TWI541530B - Anti-reflective film, polarizer and image display device - Google Patents

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TWI541530B
TWI541530B TW101139249A TW101139249A TWI541530B TW I541530 B TWI541530 B TW I541530B TW 101139249 A TW101139249 A TW 101139249A TW 101139249 A TW101139249 A TW 101139249A TW I541530 B TWI541530 B TW I541530B
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low refractive
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Mayu MASAKI
Tomoyuki Horio
Mariko Hayashi
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Dainippon Printing Co Ltd
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Description

抗反射薄膜、偏光片及圖像顯示裝置
本發明係有關抗反射薄膜、偏光片及圖像顯示裝置。尤其有關具有防止因鹼水溶液之鹼化處理時之性能降低之耐鹼化性之抗反射薄膜、使用其之偏光片及圖像顯示裝置。
液晶顯示器、電漿顯示器、電致發光顯示器、觸控面板、電子紙、平板個人電腦(PC)等之圖像顯示裝置中，通常於圖像顯示面設有用以防止圖像顯示面損傷、污染、光反射等之光學薄膜。例如，作為抗反射薄膜，已知有在透明基材薄膜上，塗佈在電離輻射線硬化性樹脂中添加作為低折射率化劑之中空二氧化矽粒子之樹脂組成物而形成低折射率層之光學薄膜(參考特開2010-85983號公報(專利文獻1))。
於抗反射薄膜中，藉由低折射率層之樹脂使用電離輻射線硬化性樹脂，除了防止光反射性能以外，亦可賦予耐擦傷性、防污性。且，若於低折射率層與透明基材薄膜之間設有硬塗層，則可更強化耐擦傷性(參考上述專利文獻1)。
又，於液晶顯示器中，對於液晶胞設有通常之偏光片。偏光片通常係對於吸附碘並經配向處理之聚乙烯醇薄膜所成之偏光元件，於其兩面上疊層保護膜而構成。且保護 膜就透明性、光學無配向性等方面而言，通常係使用三乙醯纖維素薄膜，為了提高與偏光元件之密著性而以鹼水溶液對表面進行鹼化處理後與偏光元件疊層而成。
不過，圖像顯示裝置中薄型化對於性能為一重要因素，即便對光學薄膜，亦期望對應於其薄膜化。為此，取代於偏光片以外進而設置抗反射薄膜，而若是於偏光片之保護膜使用抗反射薄膜，於偏光元件上疊層抗反射薄膜，使偏光片與抗反射薄膜一體化而成偏光片，則可更薄化其厚度。且，疊層於偏光元件之保護膜，基於與偏光元件之密著性之觀點而言，必須以鹼水溶液進行鹼化處理作為易接著處理。
然而，具有低折射率層之抗反射薄膜經鹼化處理時，會有低折射率層中之低折射率化劑脫落，構成低折射率層之樹脂溶解並欠缺、耐擦傷性或防污性受損之情況。
為了保持其耐鹼性，雖亦有於前述低折射率層上暫時貼附耐鹼化用之保護膜，但有成本上升之問題。
因此，本發明之課題係提供一種即使不貼附耐鹼化用之保護膜而利用鹼水溶液進行進行鹼化處理時，亦不損及低折射率層之功能，而可維持抗反射性、耐擦傷性、防污性等功能之具有耐鹼化性之抗反射薄膜。
且，可提供使用此抗反射薄膜之偏光片及圖像顯示裝 置。又，本申請案中所謂維持耐擦傷功能不僅意指低折射率層之表面硬度維持，亦意指可良好地維持低折射率層與其下層間之界面密著性。
本發明係如下構成之抗反射薄膜、偏光片及圖像顯示裝置。
(1)一種抗反射薄膜，其具備低折射率層，前述折射率層含三乙醯纖維素所成之透明基材薄膜、設於前述透明基材薄膜之一面上之含電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層所成之含有中空狀二氧化矽粒子且具有比所疊層之下層更低折射率之低折射率層之抗反射薄膜，前述電離輻射線硬化性樹脂中所含之聚合性化合物為如下(A)、(B)、(C)之任一者：(A)為分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物、(B)為分子中具有羥基之聚合性化合物時，以1分子中所含之羥基之數除以分子量再乘以100倍後之值所定義之羥基含有率為0.2以下之多官能聚合性化合物，(C)為含有1種以上之分子中具有羥基之聚合性化合物之複數種類之聚合性化合物的混合物，且任意質量比含有該複數種類之聚合性化合物之樹脂組成物中，將該樹脂組成物中之全部聚合性化合物視為1個分子，且該1個分子之分子量係使用前述全部聚合性化合物之重量平均分子量時之前述羥基含有率為0.2以下之多官能聚合性化合 物，前述(A)、(B)、(C)中之多官能聚合性化合物之官能基數為3~9且分子量為300~1000。
(2)如上述(1)之抗反射薄膜，其中進而具有設在透明基材薄膜與低折射率層之間之功能層。
(3)一種偏光片，其具有如上述(1)或(2)之抗反射薄膜，及疊層於前述抗反射薄膜之透明基材薄膜側之面上之偏光元件。
(4)一種圖像顯示裝置，其具備如上述(1)或(2)之抗反射薄膜或如上述(3)之偏光片。
(1)依據本發明之抗反射薄膜，具有對於鹼化處理，不會損及抗反射性、耐擦傷性(表面硬度及低折射率層與其下層間之密著性)、防污性及耐白化性之耐鹼化性。
(2)依據本發明之偏光片，藉由其所具備之抗反射薄膜，而具有抗反射性、耐擦傷性(表面硬度及低折射率層與其下層間之密著性)、防污性及耐白化性。
(3)依據本發明之圖像顯示裝置，可對圖像顯示面賦予抗反射性、耐擦傷性(表面硬度及低折射率層與其下層間之密著性)、防污性及耐白化性。
以下說明本發明之實施形態。
A.抗反射薄膜
本發明之抗反射薄膜係具備由三乙醯纖維素所成之透明基材薄膜、設於前述透明基材薄膜之一面上之由電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層所成之含有中空狀二氧化矽粒子且具有比前述透明基材薄膜之折射率更低之折射率之低折射率層之抗反射薄膜。而且，本發明中，上述電離輻射線硬化性樹脂係由含有分子中羥基比特定量少之多官能聚合性化合物之樹脂組成物所成。
又，本發明之抗反射薄膜，基於可更強化耐擦傷性而言，較好於低折射率層與透明基材薄膜之間設有硬塗層。此處，圖1為顯示本發明之抗反射薄膜之一形態例之剖面圖。該圖之抗反射薄膜10係於透明基材薄膜1之單面上，介隔硬塗層3而形成低折射率層2之形態之光學薄膜。硬塗層3係由電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層所成。
以下，針對每層進行說明。
又，本說明書中，所謂(甲基)丙烯醯基意指丙烯醯基或甲基丙烯醯基，所謂(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，僅稱丙烯酸酯系時亦包含甲基丙烯酸酯系。
[透明基材薄膜]
透明基材薄膜1為由三乙醯基纖維素所成之透明薄膜。藉由於透明基材薄膜中使用三乙醯基纖維素薄膜(TAC薄膜)，可獲得優異之透明性、及作為液晶顯示器用途之偏光片之保護膜之適宜優異之光學等向性。因此，藉由使 用TAC薄膜，於液晶顯示器用途中，與偏光片一起使用而使用作為偏光片之保護薄膜時，獲得較佳之光學特性。
透明基材薄膜之透明性，期望於可見光區域380~780nm中，平均光透過率至少為70%以上，較好為85%以上，更好為90%以上。透明基材薄膜之折射率，於三乙醯基纖維素薄膜時約為1.49。
透明基材薄膜厚度通常為20μm~300μm，較好為30μm~200μm。
構成透明基材薄膜1之上述三乙醯基纖維素，除單純之三乙醯基纖維素以外，亦可並用如纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯之作為與纖維素形成酯之脂肪酸為乙酸以外之成分之樹脂。透明基材薄膜中，亦可依據需要，含有二乙醯基纖維素等之三乙醯基纖維素以外之纖維素低級脂肪酸酯系樹脂。
透明樹脂薄膜1亦可含有可塑劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑等之各種添加劑。透明基材薄膜1依據需要，亦可施以例如輝光放電處理、電暈放電處理、紫外線(UV)處理、火焰處理、底塗層形成等之用以強化密著之表面處理。
[低折射率層]
低折射率層2係由含有低折射率化劑之樹脂之硬化物層所構成，藉由使低折射率層之折射率比其直接疊層之正下方之層之折射率低，而可防止光反射。低折射率層之折射率為小於其正下方層之折射率，但低折射率層與其正下 方之層之折射率差較好為0.02~0.3，更好為0.05~0.2。
低折射率層之折射率本身為1.45以下時，基於可獲得充分之抗反射性，故而較佳，更好為1.40以下，又更好為1.38以下。
低折射率層2為由電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層所構成，含有中空狀二氧化矽粒子作為低折射率化劑且該電離輻射線硬化性樹脂係含有分子中羥基少於特定量之多官能聚合性化合物之樹脂組成物之硬化物所成之層。電離輻射線硬化性樹脂成為對中空狀二氧化矽粒子之黏合劑樹脂同時提高低折射率層之耐擦傷性。該電離輻射線硬化性樹脂中，使用分子中羥基少於特定量之多官能聚合性化合物，而獲得耐鹼化性，且於低折射率層中使用電離輻射線硬化性樹脂且使用多官能之聚合性化合物，而可增強低折射率層之塗膜強度且獲得耐擦傷性。又，所謂中空狀二氧化矽粒子為例如具有外殼，其內部為多孔質或處於空洞之微粒子，可藉由特開平6-330606號公報、特開平7-013137號公報、特開平7-133105號公報、特開2001-233611號公報等記載之各種製法獲得。
低折射率層之厚度為50~150nm，較好為80~120nm。
[電離輻射線硬化性樹脂]
上述電離輻射線硬化性樹脂為至少含有藉由以紫外線及電子束為代表之電離輻射線而硬化之樹脂、且具有可藉電離輻射線而聚合之聚合性官能基之單體、預聚物(包含 寡聚物)等之聚合性化合物之1種或2種以上之樹脂組成物。可藉電離輻射線而聚合之聚合性官能基之代表例為聚合性不飽和基，聚合性不飽和基為例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、丙烯基等之具有自由基聚合性乙烯性雙鍵之基。其中，(甲基)丙烯醯基可較好地使用於本發明，各種丙烯酸酯系之電離輻射線硬化性樹脂為已知。
至於聚合性化合物，就耐擦傷性(表面硬度、界面密著性)之方面，較好為2官能以上之多官能聚合性化合物，更好為3官能以上且9官能以下之多官能聚合性化合物。
多官能聚合性化合物中，若為分子中不具有羥基者可獲得耐鹼化性，若為分子中具有羥基之化合物則無法獲得耐鹼化性。至於其理由，推測係由於羥基與鹼水溶液之親和性良好，鹼水溶液侵襲由電離輻射線硬化後所形成之三次元交聯構造內之羥基，藉此破壞交聯構造。且，推測鹼化液中使用之氫氧化鈉在水溶液中解離之鈉離子非常小，故容易浸入交聯構造內。
此處，例示可獲得良好耐鹼化性之分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之一具體例以及無法獲得耐鹼化性之分子中具有羥基之多官能聚合性化合物之一具體例。
若例示可獲得良好耐鹼化性之分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之具體例，舉例有下述式[1]表示之具有3個丙烯醯基作為聚合性官能基之三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)。式[1]中，Ac為丙烯醯基。
然而，相對於上述式[1]表示之三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)，具有3個丙烯醯基作為聚合性官能基、但末端之甲基被取代為羥基之具有合計1個羥基之以下述式[2]表示之季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)，並無法獲得耐鹼化性。式[2]中，Ac為丙烯醯基。此係無法獲得耐鹼化性之分子中具有羥基之多官能聚合性化合物之具體例。
至於獲得更良好耐鹼化性之分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之例，若以丙烯酸酯系之電離輻射線硬化性樹脂之多官能單體予以例示，則作為2官能之聚合性化合物，舉例有己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為3官能之聚合性化合物，除上述例示之三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(簡稱TMPTA)以外，舉例有異氰尿酸改質三(甲基)丙烯酸酯等，作為4官能之聚合性化合物，舉例有季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯，作為6官能之聚合性化合物，舉例有二季戊 四醇六(甲基)丙烯酸酯(簡稱DPHA)，作為7官能以上之聚合性化合物，有V802(DPHA之多聚物，大阪有機化學工業股份有限公司製)等。
至於分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之具體例，若以丙烯酸酯系之電離輻射線硬化性樹脂之多官能預聚物予以例示，則舉例有聚酯系、聚醚系、胺基甲酸酯系、環氧系、矽氧系等之各種丙烯酸酯系預聚物。
至於分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之例，若舉例市售品，則有NK EASTER(二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，新中村化學工業股份有限公司製)等。
分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物之例中，本發明中可較好地使用之化合物舉例有三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。該化合物對於鹼化處理顯示特別優異之耐擦傷性。
(分子中具有羥基之聚合性化合物之使用)
於形成低折射率層2所用之電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物，作為其聚合性化合物僅由分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物所構成，就耐鹼化性之方面而言，係最佳。惟，若在不損及耐鹼化性之範圍內，為了耐擦傷性、塗佈適性等之物性調整等，則可使用分子中具有羥基之聚合性化合物。該情況下，就耐擦傷性方面而言，分子中具有羥基之聚合性化合物較好為多官能聚合性化合物。
分子中具有羥基之多官能聚合性化合物之例，若以丙烯酸系之電離輻射線硬化性樹脂組成物之多官能單體加以例示，則作為分子中具有1個羥基之多官能單體，舉例有三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯(簡稱TMPDA)、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯(簡稱PETA)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(簡稱DPPA)等，作為分子中具有2個羥基之多官能單體，舉例有二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯(簡稱DPTA)。
如此，於分子中具有羥基之多官能聚合性化合物之情況，羥基在分子中所佔之比例若較大，則對於耐鹼化性而言並不佳。儘可能，形成低折射率層之電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物全量中羥基之比例較小，就可更確實使耐鹼化性良好之方面而言，為較佳。
(羥基含有率)
此處，本發明於分子中具有羥基之多官能聚合性化合物之情況下，作為羥基於分子中所佔比例之指標，將1分子中所含之羥基(OH基)數除以分子量再乘以100倍後之值定義為「羥基含有率」。此處，若示出羥基含有率之具體例，由於前述季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯(簡稱PETA)之OH基數1及分子量298，故季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯之羥基含有率為0.33，且由於二季戊四醇五丙烯酸酯(簡稱DPPA)為OH基數1及分子量約550，故二季戊四醇五丙烯酸酯之羥基含有率為0.18。且，通常TMPTA、 PETA、DPHA、DPPA等之化合物並非完全如結構式般之OH基數之化合物，正確係於化合物合成中最後產生之亦少量混合存在無法100%去除之OH基數與構造式之數不同之分子，但本發明中算出羥基含有率時，並不考慮少量混合存在者，而是以構造式之OH基數算出。
羥基含有率較好為0.2以下。至於多官能聚合性化合物，藉由使用其1分子中含有之羥基數，以羥基含有率計為0.2以下之化合物，可獲得較佳耐鹼化性。
羥基含有率雖為對於1分子之指標，但於電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物為複數種類之聚合性化合物之混合物時，作為該等複數種類之聚合性化合物全體，羥基含有率較好成為0.2以下。且，聚合性化合物之分子量不為單一而具有分子量分佈時，前述計算式中之分子量係使用重量平均分子量。亦即，亦包含具有分子量分佈之情況，於電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物為包含複數種類之聚合性化合物時，該樹脂組成物中所含之全部聚合性化合物視為1個分子，且該1個分子之分子量係使用前述所有聚合性化合物之重量平均分子量，由該分子中之羥基數，計算樹脂組成物之羥基含有率。包含分子中具有羥基之聚合性化合物與分子中不具有羥基之聚合性化合物之情況亦相同。例如，分子量500之聚合性化合物與分子量1000之聚合性化合物以質量比50：50含有，於一個化合物具有1個羥基，於其他化合物不具有羥基之樹脂組成物時，設為相對於分子量750之化合物存在有1個羥基，羥基含有 率計算為(1/750)×100=0.13。
又，如此電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物包含複數種聚合性化合物時之多官能聚合性化合物之官能基數，可與上述羥基含有率同樣地計算。
即使是分子中具有羥基之多官能聚合性化合物，羥基含有率亦為0.2以下，至於較佳之可獲得耐鹼化性之化合物之例示，二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)及二季戊四醇五甲基丙烯酸酯(DPPMA)可較好地使用於本發明。
為了形成構成低折射率層2之電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層之電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物中，作為其聚合性化合物，較好以多官能聚合性化合物作為分子中不具有羥基之聚合性化合物，但為了物性調整等，亦可併用單官能之聚合性化合物。
例如，作為分子中不具有羥基之單官能之聚合性化合物之例，若以丙烯酸酯系之電離輻射線硬化性樹脂之單官能單體加以例示，則舉例有(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲基己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯等之其他乙烯性聚合性化合物等。
(分子量)
不具有羥基之多官能聚合性化合物及具有羥基之多官能聚合性化合物之分子量，由於為2官能以上，更好為3官能以上之多官能，故必然較好為300以上之分子量。但，分子量太大時，在如50~150nm之薄膜條件下，層內部 全體之每1分子之可交聯反應之部份變成減少，而使交聯密度降低，結果，耐擦傷性降低，故最大分子量較好成為1000以下。因此，較好使用不具有羥基之多官能聚合性化合物及具有羥基之多官能聚合性化合物之分子量在300~1000之範圍者。且，具有分子量分佈之聚合性化合物時，其分子量意指重量平均分子量。
上述重量平均分子量可利用凝膠滲透層析儀(GPC)由聚苯乙烯換算而求得。GPC之移動相之溶劑可使用四氫呋喃或氯仿。測定管柱宜組合使用四氫呋喃用或氯仿用之管柱之市售品管柱。該市售品管柱可舉例有例如Shodex(註冊商標)GPC KF-801、GPC KF-800D(均為昭和電工股份有限公司製)等。而檢測器，宜使用RI(示差折射率)檢測器及UV檢測器。藉由使用此等溶劑、管柱、檢測器，例如Shodex(註冊商標)GPC-101(昭和電工股份有限公司製)等之GPC系統，可適當測定上述重量平均分子量。
(電離輻射線非聚合性樹脂之併用)
電離輻射線硬化性樹脂中，除了可藉電離輻射線硬化之聚合性化合物以外，為調整物性，亦可視需要在不會阻礙耐鹼化性能之範圍內，併用藉電離輻射線不會聚合之電離輻射線非聚合性樹脂。可藉電離輻射線硬化之聚合性化合物以外之電離輻射線非聚合性樹脂為可藉電離輻射線以外之能量而硬化之聚合性化合物，例如藉電離輻射線不會硬化但藉由熱可硬化之熱硬化性樹脂、藉電離輻射線及熱 均不會硬化之熱可塑性樹脂等。
至於熱硬化性樹脂，舉例有胺基甲酸酯系樹脂、三聚氰胺系樹脂、酚系樹脂、矽氧樹脂等。作為熱可塑性樹脂，舉例有丙烯酸系樹脂、熱可塑性胺基甲酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、苯乙烯系樹脂、纖維素系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、乙烯系樹脂、矽氧樹脂等。至於纖維素系樹脂，舉例有硝基纖維素、乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、乙基羥基乙基纖維素等。
(聚合起始劑)
電離輻射線硬化性樹脂以紫外線硬化時，較好於電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物中，進而含有聚合起始劑。作為聚合起始劑可為公知者，例如以自由基聚合而硬化時，則使用苯乙酮系、二苯甲酮系、噻噸酮系之聚合起始劑。聚合起始劑可單獨使用或併用使用。可以市售品例如1-羥基-環己基-苯基-酮係以Irgacure(註冊商標)184(日本BASF股份有限公司製)、Irgacure(註冊商標)127(日本BASF股份有限公司製)等獲得。且，以陽離子聚合而硬化時，係使用茂合金屬(metallocene)系、芳香族鋶系、芳香族錪系等之聚合起始劑。聚合起始劑對於樹脂量100質量份係以0.1~10質量份左右添加。
(溶劑)
電離輻射線硬化性樹脂組成物中，為了調整對於透明 基材薄膜之塗佈適性等之物性，可含有溶劑。作為溶劑，舉例有例如異丙醇、甲醇、乙醇、丁醇、異丁醇等之醇類，甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮等酮類，丙二醇單甲醚(PGMEA)等之二醇醚類，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸丙酯等酯類，氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷等之鹵化烴類，甲苯、二甲苯等之芳香族烴類。溶劑可於該等中單獨使用或以混合物使用。其中，基於塗佈適性、分散安定性等之方面而言，較好為甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、丙二醇單甲醚(PEMG)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)等。
(防污劑)
低折射率層2，就成為抗反射薄膜之最外層之方面而言，較好對於污物具有防污性。就此點而言，低折射率層中較好含有防污劑。作為防污劑，可適當採用公知者。例如，作為防污劑，舉例有矽氧系化合物、氟系化合物等。且，為了耐鹼化性或硬化性之性能持續，防污劑較好為丙烯酸系化合物。例如，為矽氧丙烯酸酯系化合物、含氟丙烯酸酯化合物、含有氟及矽氧之丙烯酸酯化合物等。
(其他添加劑)
電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物中，為了調整塗佈適性、低折射率化劑之分散安定性等之物性，可添加公知之各種添加劑。例如，為勻化劑、分散安定劑、抗靜電 劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、折射率調整劑等。
[中空狀二氧化矽粒子]
中空狀二氧化矽粒子為保持低折射率層之塗膜強度同時具有使其折射率降低之功能之粒子。本發明中使用之中空狀二氧化矽粒子為內部具有空洞之構造之二氧化矽微粒子。中空狀二氧化矽粒子係相較於二氧化矽微粒子本來之折射率(折射率n=1.46左右)，隨內部空洞之佔有率成反比地降低折射率之二氧化矽微粒子。因此，中空狀二氧化矽粒子之作為粒子全體之折射率為1.20~1.45。
作為中空狀二氧化矽粒子，只要為內部具有空洞之二氧化矽微粒子，則無特別限定，舉例為例如具有外殼，且其內部成為多孔質或空洞之微粒子、使用特開平6-330606號公報、特開平7-013137號公報、特開平7-133105號公報、特開2001-233611號公報所揭示之技術調製之二氧化矽微粒子。
中空狀二氧化矽粒子之平均粒徑較好為5~300nm，更好為5nm~200nm。藉由使該平均粒徑在該範圍內，可對低折射率層賦予優異之透明性。且，該平均粒徑之範圍較佳之下限為8nm，更佳之上限為100nm，更佳之下限為10nm，更佳之上限為80nm。
低折射率層中之中空狀二氧化矽粒子之含量並未特別限定，但較好為相對於樹脂固體成分100質量份為20~180質量份之範圍。超過180質量份時，會有低折射 率層之塗膜強度變不充分之情況，未達20質量份時，無法對低折射率層充分賦予由中空狀二氧化矽粒子所致之低折射率化之效果。
且，中空狀二氧化矽粒子表面亦可在調配前事先以矽烷偶合劑進行處理。矽烷偶合劑可為市售品，例如信越化學工業股份有限公司製之KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007等，較好為含有(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103，最好為KBM-503。
[低折射率層之形成]
低折射率層2可藉由以上述電離輻射線硬化性樹脂之樹脂組成物作為塗料或油墨，塗佈於透明基材薄膜上後，照射電離輻射線使樹脂硬化而形成。塗佈方法並未特別限定，只要適宜採用公知之塗佈方法即可。例如，為輥塗佈法、凹版塗佈法、浸漬法、噴霧法、刮刀法、棒塗佈法、旋轉塗佈法、半月板(meniscus)塗佈法等之塗佈法。或者，亦可利用柔版印刷法、網版印刷法等之印刷法形成。又，作為電離輻射線，以紫外線及電子束為代表。
[功能層]
於抗反射薄膜10中，在透明基材薄膜1與低折射率層2之間，在不脫離本發明主旨之範圍內，亦可依據需要設有其他功能層3。例如硬塗層、防眩層、抗靜電層、高折射率層、底塗層等之作為光學薄膜之公知透明層。藉由設置功能層3，可附加上對應於所設功能層3之功能。例如，功能層3為硬塗層時，可賦予耐擦傷功能，為防眩層時，可賦予防眩功能，為抗靜電層時，可賦予抗靜電功能，為高折射率層時，可賦予抗反射功能之強化，為底塗層時，可賦予密著強化功能。其中，針對硬塗層說明如下。
[硬塗層]
本說明書中，所謂「硬塗層」意指以JIS K5600-5-4(1999年)規定之鉛筆硬度試驗(荷重500g)時表示「H」以上之硬度者。就可更強化作為抗反射薄膜10之耐擦傷性之方面而言，硬塗層3較好係設於低折射率層2與透明基材薄膜1之間作為低折射率層2正下方之層。
硬塗層較好使用硬化性樹脂，更好使用電離輻射線硬化性樹脂，以電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層而形成。硬塗層厚度為0.1~100μm，更好為0.8~20μm。
硬塗層3之電離輻射線硬化性樹脂中，可使用公知作為電離輻射線硬化性樹脂之各種聚合性化合物。例如可較好地使用於上述低折射率層中所列述之電離輻射線硬化性樹脂。因此，硬塗層中使用之電離輻射線硬化性樹脂亦與 低折射率層同樣，宜以含有分子中羥基少於特定量之聚合性化合物之樹脂組成物所形成。較佳之樹脂組成物中之聚合性化合物宜全部為分子中不具有羥基之聚合性化合物。且，就提高耐擦傷性之方面而言，聚合性化合物較好為具有至少2官能以上、更好3官能以上之可藉電離輻射線硬化之官能基之聚合性化合物。
多官能聚合性化合物中，若為分子中不具有羥基者則可獲得耐鹼化性，若為分子中具有羥基之化合物，則關於低折射率層為較佳樣態，但亦有在鹼化溫度為高溫、進行長時間鹼化等之嚴苛條件下之耐鹼化性變弱之情況。此與低折射率層該欄中探討者為相同理由。
又，低折射率層2中所用之多官能聚合性化合物，由耐擦傷性之觀點而言，分子量宜為300~1000，但於硬塗層3中使用之多官能聚合性化合物時，宜為分子量超過1000之聚合性化合物。
但，由於硬塗層3並非如低折射率層般為最外層，故未與鹼化處理時之鹼水溶液直接接觸，故於硬塗層之電離輻射線硬化性樹脂中，對於使用分子中含有羥基之聚合性化合物者，不若低折射率層般嚴格。就此點而言，硬塗層中所用之電離輻射線硬化性樹脂，在樹脂中所佔之分子中具有羥基之聚合性化合物亦可比低折射率層中所用之電離輻射線硬化性樹脂多。但，為使低折射率層薄如厚度為50~150nm，若考慮鹼水溶液之浸透時，較好儘可能使用分子中不具有羥基之聚合性化合物。
硬塗層中使用分子中具有羥基之聚合性化合物時，作為可用於硬塗層中之較佳例，舉例有季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯(簡稱PETA，羥基含有率0.33)、二季戊四醇五丙烯酸酯(簡稱DPPA，羥基含有率0.18)等。
於硬塗層3中，亦可含有公知各種添加劑。例如為抗靜電劑、防眩劑、紫外線吸收劑、具有反應性基之二氧化矽等。例如，藉由添加防眩劑，硬塗層可兼作防眩層，抗反射薄膜亦可成為防眩抗反射薄膜。防眩劑可使用有機系或無機系之擴散劑等。
硬塗層3為了防止在硬塗層與透明基材薄膜1之界面產生之干涉斑，較好為於透明基材薄膜中含浸硬塗層中使用之塗佈液之至少一部分組成者。
硬塗層3之形成，由於硬塗層之樹脂亦與低折射率層同樣地以電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層而形成，故與低折射率層同樣地，可將其樹脂組成物作為塗料或油墨，塗佈於透明基材薄膜上後，照射電離輻射線使樹脂硬化而形成。塗佈方法並未特別限定，只要如低折射率層所列述般適宜採用公知塗佈即可。
又，設有硬塗層3之情況，低折射率層形成於硬塗層上時，在低折射率層形成時硬塗層尚未完全硬化，而與低折射率層之樹脂硬化同時進行硬塗層之樹脂完全硬化，就該兩層之密著性而言係較佳。藉由提高硬塗層與低折射率層之界面間之密著性，亦可提高抗反射薄膜最表面之硬度、耐擦傷性。
B.偏光片
本發明之偏光片係於偏光元件之至少一面上將上述本發明之抗反射薄膜以其透明基材薄膜側朝向前述偏光元件而疊層所構成之偏光片。此處，圖2為顯示偏光片一形態之剖面圖。該圖所示之偏光片20係將本發明之抗反射薄膜10以低折射率層面2s成為最外側般以透明基材薄膜1側之面疊層於偏光元件4而成。係抗反射薄膜10疊層於偏光元件4之單面上，於偏光元件4之另一面上，疊層本發明之抗反射薄膜10以外之保護膜5所成之構成例。
偏光片20之抗反射薄膜10側之面暴露於空氣中，防止潮偏光片入射之光反射。另一方面，於偏光片之保護膜5側之面，通常係以黏著劑層等密著疊層於液晶胞等其他光學構件上，故於保護膜側之面，並不需要如抗反射薄膜般之抗反射處理。但，作為本發明之偏光片，亦可於偏光元件兩面上將上述之本發明之抗反射薄膜，以其透明基材薄膜側朝向前述偏光元件而疊層。
[偏光元件]
偏光元件4並未特別限定，只要於偏光片中以往已知之偏光元件即可。舉例有例如，利用碘等染色並延伸之聚乙烯醇薄膜。且，經染色．延伸之薄膜，除聚乙烯醇薄膜以外，亦舉例有聚乙烯甲醛薄膜、聚乙烯乙縮醛薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化薄膜等。
[保護膜]
保護膜5係疊層於偏光元件之與抗反射薄膜所疊層之面相反面上。可使用與抗反射薄膜中之透明基材薄膜同樣之薄膜。因此，保護膜較好使用由三乙醯基纖維素所成之透明薄膜。且，由防止捲曲之觀點而言，較好為同種薄膜。因此，省略進一步說明。又，該保護膜與先前技術段落終所述之暫時接著之耐鹼化用保護膜不同，而係永久接著疊層之薄膜。
[偏光元件與抗反射薄膜及保護膜之疊層]
偏光元件4與抗反射薄膜10及保護膜5疊層時，利用鹼水溶液進行所謂之鹼化處理，基於可強化偏光元件與該等薄膜之密著性而言為較佳。尤其，由於本發明之抗反射薄膜具備耐鹼化性，故就可發揮該優點而言，亦較佳。
C.圖像顯示裝置
本發明之圖像顯示裝置為具備前述本發明之抗反射薄膜或上述本發明之偏光片而構成之圖像顯示裝置。前述抗反射薄膜或偏光片可例如成為具備於顯示器面板之觀察者側之構成。抗反射薄膜或偏光片有時以密著疊層於顯示器面板而一體化者成為顯示器面板，亦有時透過空氣層配置於顯示器面板之觀察者側。
顯示器面板可無特別限定地使用公知之顯示器面板，例如液晶面板、電漿顯示器面板、電致發光面板、觸控面 板、電子紙、平板PC等之各種顯示器面板以外，亦可為陰極射線管(CRT)等。
抗反射薄膜與偏光片於塗向顯示裝置所具備之顯示器面板為液晶面板時，通常具備偏光片。於基本上不需要偏光片之顯示器面板例如電漿顯示器面板、電致發光面板、陰極射線管(CRT)、觸控面板、電子紙、平板PC等之情況，圖像顯示裝置具備抗反射薄膜。
本發明之圖像顯示裝置亦可依據用途具備其他顯示器驅動電路、配線、底座(chassis)、框體、輸出入構件、機殼(cabinet)等公知構件。
[用途]
本發明之圖像顯示裝置之用途並未特別限制，例如可為電視成像機、監視顯示器、電子看板、攜帶式資訊終端機、數位相框、醫療用機器等。
[實施例]
以下，利用實施例、比較例及參考例，進一步說明本發明。且，以下中，使用之材料乃至其簡稱係如下。又，稱為「份」時均意指質量份。
[聚合性化合物(均為多官能聚合性化合物)]
以下，關於使用材料之簡稱、聚合性官能基(丙烯醯基)之官能基數、分子量、羥基(OH基)之有無等加以記 載。
<不含羥基之化合物>
．TMPTA：3官能，分子量296，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(固體成分100%)
．NK ESTER：6官能，Mw 578，二季戊四醇六丙烯酸酯；DPHA(新中村化學股份有限公司製)(固體成分100%)
．UV1700B：10官能，分子量約2000，於2官能之IPDI(異佛爾酮二異氰酸酯)之異氰酸酯基上使DPPA反應之10官能寡聚物(日本合成化學工業股份有限公司製，固體成分100%)
<含羥基之化合物>
．PETA：3官能，Mw298，OH基數1，OH含有率0.33，季戊四醇三丙烯酸酯(含1個羥基)
．DPPA：5官能，分子量約550，OH基數1，OH含有率0.18，二季戊四醇五丙烯酸酯(品名「KAYARAD(註冊商標)DPHA」，日本化藥股份有限公司製，固體成分100%)
．DPPMA：6官能，Mw約550，二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇五甲基丙烯酸酯之混合物。
．V802：7~9官能，分子量700~1000，OH基數1，OH含有率0.10~0.14，DPPA之多聚物(大阪有機化學工業 股份有限公司製，固體成分100%)
[溶劑]
．MIBK：甲基異丁基酮
．PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯
．PGME：丙二醇單甲醚
[表面疏水處理之中空狀二氧化矽粒子]
．(平均粒徑55nm之內部具有空洞之表面經疏水處理之二氧化矽粒子，固體成分20%，MIBK分散)
[光聚合起始劑]
．Irgacure(註冊商標)127(日本BASF股份有限公司製)：2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙醯基)苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮
[防污劑]
．TU2225(含氟矽氧防污劑，JSR股份有限公司製，固體成分15%)
上述化合物之分子量測定雖如前述[電離輻射線硬化性樹脂]之(分子量)段落中所說明，但關於分子量超過1000者，作為使用之管柱，可舉例例如Shodex(註冊商標)GPC KF-801、GPC KF-802、GPC KF-803、GPC KF-804、GPC KF-805、GPC KF-800D(均為昭和電工股份有限公 司製)等。
[試驗評價方法]
關於耐鹼化性，係針對耐擦傷性、防污性、抗反射性、耐白化性、外觀之4性能，測定評價鹼化處理前後之性能。
[耐擦傷性]
耐擦傷性係以耐鋼綿性予以評價。由該評價，不僅可評價表面硬度，同時亦可評價低折射率層與基底層之密著性、塗膜之剝落性。具體而言，使用#0000號之鋼綿，以特定摩擦荷重300g/cm2對低折射率層表面往復摩擦，其後目視觀察塗膜有無剝落，基於下述基準予以評價。
○：無傷痕(塗膜全部未剝落)
×：有傷痕(塗膜有剝落)
[防污性]
防污性係於低折射率層表面上以油性麥克筆書寫後，以纖維素系不織布擦拭布嘗試20次擦除，以下述基準評價。
○：可擦除
×：未擦除
[抗反射性]
抗反射性係於未形成低折射率層之側的透明基材薄膜面貼附用以防止背面反射之黑色膠帶，以低折射率層表面作為光源側，使用分光反射率測定機(島津製作所股份有限公司製，PC-3100)，以波長區域380~780nm之最低反射率作為光反射率進行測定，以下述基準進行評價。
○：光反射率為1.0~2.0%
×：光反射率於鹼化處理後反射率比上述範圍更惡化(超過2.0%)，或在鹼化處理前即超過2.0%
[耐白化性]
鹼化處理前後之耐白化性，係將作成之抗反射薄膜以不成為看似白色狀態評價鹼化耐久性。耐白化性係於未形成低折射率層之側的透明基材薄膜面貼附用以防止背面反射之黑色膠帶，於暗室中對低折射率層表面碰觸自距離表面1m之位置之螢光燈之光並反射，自表面以45度位置以目視觀察是否產生白化，並以下述基準進行評價。
○：未白化
×：白化
[外觀]
外觀係對所作成之抗反射薄膜之未形成低折射率層之側的透明基材薄膜面貼附黑色膠帶，自形成有低折射率層之面側，碰觸三波長型螢光燈之光，以目視觀察其塗佈面，以下述基準進行評價。
○：鹼處理前後色調未變化
×：鹼處理前後色調產生變化
[鹼化處理]
鹼化處理係以下述2條件進行。通常，鹼化處理係以低濃度低溫鹼溶液，緩慢浸漬，或以高濃度高溫鹼溶液，快速浸漬。後者條件之浸漬時間較短，但對於抗反射薄膜為嚴苛處理，故於下述條件B為良好者，比於條件A為良好者更優異。
條件A：於2N之NaOH水溶液中於溫度50℃浸漬處理3分鐘。
條件B：於4N之NaOH水溶液中於溫度60℃浸漬處理30秒。
[實施例1]
於作為透明基材薄膜之厚度80μm之透明三乙醯基纖維素薄膜(TAC薄膜，折射率1.48)之單面上，塗佈含下述之電離輻射線硬化性樹脂之硬塗層用組成物(A)後，以紫外線照射使樹脂(半)硬化，形成厚10μm之硬塗層。
接著，於形成之硬塗層上，塗佈下述之低折射率層用組成物(1)後，以紫外線照射使樹脂硬化，形成厚100nm之低折射率層同時硬塗層亦完全硬化，製作抗反射薄膜。接著，以鹼化處理條件A進行鹼化處理。
[硬塗層用組成物(A)]
[低折射率層用組成物(1)]
[實施例2]
實施例1中所製作之抗反射薄膜以鹼化處理條件B進行鹼化處理。
[實施例3]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分不同之下述低折射率層用組成物(2)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(2)]
[實施例4]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分不同之下述低折射率層用組成物(3)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(3)]
[實施例5]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分不 同之下述低折射率層用組成物(4)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(4)]
[實施例6]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分不同之下述低折射率層用組成物(5)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(5)]
光聚合起始劑 7份
[實施例7]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分為混合樹脂之不同下述低折射率層用組成物(6)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(6)]
[實施例8]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分為混合樹脂之不同下述低折射率層用組成物(7)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(7)]
[實施例9]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂及溶劑不同之下述低折射率層用組成物(8)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(8)]
[實施例10]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用中空二氧化矽粒子之調配量不同之下述低折射率層用組成物(9)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(9)]
[比較例1]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用含有羥基含有率超過0.2之多官能聚合性化合物之下述低折射率層用組成物(10)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(10)]
[比較例2]
比較例1中所製作之抗反射薄膜以鹼化處理條件B進行鹼化處理。
[比較例3]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用含有羥基含有率超過0.2之多官能聚合性化合物且溶劑成分不同之下述低折射率層用組成物(11)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(11)]
[比較例4]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用含有羥基含有率超過0.2之多官能聚合性化合物及羥基含有率為0.2 以下之多官能聚合性化合物且前者為樹脂份總量之50質量%以上之下述低折射率層用組成物(12)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(12)]
[比較例5]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用含有羥基含有率超過0.2之多官能聚合性化合物及羥基含有率為0.2以下之多官能聚合性化合物且前者為樹脂份總量之50質量%以上之下述低折射率層用組成物(13)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(13)]
PETA 75份
[比較例6]
實施例1中，於低折射率層之形成中使用樹脂成分不同且含有分子量超過1000之多官能聚合性化合物之下述低折射率層用組成物(14)以外，與實施例1同樣，製作抗反射薄膜，以與實施例1相同條件進行鹼化處理。
[低折射率層用組成物(14)]
[性能評價結果]
上述實施例及比較例所使用之聚合性化合物之內容示於表1及表2，性能評價結果示於表2及表3。
如表1所示，於構成低折射率層之電離輻射線硬化性樹脂之聚合性化合物中，不使用具有羥基之多官能聚合性化合物，而總量使用3官能之TMPTA作為不含羥基之多官能聚合性化合物之實施例1~實施例2及實施例10，以及總量使用6官能之NK ESTER(DPHA)作為不含羥基之多官能聚合性化合物之實施例4均為耐擦傷性、防污性、抗反射性、耐白化性及外觀全部為○，而為耐鹼化性可滿足者。且，變更鹼化處理而以條件B進行之實施例2亦同樣為耐鹼化性可滿足者。
構成低折射率層之電離輻射線硬化性樹脂之聚合性化合物使用含有羥基之多官能聚合性化合物，但使用1分子中之羥基數為1個以下且羥基含有率為0.2以下者之DPPA之實施例3、V802之實施例4、DPPMA之實施例6亦均為耐擦傷性、防污性、抗反射性、耐白化性及外觀全部為○，而為耐鹼化性可滿足者。
使用含有羥基之多官能聚合性化合物，但使用1分子中之羥基數為1個以下且羥基含有率為0.2以下，且併用不含羥基之多官能聚合性化合物之實施例7~9亦均為耐擦傷性、防污性、抗反射性、耐白化性及外觀全部為○，而為耐鹼化性可滿足者。
以上，實施例1~實施例10全部評價均為耐鹼化性○之可滿足者，認為係因為低折射率層之樹脂在鹼化處理時不溶解或脫落而仍殘存之故。
另一方面，構成低折射率層之電離輻射線硬化性樹脂 之聚合性化合物使用含有羥基且羥基含量超過0.2之多官能聚合性化合物的PETA之比較例1~比較例5，抗反射性、耐白化性及外觀於鹼化處理後亦均為○，為耐鹼化性可滿足者。然而，比較例1~比較例5之耐擦傷性及防污性及外觀於鹼化處理後為×，耐鹼化性並非可滿足者。含有羥基之多官能聚合性化合物以副成分(未達樹脂份總量之50質量%)之範圍與並用不含羥基之多官能聚合性化合物一起併用之比較例4及比較例5，由於不含羥基之聚合性化合物之使用量較少，作為樹脂組成物全體羥基量較多，故耐擦傷性及防污性及外觀於鹼化處理後成為×。
於多官能聚合性化合物雖不具有羥基且羥基含有率為0但使用具有羥基之胺基甲酸酯系寡聚物類型之化合物的比較例6，丙烯醯基之官能基數為10，而超過9，(重量平均)分子量大如2000而超過1000，故防污性於鹼化處理後雖亦為○，但耐擦傷性及抗反射性及耐白化性及外觀在鹼化處理後成為×，並非可滿足者。
耐擦傷性若將摩擦荷重自300g/cm2增加至600g/cm2進行評價，則鹼化後之實施例1~2與荷重增加前同樣良好，但實施例3~10在容許範圍內稍許降低。因此，樹脂為TMPTA 100%時最為良好。
表1中雖未記載，但透明基材薄膜與硬塗層之密著性於各實施例及各比較例均為良好。該密著性係依據JIS K5400之棋盤格膠帶法進行，棋盤格之棋格完全未剝落。
1‧‧‧透明基材薄膜
2‧‧‧低折射率層
2s‧‧‧低折射率層面
3‧‧‧硬塗層(功能層)
4‧‧‧偏光元件
5‧‧‧保護膜
10‧‧‧抗反射薄膜
20‧‧‧偏光片
圖1為說明本發明之抗反射薄膜之一實施形態之剖面圖。
圖2為說明本發明之偏光片之一實施形態之剖面圖。
1‧‧‧透明基材薄膜
2‧‧‧低折射率層
3‧‧‧硬塗層(功能層)
10‧‧‧抗反射薄膜

Claims (3)

  1. 一種抗反射薄膜，其具備低折射率層，前述低折射率層含三乙醯纖維素之透明基材薄膜、設於前述透明基材薄膜之一面上之含電離輻射線硬化性樹脂之硬化物層所成之含有中空狀二氧化矽粒子且具有比所疊層之下層更低折射率之低折射率層之抗反射薄膜，前述電離輻射線硬化性樹脂中所含之聚合性化合物為如下(A)、(B)、(C)之任一者：(A)為分子中不具有羥基之多官能聚合性化合物、(B)為分子中具有羥基之聚合性化合物時，以1分子中所含之羥基之數除以分子量再乘以100倍後之值所定義之羥基含有率為0.2以下之多官能聚合性化合物，(C)為含有1種以上之分子中具有羥基之聚合性化合物之複數種類之聚合性化合物的混合物，且以任意質量比含有該複數種類之聚合性化合物之樹脂組成物中，將該樹脂組成物中之全部聚合性化合物視為1個分子，且該1個分子之分子量係使用前述全部聚合性化合物之重量平均分子量時之前述羥基含有率為0.2以下之多官能聚合性化合物，前述(A)、(B)、(C)中之多官能聚合性化合物之官能基數為3~9且分子量為300~1000。其中前述抗反射薄膜進一步具有設在透明基材薄膜與低折射率層之間之功能層。
  2. 一種偏光片，其具有如申請專利範圍第1項之抗反 射薄膜，及疊層於前述抗反射薄膜之透明基材薄膜側之面上之偏光元件。
  3. 一種圖像顯示裝置，其具備如申請專利範圍第1項之抗反射薄膜或如申請專利範圍第2項之偏光片。
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