TWI584402B - 用以支撐基板之支撐單元 - Google Patents
用以支撐基板之支撐單元 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI584402B TWI584402B TW101112999A TW101112999A TWI584402B TW I584402 B TWI584402 B TW I584402B TW 101112999 A TW101112999 A TW 101112999A TW 101112999 A TW101112999 A TW 101112999A TW I584402 B TWI584402 B TW I584402B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- support
- substrate
- supporting
- rod
- rods
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/6734—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders specially adapted for supporting large square shaped substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本發明係有關於一種防止於基板處理時,基板因撓曲而變形之用以支撐基板之支撐單元。
基板處理裝置用於平形顯示器之製造時,可大致分為蒸氣沉積(Vapor Deposition)裝置及退火(Annealing)裝置。
沉積裝置係用以形成構成平形顯示器之核心結構之透明導電層、絕緣層、金屬層或矽層的裝置,有諸如LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)或PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)等之化學氣相沉積裝置、及諸如濺鍍(Sputtering)等之物理氣相沉積裝置。
又,退火裝置係用以於將膜蒸氣沉積於基板後,使所蒸氣沉積之膜之特性提高的裝置,係進行熱處理以使所蒸氣沉積之膜結晶化或相變化之裝置。
一般,基板處理裝置有處理1個基板之枚葉式(Single Substrate Type)與處理複數基板之分批式(Batch Type)。枚葉式基板處理裝置有結構簡單之優點,但因有生產性降低之缺點,故大量生產大多使用分批式基板處理裝置。
於分批式基板處理裝置形成提供可處理基板之空間之腔室,並於腔室設置用以支撐負載於腔室之基板之支撐單元。
而由於習知之支撐單元無法支撐基板整面,故基板負載於腔室而予以處理時,有基板因自身重量而撓曲變形之虞。藉此,平形顯示器之顯示特性惡化,有可靠度降低之弊端。
本發明係為解決前述習知技術之問題而發明者,其目的在於提供於處理基板時,可支撐基板整面,而可使平形顯示器之可靠度提高之用以支撐基板之支撐單元。
用以達成前述目的之本發明之用以支撐基板之支撐單元包含有1對交叉支撐桿、支撐托架及舟皿,該1對交叉支撐桿係相互平行地配置者;該支撐托架係分別支撐前述交叉支撐桿之一端部側及另一端部側,並結合於對象物,以使前述交叉支撐桿位於前述對象物者;該舟皿係具有1對外側主桿、1對外側支撐桿、複數連結桿、及複數支撐銷者,該1對外側主桿以具有相互間隔之狀態配置且一端部側各支撐於其中任一個前述交叉支撐桿,另一端部側各支撐於另一前述交叉支撐桿,該1對外側支撐桿以小於前述外側主桿之直徑之直徑形成並以分別積層於前述外側主桿之形態結合且支撐基板之框部側,該複數連結桿將前述1對外側主桿相互連結,該複數支撐銷形成於前述連結桿以支撐前述基板。
又,用以達成前述目的之本發明之用以支撐基板之支撐單元包含有複數支撐桿、支撐托架、及複數支撐銷,該複數支撐桿係以具有相互間隔之狀態平行地配置者,該支撐托架係分別支撐前述支撐桿之一端部側及另一端部側,並結合於對象物而使前述支撐桿位於前述對象物者;該複數支撐銷係形成於前述支撐桿,以支撐基板者。
本發明之用以支撐基板之支撐單元由於可於處理基板時,以複數支撐銷均一地支撐基板整面,故無基板因自身重量而變形之虞。因而,可發揮平形顯示器之可靠度提高之效果。
第1圖係使用本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元之基板處理裝置的立體圖。
第2圖係第1圖所示之用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第3圖係第2圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第4圖係第3圖所示之舟皿之立體圖。
第5圖係本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第6圖係第5圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第7圖係第6圖所示之其中任一個支撐桿之立體圖。
後述之關於本發明之詳細說明參照將可實施本發明之特定實施形態作為例示而顯示之附加圖式。充分詳細地說明該等實施形態,以使該業者可實施本發明。務必理解本發明之多種實施形態雖相互不同,但不需相互排斥。舉例言之,於此記載之特定形狀、特定之構造及特性與一實施形態相關,在不脫離本發明之精神及範圍下可以其他實施形態實現。又,務必理解各個揭示之實施形態中之個別構成要件之位置或配置在不脫離本發明之精神及範圍下可變更。因而,後述之詳細說明非限定之涵義,當適當地說明本發明之範圍時,僅以與該等請求項主張者均等之所有範圍一同附加之請求項限定。圖式所示之長度及面積、厚度及形態為方便,亦有誇張呈現之情形。
以下,參照附加之圖式,詳細地說明本發明實施形態之用以支撐基板之支撐單元。
在說明本實施形態時,務必理解基板之處理係包含將基板加熱及冷卻之步驟、用以將預定膜蒸氣沉積於基板之所有蒸氣沉積步驟、用以將經蒸氣沉積於基板之預定膜退火、結晶化或相變化之所有熱處理步驟等的概念。
第1圖係使用本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元之基板處理裝置的立體圖,第2圖係第1圖所示之用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
如圖所示,基板處理裝置包含有形成約長方體形狀而構成外觀之本體10,並於本體10之內部形成為可處理基板50之密閉之空間的腔室11。本發明不僅可為長方體形狀,且可根據基板50之形狀,形成多種形狀。
本體10之前面開放而設置門13,門13將腔室11開關。即,在打開門13而開放腔室11之狀態下,以機器人(圖中未示)等支撐基板50,將基板50負載於腔室11。然後,在關閉門13而封閉腔室11之狀態下,處理基板50。
本體10之上面亦可開放,因此,設置蓋15,而腔室11亦可以蓋15開關。蓋15於修理或更換設置於腔室11之基板50之處理所需的零件時,開放腔室11之內部。
設置於腔室11之內部之前述零件可包含使基板50搭載而支撐之用以支持基板之支撐單元100、用以加熱基板50之加熱器17、用以使基板50冷卻之冷卻管(圖中未示)等。
加熱器17之左端部側及右端部側分別支撐於本體10之左側壁及右側壁。加熱器17從本體10之前面側至後面側具有預定間隔且設置複數,並且從本體10之上側至下側具有預定間隔且設置複數。
就本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元100,參照第1圖~第3圖,作說明。第3圖係第2圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
如圖所示,用以支撐基板之支撐單元100可包含交叉支撐桿110、支撐托架120及舟皿130而構成。為可一次處理複數基板50,本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元
100可以上下積層之形態於基板處理裝置設置複數個。
交叉支撐桿110設1對,以本體10之下面為基準,位於同一高度且相互平行地配置。此時,其中任一交叉支撐桿110支撐於與門13相鄰之本體10之前面側兩側壁,另一交叉支撐桿110支撐於本體10之後面側兩側壁。
在基板處理裝置,本體10係支撐交叉支撐桿110之對象物。
詳細地說明交叉支撐桿110支撐於本體10之構造。
交叉支撐桿110之左端部側及右端部側貫穿本體10之左側壁及右側壁,位於本體10之外側,於本體10之左側壁及右側壁結合支撐交叉支撐桿110之支撐托架120。
於支撐托架120之上面以相互垂直相交之形態分別形成支撐溝121及卡止溝123。於與交叉支撐桿110平行之支撐溝121插入露出至本體10之外側之交叉支撐桿110之端部下部側而予以支撐,並於與交叉支撐桿110垂直相交之卡止溝123插入形成於交叉支撐桿110之端部側外周面之卡止環111而予以支撐。
由於於支撐溝121插入交叉支撐桿110之端部側而予以支撐,並於卡止溝123插入卡止環111而予以支撐,故交叉支撐桿110以支撐托架120堅固地支撐。
參照第3圖及第4圖,說明本發明第1實施形態之舟皿。第4圖係第3圖所示之舟皿之立體圖。
舟皿130宜由於處理基板50時可耐高溫並且幾乎無構造之變化之石英構成。
如圖所示,舟皿130包含有以具有相互間隔之狀態配置之1對外側主桿131。外側主桿131之前端部側分別支撐於位於本體10(參照第1圖)之前面側之其中任一交叉支撐桿110,後端部側分別支撐於位於本體10之後面側之另一交叉支撐桿110。
為將外側主桿131堅固地支撐於交叉支撐桿110,於外側主桿131之前端部分別形成插入其中任一交叉支撐桿110而結合之第1卡止片131a,並於後端部分別形成支撐於另一交叉支撐桿110之第2卡止片131b。此時,第2卡止片131b之左端部側及右端部側亦可分別結合於1對外側主桿131,將1對外側主桿131形成於相互連結之後述連結桿135。
第1卡止片131a係截面形狀形成半圓形狀且安置於交叉支撐桿110,第2卡止片131b形成桿形狀且搭載支撐於交叉支撐桿110。由於第1卡止片131a插入交叉支撐桿110而結合,第2卡止片131b搭載支撐於交叉支撐桿110,故舟皿130可堅固地支撐於交叉支撐桿110。又,由於舟皿130之第1卡止片131a形成半圓形且安置於交叉支撐桿110,故只要將舟皿130舉起至上側,便可將舟皿130從交叉支撐桿110分離。因而,可易將舟皿130從交叉支撐桿110分離。
於外側主桿131分別結合外側支撐桿133。由於於外側支撐桿131分別結合外側支撐桿133,故外側支撐桿133亦設1對。外側支撐桿133以小於外側主桿131之直徑之直徑形成,並分別以積層之形態結合於外側主桿131。基板50之框部側支撐於外側支撐桿133。
為使外側主桿131具有預定以上之剛性,外側主桿131之直徑必須相對地大。而當使基板50接觸外側主桿131而予以支撐時,有無法均一地處理與外側主桿131接觸之基板50之部位之虞。藉此,將直徑小於外側主桿131之外側支撐桿133結合於外側主桿131,使基板50接觸外側支撐桿133而予以支撐。
外側主桿131以複數連結桿135相互結合,並於連結桿135結合支撐基板50之複數支撐銷136。由於可以支撐銷136均等地支撐基板50之全體部位,故可防止基板50因自身重量等而撓曲變形。
於複數連結桿135中位於外側主桿131之後端部之連結桿135可形成前述第2卡止片131b。
支撐銷136宜裝卸自如地結合於連結桿135。由於當可將支撐銷136裝卸於連結桿135時,可將支撐銷136集中配置於基板50因基板50之自身重量而撓曲之部位,故可完全防止基板50變形。支撐銷136可形成為多種形狀,關於此後述之。
可於外側支撐桿133劃分複數基板50而予以支撐。此時,為防止劃分而支撐之複數基板50在外側支撐桿133上自由移動,乃於外側支撐桿133形成複數制動器133a。制動器133a分別與基板50之側面接觸而防止基板50於外側支撐桿133之長度方向分別自由移動。
制動器133a也宜裝卸自如地結合於外側支撐桿133。如此一來,由於可根據基板50之大小,裝卸制動器133a,故可將多種尺寸之基板50支撐於外側支撐桿133。
於連結桿135及外側支撐桿133分別形成供支撐銷136及制動器133a之下部側分別插拔自如地結合之第1結合溝135a及第2結合溝133b。
亦可於外側支撐桿133之前端部側及後端部側以與外側支撐桿133垂直相交之形態形成而支撐基板50之框部側之支撐片133c。可以支撐片133c更堅固地支撐基板50。於外側支撐桿133劃分基板50而支撐複數個時,支撐片133c亦可於外側支撐桿133之中央部側形成為對應於基板50。
於外側主桿131之前端部側及後端部側分別形成用以以夾具(圖中未示)掛舟皿130而使舟皿130負載於腔室11(參照第1圖)並從腔室11卸載之卡止鉤131c。可適宜調節卡止鉤131c之高度,俾於以前述夾具掛卡止鉤131c時,前述夾具不致受到支撐銷136及制動器133a之干擾。
在第1圖中未圖示之標號20係支撐本體10之支撐框架。
由於本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元100可以複數支撐銷136支撐基板50整面,故無基板50因自身重量而撓曲變形之虞。因而,可獲得提高平形顯示器之可靠度之效果。
參照第5圖~第7圖,說明本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元。第5圖係本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元的立體圖,第6圖係第5圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖,第7圖係第6圖所示之其中任一個支撐桿之立體圖。
如圖所示,本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元200可包含複數支撐桿210、支撐托架220及複數支撐銷230而構成。為可一次處理複數基板50,本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元200可以上下積層之形態於基板處理裝置設置複數個。
複數支撐桿210以本體10(參照第1圖)之下面為基準而位於同一高度,並相互平行地配置。即,複數支撐桿210位於假想之同一水平面上,並相互平行地配置。支撐桿210之左端部側及右端部側分別結合於為對象物之本體10之左側壁及右側壁而予以支撐。
詳細地說明支撐桿210結合於本體10而予以支撐之構造。
支撐桿210之左端部側及右端部側貫穿本體10之左側壁及右側壁而位於本體10之外側,並於本體10之左側壁及右側壁結合用以支撐支撐桿210之支撐托架220。
於支撐托架220之上面以相互垂直相交之形態分別形成支撐溝221及卡止溝223。於與支撐桿210平行之支撐溝221插入露出至本體10之外側的支撐桿210之端部下部側之外面而予以支撐。又,於與支撐桿210垂直相交之卡止溝223插入形成於支撐桿210之端部側外周面之卡止環211而予以支撐。
由於於支撐溝221插入支撐桿210之端部側而予以支撐,並於卡止溝223插入卡止環211而予以支撐,故以支撐托架220堅固地支撐支撐桿210。
支撐銷230於各支撐桿210形成複數,支撐基板50。即,支撐銷230之下部側結合於支撐桿210,於支撐銷230之上端部支撐基板50。由於於複數支撐桿210分別結合複數支撐銷230,故基板50可以支撐銷230均等地支撐全體部位。因而,可防止基板50因自身重量而撓曲變形。
於支撐桿210形成結合溝213,支撐銷230可裝卸自如地插入結合溝213而結合。由於支撐銷230於支撐桿210裝卸,故於處理基板50時,可將支撐銷230集中配置於基板50因基板50之自身重量而撓曲之部位。因而,可完全防止基板50變形。
支撐銷230之下部側之截面形狀可形成多樣如圓形、橢圓形或方形等。此時,供支撐銷230插拔之結合溝213之形狀當然必須對應於支撐銷230之下部側之截面形狀。
當支撐銷231之截面形狀及結合溝213a之形狀為圓形時,支撐銷231可以支撐桿210為基準旋轉。又,當支撐銷233之截面形狀及結合溝213b之形狀為橢圓形或支撐銷235之截面形狀及結合溝213c之形狀為方形時,可防止支撐銷233、235以支撐桿210為基準旋轉。
支撐銷231之中間部位形成彎曲231a,分別通過接觸基板50而予以支撐之支撐銷231之上側部位及插入支撐桿210而結合之支撐銷231之下側部位之長度方向的中心之假想直線L1、L2可形成相互平行。此時,當支撐銷231之下側部位形成圓形,支撐銷231可旋轉時,便不需將支撐銷231於結合溝213a插拔,使支撐銷231旋轉,可簡單地支撐基板50
撓曲之部位。
支撐銷231之彎曲部231a可依需要,彎曲複數次。
由於本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元200於處理基板50時,可以複數支撐銷230支撐基板50整面,故無基板50因自身重量而撓曲變形之虞。因而,可獲得平形顯示器之可靠度提高之效果。
本發明之第1實施形態之支撐銷136(參照第4圖)亦可構造成第2實施形態之支撐銷230。
加以詳細地說明,本發明第1實施形態之支撐銷136亦可如第2實施形態之支撐231、233、235般,下部側之截面形狀形成圓形、橢圓形或方形等。此時,形成於連結桿135之第1結合溝135a之形狀當然必須對應於支撐銷136之截面形狀。
又,本發明第1實施形態之支撐銷136亦可如第2實施形態之支撐銷231般,中間部位彎曲,分別通過插入連結桿135之支撐銷136之下側部位及支撐基板50之支撐銷136之長度方向之上側部位的長度方向之中心之假想直線可形成相互平行。此時,支撐銷136之下側部位旋轉自如地插入連結桿135而結合,中間部位可彎曲複數次。
如前述記述之對本發明實施形態之圖式係省略詳細之輪廓線,為易了解屬於本發明之技術思想之部份而概略地顯示者。又,前述實施形態非形成為限定本發明之技術思想之基準,僅為用以理解本發明之申請專利範圍所含之技術事項之參照事項。
10‧‧‧本體
11‧‧‧腔室
13‧‧‧門
15‧‧‧蓋
17‧‧‧加熱器
20‧‧‧支撐框架
50‧‧‧基板
100,200‧‧‧用以支撐基板之支撐單元
110‧‧‧交叉支撐桿
111,211‧‧‧卡止環
120,220‧‧‧支撐托架
121,221‧‧‧支撐溝
123,223‧‧‧卡止溝
130‧‧‧舟皿
131‧‧‧外側主桿
131a‧‧‧第1卡止片
131b‧‧‧第2卡止片
131c‧‧‧卡止鉤
133‧‧‧外側支撐桿
133a‧‧‧制動器
133b‧‧‧第2結合溝
133c‧‧‧支撐片
135‧‧‧連結桿
135a‧‧‧第1結合溝
136,230,231,233,235‧‧‧支撐銷
210‧‧‧支撐桿
213,213a-213c‧‧‧結合溝
231a‧‧‧彎曲部
L1,L2‧‧‧假想直線
第1圖係使用本發明第1實施形態之用以支撐基板之支撐單元之基板處理裝置的立體圖。
第2圖係第1圖所示之用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第3圖係第2圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第4圖係第3圖所示之舟皿之立體圖。
第5圖係本發明第2實施形態之用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第6圖係第5圖所示之其中任一個用以支撐基板之支撐單元的立體圖。
第7圖係第6圖所示之其中任一個支撐桿之立體圖。
10‧‧‧本體
11‧‧‧腔室
13‧‧‧門
15‧‧‧蓋
17‧‧‧加熱器
20‧‧‧支撐框架
50‧‧‧基板
100‧‧‧用以支撐基板之支撐單元
110‧‧‧交叉支撐桿
120‧‧‧支撐托架
Claims (10)
- 一種用以支撐基板之支撐單元,其特徵在於包含有:1對交叉支撐桿,係相互平行地配置者;支撐托架,係分別支撐前述交叉支撐桿之一端部側及另一端部側,並結合於對象物,以使前述交叉支撐桿位於前述對象物者;及舟皿,係具有1對外側主桿、1對外側支撐桿、複數連結桿、及複數支撐銷者,前述1對外側主桿以具有相互間隔之狀態配置且一端部側各支撐於其中任一個前述交叉支撐桿,另一端部側各支撐於另一前述交叉支撐桿,前述1對外側支撐桿以小於前述外側主桿之直徑之直徑形成並以分別積層於前述外側主桿之形態結合且支撐基板之框部側,前述複數連結桿將前述1對外側主桿相互連結,前述複數支撐銷形成於前述連結桿以支撐前述基板。
- 如申請專利範圍第1項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述交叉支撐桿之端部側外周面分別形成有卡止環,並於前述支撐托架分別形成供前述交叉支撐桿之端部側插入而予以支撐之支撐溝及供前述卡止環插入而結合之卡止溝。
- 如申請專利範圍第1項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述外側支撐桿劃分複數前述基板而予以支撐,並於前述外側支撐桿形成分別與前述基板之側面接觸以防止前述基板於前述外側支撐桿之長度方向自 由移動之複數制動器。
- 如申請專利範圍第3項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述連結桿及前述外側支撐桿分別形成第1結合溝及第2結合溝,前述支撐銷之一側及前述制動器之一側分別插拔自如地結合於前述第1結合溝及前述第2結合溝。
- 如申請專利範圍第4項之用以支撐基板之支撐單元,其中前述支撐銷之一側部位之截面形狀形成為從圓形、橢圓形或方形中選擇之任一形狀,前述第1結合溝形成為對應於前述支撐銷之形狀。
- 如申請專利範圍第4項之用以支撐基板之支撐單元,其中前述支撐銷之一側部位旋轉自如地設置於前述連結桿,前述支撐銷之中間部位彎曲,分別通過插入前述連結桿之前述支撐銷之一側部位及支撐前述基板之前述支撐銷之另一側部位之長度方向的中心之假想直線相互平行。
- 如申請專利範圍第6項之用以支撐基板之支撐單元,其中前述支撐銷之中間部位彎曲複數次。
- 如申請專利範圍第1項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述外側主桿之一端部分別形成插入其中任一個前述交叉支撐桿而結合之第1卡止片,於前述外側主桿之另一端部或結合於前述外側主桿之另一端部側之前述連結桿形成支撐於另一前述交叉支撐桿之第2卡止片。
- 如申請專利範圍第1項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述外側支撐桿形成以與前述外側支撐桿垂直相交之形態形成以支撐前述基板之框部側之支撐片。
- 如申請專利範圍第1項之用以支撐基板之支撐單元,其中於前述外側主桿之一端部側及另一端部側分別形成以夾具掛前述舟皿而用以使前述舟皿移動之卡止鉤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110034246A KR101243309B1 (ko) | 2011-04-13 | 2011-04-13 | 기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치 |
KR1020110041661A KR101306757B1 (ko) | 2011-05-02 | 2011-05-02 | 기판 지지용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201248771A TW201248771A (en) | 2012-12-01 |
TWI584402B true TWI584402B (zh) | 2017-05-21 |
Family
ID=47009810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101112999A TWI584402B (zh) | 2011-04-13 | 2012-04-12 | 用以支撐基板之支撐單元 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5981986B2 (zh) |
CN (1) | CN103477426B (zh) |
TW (1) | TWI584402B (zh) |
WO (1) | WO2012141459A2 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106458433B (zh) * | 2014-06-30 | 2018-10-23 | 泰拉半导体株式会社 | 晶舟 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002154648A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板カセット |
JP2003232742A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-22 | Olympus Optical Co Ltd | 基板支持装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3977481B2 (ja) * | 1997-04-11 | 2007-09-19 | 淀川ヒューテック株式会社 | 基板用トレイカセット |
JP2004042984A (ja) * | 2002-07-15 | 2004-02-12 | Sharp Corp | 超大型基板用カセット |
JP2004107006A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Masato Toshima | 基板の搬送装置 |
KR100600515B1 (ko) * | 2005-01-20 | 2006-07-13 | (주)상아프론테크 | 크로스바 설치용 연결구가 구비된 기판 적재용 카세트 |
JP4317883B2 (ja) * | 2007-04-18 | 2009-08-19 | 国立大学法人東北大学 | 支持ピンの製造方法、支持ピン、熱処理装置および基板焼成炉 |
JP5022855B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2012-09-12 | 古河機械金属株式会社 | リフトピン機構、加熱処理装置、減圧乾燥装置 |
KR101016048B1 (ko) * | 2008-07-16 | 2011-02-23 | 주식회사 테라세미콘 | 배치식 열처리 장치 |
KR101058187B1 (ko) * | 2008-12-05 | 2011-08-22 | 주식회사 에스에프에이 | 기판 보관용 카세트 시스템 |
-
2012
- 2012-04-09 WO PCT/KR2012/002668 patent/WO2012141459A2/ko active Application Filing
- 2012-04-09 CN CN201280017748.1A patent/CN103477426B/zh active Active
- 2012-04-09 JP JP2014505066A patent/JP5981986B2/ja active Active
- 2012-04-12 TW TW101112999A patent/TWI584402B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002154648A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板カセット |
JP2003232742A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-22 | Olympus Optical Co Ltd | 基板支持装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5981986B2 (ja) | 2016-08-31 |
TW201248771A (en) | 2012-12-01 |
CN103477426A (zh) | 2013-12-25 |
JP2014512106A (ja) | 2014-05-19 |
CN103477426B (zh) | 2016-06-29 |
WO2012141459A2 (ko) | 2012-10-18 |
WO2012141459A3 (ko) | 2013-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI600105B (zh) | 用於支撐基板之皿具及使用該皿具之支撐單元(一) | |
TWI584402B (zh) | 用以支撐基板之支撐單元 | |
KR101243309B1 (ko) | 기판 지지용 보트, 보트를 포함하는 지지 유닛 및 지지 유닛을 사용한 기판 처리 장치 | |
KR101284105B1 (ko) | 기판 지지용 보트 | |
KR101306757B1 (ko) | 기판 지지용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 | |
JP2006225748A (ja) | 基板へのスパッタ薄膜の形成方法および搬送キャリア | |
KR101380763B1 (ko) | 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 | |
KR101435453B1 (ko) | 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 | |
KR101297686B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP2006045663A (ja) | 基板への蒸着被膜の形成方法および搬送トレイ | |
KR101275496B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR101039152B1 (ko) | 보트 | |
KR101284093B1 (ko) | 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 | |
KR101306751B1 (ko) | 기판 지지용 홀더 및 이를 사용한 기판 처리 장치 | |
KR101380781B1 (ko) | 기판용 지지 유닛 및 이를 사용한 기판 처리 장치 | |
TW201238841A (en) | Boat for supporting substrate and support unit using the same | |
JP4516870B2 (ja) | 複数枚の基板への蒸着被膜の同時形成方法および搬送トレイ | |
KR101385701B1 (ko) | 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 | |
JP5235223B2 (ja) | 基板へのスパッタ薄膜の形成方法および搬送キャリア | |
JP2011016564A (ja) | バッファカセット | |
KR101306767B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR20130110401A (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR101223853B1 (ko) | 유리기판 뒤틀림 방지용 지그 | |
TWI602529B (zh) | 平行桿定位結構 | |
KR20120005313U (ko) | 대형 기판용 배치식 열처리 장치 |