TWI556476B - 發光裝置、發光二極體承載座及其模具 - Google Patents

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Description

發光裝置、發光二極體承載座及其模具
本發明是有關於一種發光裝置，且特別是有關於一種發光裝置、發光二極體承載座以及用於製造發光二極體承載座之模具。
由於發光二極體具有低耗電、高發光效率的優勢，近年來已逐漸取代傳統的螢光燈，廣泛地運用於背光模組及各式照明燈具中。
發光二極體的封裝結構可包含一導線架、一反射杯體、以及一發光二極體晶片。發光二極體晶片係設置在導線架上，反射杯體係設置於導線架上並環繞發光二極體晶片。常見反射杯體可由熱塑性塑料或熱固性塑料所形成。熱固性塑料通常係透過轉移成型(transfer molding)的方式來形成反射杯體。所謂轉移成型係直接在模具上開設流道，再利用壓力差將熱固性塑料擠壓進模具的空腔中，而形成反射杯體。
一般的熱固性塑料必須在模具中均勻地流動並使兩股熔融態的塑料同時間接合，才能夠使成型的反射杯體具有較高的結構強度，而不容易破裂。然而，由於反射杯體的形狀複雜，在轉移成型時熱固性塑料不易均勻地流動並同時間接合，故可能會造成反射杯體的結構強度不足，而容易破裂。
有鑑於此，本發明之一技術態樣係在於提供一種發光二極體承載座，具有較佳的結構強度。
依據本發明之一實施方式，發光二極體承載座可包含一導線架、一座體以及一進料殘留體。座體係設置於導線架上，座體具有一凹槽，而凹槽底部具有一開口以暴露出部分導線架，且凹槽之截面面積大小係由導線架朝座體之頂面增加。進料殘留體係殘留於座體中數個圍繞凹槽之外壁的其中之一。進料殘留體之斷面係沿著導線架朝座體之頂面之方向縮小。
於上述實施方式中，由於凹槽係呈上寬下窄的形狀，故座體上半部所需的塑料比下半部更少，又由於進料殘留體的斷面亦呈上窄下寬的形狀，因此，用來注入塑料的進料孔亦係呈上窄下寬的形狀，故可在塑料均勻流動的情況下，形成上述形狀的凹槽及座體。另由於座體係由均勻流動的塑料所形成的，故可具備較佳的結構強度。
於本發明之一或多個實施方式中，凹槽與進料殘留體之斷面係分別對稱於進料殘留體所在的外壁的外壁中線，且外壁中線與通過凹槽截面之法線互相平行。
於本發明之一或多個實施方式中，凹槽斷面係對稱於進料殘留體所在的外壁的外壁中線，而進料殘留體斷面係位在進料殘留體所在的外壁的外壁中線以外之區域，且進料殘留體之斷面呈不對稱狀。
於本發明之一或多個實施方式中，進料殘留體之斷面高度隨遠離進料殘留體所在的外壁的外壁中線之距離而逐 漸減少。
於本發明之一或多個實施方式中，凹槽之斷面係不對稱於進料殘留體所在的外壁的外壁中線，而進料殘留體與進料殘留體所在的外壁的外壁中線重疊且其斷面呈不對稱狀。
於本發明之一或多個實施方式中，凹槽斷面可被進料殘留體所在的外壁的外壁中線區分為一第一區域與一第二區域，而進料殘留體斷面可被進料殘留體所在的外壁的外壁中線區分為一第三區域與一第四區域，其中第一區域、第三區域與第二區域、第四區域分別位在進料殘留體所在的外壁的外壁中線之兩側，且第一區域之面積大於第二區域之面積，而第四區域之面積則大於第三區域之面積。
於本發明之一或多個實施方式中，進料殘留體斷面之底邊係對稱於進料殘留體所在的外壁的外壁中線。
於本發明之一或多個實施方式中，進料殘留體斷面之寬度小於或等於座體之外壁寬度的一半。
於本發明之一或多個實施方式中，進料殘留體之底面與導線架之頂面等高，且進料殘留體之高度小於或等於凹槽之厚度的一半。
於本發明之一或多個實施方式中，外壁可包含二相對長壁以及二相對短壁。短壁係鄰接於長壁。進料殘留體係殘留於其中一短壁或其中一長壁。
本發明之另一技術態樣係在於提供一種發光裝置，其承載座具有較佳的結構強度。依據本發明之一實施方式，發光裝置可包含一發光二極體承載座以及一發光二極體晶 片。發光二極體承載座係如同上述實施方式所述。發光二極體晶片係容設於發光二極體承載座之凹槽內暴露的導線架上。
於上述實施方式中，由於進料殘留體之斷面為上窄下寬，與無須填入塑料的凹槽的形狀相反，因此可使塑料均勻流動而形成結構強度較佳的座體。
本發明之又一技術態樣係在於提供一種用於製造發光二極體承載座之模具，其目的係在於製造出結構強度高的發光二極體承載座。依據本發明之一實施方式，此模具可包含一第一模體以及一第二模體。第二模體係疊置於第一模體上，且第二模體包含一填料槽、一壓合部以及一進料孔。壓合部係突設於該填料槽上，且壓合部係沿著第一模體朝第二模體之方向擴大。進料孔係連通第二模體之其中一外壁與填料槽，其中進料孔係沿著第一模體朝第二模體之方向縮小。
於上述實施方式中，由於壓合部係呈上寬下窄的形狀，故填料槽上半部所需填入的塑料比填料槽下半部更少，又由於進料孔係呈上窄下寬的形狀，故可使塑料均勻地在填料槽中流動，而利於形成結構強度較佳的座體。
於本發明之一或多個實施方式中，壓合部之斷面與進料孔之斷面係同時對稱於進料孔所在的外壁的外壁中線。
於本發明之一或多個實施方式中，壓合部係對稱於進料孔所在的外壁的外壁中線，而進料孔之斷面則是位在進料孔所在的外壁的外壁中線以外之區域，且進料孔之斷面呈不對稱狀。
於本發明之一或多個實施方式中，進料孔之斷面高度隨遠離進料孔所在的外壁的外壁中線之距離而逐漸減少。
於本發明之一或多個實施方式中，壓合部係不對稱於進料孔所在的外壁的外壁中線，而進料孔之斷面與進料孔所在的外壁的外壁中線重疊且呈不對稱狀。
於本發明之一或多個實施方式中，填料槽可包含一第一填料溝以及一第二填料溝。壓合部分隔開第一填料溝與第二填料溝，而第一填料溝之體積係大於第二填料溝。進料孔較靠近第一填料溝之一斷面高度係高於進料孔較靠近第二填料溝之斷面高度。
於本發明之一或多個實施方式中，進料孔之底邊係對稱於進料孔所在的外壁的外壁中線。
於本發明之一或多個實施方式中，進料孔包括一外開口、一內開口以及一流道。外開口係位在第二模體表面，使來自塑料供應器之塑料得以進入第二模體內。內開口係位在第二模體內並連接填料槽，使得進入模具之塑料可以進入填料槽。流道係用以連接內開口及外開口。內開口之斷面面積係大於外開口之斷面面積，且流道係由外開口往內開口逐漸擴大。
於本發明之一或多個實施方式中，流道係對稱或不對稱於進料孔所在的外壁的外壁中線。
於本發明之一或多個實施方式中，進料孔斷面之寬度小於或等於外壁寬度的一半。
於本發明之一或多個實施方式中，進料孔之底面與壓合部之底面等高，且進料孔之高度小於或等於壓合部之厚 度的一半。
於本發明之一或多個實施方式中，第二模體之外壁包含二相對長壁以及二相對短壁。短壁係鄰接於長壁。進料孔係開設於其中一短壁或其中一長壁。
以上所述僅係用以闡述本發明所欲解決的問題、解決問題的技術手段、及其產生的功效等等，本發明之具體細節將在下文的實施方式及相關圖式中詳細介紹。
以下將以圖式揭露本發明之複數實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，熟悉本領域之技術人員應當瞭解到，在本發明部分實施方式中，這些實務上的細節並非必要的，因此不應用以限制本發明。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之。
第1圖繪示依據本發明一實施方式之發光二極體承載座10之立體圖。如圖所示，本實施方式之發光二極體承載座10可包含一導線架100、一座體200以及一進料殘留體400。座體200係設置於導線架100上。座體200具有一凹槽300，而凹槽300底部具有一開口302以暴露出部分導線架100，且凹槽300之截面面積大小係由導線架100朝座體200之頂面210增加。座體200具有數個圍繞凹槽300之外壁220，進料殘留體400係殘留於其中一個外壁220上。進料殘留體400之斷面係沿著導線架100朝座體200之頂面210之方向縮小。
第2圖繪示用以製造第1圖之發光二極體承載座10之模具的分解圖。如第2圖所示，此模具可包含一第一模體500以及一第二模體600。第二模體600可疊置於第一模體500上，且導線架100係放置於第一模體500上。第3圖繪示第2圖之第二模體600之立體圖。第二模體600包含一填料槽700、一壓合部800以及一進料孔900。壓合部800係突設於填料槽700上，且壓合部800的體積係沿著第一模體500(請參第2圖)朝第二模體600之方向(如第3圖之箭頭A的方向)擴大，更詳細地說，壓合部之縱向截面的寬度朝第二模體600之頂部表面擴大。第二模體600具有複數外壁610，進料孔900係連通第二模體600之其中一外壁610與填料槽700。進料孔900的尺寸係沿著第一模體500(請參第2圖)朝第二模體600之方向(如第3圖之箭頭A的方向)縮小。
綜觀第1至第3圖所示，在製作發光二極體承載座10的過程中，製造者可將第二模體600疊置於第一模體500上使壓合部800壓住部分導線架100，並將塑料由進料孔900注入填料槽700中，待塑料固化成型後取下第一模體500與第二模體600，即可形成第1圖所示之發光二極體承載座10。
由此可知，座體200係由注入填料槽700中的塑料所形成，故座體200與填料槽700之形狀及尺寸相同。壓合部800會阻擋塑料流入於其中，從而可在座體200上形成無塑料之凹槽300，故座體200中的凹槽300之形狀及尺寸與壓合部800相同。且，當塑料由進料孔900注入填料 槽700，會有塑料殘餘在進料孔900處，故塑料固化後會於進料孔900處形成進料殘留體400，因此進料殘留體400的斷面形狀及尺寸係與進料孔900相同。
由於第2圖或第3圖所示之壓合部800係呈上寬下窄的形狀，故座體200及填料槽700所需的塑料係由下往上逐漸減少。另由於進料孔900的斷面呈上窄下寬的形狀，故進料孔900可允許較少量的塑料流往填料槽700的上半部，並允許較多的塑料流往填料槽700的下半部。如此一來，進料孔900可允許塑料在均勻流動的情況下填入填料槽700的各個位置，而形成結構強度較佳的座體200。
第二模體600之外壁610可包含二相對長壁614以及二相對短壁612。短壁612係鄰接於長壁614。於本實施方式中，進料孔900係開設於其中一個短壁612上。因此，根據第二模體600所製作出的座體200形狀就如第1圖所示，座體200之外壁220包含二相對長壁224以及二相對短壁222。短壁222係鄰接於長壁224。於本實施方式中，進料殘留體400係殘留於其中一個短壁222上。
第4圖繪示第2圖之模具合模後之側視圖。如第4圖所示，壓合部800之斷面與進料孔900之斷面係對稱於第二模體600之進料孔900所在的外壁610的外壁中線620，在本實施例中，進料孔900即位於短壁612上。由於進料孔900之斷面係對稱於進料孔900所在的外壁610之外壁中線620，故可均勻地將塑料注入壓合部800左側的填料槽700及壓合部800右側的填料槽700中，以提升第1圖之座體200的結構強度。
第5圖繪示第3圖之進料孔900沿著B-B’線所剖之剖面圖。如第5圖所示，進料孔900可包含一外開口902、一內開口906以及一流道904。外開口902位在第二模體600表面，使來自一塑料供應器(未示於圖中)之塑料得以進入第二模體600內，其中外開口902係開設於第二模體600之外壁610。內開口906係位在第二模體600內並連接填料槽700(可參閱第3圖)，使得進入第二模體600之塑料能夠進入填料槽700。流道904係用以連接內開口906以及外開口902。內開口906之斷面面積係大於外開口902之斷面面積，且流道904係由外開口902往內開口906擴大。換句話說，流道904係往填料槽700擴大，故可幫助塑料注入壓合部800兩側的填料槽700。流道904係對稱於短壁612上的外壁中線620(可參閱第4圖)，以利將塑料注入對稱於壓合部800左右兩側的填料槽700。
請回頭參閱第4圖，於本實施方式中，進料孔900之斷面具有寬度W1，第二模體600之外壁610具有寬度W2。寬度W1係代表進料孔900中距離最遠的相對兩邊之間的距離。寬度W2係代表短壁612之相對內表面間的最大距離。進料孔900之斷面寬度W1係小於或等於第二模體600之短壁612之寬度W2的一半。換句話說，進料孔900之斷面寬度W1最大值為短壁612寬度W2的一半。
於本實施方式中，進料孔900與壓合部800之底面等高。另外，進料孔900之斷面具有高度H1，壓合部800具有厚度T1，進料孔900之斷面高度H1係小於或等於壓合部800之厚度T1的一半。換句話說，進料孔900之斷面高 度H1最高為壓合部800之厚度T1的一半。
第6圖繪示第1圖之發光二極體承載座10之側視圖。由於進料孔900(可參閱第4圖)係對稱的，故進料殘留體400之斷面會對稱於座體200之進料殘留體400所在的外壁220之外壁中線230。另由於壓合部800(可參閱第4圖)係對稱的，故凹槽300之斷面亦係對稱於進料殘留體400所在的外壁220之外壁中線230。具體來說，在外壁中線230左側的部分進料殘留體400與在外壁中線230右側的部分進料殘留體400係等體積且形狀對稱的，相似地，在外壁中線230左側的部分凹槽300與在外壁中線230右側的部分凹槽300係等體積且形狀對稱的。
於本實施方式中，進料殘留體400之斷面具有寬度W3，座體200之外壁220具有寬度W4，寬度W3係小於或等於寬度W4的一半。換句話說，進料殘留體400之斷面寬度W3最高為外壁220寬度W4的一半。
於本實施方式中，進料殘留體400之底面402係與導線架100之頂面110等高。具體來說，進料殘留體400可直接接觸於凸出於座體200外的部分導線架100上。另外，進料殘留體400之斷面具有高度H2，凹槽300具有厚度T2，進料殘留體400之斷面高度H2係小於或等於凹槽300之厚度T2的一半。換句話說，進料殘留體400之斷面高度H2最高為凹槽300之厚度T2的一半。
第7圖繪示依據本發明另一實施方式之模具合模後之側視圖。於本實施方式中，進料孔910之斷面是位在第二模體600上進料孔910所在的外壁610之外壁中線620以 外之區域，亦即，進料孔910所在的外壁610之外壁中線620未通過進料孔910。另外，進料孔910之斷面呈不對稱狀。具體來說，進料孔910之斷面高度隨遠離進料孔910所在的外壁610之外壁中線620之距離而逐漸減少，亦即，進料孔910之斷面高度係朝進料孔910所在的外壁610之外壁中線620的方向增加。如此一來，即使進料孔910偏離於外壁中線620(如本圖中進料孔910係位於外壁中線620的左側)，亦能夠藉由進料孔910的斷面高度變化以均勻地將塑料注入填料槽700的各個位置中。於本實施方式中，壓合部800係對稱於進料孔910所在的外壁610之外壁中線620。實際進料孔設計上，為了模具製作方便，於其他實施方式中，製造者亦可採用如第4圖所示之對稱狀的進料孔900來取代本實施方式之不對稱狀的進料孔910，換句話說，對稱狀的進料孔900亦可開設在外壁中線620以外之區域。
第8圖繪示第7圖之進料孔910之橫截面的剖面圖。如第8圖所示，外開口912位在第二模體600表面，使來自塑料供應器(未示於圖中)之塑料得以進入第二模體600內。內開口916係位在第二模體600內並連接填料槽700(可參閱第7圖)，使得進入第二模體600之塑料能夠進入填料槽700。流道914係用以連接內開口916以及外開口912。內開口916之斷面面積係大於外開口912之斷面面積，且流道914係由外開口912往內開口916擴大。換句話說，流道914係往填料槽700(可參閱第7圖)擴大，故可幫助塑料均勻地注入壓合部800兩邊的填料槽700(可參閱第7 圖)。
於本實施方式中，流道914係不對稱於進料孔910所在的外壁610之外壁中線620(可參閱第7圖)，故即使進料孔910係偏離於其本身所在的外壁610之外壁中線620，亦能均勻地將塑料注入填料槽700的各個位置。具體來說，流道914可包含一第一流道壁914a以及一第二流道壁914b，第一流道壁914a係較遠離於進料孔910所在的外壁610之外壁中線620(可參閱第7圖)，而第二流道壁914b係較靠近於進料孔910所在的外壁610之外壁中線620(可參閱第7圖)。第一流道壁914a垂直於內開口916與外開口912之間，而第二流道壁914b係傾斜於內開口916與外開口912之間，且其傾斜方向可幫助塑料往遠處的填料槽700流動(如第7圖中壓合部800右側的填料槽700)，以利塑料均勻流動並於同時間接合。
第9圖繪示第7圖之模具所製造的發光二極體承載座10之側視圖。於本實施方式中，進料殘留體410斷面係位在其本身所在的外壁220之外壁中線230以外之區域。換句話說，進料殘留體410所在的外壁220之外壁中線230未通過進料殘留體410。另外，進料殘留體410之斷面呈不對稱狀。具體來說，進料殘留體410之斷面高度隨遠離進料殘留體410所在的外壁220之外壁中線230之距離而逐漸減少，換句話說，進料殘留體410之內側邊緣412係高於進料殘留體410之外側邊緣414。於本實施方式中，凹槽300斷面係對稱於進料殘留體410所在的外壁220之外壁中線230。實際進料孔設計上，為了模具製作方便， 於其他實施方式中，亦可採用如第6圖所示之對稱狀的進料殘留體400來取代本實施方式之不對稱狀的進料殘留體410，換句話說，對稱狀的進料殘留體400亦可形成於其本身所在的外壁220之外壁中線230以外之區域。
第10圖繪示依據本發明又一實施方式之模具合模後之側視圖。於本實施方式中，壓合部810係不對稱於進料孔920所在的外壁610之外壁中線620，且進料孔920之斷面係與進料孔920所在的外壁610之外壁中線620重疊並呈不對稱狀。具體來說，從側向的剖面圖來看，填料槽700可包含一第一填料溝702以及一第二填料溝704，壓合部810分隔開第一填料溝702與第二填料溝704。由於壓合部810呈不對稱狀，故第一填料溝702之體積與第二填料溝704之體積不同。進一步來說，第一填料溝702的體積係大於第二填料溝702，而進料孔920較靠近第一填料溝702之一斷面高度D1係高於進料孔920較靠近第二填料溝704之斷面高度D2，俾利將較多的塑料注入第一填料溝702中並將較少的塑料注入第二填料溝704中，使得塑料能夠均勻分配給不對稱的第一填料溝702與第二填料溝704。
第11圖繪示第10圖之進料孔920之橫截面的剖面圖。外開口922位在第二模體600表面，使來自塑料供應器(未示於圖中)的塑料得以進入第二模體600內。內開口926係位在第二模體600內並連接填料槽700(可參閱第10圖)，使得進入第二模體600之塑料能夠進入填料槽700(可參閱第10圖)。流道924係用以連接內開口926以及外開 口922。內開口926之斷面面積係大於外開口922之斷面面積，且流道924係由外開口922往內開口926擴大。換句話說，流道924係往填料槽700(可參閱第10圖)擴大，以利將塑料注入壓合部810兩邊的第一填料溝702及第二填料溝704(可參閱第10圖)。
第12圖繪示第11圖之模具所製造出來的發光二極體承載座10之側視圖。於本實施方式中，凹槽310之斷面係不對稱於進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230，且進料殘留體420與其本身所在的外壁220的外壁中線230重疊且其斷面呈不對稱狀。具體來說，凹槽310斷面可被進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230區分為一第一區域312與一第二區域314，而進料殘留體420之斷面可被進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230區分為一第三區域422與一第四區域424。第一區域312及第二區域314係位在進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230之兩側，第三區域422與第四區域424亦係位在進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230之兩側。第一區域312之面積大於第二區域314之面積，而第四區域424之面積則大於第三區域422之面積。由於第四區域424之面積大於第三區域422之面積，故可利於以較多的塑料形成第二區域314旁的部分座體200並以較少的塑料形成第一區域312旁的另一部份座體200。另外，於本實施方式中，進料殘留體420之底邊426係對稱於進料殘留體420所在的外壁220的外壁中線230，具體來說，位於外壁中線230左側的部分底邊426係與位於外壁中線 230右側的另一部份底邊426等長。
第13圖繪示依據本發明再一實施方式之模具合模後之側視圖。本實施方式與以上實施方式的主要差異係在於本實施方式係將進料孔930開設於第二模體600之長壁614上。第14圖繪示第13圖之模具所製造的發光二極體承載座10。由於第13圖之進料孔930係開設於第二模體600之長壁614上，故殘留於於進料孔930中的塑料所對應形成的進料殘留體430亦係殘留於座體200之長壁224上。
第15圖繪示依據本發明一實施方式所述之發光裝置。如圖所示，發光裝置可包含一發光二極體承載座10以及一發光二極體晶片20。發光二極體承載座10係如同上述實施方式所述。進一步來說，於發光二極體承載座10中，座體200係設置於導線架100上。座體200具有一凹槽300，而凹槽300底部具有一開口302以暴露出部分導線架100，且凹槽300之截面面積大小係由導線架100朝座體200之頂面210增加。進料殘留體400係殘留於座體200的其中一外壁220。進料殘留體400之斷面係沿著導線架100朝座體200之頂面210之方向縮小。發光二極體晶片20係容設於發光二極體承載座10之凹槽300內暴露的導線架100上。
另外，發光二極體晶片20可藉由兩導線21連接至導線架100上，以利導線架100與發光二極體晶片20電性連接。導線架100可包含一第一支架102及一第二支架104，發光二極體晶片20係設置於第一支架102上，且第一支架102與第二支架104係由絕緣底座240所分隔，以利第一 支架102與第二支架104絕緣。上述絕緣底座240與座體200均係由熱固性塑料共同透過轉移成型所形成者。
雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧發光二極體承載座
20‧‧‧發光二極體晶片
21‧‧‧導線
100‧‧‧導線架
102‧‧‧第一支架
104‧‧‧第二支架
110,210‧‧‧頂面
200‧‧‧座體
220‧‧‧外壁
222‧‧‧短壁
224‧‧‧長壁
230‧‧‧外壁中線
240‧‧‧絕緣底座
300,310‧‧‧凹槽
302‧‧‧開口
312‧‧‧第一區域
314‧‧‧第二區域
400,410,420,430‧‧‧進料殘留體
402‧‧‧底面
412‧‧‧內側邊緣
414‧‧‧外側邊緣
422‧‧‧第三區域
424‧‧‧第四區域
426‧‧‧底邊
500‧‧‧第一模體
600‧‧‧第二模體
610‧‧‧外壁
612‧‧‧短壁
614‧‧‧長壁
620‧‧‧外壁中線
700‧‧‧填料槽
800,810‧‧‧壓合部
900,910,920,930‧‧‧進料孔
902,912,922‧‧‧外開口
904,914,924‧‧‧流道
906,916,926‧‧‧內開口
914a‧‧‧第一流道壁
914b‧‧‧第二流道壁
D1,D2,H1,H2‧‧‧高度
T1,T2‧‧‧厚度
W1,W2,W3,W4‧‧‧寬度
為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖繪示依據本發明一實施方式之發光二極體承載座之立體圖；第2圖繪示用以製造第1圖之發光二極體承載座之模具的分解圖；第3圖繪示第2圖之第二模體之立體圖；第4圖繪示第2圖之模具合模後之側視圖；第5圖繪示第3圖之進料孔沿著B-B’線所剖之剖面圖；第6圖繪示第1圖之發光二極體承載座之側視圖；第7圖繪示依據本發明另一實施方式之模具合模後之側視圖；第8圖繪示第7圖之進料孔之橫截面的剖面圖；第9圖繪示第7圖之模具所製造的發光二極體承載座之側視圖；第10圖繪示依據本發明又一實施方式之模具合模後 之側視圖；第11圖繪示第10圖之進料孔之橫截面的剖面圖；第12圖繪示第11圖之模具所製造出來的發光二極體承載座之側視圖；第13圖繪示依據本發明再一實施方式之模具合模後之側視圖；第14圖繪示第13圖之模具所製造的發光二極體承載座；第15圖繪示依據本發明一實施方式所述之發光裝置。
10‧‧‧發光二極體承載座
100‧‧‧導線架
200‧‧‧座體
210‧‧‧頂面
220‧‧‧外壁
222‧‧‧短壁
224‧‧‧長壁
300‧‧‧凹槽
302‧‧‧開口
400‧‧‧進料殘留體

Claims (19)

  1. 一種發光二極體承載座，包含：一導線架；一座體，設置於該導線架上，該座體具有一凹槽，而該凹槽底部具有一開口以暴露出部分該導線架，且該凹槽之截面面積大小係由該導線架朝該座體之頂面增加；以及一進料殘留體，殘留於該座體中數個圍繞該凹槽之外壁的其中之一，其中該進料殘留體之斷面係呈非半圓形的，並沿著該導線架朝該座體之頂面之方向縮小，其中該凹槽斷面係對稱於該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線，而該進料殘留體斷面係位在該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線以外之區域，且該進料殘留體之斷面呈不對稱狀。
  2. 如請求項1所述之發光二極體承載座，其中該進料殘留體之斷面高度隨遠離該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線之距離而逐漸減少。
  3. 一種發光二極體承載座，包含：一導線架；一座體，設置於該導線架上，該座體具有一凹槽，而該凹槽底部具有一開口以暴露出部分該導線架，且該凹槽之截面面積大小係由該導線架朝該座體之頂面增加；以及一進料殘留體，殘留於該座體中數個圍繞該凹槽之外壁的其中之一，其中該進料殘留體之斷面係沿著該導線架 朝該座體之頂面之方向縮小，該凹槽之斷面係不對稱於該進料殘留體所在的該外壁的之外壁中線，而該進料殘留體與該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線重疊且其斷面呈不對稱狀。
  4. 如請求項3所述之發光二極體承載座，其中該凹槽斷面可被該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線區分為一第一區域與一第二區域，而該進料殘留體斷面可被該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線區分為一第三區域與一第四區域，其中該第一區域、該第三區域與該第二區域、該第四區域分別位在該進料殘留體所在的該外壁之外壁中線之兩側，且該第一區域之面積大於該第二區域之面積，而該第四區域之面積則大於該第三區域之面積。
  5. 如請求項3所述之發光二極體承載座，其中該進料殘留體之底邊係對稱於該進料殘留體所在之該外壁的外壁中線。
  6. 如請求項1或3所述之發光二極體承載座，其中該進料殘留體斷面之寬度小於或等於該座體之外壁寬度的一半。
  7. 如請求項1或3所述之發光二極體承載座，其中該進料殘留體之底面與該導線架之頂面等高，且該進料殘留體之高度小於或等於該凹槽之厚度的一半。
  8. 如請求項1或3所述之發光二極體承載座，其中該等外壁包含：二相對長壁；以及二相對短壁，鄰接於該二相對長壁；其中該進料殘留體係殘留於該二相對短壁的其中之一或該二相對長壁的其中之一。
  9. 一種發光裝置，包含：一如請求項1或3所述之發光二極體承載座；以及一發光二極體晶片，容設於該發光二極體承載座之該凹槽內該暴露的導線架上。
  10. 一種用於製造發光二極體承載座之模具，包含：一第一模體；以及一第二模體，疊置於該第一模體上，其中該第二模體包含：一填料槽；一壓合部，突設於該填料槽上，其中該壓合部係沿著該第一模體朝該第二模體之方向擴大；以及一進料孔，連通該第二模體之其中一外壁與該填料槽，其中該進料孔之斷面係呈非半圓形的，並沿著該第一模體朝該第二模體之方向縮小，其中該壓合部係對稱於該進料孔所在的該外壁的外壁中線，而該進 料孔之斷面是位在該進料孔所在的該外壁的外壁中線以外之區域，且該進料孔之斷面呈不對稱狀。
  11. 如請求項10所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該進料孔之斷面高度隨遠離該進料孔所在的該外壁的外壁中線之距離而逐漸減少。
  12. 一種用於製造發光二極體承載座之模具，包含：一第一模體；以及一第二模體，疊置於該第一模體上，其中該第二模體包含：一填料槽；一壓合部，突設於該填料槽上，其中該壓合部係沿著該第一模體朝該第二模體之方向擴大；以及一進料孔，連通該第二模體之其中一外壁與該填料槽，其中該進料孔係沿著該第一模體朝該第二模體之方向縮小，其中該壓合部係不對稱於該進料孔所在的該外壁的外壁中線，而該進料孔之斷面與該進料孔所在的該外壁的外壁中線重疊且呈不對稱狀。
  13. 如請求項12所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該填料槽包含：一第一填料溝；以及一第二填料溝，該壓合部分隔開該第一填料溝與該第 二填料溝，而該第一填料溝之體積係大於該第二填料溝；其中該進料孔較靠近該第一填料溝之一斷面高度係高於該進料孔較靠近該第二填料溝之斷面高度。
  14. 如請求項12所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該進料孔之底邊係對稱於該進料孔所在的該外壁的外壁中線。
  15. 如請求項10至14項中任一項所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該進料孔包括：一外開口，位在該第二模體表面，使來自一塑料供應器之塑料得以進入該第二模體內；一內開口，位在該第二模體內並連接該填料槽，使得進入該第二模體之塑料可以進入該填料槽；以及一流道，用以連接該內開口及該外開口；其中，該內開口之斷面面積係大於該外開口之斷面面積，且該流道係由該外開口往該內開口擴大。
  16. 如請求項15所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該流道係對稱或不對稱於該進料孔所在的該外壁的外壁中線。
  17. 如請求項10或12所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該進料孔斷面之寬度小於或等於該外壁 寬度的一半。
  18. 如請求項10或12所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該進料孔之底面與該壓合部之底面等高，且該進料孔之高度小於或等於該壓合部之厚度的一半。
  19. 如請求項10或12所述之用於製造發光二極體承載座之模具，其中該第二模體之外壁包含：二相對長壁；以及二相對短壁，鄰接於該二相對長壁；其中該進料孔係開設於該二相對短壁的其中之一或該二相對長壁的其中之一。
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