該挑戰的快速初步結論。然而，該情形可與具有離散環電極的液晶(「LC」)透鏡不同。針對單一LC透鏡，可將相位輪廓取樣為步階，及/或光學效率可相關於該輪廓的離散化，其可使用圖4所示的方程式模型化及/或分析描述。
此處，q係每波長的相位步階數，且η係光學效率。因此，每波長的步階數或「取樣率」可對效率具有顯著影響，且通常更多相位步階可比更少可取。
不論係在分析或經驗評估上，單一透鏡的光學效率可係相位步階數的函數。作為此效應的展示，圖6呈現範例LC透鏡之光學路徑距離(OPD)對透鏡直徑的範例圖。須注意將經取樣相位輪廓描劃為具有尖銳邊緣的階梯。針對此種範例透鏡，分析效率可到達約96.8%。然而，如圖5所示，該輪廓在步階之間可更加平滑(因為，每波長有更多步階)，使得可得到更高效率。特別係圖5呈現理想LC透鏡的圖及具有每波長10相位步階的取樣率及焦距長度f=400mm之範例LC透鏡的圖，並展示步階之間的更平 滑轉變。
圖5顯示在步階之間具有平滑性的範例LC透鏡之相位輪廓的圖，且圖6顯示具有更尖銳步階之範例經取樣相位輪廓的圖。
通常，若以彼等的主動區正在彼此上方的方式將二相同LC附接，並認為沒有間距在彼等之間，光功率可用總相位輪廓係拋物線形的基本形狀加倍。然而，橫過孔徑的有效環電極數可保持相同，亦即，所產生的取樣率可變為僅係單一透鏡的一半，且效率可大幅下跌。
已計算出堆疊上述梯形輪廓僅具有每光波長5相位步階，並計算出聚焦平面z=200mm的斯特爾比率(strehl ratio)僅係理想透鏡的87.36%，其與給定此取樣率之圖4所示的效率方程式相同。若使用更平滑的LC輪廓，得到94%的斯特爾比率，正規化成理想透鏡之情形的結果。
因此，該堆疊效率的主導因子可係橫過透鏡孔徑的有效取樣率。為處理此因子，可對各組件透鏡產生稍微不同的電極型樣設計，使得當彼等在彼此上方時，彼等的電極可變為部分重疊，並可針對該堆疊實現高整體取樣率。
為得到各透鏡上的電極型樣的精確尺寸，可從該堆疊的目標光功率及相位取樣開始，且具有梯形結構的輪廓可用於將離散相位步階模型化，使得期望步階之間沒有平滑性。
當目標聚焦長度f及透鏡半徑R為已知，可得到以波數為單位的理想透鏡的總OPD(λ係設計波長)，如圖7 中的方程式所示。
若取樣率fs(亦即，每波的相位步階數)為已知以代表連續相位輪廓，假設各電極的面積具有等分數量的單位波及/或各環的面積實質相同，總環數N可在圖8所示的方程式中得到。因此，若認為沒有間隙，各環電極的外半徑可使用圖9所示的方程式得到。
此處，n係各環電極的索引數。在堆疊情形中，各環的索引可出自於各組件透鏡之電極型樣的結合效果，及/或各環的經計算外半徑可用於依序指定各組件透鏡上的各電極的外半徑。例如，若堆疊具有二透鏡，例如，透鏡一號及透鏡二號，在透鏡一號之中央的第一電極的外半徑可與該堆疊之第一環的外半徑實質相同，且針對透鏡二號，第一電極可具有與該堆疊中之第二環的外半徑實質相同的半徑。相似地，第三環的外半徑可與透鏡一號之第二電極的外半徑實質相同，且第四環的半徑可與透鏡二號之第三電極的半徑實質相同。該配置可持續至該堆疊的最外側環，二透鏡可具有相同尺寸的主動區及/或最外側環的半徑可與透鏡的半徑相同。在堆疊具有二透鏡的情形中，該堆疊中之奇數及偶數環的半徑可分別決定二組件透鏡的電極型樣。
圖10a係具有雙LC透鏡的範例模型化堆疊之相位輪廓的圖，其中該堆疊具有每波10相位步階之取樣率的有效焦距長度f=200mm。此種堆疊可使用總共66個電極。可計算此等電極各者的寬度，及/或該等階梯中的總相位 輪廓可如圖所示。因此，使用上述方法，可計算用於二組件透鏡的電極型樣。透鏡二號可具有33個電極，電極型樣可與針對具有f=400mm之單透鏡計算的電極型樣相同，及/或相位輪廓可如圖10a所示。經計算最外側環可具有與透鏡之外半徑相同的尺寸，使得透鏡一號可具有34個電極。該堆疊之第65環的內半徑可決定此透鏡之第33電極的半徑。第65環可係針對該堆疊界定的最末環，但其外半徑可小於透鏡半徑的外半徑，意謂著一個以上的電極可需要其外半徑實質等於透鏡的外半徑。透鏡一號的相位輪廓可藉由如圖11a及11b所示地從該堆疊減去透鏡二號的輪廓而得到。
透鏡一號上的電壓(除了中央環)可與透鏡二號(針對400mm透鏡)實質相同，及/或可將比第二電極上之電壓略低的電壓施加至中央電極，以如圖11b所示地提供十分之一的波長差。當各透鏡未堆疊而獨立使用時，其自身仍可具有每波10相位步階的取樣率。
圖10a顯示二組件透鏡的相位輪廓並也以階梯顯示總堆疊。圖10b顯示於圖10a中顯示之相位輪廓的邊緣的特寫。圖11a顯示原始LC透鏡設計的相位輪廓及用於堆疊的新設計。圖11b顯示在圖11a中顯示之相位輪廓的外區域的特寫圖。在圖10a及10b中，曲線5指用於f=200mm、每波長10步階的電極設計、曲線10指用於堆疊的新電極設計、且曲線15指用於f=400mm、每波長10步階的電極設計。在圖11a及11b中，曲線20指第一透 鏡的輪廓且曲線25指第二透鏡的輪廓。
假設在此輪廓中階梯在步階之間沒有平滑性，可用斯特爾比率的形式將此模型化LC透鏡堆疊的光學效率計算為96.6%，其可與每波長10相位步階之取樣率的分析結果相同。據信實際LC透鏡堆疊的效率可到達98.5%，因為由邊緣場所導致的輪廓中的邊緣的平滑性、在透鏡之間的相對小間隔、及/或在透鏡、彼等的環、及/或彼等的電極之間的相對小錯位。
更常見地，若堆疊包含特定數量的組件透鏡M(M<N)，可將堆疊之每第M環的外半徑用於界定各透鏡上的電極型樣。
若透鏡數M係堆疊所需之總環數N的整數除數，各第M透鏡的電極型樣可完全由堆疊界定，而最外環可具有與藉由圖12所示之方程式界定的透鏡外半徑相同的外半徑。因此，針對第1至第(M-1)透鏡，該堆疊的最末環可係第二至最末電極型樣，及/或最外側電極可添加外半徑等於藉由圖13所示之方程式界定的透鏡半徑。
若M不係N的整數除數，使得有餘數Mod(N/M)，各透鏡的電極型樣可變得有些更複雜。針對所有透鏡，堆疊的最末環可係第二至最末電極型樣，使得r=ir，及/或最外側環可具有等於透鏡之外半徑的外半徑。取決於m是否小於或大於Mod，運算可略為不同，針對透鏡m小於Mod，可有藉由圖14及圖15所示之方程式界定的額外環。
使用此方法，當設計具有較高光功率的透鏡時，可設計及/或堆疊具有較小厚度的二或多個透鏡，使得切換速度保持快速，及/或保持高光學效率。
在實際堆疊中，透鏡的錯位，諸如，對照彼等的對應單元、環、及/或電極，可係必然的。若二透鏡錯位，堆疊的總效率可受影響。已將模型化堆疊的總效率計算為其單元之二者間的錯位的函數。
為如此作，可依據圖16所示的分析運算式及/或方程式以展示效率、透鏡OPD、及錯位之間的關係。
此處，△d係二透鏡之中央線之間的距離(亦即，△d係在從該線垂直延伸的所有方向上量測，在各者通過彼等的個別透鏡的中央並垂直該透鏡之表面的二線之間的垂直距離)、c係常數、且η係效率。若沒有錯位△d=0，且效率變為1。若有最大錯位，△d=r，效率變為0。若透鏡OPD藉由具有更短的聚焦長度f而增加，具有相同的△d，效率變得更小。因此，可將錯位特徵化為圖17所示的方程式及/或可使用光學計算以根據不同錯位數值計算效率。
在理想LC堆疊的情形中，若其透鏡之二者錯位，所計算的斯特爾比率可因此下跌，正規化成具有一半聚焦長度的理想透鏡(表1)。
有趣的是已發現若具有相位步階的二理想LC透鏡錯位，當彼等分離小距離時(例如，少於約30μm)，可增加效率，其非常可能係由於有效取樣率的增加。然後，其可在錯位更生長時下跌(表2)。
在二單元之間可有間隔，其可具有二片玻璃基板的厚度(例如，假定將用於範例LC透鏡之玻璃的厚度模型化為約0.4mm，則約0.8mm)。意外地，在將此間隙列入考量後，包含不具有錯位之二LC透鏡的範例模型化堆疊的經計算斯特爾比率甚至變得比不具有間隙更高，指示透鏡間的間隔可具有與增加取樣率相似的效果(表3)。然而，當錯位甚小時，沒有經計算效率跳動，而其通常隨錯位變差而降低。因此，當堆疊具有約0.4mm玻璃基板的二理想LC透鏡時，二透鏡的錯位可受良好控制，但只要二透鏡的錯位少於約50μm，良好的效率不必然需要高精確度。
通常離軸效能可大幅相依於入射光的傾斜角，及/或本質上，LC透鏡的雙折射可相依於對照其導向器的光偏振角。即使可將軸上光的電壓輪廓或相位輪廓最佳化，如使用干涉量測所證實的，當離軸光在相同電壓輪廓下通過LC透鏡時，其可看見與正常入射及/或軸上光不同的OPD。
除非施用外部場，在任何點(亦即，「導向器」)附近的液晶分子的較佳定向方向可自由地指向任何方向。然而，可能藉由將外來藥劑(outside agent)導至液晶透鏡系統強制導向器指向特定方向。例如，當將薄聚合物塗佈(通常係聚醯亞胺)散佈在玻璃基板上並使用織品在單一方向上磨擦時，觀察到與塗佈表面接觸的液晶分子趨向於與磨擦方向對準。
雖然在典型LC透鏡的單元中可僅有一共同磨擦方向，可有電極垂直於磨擦方向或彼等平行於磨擦方向的二徑向軸(圖18)。實際上，透鏡的一徑向軸可與觀看角無關，其係電極之正切與磨擦方向平行的區域(圖18，數字2)，因為當光離開軸時，光的偏振及其對照於導向器的角仍可保持相同。結果，LC透鏡的有效折射率及/或 LC透鏡的OPD可對軸上及離軸光二者相同。
圖18係具有同心環之範例LC透鏡的頂視圖，顯示電極垂直(1)及平行(2)於磨擦方向的徑向軸。
針對此種透鏡，一種最差情形可係電極垂直於磨擦方向。為調查該問題可有多嚴重，範例LC可用聚焦長度f=400mm、10μm的厚度、10相位步階/波、及1μm電極間隙模型化。電壓輪廓可對用於軸上入射光的完美拋物線相位輪廓最佳化。一旦得到LC透鏡的導向器定向，可基於延伸瓊斯法或經由市售設計套裝軟體，諸如，Zemax或Code V，計算具有不同離軸角(例如，10°、20°等)的LC透鏡的有效OPD。
在執行此時，可顯示隨著離軸角增加，橫過透鏡孔徑的OPD可開始從理想拋物線輪廓脫離(見表4)，及/或輪廓的基本形狀可變得不再係拋物線，其可促使大量像差及/或可負向影響LC透鏡寬角效能。再者，因為LC導向器可具有較佳傾斜角，從正角度撞擊LC透鏡之光的有效OPD將不必然與從負角度撞擊LC透鏡之光的有效OPD相同。使用負離軸光的情形可比其之使用正傾斜光的對應情況更糟。可計算LC透鏡的斯特爾比率及/或調變轉移函數(「MTF」)，彼等的任一者可指示具有寬角度光的顯著影像退化，諸如，圖19a及19b、及表4所示。在圖19a及19b中，曲線30顯示具有施用至其之軸上光的理想LC透鏡、曲線35顯示正10度的離軸光、曲線40顯示負10度的離軸光、曲線45顯示正20度的離軸光、且 曲線50顯示負20度的離軸光。圖19a顯示各種離軸角的斯特爾比率且圖19b顯示各種離軸角的MTF。
忽略LC材料的角相依性，可關注於計算用於軸上光之具有固定及理想OPD的薄透鏡的離軸效能，並看到使用離軸光之LC透鏡的效率下跌有多少可來自其係離軸光的事實。例如，相同觀察平面上的光散佈可針對具有軸上光及20°離軸光的理想透鏡f=400mm計算，並顯示斯特爾比率下跌至97%，且MTF顯示與有限繞射的非常小的偏差(圖6)。因此，似乎針對離軸光之LC透鏡的效率下跌主要係由LC材料的角相依性所導致。
相較於軸上光，圖20a呈現具有20°離軸光之理想透鏡的經計算斯特爾比率。圖20b呈現軸上及離軸光的經計算MTF。
為改善離軸光的效能，提議一種簡單方式以將像差最小化：具有反平行對準的雙透鏡，其可需要以相反磨擦方向附接的雙透鏡。此配置可提供雙倍光功率、更快的切換時間、及/或經改善離軸效能，其能如此係因為當離軸光通過雙透鏡時，由一透鏡導致的相位誤差可由具有相反像 差的另一者大幅補償。總之，可將相位輪廓像差大幅最小化。
為使離軸效應最小化，將具有相反磨擦方向的雙LC透鏡模型化(各者為5μm厚)。在此情形中，假設無間隙，在不同離軸角(10°、20°)計算具有反平行對準之雙單元的有效OPD，並與在相同磨擦方向的雙透鏡的結果(平行堆疊在光學上實質等於10μm的單透鏡)比較。
在執行此時，習得因為在單元中可僅有一共同磨擦方向，可有電極垂直於磨擦方向，如圖18之元件1所示，或彼等平行於磨擦，如圖18之元件2所示，之任一者的二徑向區域。
若二單元平行，相位輪廓可對+θ及-θ入射光不同。亦即，針對此種輪廓，計算結果顯示在深度及形狀二者上有大OPD差。例如，若二單元係反平行的，在底部單元上的+θ入射光可具有入射在頂單元上的-θ角。因此，當總OPD可係2獨立單元的和時，其可對+θ及-θ入射光相同。計算結果顯示良好OPD與理想相位輪廓有些許偏差。經計算的PSF及MTF二者顯示具有反平行對準的雙透鏡在相同的傾斜入射光可具有遠比平行對準或單一10μm單元更佳的效能。
無論二單元係平行或反平行的，總OPD可對特定+θ及-θ入射光相同，且光學效能對二情形可均相同。實際上，當偏振方向保持相同時，光學效能必需與軸上入射光沒有不同而與傾斜角無關。
計算結果顯示良好OPD與理想相位輪廓具有些許偏差，其可能導因於相位步階。經計算點展開函數(「PSF」)及MTF二者顯示非常好的效能，幾乎與理想透鏡相同(較小的下跌可導因於相位步階)。
具有平行於電極的磨擦方向之區域的離軸效能可遠比具有垂直於電極的磨擦方向之區域的效能更佳。此趨勢可藉由使用雙反平行透鏡改善。
以上述方式設計的電光透鏡在許多應用中可具有潛在用途，包括但未受限於，攝影、遠端感測、生醫診斷成像設備、安全系統、軍事及環境成像、視力校正及電腦遊戲。例如，上述電光透鏡可實作在自動聚焦透鏡系統，縮放及寬視角透鏡系統、及/或像差校正透鏡系統。因為任何上列應用領域可使用一或多個此等系統，彼等可從消除此雙電極層方法可減少之霧狀、雜散光、及/或散焦問題所衍生的改善獲益。
特定範例實施例可提供一種電光裝置，包含：第一電極結構，包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中： 該第一電極層定位成平行於該第二電極層且，當垂直於該第一電極層觀看時，該複數個第一電極環偏移且實質上未對照該複數個第二電極環而重疊；該第一電極層由絕緣層與該第二電極層分隔；該第一電極層由鄰近絕緣層與該第二電極層分隔；該第一電極層由從二氧化矽形成的絕緣層與該第二電極層分隔；該第一電極層與該第二電極層電絕緣；同心的該複數個第一層分隔器各者適於個別地控制；同心的該複數個第一層分隔器經由光微影形成；同心的該複數個第一層分隔器形成自氧化銦錫；該第一電極層經由第一匯流排電耦接至電源，且該第二電極層經由第二匯流排電耦接至電源；該第一電極結構適於毗連液晶；該電極結構適於產生橫過液晶的電壓梯度；該電極結構適於在相鄰液晶材料中產生折射率梯度；該第一電極結構適於與第二電極結構電共操作，以產生電場；該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材 料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以產生橫過該液晶材料的電場；該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以產生橫過該液晶材料之迅速改變的電場；該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以在該液晶材料中產生折射率徑向梯度；該第一電極結構適於形成球面透鏡；該第一層分隔器係為絕緣環；及/或該第一層分隔器係為間隙。
特定範例實施例可提供一種電光裝置，包含：電極結構，包含複數個光學無邊的電極。
特定範例實施例可提供一種方法，包含：在包含第一電極結構的電光裝置中，該第一電極結構包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中：該將第一電極層定位成平行於該第二電極層， 且，當垂直於該第一電極層的主表面觀看時，該複數個第一電極環偏移且實質上未對照該複數個第二電極環而重疊；及/或將預定電壓施加至來自該複數個第一電極環的該等電極環各者，該預定電壓的振幅對來自該複數個第一電極環的該等電極環各者係獨特的。
特定範例實施例可提供一種方法，包含：在電光裝置中，產生液晶材料之折射率徑向梯度，而實質防止在毗連該液晶材料之複數個電極各者的邊緣的光繞射。
特定範例實施例可提供一種電光裝置，包含：第一電極結構，包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中：該將第一電極層定位成平行於該第二層且，當垂直於該第一電極層觀看時，該複數個第一電極環偏移且與該複數個第二電極環部分重疊；該複數個第一電極環對照該複數個第二電極環偏移少於約0.028mm； 該複數個第一電極環對照該複數個第二電極環偏移少於約0.055mm；及/或與該複數個第一電極環關聯的摩擦方向和與該複數個第二電極環關聯的摩擦方向實質相反。
特定範例實施例可提供一種電光裝置，包含：第一電極結構，包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中：將該第一電極層定位成平行於該第二層；該第一電極層的旋轉軸與該第二電極層的旋轉軸一致；且，當從沿著該旋轉軸的點觀看時，來自該第一層的電極環未光學對準該第二層之在空間上最接近的電極環。
定義
當下列術語實質地使用在本文中時，應用隨附的定義。此等術語及定義以沒有偏見並與本申請案一致的方式呈現，保留在此申請案的審查期間經由修訂重界定此等術 語或宣稱對其有優先權之任何申請案的權利。為了解讀宣稱對其有優先權的任何專利之要求的目的，該專利中的每個定義的功能係對該定義以外的主題內容的清晰且毫不含糊的否認。
一-至少一個。
像差-複數條光線接觸之光學組件，諸如，透鏡或反射鏡，中的一或多個限制及/或缺陷，此種限制及/或缺陷阻止光線收斂在一焦點，且可能導因於，例如，該光學組件包含不係完美平面的一或多個表面，諸如，一或多個球形表面。
橫過-從一側至另一側。
活動-行動、行為、步驟、及/或處理或其一部分。
適於-適合、合適、及/或能實施指定功能。
配接器-用於在設備或系統之一或多個部件的不同部分之間影響操作相容性的裝置。
相鄰-靠近、接近、緊鄰、毗鄰、鄰接、鄰近、及/或在約0mm至約0.5mm的水平半徑內，包括其間的所有值及次範圍。
對準-對照另一事物實質地調整成正確定向及/或位置。
沿-經由其長度及/或方向、在其長度及/或方向上、在其長度及/或方向之旁、在其長度及/或方向上方、依據其長度及/或方向、及/或平行於其長度及/或方向；及/或從一端至其另一端。
振幅-變量的幅度。
及/或-結合或替代的任一者。
設備-用於特定目的的器具或裝置。
應用-置於、放入、投入使用、行動、及/或服務中；實作；使直接及/或間接入射在；及/或使與某物接觸。
近似-大約及/或接近相同。
關聯-結合、共同連接、及/或相關。
相關聯-相關於及/或隨同。
自動-以基本上與使用者的影響及/或控制無關的方式經由資訊裝置實施。例如，自動燈光開關可在其「視野」中「看到」人而開啟，無需人手動地操作該燈光開關。
軸-本體及/或幾何物件繞其旋轉及/或可設想為繞其旋轉的直線，及/或結構及/或本體的部分可參考至其的中央線。
光束-從光源放射之光的投影。
布林邏輯-用於邏輯操作的完整系統。
毗連-定位於及/或放置成與物件之外邊緣、表面、及/或邊界相鄰。
界-(名辭)其邊界、限制、及/或更大範圍；(動辭)限制範圍。
匯流排-在複數個電路之間產生共同連接的電導體。
藉由-經由及/或使用其用途及/或協助。
可-能夠，至少在部分實施例中。
導致-使引起、引發、促成、產生、引出、成因、導 致、及/或招致。
改變-(動辭)導致不同；(名辭)變更或修改的行為、處理、及/或結果。
電路-物理系統，依據情況包含：經由切換裝置(諸如，開關、繼電器、電晶體、及/或邏輯閘等)建立的導電路徑、資訊傳輸機制、及/或通訊連接、路徑、機制、及/或連接；及/或跨越由網路包含的二或多個切換裝置及之間的連接至該網路但不為其所包含的對應終端系統建立的導電路徑、資訊傳輸機制、及/或通訊連接、路徑、機制、及/或連接。
重合-佔據空間中的相同區域、同時發生、及/或點對點匹配。
共操作-共同及/或協同工作、行動、及/或運作，與分離地及/或競爭相反。
包含-包括但未受限於。
同心-具有共同中央軸。
導體-導電材料及/或適於施加電壓至電活性材料的組件。
組態-使適合或合適特定用途或情況。
連接-聯結或固定在一起。
接觸-實體碰觸及/或合流。
包含-包括但未受限於。
鄰近-鄰接及/或相鄰。
控制-(名辭)用於在預定限制內操作機器的機器或 電子裝置；(動辭)對…行使權威及/或支配影響、以預定方式導致行動、導引、調整成滿足需求、及/或調節。
控制器-用於實施一或多個預定及/或使用者界定工作的裝置及/或一組機器可讀指令。控制器可包含硬體、韌體、及/或軟體之任一者或組合。控制器可使用機械、氣動、液壓、電、磁、光學、資訊、化學、及/或生物原理、訊號、及/或輸入實施工作(等)。在特定實施例中，控制器可藉由操縱、分析、修改、轉換、傳輸供可執行程序及/或資訊裝置使用的資訊而在資訊上動作、及/或路由資訊至輸出裝置。控制器可係中央處理單元、區域控制器、遠端控制器、平行控制器、及/或分散式控制器等。控制器可係通用微控制器，諸如由加州聖克拉拉英特爾公司製造的Pentium IV微處理器系列，及/或來自伊利諾伊州紹姆堡摩托羅拉的HC08系列。在另一實施例中，控制器可係至少在本文揭示實施例的部分中已設計成實作在其硬體及/或韌體中的特定應用積體電路(ASIC)或場效可規劃閘極陣列(FPGA)。
轉換-轉變、適應、及/或改變。
對應-相關、關聯、隨同、在目的及/或位置上相似、在各方面都符合、及/或在量、數量、幅度、品質、及/或程度上等效及/或符合。
耦接-藉由任何已知方式接合、連接、及/或鏈接，包括機械、流體、聲學、電、磁、及/或光學等方式。
(被)耦接-接合、連接、及/或鏈接二事物在一起。
可耦接-能接合、連接、及/或鏈接在一起。
耦接-以特定方式鏈接。
產生-使成為。
資料-不同片段的資訊，通常以特定或預定方式格式化及/或組織以表達觀念，及/或以適於由資訊裝置處理的形式表示。
資料結構-容許資料有效地操作之資料集合的組織，及/或設計成支援特定資料操作功能的資料元件之間的關係。資料結構可包含元資料以描述資料結構的性質。資料結構的範例可包括：陣列、字典、圖、散列、堆積、鏈接串列、矩陣、物件、佇列、環、堆疊、樹、及/或向量。
界定-建立…之概要、形式、及/或結構。
沈積-安置、鋪設、放置、定位、及/或放下；及/或拴緊、固定(fix)及/或固定(secure)。
決定-找出、得到、計算、決定、推論、確定、及/或得出決定，典型藉由調查、推理、及/或計算。
裝置-機器、製品、及/或其集合。
繞射-光線在通過由相鄰的不透明及透明邊緣形成的邊緣時的彎曲。
數位-非類比及/或離散的。
方向-某物及沿著其所指向及/或移動的航線之間的空間關係；在對照於另一點指定任一點之位置的空間中的二點間之與距離無關的關係；及/或藉由其建立任何位置對照於任何其他位置的對準及/或定向的關係。
發散-從共同點往不同方向上前進或延伸。
各者-群組中被視為獨立的每一者。
邊緣-周邊、邊框、和/或邊界。
無邊-缺乏一或多個邊緣。
電的-藉由電力供電。
電-電的、相關於電、藉由電力製造或操作。
電耦接-以適於容許電力於其間流動的方式連接。
電活性-考慮材料的各種性質及電及/或電子狀態之間的互動，及/或包含藉由將電及/或磁場施加至其修改材料的特定性質而操作的組件、裝置、系統、及/或處理的技術分支。此技術的次分支包括，但未受限於電光學。
電活性元件-使用電活性效應的組件，諸如，電活性濾波器、反射鏡、透鏡、快門、液晶延遲器、主動(亦即，非被動)極性濾波器、經由電活性致動器可動的電活性元件、及/或經由電活性致動器可動的習知透鏡。
電光-考慮材料的電磁(光)及電(電子)狀態之間的互動，及/或包含藉由將電場施加至其修改材料的光學性質而操作的組件、裝置、系統、及/或處理的技術分支。
電極-發射及/或收集電子及/或離子及/或藉由施加至其的電場控制彼等移動的導電元件。
散發-發射、輻射、及/或照射。
實施例-實作、表現、及/或具體表現。
估計-(名辭)近似實際值的計算值；(動辭)近似 地及/或暫時地計算及/或決定。
例示-使用為範例、實例、及/或說明。
蝕刻-藉由化學作用磨損材料表面(諸如，金屬、玻璃等)，諸如，酸作用。
場-藉由物理性質特徵化的空間區域，諸如，重力或電磁力或流體壓力，該區域中的每一點具有可決定值。
第一-組、序列、及/或順序的最初引用元素。
平坦-具有實質平面主表面及/或具有相對於厚度或深度的相對寬表面。
形成-生產、製造、建立、產生、構成、及/或塑形。
形成-構成。
菲涅耳透鏡-包含分段透鏡之同心環的薄光學透鏡。
來自-用於指示來源。
間隙-連續性中的中斷、延遲、暫停、斷裂、開口、裂縫、鴻溝、裂痕、間距、凹陷、間隔、間斷、及/或差異。
產生-建立、生產、引致、及/或使存在。
梯度-對照於變量之距離的改變率。
格柵-實際或觀念上之彼此跨越以形成一系列正方形之線的網路。
觸覺-涉及人的知覺運動感覺和/或人的觸覺。許多潛在觸覺體驗係許多感覺、感覺身體位置的差異、及至少部分地以非視覺、非聽覺、及非嗅覺的方式察覺感覺中之時間為基的變化，包括觸摸(被碰觸)、主動碰觸、抓、 壓、摩擦、牽引、滑、伸縮、力、扭力、衝擊、穿刺、振動、運動、加速度、挺舉、脈動、定向、肢體位置、重力、質地、間隙、凹陷、粘度、疼痛、搔癢、濕度、溫度、導熱性、及熱容量的經驗。
具有-包括但未受限於。
人機介面-適於將資訊呈現給使用者及/或從使用者接收資訊的硬體及/或軟體；及/或使用者介面。
照明-提供光及/或用光照亮。
撞擊-碰撞及/或打擊。
包括-包括但未受限於。
折射率-量測物質將通過其之光波減緩的程度。物質的折射率等於光在真空中的速度對光在該物質中的速度的比率。其值決定當光進入或離開該物質時的折射程度。
氧化銦錫-氧化銦(III)(In2O3)及氧化錫(IV)(SnO2)的固體溶液，典型係90%重量份的In2O3、10%重量份的SnO2，其在薄層中典型係透明及無色的並可在電磁頻譜的紅外線區域中使用為金屬類反射鏡。由於其導電性及光學透明性，其廣泛地使用為透明導電氧化物。氧化銦錫的薄膜最常經由電子束蒸鍍沈積、物理氣相沉積及/或許多濺鍍沈積技術沈積在表面上。
個別地-獨立實體的或相關於獨立實體。
資訊裝置-能處理資料及/或資訊的任何裝置，諸如，任何通用及/或專用電腦，諸如，個人電腦、工作站、伺服器、迷你電腦、大型主機、超級電腦、電腦終端、膝上 型電腦、可穿載電腦、及/或個人數位助理(PDA)、行動終端、藍牙裝置、通訊器、「智慧型」手機(諸如，iPhone-類及/或Treo-類裝置)、傳訊服務(例如，Blackberry)接收器、傳呼機、傳真機、行動電話、習知電話、電話裝置、程式化微處理器或微控制器及/或周邊積體電路元件、ASIC或其他積體電路、硬體電子邏輯電路，諸如，分散式元件電路、及/或可編程邏輯裝置，諸如，PLD、PLA、FPGA、或PAL等等。通常可能將於其上駐留能實作本文描述的方法、結構、及/或圖形使用者介面之至少一部分的有限狀態機的任何裝置使用為資訊裝置。資訊裝置可包含組件，諸如，一或多個網路介面、一或多個處理器、一或多個包含指令的記憶體、及/或一或多個輸入/輸出(I/O)裝置、耦接至I/O裝置的一或多個使用者介面等。
初始化-準備某物以供使用及/或為特定未來事件準備某物。
輸入/輸出(I/O)裝置-適於將輸入提供至資訊裝置及/或從資訊裝置接收輸出的任何裝置。範例可包括聽覺、視覺、觸覺，嗅覺，和/或味覺導向的裝置，包括，例如，監視器、顯示器、投影器、高架顯示器、鍵盤、鍵板、滑鼠、軌跡球、搖捍、遊戲台、滾輪、觸控板、觸控面板、指標裝置、麥克風、揚聲器、視訊攝影機、照相機、掃描器、印表機、開關、繼電器、觸覺裝置、振動器、觸覺模擬器、及/或觸覺板、可能包括I/O裝置可附 接或連接至其的埠。
安裝-連接或設定在位置中並預備使用。
指令-命令，其可實作為硬體、韌體、及/或軟體，該等命令適於經由預定實體電路的產生及/或維護實施特定操作及/或功能。
絕緣-阻擋熱流及/或電流。
絕緣-具有對電流流動的可觀阻力。
層-具有一或多個功能的連續且相對薄的材料、區域、分層、層(course)、薄層、塗佈、及/或薄片。不必具有固定厚度。
透鏡-一片透明物質，常係玻璃及/或塑膠，具有二者均彎曲或一者彎曲且一者平面的二相對表面，使用在用於改變光線之收斂及/或焦點的光學裝置中；用於改變光線之收斂及/或焦點的光學裝置；及/或傳遞光、反射光、及/或適於導致光集中及/或發散的光學裝置。
少於-相較於其他事物，具有可量測較小的幅度及/或程度。
光-具有在約300奈米至約1000奈米之範圍內的波長的電磁輻射，包括其間的任何及所有值及次範圍，諸如，從約400至約700nm，從近紅外線通過長波長、遠紅外線、及/或從紫外線到X射線和/或γ射線。
光源-適於響應於所施用的電流發射光的裝置。
液體-呈現易於流動之特徵、很少或無分散傾向、和相對高的不可壓縮性的物體，包括可泵送的及/或可流動 的漿體及/或懸浮液。
液晶-其中的原子或分子規律地陣列在一維或二維中，陣列次序引起光學性質，諸如，各向異性散射，之與晶體關聯的任何各種液體。
定位-置於、設定、發現、及/或位於特定點、區域、及/或位置。
邏輯閘-適於在一或多個邏輯輸入上實施邏輯操作並產生單一邏輯輸出的實體裝置，其以實體表示。因為輸出也係邏輯位準值，一邏輯閘的輸出可連接至一或多個其他邏輯閘的輸入，並經由此種組合，可實施複雜操作。通常實施的邏輯係布林邏輯，且最常在數位電路中發現。邏輯閘的最常見實作係基於使用電阻器、電晶體、及/或二極體的電子產品，且此種實作常出現在積體電路(亦稱為，IC、微電路、微晶片、矽晶片、及/或晶片)形式的大型陣列中。然而，可能產生基於真空管、電磁學(例如，繼電器)、機械(例如，齒輪)、流體學、光學、化學反應、及/或DNA，包括在分子尺寸上操作的邏輯閘。各電子實作邏輯閘典型地具有二輸入及一輸出，各者具有典型地由電壓實體地表示的邏輯位準或狀態。在任何給定時刻，每個終端係在由不同電壓位準表示的二個二元邏輯狀態(「偽」(亦稱為「低」或「0」)或「真」(亦稱為「高」或「1」))的一者中，當電路處理資料時，終端的邏輯態可，且通常會時常改變。因此，各電子邏輯閘典型需要電力，使得其可獲得及/或汲取電流以實現正確輸 出電壓。典型地，最後將可機器實作指令編碼為「0」或「1」的二進位值，且典型地寫入及/或至記憶體裝置，諸如，「暫存器」，其將該二進位值記錄為記憶體裝置之實體性質的改變，諸如，電壓、電流、電荷、相位、壓力、重量、高度、彈性、位準、間隙、位置、速度、動量、力、溫度、極性、磁場、磁力、磁定向、反射性、分子鏈結、分子量等的改變。範例暫存器可能儲存「01101100」的值，其編碼總共8個「位元」(一位元組)，其中係「0」或「1」任一者的各值稱為「位元」(並將8位元共同稱為「位元組」)。須注意因為二進位位元僅可具有二不同值之一者(「0」或「1」之任一者)，可將能在二飽和狀態之間切換的任何實體媒體用於代表位元。因此，能表示二進位位元的任何實體系統能代表數值量、並可能經由特定編碼可機器實作指令操控此等數字。此係與數位計算相關之基本概念的一者。在暫存器及/或閘級，電腦在本質上不將此等「0」及「1」視為係數字，但典型地視為電壓位準(在電子實作電腦的情形中)，例如，約+3伏特的高電壓可能代表「1」或「邏輯真」且約0伏特的低電壓可能代表「0」或「邏輯偽」(或反之亦然，依據電路如何設計)。典型地將此等高及低電壓(或其他實的性質，依據實作的本質)饋送至一系列邏輯閘，彼等經由正確的邏輯設計依次產生由特定編碼可機器實作指令指定的實體及邏輯結果。例如，若該編碼請求計算，邏輯閘可能將編碼的前二位元加總，產生結果「1」(「0」「1」= 「1」)，然後針對後續取得及讀取將此結果寫至另一暫存器中。或，若該編碼係對特定種類之服務的請求，邏輯閘可能依次存取或寫入部分其他暫存器中，其會依次觸發其他邏輯閘以啟始請求服務。
邏輯-一種觀念性的表示。
可機器實作指令-經由形成特定實體電路適於導致機器，諸如，資訊裝置，實作一或多個特定活動、操作、及/或功能的命令。可將有時可形成稱為「處理器」、「核心」、「作業系統」、「程式」、「應用程式」、「工具程式」、「次常式」、「劇本」、「巨集」、「檔案」、「計劃」、「模組」、「程式庫」、「類別」、及/或「物件」等之實體的該等命令以硬體、韌體、及/或軟體的形式具現及/或編碼為機器碼、來源碼、目標碼、經編譯碼、經組合碼、可解譯碼、及/或可執行碼等。
機器可讀媒體-機器，諸如，資訊裝置、電腦、微處理器、及/或控制器等，可自其儲存及/或得到一或多個可機器實作指令、資料、及/或資訊的實體結構。範例包括記憶體裝置、打孔卡片、鋼琴播放樂譜等。
匹配-反映、類似、協調、符合、對應、及/或決定二或多個值、實體、及/或實體群組之間的對應性。
材料-物質及/或組成物。
可能-至少在部分實施例中容許及/或允許。
記憶體裝置-能以類比及/或數位格式儲存，有時係永久性的，可機器實作指令、資料、及/或資訊的設備。範 例包括至少一非揮發性記憶體、揮發性記憶體、暫存器、繼電器、開關、隨機存取記憶體、RAM、唯讀記憶體、ROM、快閃記憶體、磁性媒體、硬碟、軟碟、磁帶、光學媒體、光碟(optical disk)、光碟(compact disk)、CD、數位多樣化光碟、DVD、及/或冗餘陣列等。記憶體裝置可耦接至處理器及/或可儲存及提供適於由處理器執行的指令，諸如，根據本文揭示的實施例。
方法-在待變換成不同狀態或事物之標的物上實施及/或綁至特定設備的一或多個動作，該一或多個動作不係基本原理且未搶占基本原理的所有用途。
mm-微米。
最近-在實體鄰近度上最接近的。
網路-通訊地耦接的複數個節點、通訊裝置、及/或資訊裝置。此種節點及/或裝置可經由網路鏈接，諸如，經由各種有線及/或無線媒體，諸如，纜線、電話線、電力線、光纖、無線電波、及/或光束等，以共享資源(諸如，印表機及/或記憶體裝置)、交換檔案、及/或容許之間的電子通訊。網路可係及/或可使用任何各式各樣的次網路及/或協定，諸如，電路交換、公開交換、封包交換、無連接、無線、虛擬、無線電、資料、電話、雙絞線對、POTS、非-POTS、DSL、行動電話、電信、視訊散佈、纜線、無線電、地面、微波、廣播、人造衛星、寬頻、企業、全球、國家、區域、廣域、基幹、封包交換TCP/IP、IEEE 802.03、乙太網路、快速乙太網路、符記環、區域 、廣域、IP、公開網際網路、內部網路、私有網路、ATM、極寬頻(UWB)、Wi-Fi、藍牙、機場(Airport)、IEEE 802.11、IEEE 802.11a、IEEE 802.11b、IEEE 802.11g、X-10、電力、3G、4G、多域、及/或多區次網路及/或協定，一或多個網際網路服務供應商、一或多個網路介面、及/或一或多個資訊裝置，諸如，交換器、路由器、及/或未直接連接至區域網路的閘道器等，及/或彼等的任何等效實體。
網路介面-能將資訊裝置耦接至網路的任何實體及/或邏輯裝置、系統、及/或處理。範例網路介面包含電話、行動電話、胞狀數據機、電話資料數據機、傳真數據機、無線收發器、通訊埠、乙太網路卡、纜線數據機、數位用戶線介面、橋接器、集線器、路由器、或其他相似裝置、管理此種裝置的軟體、及/或提供此種裝置之功能的軟體。
非重疊-未實質延伸至上方及/或覆蓋一部分。
不-某事的否定及/或決不。
偏移-接近但可與給定點或區域區分的位置。
相對-相反；對著；二互補或互斥事物的另一者；相對放置或定位；相反地、抗衡、及/或在其他事物對面及/或彼此相對。
相反-背離。
光學-光、視力、及/或視覺表示的或與彼等相關的。
光學無邊-由於光與不連續性及/或邊緣的互動，實質 缺少彎曲光的能力。
重疊-(名辭)重疊及/或被重疊的部分及/或部位；(動辭)延伸至上方及/或覆蓋一部分。
封包-以用於，諸如，在網路內及/或跨越網路，諸如，數位封包交換網路，傳輸之特定方式組織的數據包的通用術語，並包含待傳輸資料及特定控制資訊，諸如，目的地位址。
對-一組二個項目。
平行-每處等距之線、曲線、平面、及/或表面的、與彼等相關、及/或指定彼等，及/或將電流分割至二或多條路徑中之電路中之組件的配置。
部分地-至一程度，但不必然完全地。
引人注目-能為人的感覺所察知。
垂直-以直角相交或形成實質直角；及/或與軸成實質直角。
相位-在振盪及/或重複系統(諸如，交流電、一或多個光波、及/或聲波)的連續狀態及/或週期之間的時間關係及；固定基準點；另一系統的狀態；及/或另一系統的週期。
光微影-一種處理，可據此藉由將光敏基板對型樣，諸如，預設計結構型樣及/或電路型樣，曝光而產生金屬箔、流體電路、及/或「印刷」電路，並化學蝕除該基板的曝光及/或未曝光部分。
光子-代表光及/或其他電磁輻射之量子的粒子，該粒 子具有零靜止質量並運載與輻射之頻率成比例的能量。
實體的-具體的、真實的、及/或實際的。
實體地-以具體的、真實的、及/或實際的方式存在、出現、發生、行動、及/或操作。
複數-複數及/或多於一個的狀態。
點-(名辭)在至少二維系統中的已界定實體及/或邏輯位置、及/或幾何描述集合中的元素、及/或量測或具有時間座標及非時間座標之量測的表示。(動辭)指示…的位置及/或方向。
部分-部分、成份、部、百分比、比率、及/或少於更大之整體的量。可係可視覺、實體、及/或虛擬區分及/或不可區分的。
放置-放在地點或位置。
功率-視覺系統、眼睛、透鏡、及/或透鏡輔助眼睛之能力的量測，以折射、放大、分離、收斂、及/或發散；及/或可能指任何功率的通用術語，諸如，有效、等效、折光度、焦距、拆射、表面、及/或聚散度功率。
電源供應-電力源。
預--在已事先及/或預先發生的活動之前的前置辭。
預決定-預先建立。
防止-妨礙、阻礙、停止、及/或防止發生。
可能性-發生之可能性的量化表示。
處理器-使用硬體、韌體、及/或軟體且經由在形成特定實體電路之複數個邏輯閘上的布林邏輯操作可實體地適 於實施由一組可機器實作指令界定之特定工作的機器。處理器可使用機械、氣動、液壓、電、磁、光學、資訊、化學、及/或生物原理、機制、調適、訊號、輸入、及/或輸出實施工作(等)。在特定實施例中，處理器可藉由操控、分析、修改、及/或轉變資訊、傳輸由可機器實作指令及/或資訊裝置使用的資訊，及/或將資訊路由至輸出裝置而在資訊上動作。處理器的功能可如同中央處理單元、區域控制器、遠端控制器、平行控制器、及/或分散式控制器等。除非另外陳述，處理器可係通用裝置，諸如微控制器及/或微處理器，諸如由加州聖克拉拉英特爾公司製造的Pentium微處理器系列。在特定實施例中，處理器可係專用裝置，諸如，至少在本文揭示實施例的部分中已設計成實作在其硬體及/或韌體中的特定應用積體電路(ASIC)或場效可規劃閘極陣列(FPGA)。處理器可駐留在控制器上或使用其能力。
程式地-程式及/或指令的、與程式及/或指令相關的、或具有程式及/或指令。
計劃-計算、估計、或預測。
提供-供給、給予、及/或使可用。
徑向-關於沿著半徑移動及/或導向、及/或從共同中心輻射及/或收斂至其、及/或具有或特徵係如此配置或如此輻射的部分。
接收-作為訊號得到、取得、擷取、及/或得到。
推薦-建議、稱贊、贊許、及/或贊成。
降低-使及/或得到較少及/或較小。
呈現-將資訊，諸如，經由視覺、聽覺、及/或觸覺等機構及/或描寫，諸如，經由顯示器、監視器、電子紙、眼部植入物、耳蝸植入物、揚聲器、振動器、搖動器、力反饋裝置、觸控筆、搖桿、方向盤、手套、送風機、加熱器、冷卻器、插針陣列、觸覺觸控螢幕等，例如，物理地、化學地、生物地、電子地、電地、磁地、光學地、聽覺地、流體地、及/或機器地等轉換成人可察覺的形式，例如，資料、命令、文字、圖形、音訊、視訊、動畫、及/或超鏈接等。
重複地-再三、反複。
請求-表達對…的期望及/或對…要求。
環-可想像為已藉由繞著迴路外部的固定線旋轉封閉迴路(例如，橢圓形、圓形、不規則曲線、多邊形等)而產生的實質環形物件。
旋轉的-繞著及/或環繞軸。
磨擦方向-施加至基板的聚合物受磨擦的方向。
該-當使用在系統或裝置聲明中時，指示已於先前引用之後續聲明項的冠詞。
現場-行動發生及/或關注物件存在的地點；由觀看者看到的某物；及/或視圖及/或前景。
第二-在順序中緊隨在最初項之後。
選擇-從替代方案產生決定或選擇。
分離的-未接觸及/或由某物分隔。
分隔器-包含分隔媒體之裝置或設備的部分，及/或實質支撐、保持、及/或約束該分隔媒體的結構。
伺服器-一種資訊裝置及/或在其上運行的處理，適於通訊地耦接至網路且適於對至少一用戶端提供至少一服務，亦即，針對通訊地耦接至該網路的至少另一資訊裝置及/或針對在耦接至該網路之另一資訊裝置上運行的至少一處理。一範例係檔案伺服器，其具有區域硬碟且服務來自遠端客戶端的請求以讀取、寫入、及/或管理該硬碟上的檔案。另一範例係電子郵件伺服器，其提供接受、暫時儲存、中繼、及/或遞送電子郵件訊息的至少一程式。另一範例係資料庫伺服器，其處理資料查詢。另一範例係裝置伺服器，其提供網路化及/或可程式化：對共享實體資源及/或裝置的存取、及/或監視、管理、及/或控制，諸如，資訊裝置，印表機、數據機、掃描器、投影器、顯示器、燈光、照相機、安全裝備、感應讀卡器、讀卡機、售貨亭、POS/零售裝備、電話系統、住宅裝備、HVAC裝備、醫學裝備、研究裝備、工業裝備、機器工具、泵、風扇、馬達驅動器、秤、可編程邏輯控制器、感測器、資料收集器、致動器、警報器、信號器、及/或輸入/輸出裝置等。
組-相關的複數。
訊號-(動辭)通訊；(名辭)在可編碼資訊，諸如，用於活動及/或具有預配置意義之一或多個字母、字、字元、符號、訊號旗標、視覺顯示、及/或特殊聲音 等的可機器實作指令，的實體變量中的一或多個可自動偵測變化，諸如，氣動、液壓、聲學、流體、機器、電、磁、光學、化學、及/或生物變量，諸如，功率、能量、壓力、流速、滯度、密度、力矩，衝擊、力、頻率、相位、電壓、電流、電阻、磁動勢、磁場強度、磁場通量、磁阻、導磁率、折射率、光學波長、偏振、反射率、透射率、相位偏移、濃度、及/或溫度等。依據上下文，編碼於其中的訊號及/或資訊可係同步、非同步、硬即時、軟即時、非即時、連續產生、連續變化、類比、離散產生、離散變化、量化、數位、廣播、多播、單播、傳輸、運送、接收、連續量測、離散量測、處理、編碼、加密、多工、調變、散佈、解散佈、解調變、偵測、解多工、解密、及/或解碼的等。
二氧化矽-亦稱為「二氧化矽(silica)」；白色或無色玻璃狀不溶性固體(SiO2)；以各種形式廣泛地存在於地殼中，例如，石英、方矽石、鱗石英、焦石英等。
立體角-三維角，由在共同點相交的三或多個平面形成。其幅度係以無單位度量的球面度量測。空間的角點形成立體角，如錐形的頂端；可想像形成錐形的平滑圓潤表面的有限數量平面全部在頂端相交。立體角常在使用在光度學中。
空間地-存在及/或發生在空間中。
特殊用途電腦-包含具有複數個邏輯閘之處理器裝置的電腦及/或資訊裝置，經由處理器實作的特殊可機器實 作指令，此等邏輯閘的至少一部分據此經歷在至少一實體及/或可量測性質中的改變，諸如，電壓、電流、電荷、相位、壓力、重量、高度、彈性、位準、間隙、位置、速度、動量、力、溫度、極性、磁場、磁力、磁定向、反射性、分子鏈結、分子量等，從而將該特殊可機器實作指令直接聯結至該邏輯閘的特殊組態及性質(等)。在電子電腦的情形中，邏輯閘中的各個此種改變產生特殊電路，從而將特殊可機器實作指令聯結至該特殊電路。
特殊用途處理器-具有複數個邏輯閘的處理器裝置，經由處理器實作的特殊可機器實作指令，此等邏輯閘的至少一部分據此經歷在至少一實體及/或可量測性質中的改變，諸如，電壓、電流、電荷、相位、壓力、重量、高度、彈性、位準、間隙、位置、速度、動量、力、溫度、極性、磁場、磁力、磁定向、反射性、分子鏈結、分子量等，從而將該特殊可機器實作指令直接聯結至該邏輯閘的特殊組態及性質(等)。在電子電腦的情形中，邏輯閘中的各個此種改變產生特殊電路，從而將特殊可機器實作指令聯結至該特殊電路。
球形的-球的、相關於球的、及/或具有與球的形狀相似的形狀。
儲存-放置、保持、及/或保留資料，典型地在記憶體中。
結構-由以特別方式共同保持及/或放置之許多零件構成的某物。
實質地-大幅度及/或程度。
基板-基礎材料、區域、基底、分層、層、薄層、塗佈、及/或薄片。
充份地-至實現預定結果所需的程度。
供應-使可供使用。
支撐-承載…的重量，特別係從下方。
表面-物件的外邊界及/或構成及/或相似於此種邊界的材料層。
開關-(名辭)開啟及/或關閉電路、完成及/或切斷電路徑、及/或選擇路徑及/或電路的機器、電、及/或電子裝置；(動辭)形成、開啟、及/或關閉一或多個電路；形成、完成、及/或切斷電及/或資訊路徑；在通電及斷電之間交替；從複數個可用路徑及/或電路選擇路徑及/或電路；及/或在網路中(或網路之間)的不同傳輸路徑段之間建立連接；(名辭)適於開關的實體裝置，諸如，機器、電、及/或電子裝置。
系統-機制、裝置、機器、製品、處理、資料、及/或指令的集合，該集合設計成實施一或多個具體功能。
該-使用為關係子句之主辭或受辭的代名辭，及/或用於指示已指示、之前提及、現在、及/或已為人所熟知的事物。
轉換-以可量測的方式改變：形式、外觀、本質、及/或性質。
傳輸-作為訊號傳送、提供、供給、及/或供應。
透明-清楚；特徵是輸送入射光而不反射或吸收大部分的光；及/或具有經由其物質傳輸光線的性質，使得可清楚地看到位於之外或之下的本體。
獨特的-分離且不同。
使用者介面-用於呈現資訊給使用者及/或向使用者請求資訊的任何裝置。使用者介面包括文字、圖形、音訊、視訊、動畫、及/或觸覺元件的至少一者。文字元件可藉由，例如，印表機、監視器、顯示器、投影機等提供。圖形元件可經由，例如，監視器、顯示器、投影機、及/或視覺指示裝置，諸如，光、旗標、信標等提供。音訊元件可經由，例如，揚聲器、麥克風、及/或其他聲音產生及/或接收裝置提供。視訊元件或動畫元件可經由，例如，監視器、顯示器、投影機、及/或其他視覺裝置提供。觸覺元件可經由，例如，非常低頻的揚聲器、振動器、觸覺刺激器、觸覺板、模擬器、鍵盤、鍵板、滑鼠、軌跡球、搖桿、遊戲台、滾輪、觸控板、觸控面板、指標裝置、及/或其他觸覺裝置等提供。使用者介面可包括一或多個文字元件，諸如，一或多個字母、數字、符號等。使用者介面可包括一或多個圖形元件，諸如，影像、相片、圖式、圖像、視窗、標題欄、面板、圖表、欄標、抽屜、矩陣、表、表格、日曆、輪廓圖、框、對話盒、靜態文字、文字盒、列表、選擇列表、跳出式列表、下拉式列表、選單、工具欄、停靠塢、核取盒、單選鈕、超鏈接、瀏覽器、按鈕、控制、調色板、預覽面板、色輪、刻度盤、滑動器、 捲軸、游標、狀態欄、步進器、及/或進度指示器等。文字及/或圖形元件可能用於選擇、編程、調整、改變、指定等外觀、背景顏色、背景樣式、邊界樣式、邊界厚度、前景顏色、字體、字體樣式、字體尺寸、對準、行間距、縮進、最大資料長度、驗證、查詢、游標種類、指標器種類、自動調整大小、位置、及/或尺寸等。使用者介面可包括一或多個音訊元件，諸如，音量控制、間距控制、速度控制、聲音選擇器、及/或用於控制音訊播放、速度、暫停、快轉、反轉等的一或多個元件。使用者介面可包括一或多個視訊元件，諸如，用於控制視訊播放、速度、暫停、快轉、反轉、放大、縮小、旋轉、及/或傾斜等的元件。使用者介面可包括一或多個動畫元件，諸如，用於控制動畫播放、暫停、快轉、反轉、放大、縮小、旋轉、傾斜、色彩、強度、速度、頻率、及/或外觀等的元件。使用者介面可包括一或多個觸覺元件，諸如，使用觸覺刺激、力、壓力、振動、動作、移位、溫度等的元件。
可變焦點-在單一特定光學元件中具有可調整焦點的性質。
變化-改變、變更、及/或修改…的一或多個特徵及/或屬性。
經由-通過及/或使用。
觀看-注視、凝視、及/或看。
電壓-(亦稱為，「電位差」及「電動勢」(EMF))在電路之任何二導體之間的電位中的差，及/或表示為 伏特(V)的有號數，並量測為電路中之二點之間的有號差的量，根據歐姆定律，當其除此等點之間以歐姆為單位的電阻時，提供在該等點間流動之以安培為單位的電流。
波前-包含在實質預定時間受波以實質相同方式影響之點的表面。
權重-指示重要性的值。
當-同時及/或在該時間期間。
其中-關於其；且；及/或此外。
同時-長達、在該時間之特定部分期間、及/或在相同時間。
具有-為…所伴隨。
對照-相關於及/或關於。
注意
於本文文字地及/或圖形地描述各種實質地且具體地實際有用的範例實施例，若有任何發明人(等)已知之用於由熟悉本技術的人士實作本描述主題內容的最佳模式，包括其。依據熟悉本技術的人士的專門技術及/或本領域的整體知識，在閱讀此文件時，本文描述的一或多個實施例的任何許多可能變化(例如，修改、擴增、修飾、潤色、及/或增強等)、細節(例如，種類、外觀、細微差別、及/或加工等)、及/或等效物(例如，替換、置換、組合、及/或替代等)可能對他/她變得明顯，且未施行不適當的實驗。發明人(等)希望熟練的技師視情況實作此 種變化，細節，和/或等效物，且發明人(等)因此企圖實踐在本文具體描述以外的本描述主題內容。因此，如法律所允許的，本描述主題內容包括及涵蓋該描述主題內容的所有變化、細節、及等效物。再者，如法律所允許的，除非在本文中另外明確地指示、清楚及明確地否認、或另外明顯地與上下文矛盾，本文描述之特徵、功能、活動、物質、及/或結構元件的每個組合、及其所有可能變化、細節、及等效物均由本描述主題內容所包含。
本文提供的任何及所有範例的使用，或例示性語言(例如，「諸如」)僅企圖更佳地說明一或多個實施例，且除非另外陳述，不構成對任何描述主題內容之範圍的限制。不應將本文的無語言內容視為指示任何描述主題內容係實踐本描述主題內容之所必需。
因此，與此文件之任何部分的內容無關(例如，發明名稱、發明所屬之技術領域、先前技術、發明內容、實施方式、發明摘要、圖式簡單說明等)，除非明確地指定相反內容，諸如，經由明顯界定、主張、或論述，或上下文明顯地矛盾，對照任何申請專利範圍，無論係此文件的及/或宣稱對其有優先權之任何文件的任何申請專利範圍，且無論係原始或另外呈現的：並未針對活動的任何特定順序、針對物質的任何特定組合、或針對元件的任何特定相互關係要求包含任何特定描述的特徵、功能、活動、物質、或結構元件；未描述的特徵、功能、活動、物質、或結構元件是 「必要的」；可將任何兩或多種描述物質混合、結合、反應、分離、及/或隔離；可將任何描述特徵、功能、活動、物質、及/或結構元件積集、分離、及/或複製；任何描述活動可手動、半自動、及/或自動地實施；可將任何描述活動重複、任何活動可由多個實體實作、及/或任何活動可在多個司法管轄區實施；且可具體地排除任何描述特徵、功能、活動、物質、及/或結構元件、活動的順序可變化、及/或結構元件的相互關係可變化。
除非本文中另外指示或明顯地與上下文矛盾，將術語「一(a)」、「一(an)」、「該(said)」、「該(the)」及/或相似指稱辭在描述各種實施例之上下文中的使用(特別在本文呈現之任何申請專利範圍的上下文中及/或在宣稱對其有優先權的任何文件中)視為涵蓋單數及複數二者。
除非另外注明，將術語「包含」、「具有」、「包括」、及「含有」視為係開放式術語(亦即，意指「包括，但未受限於」)。
當任何數字或範圍於本文中描述時，除非另外明顯地陳述，該數字或範圍係近似的。除非本文中另外指示，本文中之值的範圍的詳述僅企圖使用為個別地參考落在該範圍內的各單獨值的速記法，並將各單獨值及由此種單獨值 界定的各單獨次範圍併入及明確暗示為存在於本說明書內，如同其個別地陳述於本文中。例如，若描述1至10的範圍，甚至係隱含地描述，除非另外陳述，該範圍必定包括其間的所有值，諸如，1.1、2.5、3.335、5、6.179、8.9999等，並包括其間的所有次範圍，諸如，1至3.65、2.8至8.14、1.93至9等。
當本文描述或出現在申請專利範圍中的任何片語(亦即，一或多個字)之後跟隨著圖式元件數字時，該圖式元件數字在係例示的且未限制描述及申請專利範圍。
沒有此文件或宣稱對其有優先權之任何文件的申請專利範圍企圖援引35 USC 112的第六段，除非該確切短語「用於…之機構」之後跟隨著動名詞。
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Claims (20)

  1. 一種電光裝置，包含：第一電極結構，包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中：該第二電極層係組態以可操作導電性地未連接至電源；該第一電極層定位成平行於該第二電極層；該第一電極層之旋轉軸係與該第二電極之旋轉軸一致且，當從延著該旋轉軸的點觀看時，來自該第一層的電極環未光學對準該第二層之在空間上最接近的電極環。
  2. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極層由絕緣層與該第二電極層分隔。
  3. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極層由鄰近絕緣層與該第二電極層分隔。
  4. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極層由從二氧化矽形成的絕緣層與該第二電 極層分隔。
  5. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極層與該第二電極層電絕緣。
  6. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：同心的該複數個第一電極環各者適於個別地控制。
  7. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：同心的該複數個第一層分隔器之各者係從約0.1微米到約10微米寬。
  8. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：同心的該複數個第一電極環形成自氧化銦錫。
  9. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極層經由第一匯流排電耦接至電源，且該第二電極層經由第二匯流排電耦接至電源。
  10. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構適於毗連液晶。
  11. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構適於產生橫過液晶的電壓梯度。
  12. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構適於在相鄰液晶材料中產生折射率梯度。
  13. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構適於與第二電極結構電共操作，以產生電場。
  14. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中： 該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以產生橫過該液晶材料的電場。
  15. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以產生橫過該液晶材料之迅速改變的電場。
  16. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構及第二電極結構毗連液晶材料，該第一電極結構及該第二電極結構適於電共操作以在該液晶材料中產生折射率徑向梯度。
  17. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一電極結構適於形成球面透鏡。
  18. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一層分隔器係為絕緣環。
  19. 如申請專利範圍第1項的裝置，其中：該第一層分隔器係為間隙。
  20. 一種用於控制電光裝置的方法，該方法包含：在包含第一電極結構的電光裝置中，該第一電極結構包含：第一電極層，包含同心的複數個第一電極環，來自該複數個第一電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第一層分隔器的對應第一層分隔器分隔；且第二電極層，包含同心的複數個第二電極環，來 自該複數個第二電極環的各相鄰電極環對由來自同心的複數個第二層分隔器的對應第二層分隔器分隔；其中：該第二電極層係組態以可操作導電性地未連接至電源；該將第一電極層定位成平行於該第二電極層；該第一電極層的旋轉軸係與該第二電極層之旋轉軸一致；以及當從沿著該旋轉軸的點觀看時，來自該第一層的電極環未光學對準該第二層之在空間上最接近的電極環，將預定電壓施加至來自該複數個第一電極環的該等電極環各者，該預定電壓的振幅對來自該複數個第一電極環的該等電極環各者係獨特的。
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