TWI531635B - Adhesive layer for optical film and manufacturing method thereof, adhesive optical film, manufacturing method thereof, image display device, and coating liquid supply device - Google Patents

Adhesive layer for optical film and manufacturing method thereof, adhesive optical film, manufacturing method thereof, image display device, and coating liquid supply device Download PDF

Info

Publication number
TWI531635B
TWI531635B TW101114518A TW101114518A TWI531635B TW I531635 B TWI531635 B TW I531635B TW 101114518 A TW101114518 A TW 101114518A TW 101114518 A TW101114518 A TW 101114518A TW I531635 B TWI531635 B TW I531635B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adhesive
optical film
coating liquid
adhesive layer
meth
Prior art date
Application number
TW101114518A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201247837A (en
Inventor
Naoki Tomoguchi
Takaaki Ishii
Yousuke Makihata
Tomoaki Masuda
Sonjin Ryu
Tsutomu Morohoshi
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Publication of TW201247837A publication Critical patent/TW201247837A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI531635B publication Critical patent/TWI531635B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J201/00—Adhesives based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00—Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249982—With component specified as adhesive or bonding agent
    • Y10T428/249983—As outermost component
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28—Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2848—Three or more layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

光學薄膜用黏著劑層及其製造方法、黏著型光學薄膜及其製造方法、影像顯示裝置以及塗佈液供給裝置 發明領域
本發明係有關於一種經減低因氣泡及/或異物引起的外觀缺點之光學薄膜用黏著劑層及其製造方法，以及有關於一種黏著型光學薄膜及其製造方法，其中該黏著型光學薄膜係至少在光學薄膜的一側積層有黏著劑層之黏著型光學薄膜，該黏著劑層中的外觀缺點已減低。作為如此的黏著型光學薄膜，可舉出至少在一側積層有黏著劑層之偏光板、相位差板、光學補償薄膜、亮度提升薄膜和防止反射薄膜等的表面處理薄膜，以及積層有該等者。而且，本發明係有關於一種至少使用一片該黏著型光學薄膜之影像顯示裝置，以及一種用以供給黏著劑塗佈液之塗佈液供給裝置，該黏著劑塗佈液係構成該黏著型光學薄膜之黏著劑層的原料。
發明背景
液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等，係從其影像形成方式，例如液晶顯示裝置時，在液晶胞的兩側配置偏光元件係必要而不可缺少的，通常係黏貼有偏光板。又，在液晶面板及有機EL面板等的顯示面板，係除了偏光板以外，為了使顯示器的顯示品質提升，亦逐漸使用各式各樣的光學元件。又，為了保護液晶顯示裝置和有機EL顯示裝置、CRT、PDP等的影像顯示裝置、或賦予高級感、或使設計差 別化，係使用前面板。在該等液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等的影像顯示裝置、前面板等與影像顯示裝置同時被使用之構件，例如為了改善作為防止著色的相位差板、液晶顯示器的視野角，係使用視野角擴大薄膜，而且為了提高顯示器的對比，係使用亮度提升薄膜，為了賦予表面耐擦傷性，係使用硬塗薄膜，為了防止對影像顯示裝置產生映入，係使用抗眩處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等的防止反射薄膜等的表面處理薄膜。該等薄膜係被總稱為光學薄膜。
將前述光學薄膜黏貼在液晶胞及有機EL面板等的顯示面板或前面板時，通常係使用黏著劑。又，光學薄膜與液晶胞及有機EL面板等的顯示面板或前面板、或是光學薄膜之間的接著，通常為了減低光的損失，係使用黏著劑將各自材料密著。此時，因為具有不需要用以使光學薄膜固著的乾燥步驟之優點，通常係使用在光學薄膜的至少一側積層黏著劑層而成之黏著型光學薄膜。
因為黏著型光學薄膜係使用在被直接目視之影像顯示裝置，所以在黏著劑層，亦對於源自異物和氣泡等之外觀缺點(條線狀缺點、點缺點)，進行非常嚴格的品質管理。因此，通常黏著劑層的原料之黏著劑塗佈液，係按照必要經過真空脫泡處理和離心分離處理，進而過濾處理等，而被塗佈在光學薄膜上。但是即便嘗試使用真空脫泡處理和離心分離處理來除去黏著劑塗佈液的氣泡，塗佈液的黏度高時，或是除去具微小氣泡直徑的氣泡時，多半的情況是需 要花費很多時間及勞力，但是氣泡的除去仍不充分。
以除去聚二甲基矽氧烷等產生微量的收縮斑(cissing)缺點的成分作為目的，下述專利文獻1係記載一種光學薄膜之製造方法，其至少包含過濾步驟及塗佈步驟，該過濾步驟係將含有溶劑及能夠藉由活性放射線硬化可能的單體成分之塗佈液(所謂「溶劑系塗佈液」)，使用具有聚烯烴製的過濾材料之深度型濾芯進行過濾處理；而該塗佈步驟係將過濾處理後的塗佈液塗佈在薄膜基材上而形成塗佈層，其中在塗佈層中，不具有成為100μm以上的核的異物之缺點，係薄膜平均1m2為1.0個以上。在如此的專利文獻所記載之方法，係在通常黏度低的溶劑系塗佈液時，作為除去100μm以上的缺點的原因之異物和氣泡之手段，係有用的。
先前技術文獻 專利文獻
[專利文獻1]日本專利特許第4542920號公報
發明概要
但是，本發明者等專心研討的結果，清楚明白在前述專利文獻所記載之方法，相較於容易產生咬泡之乳膠溶液等的水分散型黏著劑、溶劑系塗佈液，使用黏度高的黏著劑塗佈液時，氣泡及/或異物的除去效率係較差。
本發明係鑒於上述實際情形而成，其目的係藉由有效率地除去成為黏著劑層原料之黏著劑塗佈液的氣泡及/或 異物，來提供一種經減低黏著劑層中的外觀缺點之光學薄膜用黏著劑層及其製造方法、將該光學薄膜用黏著劑層積層而成之黏著型光學薄膜及其製造方法、影像顯示裝置、以及用以形成黏著劑層之黏著劑塗佈液供給裝置。
為了解決上述課題，本發明者等專心研討的結果發現：(i)以水分散型黏著劑作為主成分之黏著劑塗佈液存在有容易產生咬泡且容易含有微小氣泡，具體上係容易含有小於100μm的氣泡此一在溶劑系塗佈液未曾觀察到的特有課題；(ii)相較於前述溶劑系塗佈液，將黏度高的黏著劑塗佈液進行過濾處理時，差壓高時，氣泡及/或異物有容易變形且同時穿過過濾濾芯之傾向；以及(iii)過濾濾芯的過濾精度無論太高或太低，均無法確實地除去微小氣泡及/或異物，過濾精度存在有最適合的範圍。本發明係進行上述研討的結果而成，藉由如以下的構成來達成上述的目的。
亦即，本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其特徵在於包含過濾步驟及塗佈．乾燥步驟，該過濾步驟係使用過濾精度為1~20μm之深度型濾芯(depth type filters)，將含有水分散型黏著劑之黏著劑塗佈液在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理；該塗佈．乾燥步驟係將該過濾處理後的前述黏著劑塗佈液塗佈之後進行乾燥。在如此的光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，前述深度型濾芯係以在過濾精度具有梯度為佳。
又，本發明之光學薄膜用黏著劑層，係藉由前述任一 者所記載之製造方法所製造者，特別是不含有最大長度超過100μm的氣泡及/或異物，且在前述黏著劑層面，最大長度為20μm以上的氣泡及/或異物的個數係以10個/m2以內為佳。而且，在本發明，成為黏著劑層外觀缺點之原因，有可能是在黏著劑塗佈液中只有氣泡存在或是只有異物存在之情形，也有可能是在黏著劑塗佈液中氣泡及異物這兩者皆存在之情形。
而且，本發明之黏著型光學薄膜之製造方法，係用以製造在光學薄膜的至少一側積層黏著劑層而成之黏著型光學薄膜之方法，其特徵在於：製造前述黏著劑層之步驟包含過濾處理之步驟，其係使用深度型濾芯，將作為前述黏著劑層原料之黏著劑塗佈液，在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理，其中前述黏著劑塗佈液係含有水分散型黏著劑者，且前述深度型濾芯的過濾精度為1~20μm。
又，在上述黏著型光學薄膜之製造方法中，前述深度型濾芯係以在過濾精度具有梯度為佳。
而且，在上述黏著型光學薄膜之製造方法中，以進一步包含塗佈．乾燥步驟及轉印步驟為佳，該塗佈．乾燥步驟係在前述過濾步驟之後，藉由將前述黏著劑塗佈液塗佈在撓性支撐體(膜片)且進行乾燥，來製造設置有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)；而該轉印步驟係將前述黏著劑層從設置有前述黏著劑層之撓性支撐體(膜片)轉印至前述光學薄膜上。
又，在上述黏著型光學薄膜之製造方法中，係以在前 述過濾步驟之後進一步包含塗佈．乾燥步驟為佳，將前述黏著劑塗佈液塗佈在前述光學薄膜上之後，進行乾燥。
本發明之黏著型光學薄膜係藉由以前述任一者所記載之製造方法所製造者。又，本發明之影像顯示裝置，其特徵在於：使用至少1片前述所記載之黏著型光學薄膜。
本發明之塗佈液供給裝置，係用以供給構成黏著型光學薄膜之黏著劑層原料之黏著劑塗佈液者，其特徵在於至少具備泵、過濾部及送液部，該泵係用以將前述黏著劑塗佈液進行送液；該過濾部係用以除去在前述黏著劑塗佈液中所含有的氣泡及/或異物；而該送液部係將前述黏著劑塗佈液進行移送，其中前述過濾部係具備過濾精度為1~20μm之深度型濾芯，而且具有在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理之功能。在如此的塗佈液供給裝置，前述深度型濾芯係以在過濾精度具有梯度為佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，係包含過濾處理之步驟，其係將含有水分散型黏著劑的黏著劑塗佈液進行過濾處理。相較於通常黏度較低的溶劑系塗佈液，因為水分散型黏著劑係容易產生咬泡且黏度係比較高，容易含有微小氣泡、具體上係小於100μm的氣泡。但是本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法係包含使用深度型濾芯，將黏著劑層的原料之黏著劑塗佈液，在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理之過濾步驟，而且因為深度型濾芯的過濾精度為1~20μm，能夠將微小氣泡及/或異 物、特別即便是小於100μm氣泡及/或異物亦可以確實且有效率地除去。使用在過濾精度上具有梯度且朝向下游側之過過濾精度高者作為如此的深度型濾芯時，能夠在上游側收集大的氣泡及/或異物，隨著進入下游側而能夠收集小氣泡及/或異物。因此，在延長濾芯壽命之同時，能夠提高氣泡及/或異物的除去效率。又，本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，因為對於黏度為5~50000mPa‧s之黏著劑塗佈液，氣泡及/或異物的除去效率高，將具有如此黏度之黏著劑塗佈液作為原料來使用時特別有用。而且，因為本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法中，能夠將深度型濾芯設置在製造步驟特別是黏著劑塗佈液的塗佈步驟中途，對黏著劑塗佈液所造成的影響亦較少，相較於其他脫泡方法(例如真空脫泡處理和離心分離處理)，係較為方便。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，係能夠製造外觀缺點極其減低之光學薄膜用黏著劑層，特別是不含有最大長度超過100μm的氣泡及/或異物且在前述黏著劑層的面上最大長度20μm以上的氣泡及/或異物個數為10個/m2以內之光學薄膜用黏著劑層。如此的黏著劑層，作為光學薄膜用構件係有用的。
又，本發明之黏著型光學薄膜之製造方法，係包含將含有水分散型黏著劑的黏著劑塗佈液進行過濾處理之步驟。相較於通常黏度較低的溶劑系塗佈液，因為水分散型黏著劑容易產生咬泡且黏度比較高，容易含有微小氣泡、具體上小於100μm的氣泡。但是本發明之光學薄膜用黏著 劑層之製造方法包含使用深度型濾芯，將黏著劑層原料之黏著劑塗佈液，在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理之過濾步驟，而且因為深度型濾芯的過濾精度為1~20μm，能夠將微小氣泡及/或異物、特別即便是小於100μm氣泡及/或異物亦可以確實且有效率地除去。作為如此的深度型濾芯，使用在過濾精度具有梯度且朝向下游側之過過濾精度高者時，能夠在上游側收集大的氣泡及/或異物，隨著進入下游側而能夠收集小氣泡及/或異物。因此，在延長濾芯壽命之同時，能夠提高氣泡及/或異物的除去效率。又，本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，因為對於黏度為5~50000mPa‧s之黏著劑塗佈液，氣泡及/或異物的除去效率高，以具有如此的黏度之黏著劑塗佈液作為原料而使用時，係特別有用。而且，因為本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法能夠將深度型濾芯設置在製造步驟、特別是黏著劑塗佈液的塗佈步驟中途，對黏著劑塗佈液所造成的影響亦較少，相較於其他脫泡方法(例如、真空脫泡處理和離心分離處理)，係較為方便。
亦可以藉由在前述過濾步驟之後，進一步包含將前述黏著劑塗佈液塗佈在前述光學薄膜上之後，進行乾燥之塗佈．乾燥步驟，來製造積層黏著劑層而成之黏著型光學薄膜。又，亦可以在前述過濾步驟之後，藉由進一步含有塗佈．乾燥步驟及轉印步驟，來製造將前述黏著劑層積層而成之黏著型光學薄膜，該塗佈．乾燥步驟係將前述黏著劑塗佈液塗佈在撓性支撐體(膜片)，且進行乾燥，來製造設置 有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)；而該轉印步驟係從設置有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)，將前述黏著劑層轉印至前述光學薄膜上。後者的情況，因為在利用加熱之乾燥步驟，能夠防止光學薄膜被加熱，在保持光學薄膜的光學特性的狀態下，能夠製造黏著型光學薄膜。
本發明之黏著型光學薄膜之製造方法係能夠製造經減低黏著劑層中的外觀缺點之黏著型光學薄膜。因此，使用至少1片如此的黏著型光學薄膜之影像顯示裝置，係同樣地，能夠減低外觀缺點。
本發明之塗佈液供給裝置，係能夠從塗佈液效率良好地除去外觀缺點的原因之氣泡及/或異物。因此，作為黏著型光學薄膜的製造裝置係有用的。
用以實施發明之形態
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法係包含過濾步驟及塗佈．乾燥步驟，該過濾步驟係使用過濾精度為1~20μm之深度型濾芯，將含有水分散型黏著劑之黏著劑塗佈液在差壓為超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理；而該塗佈．乾燥步驟係將過濾處理後的前述黏著劑塗佈液塗佈之後，進行乾燥。
前述黏著劑塗佈液係含有水分散型黏著劑。黏著劑塗佈液係按照必要除了含有水分散型黏著劑以外，並且能夠含有各種黏度調整劑、剝離調整劑、黏著賦予劑、可塑劑、軟化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、及其它由無機粉末 等所構成之填料、顏料、著色劑(顏料、染料等)、pH調整劑(酸或鹼)、抗氧化劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑等。
水分散型黏著劑係至少在水中分散含有基質聚合物之水分散液。作為該水分散液，通常係使用在界面活性劑的存在下基質聚合物進行分散者，若基質聚合物能夠被分散存在水中，即可使用藉由自分散性基質聚合物的自分散，而成為水分散液者。
水分散液中的基質聚合物，係可舉出使單體在乳化劑的存在下進行乳化聚合，或在界面活性劑的存在下進行分散聚合之藉由聚合而得到者。
又，水分散液係能夠藉由將另外製造的基質聚合物，在乳化劑的存在下，於水中進行乳化分散來製造。作為乳化方法，可舉出將聚合物及乳化劑預先加熱熔融，或是不加熱熔融而將其等及水，使用例如加壓揑合機、膠體研磨機(colloid mill)、高速攪拌軸等的混合機，施加高剪切而使其均勻地乳化分散之後，以分散粒子為不熔合凝集的方式進行冷卻而得到所需要的水分散體之方法(高壓乳化法)；及預先將聚合物溶解於苯、甲苯、乙酸乙等的有機溶劑之後，添加前述乳化劑及水，且例如使用高速乳化機且施加高剪切而均勻地使其乳化分散之後，藉由減壓-加熱處理等除去有機溶劑而成為所需要的水分散體之方法(溶劑溶解法)等。
作為水分散型黏著劑，能夠使用各種黏著劑，例如可舉出橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚胺甲酸酯系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚乙烯醇系 黏著劑、聚乙烯基吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、纖維素系黏著劑、聚酯系黏著劑、氟系黏著劑等。能夠按照前述黏著劑的種類而選擇黏著性的基質聚合物和分散手段。
在前述黏著劑之中，就顯示光學透明性優良、適當的濕潤性、凝集性及接著性之黏著特性且耐候性、耐熱性等優良而言，本發明係以使用水分散型的丙烯酸系黏著劑為佳。
水分散型丙烯酸系黏著劑的基質聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物，係例如能夠藉由將以(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分之單體成分在乳化劑、自由基聚合起始劑的存在下，進行乳化聚合而以共聚合乳液的方式得到。又，(甲基)丙烯酸酸烷酯係指丙烯酸酸烷酯及/或甲基丙烯酸烷酯，本發明的(甲基)係同樣的意思。
作為構成(甲基)丙烯酸系聚合物的主骨架之(甲基)丙烯酸酸烷酯，可例示直鏈狀或分支鏈狀之烷基的碳數為1~20者。例如作為前述烷基，可例示甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、戊基、新戊基、異戊基、己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、異壬基、癸基、異癸基、十二基、十三基、十四基、十五基、十六基、十七基、十八基、十九基、二十基等。該等係能夠單獨或組合而使用。該等烷基的平均碳數係以3~9為佳。特別是在本發明，作為上述(甲基)丙烯酸酸烷酯，特別適合使用如丙烯酸酸丁酯之沸點比水高的單體。
在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中，係除了(甲基)丙烯酸 酸烷酯以外，以水分散液的安定化、提升黏著劑層對光學薄膜等的支撐基材之密著性、進而提升對被黏物之初期接著性等作為目的，亦可藉由共聚合來導入1種類以上之具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等與不飽和雙鍵有關的聚合性官能基之共聚合單體。
作為前述共聚合單體的具體例，係沒有特別限制，可舉出例如(甲基)丙烯酸酸、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯等含羧基的單體；例如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含酸酐基的單體；例如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸異酯等的(甲基)丙烯酸脂環狀烴酯；例如(甲基)丙烯酸苯酯等的(甲基)丙烯酸芳酯、例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯酯類；例如苯乙烯和α-甲基苯乙烯等的苯乙烯系單體；例如(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯等含環氧基的單體；例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等含羥基的單體；例如(甲基)丙烯酸醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酸醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酸醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯酸醯胺、N-丁基(甲基)丙烯酸醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯酸醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯酸醯胺、(甲基)丙烯醯基啉、(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等含氮原子的單體；例如(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等含烷氧基的單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的單 體；例如異氰酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯等的官能性單體；例如乙烯、丙烯、異戊二烯、丁二烯、異丁烯等的烯烴系單體；例如乙烯醚等的乙烯醚系單體；例如氯乙烯等含鹵素原子的單體；及其它例如N-乙烯基吡咯啶酮、N-(1-甲基乙烯基)吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基嘧啶、N-乙烯基哌、N-乙烯基吡、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基唑、N-乙烯基啉等含乙烯基的雜環化合物、N-乙烯基羧酸醯胺類等。
又，作為共聚合性單體，例如可舉出N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺等的順丁烯二醯亞胺系單體；例如N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等的伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯-8氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等的琥珀醯亞胺系單體；例如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯酸醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯酸醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基的單體。
而且，作為共聚合性單體，係可舉出含磷酸基的單體。作為含磷酸基的單體，例如可舉出以下述通式(1)：[化1]
(通式(1)中，R1係表示氫原子或甲基，R2係表示碳數1~4的伸烷基，m係表示2以上的整數，M1及M2係各自獨立地表示氫原子或陽離子)所表示之磷酸基或其鹽。
又，通式(1)中，m為2以上，以4以上為佳，通常為40以下，m係表示氧伸烷基的聚合度。又，作為聚氧伸烷基，可舉出例如聚氧伸乙基、聚氧伸丙基等，該等聚氧伸烷基係可以是該等的無規、嵌段或接枝單元等。又，磷酸基的鹽之陽離子係沒有特別限制，可舉出例如鈉、鉀等的鹼金屬；例如鈣、鎂等的鹼土類金屬等的無機陽離子；例如4級胺類等的有機陽離子等。
又，作為共聚合性單體，可舉出例如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等的二醇系丙烯酸酯單體；此外例如(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟系(甲基)丙烯酸酯等含雜環和鹵素原子的丙烯酸酯系單體等。
而且，作為共聚合性單體，可舉出矽酮系不飽和單體。作為矽酮系不飽和單體，係包含矽酮系(甲基)丙烯酸酯單體、矽酮系乙烯系單體等。作為矽酮系(甲基)丙烯酸酯單體，可舉出例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-三乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧乙基- 三甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-三丁氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧基烷基三烷氧矽烷；例如(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二甲氧基矽烷、(甲基)丙烯醯氧基甲基-甲基二乙氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二甲氧基矽烷、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-甲基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二異丙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-乙基二丁氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基-丙基二乙氧基矽烷等的(甲基)丙烯醯氧烷基-烷基二烷氧基矽烷、和對應該等之(甲基)丙烯酸氧基烷基-二烷基(單)烷氧基矽烷等。又，作為矽酮系乙烯系單體，可舉出例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等的乙烯基三烷氧基矽烷及其他對應該等之乙烯基烷基二烷氧基矽烷、和乙 烯基二烷基烷氧基矽烷；例如乙烯基甲基三甲氧基矽烷、乙烯基甲基三乙氧基矽烷、β-乙烯基乙基三甲氧基矽烷、β-乙烯基乙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三甲氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三乙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三丙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三異丙氧基矽烷、γ-乙烯基丙基三丁氧基矽烷等的乙烯基烷基三烷氧基矽烷及其他對應等之(乙烯基烷基)烷基二烷氧基矽烷、和(乙烯基烷基)二烷基(單)烷氧基矽烷等。
而且，作為共聚合性單體，為了調整水分散型黏著劑的凝膠分率等，可使用多官能性單體。作為多官能性單體，可舉出具有2個以上之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等的不飽和雙鍵之化合物等。可舉出例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、伸丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或多)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、和丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或多)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的(單或多)伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯及其他新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物；二乙烯苯等的多官能乙烯系化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯等具有反應性的不飽和雙鍵之化合物等。又，作為多官能性單體，亦能夠使用在聚酯、環氧、胺甲酸酯等的骨架加添2個以上 之(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分同樣的官能基而成之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
該等共聚合單體之中，從水分散液(乳液等)的安定化、確保由該水分散液所形成之黏著劑層對被黏物之玻璃面板的密著性之觀點，以使用丙烯酸等含羧基的單體、含磷酸基的單體、矽酮系不飽和單體為佳。
(甲基)丙烯酸系單體係以(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分，其摻混比率係相對於單體成分總量，為50重量%以上，以60重量%以上為佳，以70重量%以上為更佳。又，其上限係沒有特別限制，例如100重量%，以99重量%為佳，以98重量%為更佳。(甲基)丙烯酸烷酯的摻混比率小於50重量%時，黏著劑層的接著力等之黏著特性有低落之情形。
又，共聚合性單體的摻混比率係，相對於單體成分總量，例如為小於50重量%，以小於40重量%為佳，以小於30重量%為更佳。共聚合性單體係能夠按照各共聚合性單體的種類而適當地選擇摻混比率。例如，共聚合性單體係含羧基的單體時，其比率係相對於單體成分總量，以0.1~6重量%為佳，含磷酸基的單體時，其比率係以0.5~5重量%為佳，矽酮系不飽和單體時，其比率係以0.005~0.2重量%為佳。
前述單體成分的乳化聚合，係能夠藉由常用方法在水中使單體成分乳化之後，進行乳化聚合來進行。藉此來調製(甲基)丙烯酸系聚合物水分散液。乳化聚合係例如在水中 將乳化劑、自由基聚合起始劑及按照必要之鏈轉移劑與上述的單體成分一起適當地摻混等。更具體地，例如能夠採用成批添加法(成批聚合法)、單體滴入法、單體乳液滴入法等眾所周知的乳化聚合法。又，單體滴入法、單體乳液滴入法係能夠適當地選擇連續滴入或分割滴入。該等方法係能夠適當地組合。反應條件等係能夠適當地選擇，聚合溫度係例如0~150℃左右，聚合時間係2~15小時左右。
作為乳化劑，係沒有特別限制，能夠使用在乳化聚合通常所使用的各種乳化劑。可舉出例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯月桂基硫酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉、聚氧乙烯烷基磺酸基琥珀酸鈉等的陰離子系乳化劑；例如聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物等的非離子系乳化劑等。又，可舉出在該等陰離子乳化劑和非離子乳化劑導入丙炔基和烯丙醚基的自由基聚合性官能基(自由基反應性基)而成之自由基聚合性乳化劑等。該等乳化劑係能夠適當地單獨或併用而使用。該等乳化劑之中，從水分散液(乳液)的安定性、黏著劑層的耐久性之觀點，以使用具有自由基聚合性官能基之自由基聚合性乳化劑為佳。
前述乳化劑的摻混比率係相對於以前述(甲基)丙烯酸烷酯作為主成分之單體成分100重量份，例如為0.1~5重量份左右，以0.4~3重量份為佳。乳化劑的摻混比率在該範圍 時，能夠謀求提升耐水性、黏著特性、以及聚合安定性、機械安定性等。
作為自由基聚合起始劑，係沒有特別限制，能夠使用在乳化聚合通常使用之眾所周知的自由基聚合起始劑。可舉出例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二氯酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二氯酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二氯酸鹽等的偶氮系起始劑；例如過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽系起始劑；例如過氧化苯甲醯、第三丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系起始劑；例如苯基取代乙烷等的取代乙烷系起始劑；例如芳香族羰基化合物等的羰基系起始劑等。前述自由基聚合起始劑之中，因為能夠提升在本發明所形成之黏著劑層的透明性，以偶氮系自由基聚合起始劑為佳。該等起始劑係能夠適當地單獨或併用而使用。又，自由基聚合起始劑的摻混比率係能夠適當地選擇，相對於單體成分100重量份，例如為0.02~0.5重量份左右，以0.08~0.3重量份為佳。小於0.02重量份時，作為自由基聚合起始劑的效果有低落之情形，大於0.5重量份時，有水分散型的(甲基)丙烯酸聚合物的分子量低落且水分散型黏著劑組成物的黏著性低落之情形。
鏈轉移劑係按照必要而調節水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物之分子量，通常能夠使用在乳化聚合通常使用之鏈轉移劑。可舉出例如1-十二烷硫醇、氫硫基乙酸、2-氫硫基乙醇、巰乙酸2-乙基己酯、2,3-二氫硫基-1-丙醇、氫硫基 丙酸酯類等的氫硫基類。該等鏈轉移劑係能夠適當地單獨或併用而使用。又，鏈轉移劑的摻混比率係相對於100重量份之單體成分，例如0.001~0.3重量份。
藉由此種乳化聚合，能夠將水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物調製作為水分散液(乳液)。此種水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物，其平均粒徑係例如為0.05~3μm，以調整為0.05~1μm為佳。平均粒徑小於0.05μm時，水分散型黏著劑的黏度有上升之情形，大於1μm時，有粒子間的熔合性低落致使凝集力低落之情形。
又，為了保持前述水分散液的分散安定性，前述水分散液之(甲基)丙烯酸系聚合物係含有含羧基的單體等作為共聚合性單體時，以將該含羧基的單體等中和為佳。中和係可使用例如氨、氫氧化鉀金屬等來進行。
本發明之水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物係通常重量平均分子量以100萬以上為佳。就耐熱性、耐濕性而言，以100萬~400萬為特佳。重量平均分子量小於100萬時，耐熱性、耐濕性低落，乃是不佳。又，乳化聚合而得到之黏著劑，因為藉由其聚合機構使得分子量變為非常高，乃是較佳。但是乳化聚合而得到的黏著劑，通常凝膠分較多，因為無法藉由GPC(凝膠滲透層析法)測定，所以多半難以藉由實際測定分子量來驗證。
本發明之水分散型黏著劑係除了上述基質聚合物以外，亦可含有交聯劑。在水分散型黏著劑係水分散型丙烯酸系黏著劑時，作為所使用之交聯劑，能夠使用異氰酸酯 系交聯劑、環氧系交聯劑、唑啉系交聯劑、吖環丙烷(aziridine)系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、金屬鉗合劑系交聯劑等通常使用者。該等交聯劑係與官能基反應而具有交聯的效果，其中該官能基係藉由使用有官能基的單體而導入至聚合物中。
基質聚合物與交聯劑的摻混比率係沒有特別限定，通常係相對於100重量份之基質聚合物(固體成分)，以交聯劑(固體成分)為10重量份左右以下的比率摻混。前述交聯劑的摻混比率係以0.001~10重量份為佳，以0.01~5重量份左右為更佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法、進而黏著型光學薄膜之製造方法中，作為以水分散型黏著劑作為主成分而含有之黏著劑塗佈液，係以使用黏度為5~50000mPa‧s之黏著劑塗佈液為佳，以使用50~20000mPa‧s之黏著劑塗佈液為較佳，以使用200~10000mPa‧s之黏著劑塗佈液為特佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法、進而黏著型光學薄膜之製造方法，在黏著劑層的原料之黏著劑塗佈液的過濾步驟所使用之深度型濾芯，係使用聚烯烴系複合纖維、熱接著性聚酯纖維等，且藉由使纖維的交絡點熱接著，來形成空隙而成者。通常，藉由濾材表面進行過濾之摺疊型濾芯(pleat type filters)被使用在重複過濾步驟時，有濾材塌陷、或是過濾時的差壓大時，氣泡及/或異物係由於壓力而容易變形且變小，致使氣泡及/或異物通過濾芯之可 能性高。另一方面，深度型濾芯係因為藉由濾材的厚度進行過濾，受其厚度的影響氣泡及/或異物係難以通過濾芯。因此，在本發明之黏著劑塗佈液的過濾步驟，係能夠適合使用深度型濾芯。又，深度型濾芯係通常以匣式濾芯的方式市售，市售品的深度型濾芯亦能夠適合使用。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法、進而黏著型光學薄膜之製造方法，係使用過濾精度為1~20μm之深度型濾芯。使用過濾精度為大於20μm之深度型濾芯時，過濾孔徑太大而氣泡及/或異物係容易通過濾芯，特別是小於100μm的氣泡及/或異物的除去效率低落。另一方面，使用過濾精度小於1μm之深度型濾芯時，伴隨著過濾時的差壓上升，氣泡及/或異物係容易變形，特別是小於100μm的氣泡及/或異物的除去效率係經時性變差。從氣泡及/或異物的除去效率的提升、及防止伴隨著差壓上升而經時性氣泡及/或異物的除去效率變差之觀點，深度型濾芯的過濾精度係以1~10μm為佳，以5~10μm為較佳。
本發明之光學薄膜用黏著劑層之製造方法、進而黏著型光學薄膜之製造方法之過濾步驟，深度型濾芯的差壓係設定成超過0kPa且150kPa以下。如此的差壓超過150kPa時，氣泡及/或異物係由於壓力而變形且容易通過濾芯，特別是小於100μm的氣泡及/或異物的除去效率係變差。又，考慮氣泡及/或異物的除去效率時，差壓的下限係沒有特別限制，太低時，因為過濾步驟所需要的時間變長，以設定為超過0kPa為佳。考慮氣泡及/或異物的除去效率及生產性 時，深度型濾芯的差壓係以超過0kPa且130kPa以下為佳，以超過0kPa且100kPa以下為較佳。又，作為如此的深度型濾芯，使用在過濾精度具有梯度且朝向下游側而過濾精度較高者時，能夠在上游側收集大的氣泡及/或異物且隨著往下游側進展而收集小氣泡及/或異物。因此，在延長濾芯壽命之同時，能夠提高氣泡及/或異物的除去效率。
前述過濾步驟係能夠適合使用塗佈液供給裝置，其係至少具備泵、過濾部及深度型濾芯，該泵係用以將黏著劑塗佈液進行送液；該過濾部係用以將在黏著劑塗佈液中所含有的氣泡及/或異物除去；而該送液部係用以將黏著劑塗佈液進行移送，其中該過濾部係具備過濾精度為1~20μm之深度型濾芯，具有在差壓為超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理之功能。作為如此的深度型濾芯，係適合使用在過濾精度具有梯度者。
本發明之黏著型光學薄膜之製造方法，係具有以經過過濾處理之黏著劑塗佈液作為原料來形成黏著劑層且在光學薄膜至少一側積層該黏著劑層之步驟。又，為了進一步提高光學薄膜與黏著劑層的密著性，本發明之黏著型光學薄膜之製造方法亦可以具有在積層黏著劑層之前，對光學薄膜的黏著劑層積層面側施行電暈處理或電漿處理之步驟，亦可進一步具有在光學薄膜與黏著劑層之間形成錨固層之步驟。
在光學薄膜上積層黏著劑層之步驟，係沒有特別限制，可舉出在光學薄膜(或在光學薄膜上所形成的錨固層、 電暈處理面或電漿處理面)塗佈黏著劑溶液且進行乾燥之步驟；藉由設置有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)來進行轉印之步驟等。塗佈法係能夠採用逆輥塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、旋轉塗佈法、網篩塗佈法、噴射塗佈(fountain coating)法、浸漬法、噴霧法等。但是，使用含有水分散型黏著劑的黏著劑塗佈液形成光學薄膜用黏著劑層時，水分乾燥係藉由80℃以上的加熱之乾燥步驟為必要的。在光學薄膜上直接塗佈黏著劑塗佈液時，藉由80度以上的加熱之乾燥步驟，有對光學薄膜的光學特性造成不良影響之可能性。因此，在本發明，係以在撓性支撐體(膜片)塗佈黏著劑塗佈液，在乾燥步驟後，藉由設置有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)來進行轉印之轉印方式為佳。
所積層之黏著劑層的厚度係以1~100μm為佳，以5~70μm為較佳，以10~50μm為特佳。黏著劑層的厚度太薄時，容易產生與光學薄膜的密著性不足、與玻璃界面剝離等的不良，太厚時，有容易產生黏著劑的發泡等的不良之情形。
作為撓性支撐體(膜片)的構成材料，可舉出紙、聚乙烯、聚丙烯、聚對酞酸乙二酯等的合成樹脂薄膜、橡膠薄片、紙、布、不織布、網、發泡薄片、金屬箔、其等的積層體等適當薄片體等。為了提高從黏著劑層的剝離性，在撓性支撐體(膜片)的表面亦可以按照必要而施行矽酮處理、長鏈烷基處理、氟處理等的低接著性剝離處理。
作為在本發明之黏著型光學薄膜之製造方法所使用的 光學薄膜，係例如可舉出偏光板。偏光板係通常使用在偏光件一面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光件係沒有特別限定，能夠使用各種物，作為偏光件，係例如可舉出使聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等的親水性高分子薄膜，吸附碘、二色性染料的二色性物質且進行單軸延伸而成者、聚乙烯醇的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。該等之中，以由聚乙烯醇系薄膜及碘等的二色性物質所構成之偏光件為佳。該等偏光件的厚度係沒有特別限制，通常是3~80μm左右。
使用碘將聚乙烯醇系薄膜染色且進行單軸延伸而成之偏光件，係例如能夠藉由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液而染色且藉由延伸成為原來長度的3~7倍來製成。亦可以按照必要而浸漬於亦可以含有硼酸、硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液。而且，亦可以按照必要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水而水洗。藉由將聚乙烯醇系薄膜水洗，除了能夠將聚乙烯醇系薄膜表面的污垢和抗黏結劑洗淨以外，藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤而亦具有防止染色不均等的不均勻之效果。延伸亦可以在使用碘進行染色之後進行，且亦可以邊染色、邊進行延伸，又，亦可以在延伸之後，使用碘進行染色。亦能夠在硼酸和碘化鉀等水溶液和水浴中進行延伸。
作為構成透明保護薄膜的材料，係能夠使用例如透明性、機械強度、熱安定性、水分隔離性、等方向性等優良 之熱可塑性樹脂。作為此種熱可塑性樹脂的具體例，可舉出三乙酸纖維素等的纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳香酯(polyarylate)樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等的混合物。又，在偏光件的一側係使用接著劑層貼合透明保護薄膜，而在另外一側係能夠使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、矽酮系等的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護薄膜。在透明保護薄膜中，係可以含有1種類以上之任意適當的添加劑。作為添加劑、例如可舉出紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、防止著色劑、阻燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中前述熱可塑性樹脂的含量，係以50~100重量%為佳、較佳是50~99重量%、更佳是60~98重量%、特佳是70~97重量%。透明保護薄膜中的前述熱可塑性樹脂的含量為50重量%以下時、熱可塑性樹脂有無法充分地顯現原來所具有的高透明性等之可能性。
又，作為透明保護薄膜，可舉出在特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜，例如含有(A)在側鏈具有取代及/或未取代醯亞胺基的熱可塑性樹脂、及(B)在側鏈具有取代及/或未取代苯基和腈基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物。作為具體例，可舉出含有由異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺所構成之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯 共聚物之樹脂組成物的薄膜。薄膜係能夠使用由樹脂組成物的混合擠出品等所構成之薄膜。因為該等薄膜係相位差小且光彈性模數小，能夠消除偏光板的應變引起不均等的不良，又，因為透濕度小而加濕耐久性優良。
透明保護薄膜的厚度係能夠適當地決定，從強度和處理性等的作業性、薄層性等而言，通常係1~500μm左右。特別是以1~300μm為佳，以5~200μm為較佳。透明保護薄膜係以5~150μm的情況為特佳。
而且，在偏光件的兩側設置透明保護薄膜時，在其表背，可以使用由相同的聚合物材料所構成之保護薄膜，亦可以使用由不同的聚合物材料等所構成之保護薄膜。
作為本發明的透明保護薄膜，以使用至少1種選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂之任一者為佳。
纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸的酯。作為此種纖維素酯系樹脂的具體例，可舉出三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、三丙酸纖維素、二丙酸纖維素等。該等之中，以三乙酸纖維素為特佳。三乙酸纖維素係有許多製品為市售中，就取得容易性和成本而言，亦是有利的。作為三乙酸纖維素市售品的例子，可舉出富士FILM公司製之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」、UNICAR公司製之「KC系列」等。通常該等三乙酸纖維素之面內相位差(Re)係大致為零，而厚度方向相位差(Rth)係具有~60nm左右。
而且，厚度方向相位差為較小的纖維素樹脂薄膜，係例如能夠藉由將前述纖維素樹脂進行處理來得到。例如使塗佈有環戊酮、甲基乙基酮等的溶劑之聚對酞酸乙二酯、聚丙烯、不鏽鋼等的基材薄膜貼合在通常的纖維素系薄膜，加熱乾燥(例如80~150℃、3~10分鐘左右)之後，將基材薄膜剝離之方法；將降烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等溶解於環戊酮、甲基乙基酮等的溶劑而成之溶液，塗佈在通常的纖維素樹脂薄膜，加熱乾燥(例如80~150℃、3~10分鐘左右)之後，將塗佈薄膜剝離之方法。
又，作為厚度方向相位差為較小的纖維素樹脂薄膜，係能夠使用經控制脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂薄膜。通常所使用的三乙酸纖維素，係乙酸取代度為2.8左右，較佳是藉由將乙酸取代度控制在1.8~2.7，能夠減小Rth。藉由在前述脂肪酸取代纖維素系樹脂，添加酞酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯基三乙酯等的可塑劑，能夠將Rth控制為較小。可塑劑的添加量係相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，以40重量份以下為佳，較佳是1~20重量份，更佳是1~15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂的具體例，較佳是降烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元而聚合之樹脂的總稱，可舉出例如在特開平1-240517號公報、特開平3-14882號公報、特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。作為具體例，係可舉出環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等的α-烯烴 之其共聚物(代表性為無規共聚物)、及將該等使用不飽和羧酸和其衍生物改性而成之接枝聚合物、和其等的氫化物等。作為環狀烯烴的具體例，可舉出降烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，有各種製品係市售中。作為具體例，可舉出日本ZEON股份公司製之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」、JSR股份公司製之商品名「ARTON」、TICONA公司製之商品名「TOPAS」、三井化學股份公司製之商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移温度)係以115℃以上為佳，較佳是120℃以上、更佳是125℃以上，特佳是130℃以上。藉由Tg為115℃以上，能夠成為偏光板的耐久性優良者。前述(甲基)丙烯酸系樹脂的Tg的上限值係沒有特別限定，從成形性適當的觀點，較佳是170℃以下。從(甲基)丙烯酸系樹脂，係能夠得到面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為零的薄膜。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，在不損害本發明效果的範圍內，能夠採用任意適當的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可舉出聚甲基丙烯酸甲酯等的聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚合、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基的聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。可舉出以聚(甲基)丙烯酸甲酯等的聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯為 佳。可舉出以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%、以70~100重量%為佳)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂為較佳。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例，例如可舉出三菱RAYON股份公司製的ACRYPET VH、ACRYPET VRL20A、特開2004-70296號公報所記載之在分子內具有環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯、分子內環化反應而得到之高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦能夠使用具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂。因為藉由高耐熱性、高透明性、雙軸延伸，而具有更高的機械強度之緣故。
作為具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂，可舉出特開2000-230016號公報、特開2001-151814號公報、特開2002-120326號公報、特開2002-254544號公報、特開2005-146084號公報等所記載之具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂，係以具有以下述通式(化2)表示的環狀構造為佳。
式中、R1、R2及R3係各自獨立地表示氫原子或碳原子數1~20的有機殘基。又，有機殘基係亦可以含有氧原子。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂的構造中，以通式(化2)表示之內酯環構造的含有比率，係以5~90重量%為佳，較佳是10~70重量%，更佳是10~60重量%，特佳是10~50重量%。具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂的構造中，以通式(化2)表示之內酯環構造的含有比率為小於5重量%時，耐熱性、耐溶劑性、表面硬度有不充分之可能性。具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂的構造中，以通式(化2)表示之內酯環構造的含有比率為大於90重量%時，有成形加工性缺乏之可能性。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(亦有稱為重量平均分子量的情形)係以1000~2000000為佳，較佳是5000~1000000，更佳是10000~500000，特佳是50000~500000。質量平均分子量係脫離係前述範圍時，就成型加工性而言，乃是不佳。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg係以115℃以上為佳，較佳是120℃以上，更佳是125℃以上，特佳是130℃以上。因為Tg為115℃以上，例如作為透明保護薄膜而組入偏光板時，係成為耐久性優良者。具有前述內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂，其Tg的上限值係沒有特別限定，從成形性等的觀點，以170℃以下為佳。
具有內酯環構造之(甲基)丙烯酸系樹脂，其藉由射出成形所得到的成形品之依據ASTM-D-1003的方法所測定之總光線透射率，係越高為越佳，以85%以上為佳，較佳是88%以上，更佳是90%以上。總光線透射率係透明性的目標， 總光線透射率小於85%時，有透明性低落之可能性。
前述透明保護薄膜係通常使用正面相位差為小於40nm且厚度方向相位差為小於80nm者。正面相位差Re係以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth係以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數係以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[但是，將薄膜的遲相軸方向、進相軸方向及厚度方向的折射率各自設作nx、ny、nz，d(nm)係設作薄膜的厚度。遲相軸方向係設作薄膜面內的折射率成為最大的方向]。又，透明保護薄膜係以盡可能不著色為佳。能夠適合使用厚度方向的相位差值為-90nm~+75nm之保護薄膜。藉由使用如此厚度方向的相位差值(Rth)為-90nm~+75nm者，能夠大致消除源自透明保護薄膜之偏光板的著色(光學性著色)。厚度方向相位差值(Rth)係以-80nm~+60nm為更佳，以-70nm~+45nm為特佳。
另一方面，作為前述透明保護薄膜，能夠使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上的相位差之相位差板。正面相位差係通常被控制在40~200nm的範圍，而厚度方向相位差係通常被控制在80~300nm的範圍。使用相位差板作為透明保護薄膜時，因為該相位差板係亦有作為透明保護薄膜之功能，能夠謀求薄型化。
作為相位差板，可舉出將高分子材料進行單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性薄膜、液晶聚合物的配向薄膜、液晶聚合物的配向層使用薄膜支撐而成者等。相位差板的厚度亦沒有特別限制，通常為20~150μm左右。
作為高分子材料例如可舉出聚乙烯醇、聚乙烯丁醛 (polyvinyl butyral)、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯(polyarylate)、聚碸、聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫(polyphenylene sulfide)、聚苯醚、聚烯丙基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、或該等的二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等的高分子材料係藉由延伸等而成為配向物(延伸薄膜)。
作為液晶聚合物，例如可舉出在聚合物的主鏈和側鏈導入賦予液晶配向性的共軛性的直線狀原子團(內消旋；meso)而成之主鏈型和側鏈型的各種物等。作為主鏈型的液晶聚合物的具體例，可舉出使用賦予彎曲性的間隙部鍵結內消旋基而成的構造，例如向列配向性的聚酯系液晶性聚合物、碟狀聚合物和膽固醇型聚合物等。作為側鏈型的液晶聚合物的具體例，可舉出以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，且透過由共軛性的原子團所構成之間隙部而具有由向列配向賦予性的對位取代環狀化合物單元所構成之內消旋部者作為側鏈等。該等液晶聚合物，係例如能夠藉由將液晶性聚合物的溶液，在玻璃板上所形成之聚醯亞胺和聚乙烯醇等的薄膜的表面進行摩擦處理而成者、將氧化矽斜方蒸鍍而成者等之配向處理面上展開而熱處理來進行。
相位差板係例如各種波長板和液晶層之藉由雙折射而具有按照使用目的之適當的相位差者，該使用目係以著色 和視角等的補償作為目的者等；亦可以是將2種以上的相位差板而控制相位差等的光學特性者等。
相位差板係滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny的關係者，能夠按照各種用途進行選擇而使用。又，所謂ny=nz，係不僅是ny與nz為完全相同的情況，亦包含實質上ny與nz為相同的情況。
例如滿足nx>ny>nz之相位差板，係以使用滿足正面相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm、Nz係數為1.8~4.5者為佳。例如滿足nx>ny=nz之相位差板(正A板)，係以使用滿足正面相位差為100~200nm者為佳。例如滿足nz=nx>ny之相位差板(負A板)，係以使用滿足正面相位差為100~200nm者為佳。例如滿足nx>nz>ny之相位差板，係以使用滿足正面相位差為150~300nm、Nz係數為0大於~0.7者為佳。又，如前述，例如能夠使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny、或nz>nx=ny者。
透明保護薄膜係能夠按照所應用之液晶顯示裝置而適當地選擇。例如，VA(VerticalAlignment(垂直配向)，包含MVA、PVA)的情況，係以偏光板的至少一方(液晶胞側)的透明保護薄膜係具有相位差為佳。作為具體上的相位差，以在Re=0~240nm、Rth=0~500nm的範圍為佳。就三維折射率而言，以nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(正A板、雙軸、負C板)的情況為佳。VA型係以正A板與負C板的組合、或使用1片雙軸薄膜為佳。在液晶胞的上下使用偏 光板時，可以是液晶胞的上下同時具有相位差、或是上下任一者的透明保護薄膜係具有相位差。
例如IPS(In-Plane Switching(面內切換)，包含FFS)的情況，係偏光板的一方的透明保護薄膜為具有相位差的情況、不具有相位差的情況的任一者均能夠使用。例如，不具有相位差的情況，係以在液晶胞的上下(液晶胞側)同時不具有相位差的情況為佳。具有相位差的情況，係液晶胞的上下同時具有相位差的情況，以上下的任一者均具有相位差的情況為佳(例如，在上側為滿足nx>nz>ny的關係之雙軸薄膜，在下側為無相位差的情況和在上側為正A板、在下側為正C板的情況)。具有相位差的場合，以在Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm的範圍為佳。就三維折射率而言，以nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(正A板、雙軸、正C板)為佳。
而且，具有前述相位差之薄膜，係能夠另外貼合在不具有相位差的透明保護薄膜而賦予前述功能。
前述透明保護薄膜係在塗佈接著劑之前，亦可以進行用以使與偏光件的接著性提升之表面改質處理。作為具體上的處理，係可舉出電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底漆處理、輝光處理、皂化處理、使用偶合劑處理等。又，亦能夠適當地形成抗靜電層。
前述透明保護薄膜之不接著偏光件的面，亦可以施行以硬塗層、防止反射處理、防止黏結、擴散或抗眩作為目的之處理。
因為硬塗處理係以防止偏光板表面的受傷等作為目的而施行，例如能夠藉由在透明保護薄膜的表面附加硬度和滑動特性等優良的硬化皮膜之方式等來形成，其中該硬化皮膜係使用丙烯酸系、矽酮系等適當的紫外線硬化型樹脂。防止反射處理係以防止在偏光板表面的外光產生反射作為目的而施行，能夠藉由依照先前之防止反射膜等的形成來達成。又，防止黏結處理係以防止與隣接層(例如背光板側的擴散板)產生密著作為目的而施行。
又，抗眩處理係以防止在偏光板的表面，外光反射而阻礙偏光板透射光的視認等作為目的而施行，例如能夠藉由使用噴砂處理方式和壓花加工方式之粗面化方式、摻混透明微粒子的方式等適當的方式，而對透明保護薄膜的表面賦予微細凹凸構造來形成。作為在形成前述表面微細凹凸構造所含有的微粒子，係能夠使用例如由平均粒徑為0.5~20μm的二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等所構成之往往具有導電性之無機系微粒子；及由交聯或未交聯的聚合物等所構成之有機系微粒子等的透明微粒子。形成表面微細凹凸構造之情況，微粒子的使用量係相對於形成表面微細凹凸構造之透明樹脂100重量份，通常為2~70重量份左右，以5~50重量份為佳。為了將偏光板透射光擴散而擴大視角等，抗眩層係亦可以是兼具擴散層(視角擴大功能等)者。
又，前述防止反射層、防止黏結層、擴散層和抗眩層等，係除了能夠設置在透明保護薄膜本身以外，亦能夠以 與透明保護薄膜為不同物的方式另外設置作為光學層。
前述偏光件與透明保護薄膜之接著處理，係能夠使用接著劑。作為接著劑，可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠(gelatin)系接著劑、乙烯基系乳液系、水系聚酯等。前述接著劑係通常以由水溶液所構成的接著劑之方式被使用，通常係含有0.5~60重量%的固體成分而成。前述以外，作為偏光件與透明保護薄膜的接著劑，可舉出紫外硬化型接著劑、電子射線硬化型接著劑等。電子射線硬化型偏光板用接著劑，係對前述各種透明保護薄膜顯示適合的接著性。又，能夠使在本發明所使用的接著劑含有金屬化合物填料。
又，作為光學薄膜，例如可舉出反射板和反透射板、相位差板(包含1/2和1/4等的波長板)、視覺補償薄膜、亮度提升薄膜、表面處理薄膜等作為使用於形成液晶顯示裝置等的光學層者。該等係除了能夠單獨使用作為光學薄膜以外，在實際使用在前述偏光板時，係能夠積層而使用1層或2層以上。
表面處理薄膜係亦可以貼合在前面板而設置。作為表面處理薄膜，可舉出用以賦予表面耐擦傷性而使用之硬塗薄膜，用以防止對影像顯示裝置產生映入之抗眩處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等的防止反射薄膜等。前面板係為了保護液晶顯示裝置和有機EL顯示裝置、CRT、PDP等的影像顯示裝置、或賦予高級感、或藉由設計來進行差別化，能夠貼合在前述影像顯示裝置的表面而設置。又， 前面板係能夠使用作為在3D-TV之λ/4板的支撐體。例如液晶顯示裝置時，係被設置在視認側的偏光板之上側。使用本發明黏著劑層時，作為前面板，係除了玻璃基材以外，在聚碳酸酯基材、聚甲基丙烯酸甲酯基材等的塑膠基材，亦可發揮與玻璃基材同様的效果
在偏光板積層前述光學層而成之光學薄膜，係亦能夠在液晶顯示裝置等的製造過程，依照順序個別地積層之方式而形成，但是預先積層而作為光學薄膜者，品質安定性和組裝作業等優良而具有能夠提升液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。積層係能夠使用黏著層等適當的接著手段。在將前述的偏光板與其他的光學層進行接著時，其等的光學軸係能夠按照目標相位差特性等而設為適當的配置角度。
本發明的黏著型光學薄膜係能夠適合使用於形成液晶顯示裝置等的各種影像顯示裝置。形成液晶顯示裝置，係能夠依照先前而進行。亦即液晶顯示裝置係通常藉由將液晶胞等的顯示面板、黏著型光學薄膜、及按照必要的照明系統等的構成構件適當地組裝且組入驅動電路等來形成，在本發明，係除了使用本發明之黏著型光學薄膜以外，沒有特別限定，能夠依照先前。關於液晶胞，亦能夠使用例如TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等的任意型者。
能夠形成在液晶胞等的顯示面板的一側或兩側配置黏著型光學薄膜而成之液晶顯示裝置、在照明系統使用背光板或反射板而成者等適當的液晶顯示裝置。此時，本發明之光學薄膜係可以設置在液晶胞等的顯示面板的一側或兩 側。將光學薄膜設置在兩側時，其等係以相同、亦可以不同。而且，在形成液晶顯示裝置時，能夠在適當的位置，配置1層或2層以上之例如擴散板、抗眩層、防止反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光板等適當的構件。
其次，針對有機電激發光裝置(有機EL顯示裝置：OLED)進行說明。通常，有機EL顯示裝置係在透明基板上將透明電極、有機發光層及金屬電極依照順序積層而形成發光體(有機電激發光發光體)。在此，有機發光層係各種有機薄膜的積層體，例如已知由三苯胺衍生物等所構成的電洞注入層、及由蒽等的螢光性有機固體所構成的發光層之積層體；或此種發光層及由苝衍生物等所構成的電子注入層之積層體；或該等電洞注入層、發光層、及電子注入層之積層體等具有各種組合之構成。
有機EL顯示裝置係基於以下的原理而發光：藉由對透明電極及金屬電極施加電壓而在有機發光層注入電洞及電子，且藉由該等電洞與電子的再結合而產生之能量激發螢光物資，在被激發的螢光物質返回基底狀態時放射光線。所謂途中再結合之機構，係與通常的二極體同様，由此亦能夠預料，對於施加電壓，電流及發光強度係伴隨著整流性而顯示強烈的非線形性。
在有機EL顯示裝置，為了將在有機發光層的發光取出，必須至少一方的電極為透明，通常係將使用氧化銦錫(ITO)等的透明導電體所形成之透明電極作為陽極而使 用。另一方面，為了容易地進行電子注入而提升發光效率，在陰極使用功函數小的物質係重要的，通常係使用Mg-Ag、Al-Li等的金屬電極。
在此種構成的有機EL顯示裝置，有機發光層係以厚度10nm左右之非常薄的膜形成。因此，有機發光層亦與透明電極同様地，大致完全透射光線。其結果，在非發光時，因為從透明基板的表面入射且透射透明電極及有機發光層而在金屬電極進行反射後之光線，係再次往透明基板的表面側射出，所以從外部視認時，有機EL顯示裝置的顯示面係看起來如鏡面。
在含有有機電激發光發光體之有機EL顯示裝置，該含有有機電激發光發光體係在藉由施加電壓而發光之有機發光層的表面側具備透明電極之同時，在有機發光層的背面側具備金屬電極而成，其中在透明電極的表面側設置偏光板之同時，能夠在該等透明電極與偏光板之間設置位差板。
因為相位差板及偏光板係具有將從外部入射而在金屬電極反射而來的光線進行偏光之作用，藉由其偏光作用，具有無法從外部視認金屬電極的鏡面之效果。特別是使用1/4波長板構成相位差板，而且將偏光板與相位差板之偏光方向的構成角度調整為π/4時，能夠將金屬電極鏡面完全地遮蔽。
亦即，在該有機EL顯示裝置入射之外部光線，藉由偏光板而只有直線偏光成分進行透射。該直線偏光係藉由相位差板而通常成為橢圓偏光，特別是使用相位差板為1/4波 長板且偏光板與相位差板的偏光方向之構成角度為π/4時係成為圓偏光。
該圓偏光係透射透明基板、透明電極、有機薄膜，且在金屬電極反射而再次透射有機薄膜、透明電極、透明基板而在相位差板再次成為直線偏光。而且，因為該直線偏光係與偏光板的偏光方向正交，所以無法透射偏光板。其結果，能夠將金屬電極的鏡面完全地遮蔽。
[實施例]
以下，藉由實施例而具體地說明本發明，但是本發明係不被實施例該等限定。又，各例中的份及%係任一者均是重量基準。
(實施例1)
實施例1係使用水分散型丙烯酸系黏著劑作為黏著劑塗佈液。在調製該水分散型丙烯酸系黏著劑時，係在容器添加作為原料之丙烯酸丁酯55554份、丙烯酸2776份、單[聚(環氧丙烷)甲基丙烯酸酯]磷酸酯(環氧丙烷的平均聚合度為5.0)1665份、及3-甲基丙烯醯氧基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業(股)製、KBM-503)5份而混合，來得到單體混合物。其次，在所調製之單體混合物60000份，添加作為反應性乳化劑之AQUARON HS-10(第一工業製藥公司製)1300份、離子交換水38700份，且使用均化器(特殊機化工業(股)製)，以7000rpm攪拌10分鐘，來調製單體乳液。其次，在具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌葉之反應容器中，添加如上述進行而調製之單體乳液之中的 20000份及離子交換水35000份，其次，將反應容器充分地氮取代之後，添加過硫酸銨10份而在60℃進行聚合1小時。其次，將殘留的單體乳液之中80000份，以3小時滴入至反應容器，隨後，聚合3小時。進而隨後，邊氮取代、邊於65℃聚合5小時，來得到固體成分濃度45%的水分散型黏著劑水溶液。其次，將上述乳膠溶液冷卻至室温之後，添加30份濃度10%的氨水，而且使用蒸餾水將固體成分調製成為39%。將該液體使用B型黏度計(東機產業製)，以23℃、轉子旋轉數20rpm進行測定之結果，為2000mPa‧s。
將所得到之前述水分散型丙烯酸系黏著劑投入槽中，使用塗佈液供給裝置將含有前述水分散型丙烯酸系黏著劑之黏著劑塗佈液進行過濾處理(過濾步驟)，其中該塗佈液供給裝置係具備泵(送液量2L/min)、過濾部及送液部，該泵係用以送液，該過濾部係用以過濾精度為1μm且具備具有梯度之深度型濾芯(30吋尺寸×6支)，而且初期差壓係設定為40kPa；而該送液部係用以將塗佈液進行移送。
在通過過濾部(深度型濾芯)之前後，使用微粒計數器評價黏著劑塗佈液的氣泡數及異物數。所使用之微粒計數器，係利用對通過一定領域之黏著劑塗佈液照射雷射光時，若有氣泡及/或異物存在則雷射光會衰減之原理，且使用光檢出器探測雷射光衰減量，藉此來測定黏著劑塗佈液中的氣泡直徑及異物直徑和氣泡數及異物數。以下顯示評價方法之詳細。
(氣泡數及異物數評價方法)
作為塗佈液中的氣泡數及異物數評價，係使用Particle Measuring Systems公司製的光遮蔽式微粒計數器而計量5~100um大小之氣泡及異物。塗佈液係將過濾前、過濾後的液體取樣而進行評價。又，為了評價濾芯的life(壽命)，將濾芯連續使用10小時後之過濾後液體亦取樣而使用微粒計數器計量。測定結果係以每單元重量的氣泡數及異物數(個/g)表示。將所計量之5~100um的氣泡數及異物數合計而從在過濾前後所計量之氣泡數及異物數算出(1)式的除去效率而進行評價。將各實施例及比較例的評價結果顯示在表1。
[除去效率]=([過濾後的氣泡數及異物數]/[過濾前的氣泡數及異物數])×100 (1)
(實施例2~9)
除了將過濾精度、過濾精度梯度的有無及差壓變更為如表1所記載者以外，使用與實施例1同様的方法，將含有前述水分散型丙烯酸系黏著劑之黏著劑塗佈液進行過濾處理(過濾步驟)。
(比較例1)
除了使用摺疊型濾芯代替深度型濾芯以外，使用與實施例1同様的方法，將含有前述水分散型丙烯酸系黏著劑之黏著劑塗佈液過濾處理(過濾步驟)。
(比較例2~4)
除了將過濾精度、過濾精度梯度的有無及差壓變更為如表1所記載者以外，使用與實施例1同様的方法，將含有 前述水分散型丙烯酸系黏著劑之黏著劑塗佈液進行過濾處理(過濾步驟)。
從表1的結果，得知實施例1~9的過濾步驟係黏著劑塗佈液之100μm以下的氣泡數及異物數顯著地減低，而且即便將濾芯連續使用10小時之後，氣泡及異物的除去效率亦不會低落
另一方面，得知使用摺疊型濾芯之比較例1、差壓為較大的比較例2、而且過濾精度為較大的比較例3，係氣泡及異物的除去效率變差。
而且，得知過濾精度較小的比較例4，雖然初期的氣泡及異物除去效率係良好，但是經時性地差壓上升，且氣泡及異物的除去效率亦經時性地變差。因此，得知藉由使用深度型濾芯，來過濾含有水分散型丙烯酸系黏著劑之黏著劑塗佈液，除去氣泡及異物時，在過濾精度係存在最適合的範圍(1~20μm)。
(黏著劑層的形成)
將實施例1~9及比較例1~4之過濾步驟後所得到之黏著劑塗佈液，以乾燥厚度成為25μm的方式使用模塗佈機(die coater)塗佈在剝離處理後之由聚對酞酸乙二酯(厚度38μm)所構成之分離片的表面，塗佈之後，於100℃乾燥150秒而形成黏著劑層。
(黏著劑層中的氣泡及/或異物)
將在所得到之黏著劑層(面積1m2)面所含有的氣泡及/或異物，使用目視及光學顯微鏡測定其個數及大小。將最大長度為20μm以上的氣泡及/或異物的個數(個/m2)顯示在表2。又，表2中，「20μm以上的氣泡及/或異物的個數(個 /m2)；10小時後」，係意味著為了評價濾芯life(壽命)，在黏著劑層的面所測得之20μm以上的氣泡及/或異物的個數(個/m2)，該黏著劑層係使用將濾芯連續使用10小時後之過濾後的黏著劑塗佈液所形成。
從表2的結果，得知使用在實施例1~9的過濾步驟後所得到的黏著劑塗佈液而得到之黏著劑層，係能夠顯著地減低以異物被檢出的氣泡數及異物數。因此，得知含有實施例1~9的過濾步驟之黏著型光學薄膜之製造方法，在黏著劑層中，氣泡及異物係幾乎不存在，能夠製造經減低源自氣泡及異物的外觀缺點之黏著型光學薄膜。
另一方面，得知使用在比較例1~3的過濾步驟後所得到的黏著劑塗佈液而得到之黏著劑層，因為以異物被檢出的氣泡數及異物數多，在最後所得到的黏著型光學薄膜，起 因於氣泡及異物的外觀缺點係變多。
而且，得知使用在比較例4的過濾步驟後所得到的黏著劑塗佈液而得到之黏著劑層，係在過濾步驟中差壓經時性地上升，因為氣泡及異物的除去效率亦經時性地變差，故所得到的黏著劑層成為外觀缺點之氣泡數及異物數亦慢慢地增加。

Claims (12)

  1. 一種光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其特徵在於包含：過濾步驟，係使用過濾精度為1~20μm之深度型濾芯，將含有水分散型黏著劑之黏著劑塗佈液在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理；及塗佈．乾燥步驟，係將該過濾處理後的前述黏著劑塗佈液塗佈之後進行乾燥。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑層之製造方法，其中前述深度型濾芯係在過濾精度具有梯度。
  3. 一種光學薄膜用黏著劑層，係藉由如申請專利範圍第1或2項之製造方法所製造者。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學薄膜用黏著劑層，其不含有最大長度超過100μm的氣泡及/或異物，且在前述黏著劑層面，最大長度為20μm以上的氣泡及/或異物的個數在10個/m2以內。
  5. 一種黏著型光學薄膜之製造方法，該黏著型光學薄膜係在光學薄膜的至少一側積層黏著劑層而成者該製造方法之特徵在於：製造前述黏著劑層之步驟包含過濾處理之步驟，其係使用深度型濾芯，將作為前述黏著劑層原料之黏著劑塗佈液，在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理；前述黏著劑塗佈液係含有水分散型黏著劑者；且 前述深度型濾芯的過濾精度為1~20μm。
  6. 如申請專利範圍第5項之黏著型光學薄膜之製造方法，其中前述深度型濾芯係在過濾精度具有梯度。
  7. 如申請專利範圍第5項之黏著型光學薄膜之製造方法，其進一步包含：塗佈．乾燥步驟，係在前述過濾步驟之後，藉由將前述黏著劑塗佈液塗佈在撓性支撐體(膜片)且進行乾燥，來製造設置有黏著劑層之撓性支撐體(膜片)；及轉印步驟，係將前述黏著劑層從設置有前述黏著劑層之撓性支撐體(膜片)轉印至前述光學薄膜上。
  8. 如申請專利範圍第5至7項中任一項之黏著型光學薄膜之製造方法，其在前述過濾步驟之後進一步包含塗佈．乾燥步驟，係將前述黏著劑塗佈液塗佈在前述光學薄膜上之後，進行乾燥。
  9. 一種黏著型光學薄膜，係藉由如申請專利範圍第5至8項中任一項之製造方法所製造者。
  10. 一種影像顯示裝置，其特徵在於使用至少1片如申請專利範圍第9項之黏著型光學薄膜。
  11. 一種塗佈液供給裝置，係用以供給構成黏著型光學薄膜之黏著劑層原料之黏著劑塗佈液，其特徵在於至少具備：泵，係用以將前述黏著劑塗佈液進行送液；過濾部，係用以除去在前述黏著劑塗佈液中所含有的氣泡及/或異物；及 送液部，係將前述黏著劑塗佈液進行移送；又前述過濾部係具備過濾精度為1~20μm之深度型濾芯，而且具有在差壓超過0kPa且150kPa以下的狀態進行過濾處理之功能。
  12. 如申請專利範圍第11項之塗佈液供給裝置，其中前述深度型濾芯係在過濾精度具有梯度。
TW101114518A 2011-04-25 2012-04-24 Adhesive layer for optical film and manufacturing method thereof, adhesive optical film, manufacturing method thereof, image display device, and coating liquid supply device TWI531635B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011097249A JP5847429B2 (ja) 2011-04-25 2011-04-25 光学フィルム用粘着剤層およびその製造方法、粘着型光学フィルムおよびその製造方法、画像表示装置ならびに塗布液供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201247837A TW201247837A (en) 2012-12-01
TWI531635B true TWI531635B (zh) 2016-05-01

Family

ID=47072153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101114518A TWI531635B (zh) 2011-04-25 2012-04-24 Adhesive layer for optical film and manufacturing method thereof, adhesive optical film, manufacturing method thereof, image display device, and coating liquid supply device

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20140044953A1 (zh)
JP (1) JP5847429B2 (zh)
KR (1) KR101918791B1 (zh)
CN (1) CN103492512B (zh)
TW (1) TWI531635B (zh)
WO (1) WO2012147633A1 (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6114126B2 (ja) * 2013-07-04 2017-04-12 日東電工株式会社 積層体の製造方法
WO2015156257A1 (ja) * 2014-04-07 2015-10-15 日本ゼオン株式会社 熱伝導性感圧接着性積層シートの製造方法、熱伝導性感圧接着性積層シート、及び、電子機器
WO2015156254A1 (ja) * 2014-04-07 2015-10-15 日本ゼオン株式会社 熱伝導性感圧接着性積層シートの製造方法、熱伝導性感圧接着性積層シート、及び、電子機器
JP6367628B2 (ja) * 2014-07-16 2018-08-01 日東電工株式会社 光学フィルムの製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
KR102709996B1 (ko) * 2016-10-31 2024-09-26 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광 표시장치
JP2017097385A (ja) * 2017-02-20 2017-06-01 日東電工株式会社 偏光膜作製用積層体
KR102314508B1 (ko) * 2017-07-10 2021-10-19 닛토덴코 가부시키가이샤 적층체 및 편광막의 제조 방법
JP2023105601A (ja) * 2022-01-19 2023-07-31 日東電工株式会社 表面保護フィルムおよび表面保護フィルム付光学部材

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10128211A (ja) * 1996-10-29 1998-05-19 Teijin Ltd 塗布方法及びその装置
JPH10297093A (ja) * 1997-04-25 1998-11-10 Tdk Corp 熱転写記録媒体の製造方法
JP3744167B2 (ja) * 1998-01-05 2006-02-08 株式会社村田製作所 厚膜形成用ペーストの製造方法
JP2001213974A (ja) * 2000-01-31 2001-08-07 Konica Corp 光学フィルム及びその製造方法
JP2002188063A (ja) * 2000-12-21 2002-07-05 Nitto Denko Corp 粘着シートの製造方法およびその装置
JP4542920B2 (ja) * 2004-11-04 2010-09-15 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、ディスプレイ装置、及び光学フィルムの製造方法
JP2007297475A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Asahi Glass Co Ltd ポリエーテル、ポリウレタン、イソシアネート基末端プレポリマーおよびポリウレタンフォームの製造方法
JP2010280856A (ja) * 2009-06-05 2010-12-16 Nitto Denko Corp 粘着剤層、粘着部材、その製造方法および画像表示装置
JP2011241324A (ja) * 2010-05-19 2011-12-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 水性エマルションの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101918791B1 (ko) 2018-11-14
JP2012229305A (ja) 2012-11-22
JP5847429B2 (ja) 2016-01-20
CN103492512A (zh) 2014-01-01
WO2012147633A1 (ja) 2012-11-01
US20140044953A1 (en) 2014-02-13
KR20140061308A (ko) 2014-05-21
CN103492512B (zh) 2016-05-25
TW201247837A (en) 2012-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI531635B (zh) Adhesive layer for optical film and manufacturing method thereof, adhesive optical film, manufacturing method thereof, image display device, and coating liquid supply device
KR101132584B1 (ko) 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치
TWI717384B (zh) 附黏著劑層之偏光薄膜、光學構件及影像顯示裝置
TWI565773B (zh) 光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、黏著型光學薄膜及影像顯示裝置
KR101113623B1 (ko) 광학 필름용 점착제, 점착형 광학 필름, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치
TWI622629B (zh) Coating liquid for anchor layer formation, optical film with adhesive layer and method for producing same
JP5917834B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤層、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
TWI818895B (zh) 偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、偏光薄膜之製造方法及影像顯示裝置
TWI448749B (zh) Adhesive type optical film peeling method and adhesive type optical film
TWI585173B (zh) An adhesive film for an optical film, an optical film having an adhesive layer, and an image display device
KR101991970B1 (ko) 점착제층 형성 광학 필름의 제조 방법
KR20090040862A (ko) 광학 필름용 점착제 조성물, 광학 필름용 점착제층, 그 제조 방법, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치
KR101379536B1 (ko) 점착제층, 점착 부재, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치
WO2012039323A1 (ja) 光学フィルム用粘着剤層、その製造方法、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
TWI722149B (zh) 偏光薄膜及影像顯示裝置
KR20130033324A (ko) 광학 필름용 점착제층의 제조 방법, 광학 필름용 점착제층, 점착형 광학 필름 및 화상 표시 장치
TW201512354A (zh) 水分散型黏著劑組合物、黏著劑層、黏著型光學膜及圖像顯示裝置
TW201522564A (zh) 附黏著劑層之光學構件、圖像顯示裝置及附黏著劑層之光學構件之製造方法
TWI751338B (zh) 偏光薄膜、附有黏著劑層之偏光薄膜、及影像顯示裝置
JP2012224078A (ja) 光学フィルム用粘着剤層の製造方法、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置