TWI529021B - 用於基板密封之雷射光束照射裝置及使用此雷射光束照射裝置製造有機發光顯示裝置之方法 - Google Patents

Description

用於基板密封之雷射光束照射裝置及使用此雷射光束照射裝置製造有機發光顯示裝置之方法

本說明書主張2010年1月19日提交韓國智慧財產局之韓國專利之第10-2010-0004750號申請書優先權，本說明書全部於此揭露以供參考。

本發明之態樣是有關於一種用以基板密封的雷射光束照射裝置、以及藉由使用此雷射光束照射裝置製造有機發光顯示器之方法。

近年來，顯示裝置已經被可攜式、超薄平板顯示裝置所取代。在超薄平板顯示裝置中，電致發光顯示裝置為具有寬視角、良好對比度、以及高反應速度的自發光顯示裝置。因此，平板顯示裝置被視為下一世代的顯示裝置。

有機發光顯示裝置包含由有機材料所形成的發光層。與無機發光顯示裝置相比，有機發光顯示裝置具有良好的亮度、驅動電壓、以及反應速度等特性，且可實現顯示多彩。

傳統的有機發光顯示裝置具有其中有包含發光層的至少一有機層 設置於兩個電極之間的結構。當水或者是氧氣由外界滲透到有機發光顯示裝置內時，電極材料可能會被氧化或產生剝落的現象。 這可能降低有機發光元件的使用壽命減短及發光效率，且發光顏色可能衰減。因此，當製造有機發光顯示裝置時，通常會密封有機發光元件以與外界隔絕，使得水氣無法滲透入其內部。

密封流程之例子包含將無機薄膜與有機聚合物(例如聚酯纖維(PET))疊合在有機發光顯示裝置的第二電極上之方法。另一種密封程序包含一吸收劑形成在一密封基板上中，而氮氣注入密封基板，再使用例如為環氧樹酯的密封劑密封在密封基板上的邊界之方法。

然而，藉由使用前述的密封方法並不能完全地阻擋自外部滲入的水或氧氣，其可使有機發光元件損壞。因此，該方法不能應用於對於水特別敏感的有機發光顯示裝置，且用以實現該方法之程序亦十分複雜。為了解決這些問題，一種使用玻璃料作為密封劑的密封方法被研發出來，以改善有機發光元件的基板與密封基板之間的黏附特性。藉由在玻璃基板上塗佈玻璃料以密封有機發光顯示裝置，可使得有機發光元件基板與密封基板完全密封，藉此有效地保護有機發光顯示裝置。透過塗佈玻璃料在每一發光有機發光顯示裝置之密封單元上來密封基板，以及使用雷射光束照射裝置照射雷射光束在每一有機發光顯示裝置的密封單元上，藉此硬化玻璃料及密封基板。

本發明之態樣提供一種用以基板密封之雷射光束照射裝置及使用此雷射光束照射裝置製造有機發光顯示裝置之方法，可達成鄰近 元件之間無熱損壞的無高品質玻璃料密封製程。

根據本發明之態樣，提出一種可發射雷射光束至設置於第一基板與第二基板之間的密封單元之射光束照射裝置以密封第一基板及第二基板，此雷射光束照射裝置包含用以發射出此雷射光束之一雷射頭；以及用以控制雷射光束之驅動速度與驅動方向之一控制單元，其中受控制單元所控制之雷射光束沿著一第一方向重複進行一向後移動與一向前移動，且雷射光束通過密封單元之一相同位置至少兩次。

根據本發明之一態樣，此雷射光束之向後移動與向前移動的速度可大於100毫米/秒(mm/sec)。

根據本發明之態樣，雷射頭更可包含一檢流計鏡(Galvanometer Mirror)，以進行雷射光束之向後移動與向前移動，且控制單元可包含用以控制檢流計鏡之一處理器。

根據本發明之一態樣，此雷射頭可以一較雷射光束之向後移動與向前移動為慢的速度沿著第一方向線性移動。

根據本發明之一態樣，第一基板與第二基板下方可設置一基板平台，此基板平台可以一較雷射光束之向後移動與向前移動為慢的速度沿著第一方向線性移動。

根據本發明之一態樣，此雷射光束可以一聚光束之形式發射。

根據本發明之一態樣，此聚光束之直徑大體上可和密封單元的寬度一樣，或者小於或等於密封單元之兩倍寬度。

根據本發明之一態樣，聚光束之直徑可小於密封單元之寬度。

根據本發明之一態樣，與密封單元之寬度方向同向之移動可被加在雷射光束的向前與向後移動，藉此雷射光束進行一旋轉移動。

根據本發明之一態樣，密封單元可包含玻璃料。

根據本發明之另一態樣，提出一種製造有機發光顯示裝置之方法，此方法可包含下述步驟：在一第一基板或一第二基板上形成一有機發光單元；在於第一基板與第二基板之間形成一密封單元以圍繞有機發光單元；對準第一基板與第二基板；以及透過包含用以發射雷射光束之雷射頭及用以控制雷射光束之驅動速度與驅動方向之控制單元的一雷射光束發射裝置發射一雷射光束，藉此雷射光束沿著密封單元之路徑重複向前及向後移動，使雷射光束通過密封單元之相同位置至少兩次。

根據本發明之一態樣，第一基板或第二基板可傳送此雷射光束。

根據本發明之一態樣，雷射光束通過該密封單元之相同位置至少兩次後，密封單元之相同位置可達到足以密封第一基板與第二基板之一封裝溫度。

根據本發明之一態樣，在已達到足以進行密封操作之溫度的密封單元之相同位置中，以一較達到足以密封操作的溫度所須的時間為長之一時間中，此溫度可線性地降低。

根據本發明之一態樣，可以大於100毫米/秒之速度執行雷射光束之向前及向後移動。

根據本發明之一態樣，此雷射光束發射裝置可包含用以進行雷射光束的向後移動與向前移動之一檢流計鏡；而控制單元可包含一 程式以控制此檢流計鏡。

根據本發明之一態樣，以一較向前及向後移動雷射光束為慢之速度沿著該密封單元之路徑，雷射頭可進行一線性移動。

根據本發明之一態樣，基板平台可配置於第一基板與第二基板下方，且基板平台可以一較雷射光束之向前及向後移動為慢之速度沿著第一方向線性移動。

根據本發明之一態樣，此雷射光束可以一聚光束之形式發射。

根據本發明之一態樣，此聚光束之直徑大體上可等同於密封單元之寬度，或小於或等於密封單元之兩倍寬度。

根據本發明之一態樣，此聚光束之直徑可小於密封單元之寬度。

根據本發明之一態樣，與密封單元之寬度方向同向的方向移動可能沿著密封單元之路徑加在雷射光束之向前或向後移動，藉此雷射光束可進行一旋轉移動。

根據本發明之一態樣，此密封單元可包含玻璃料。

根據本發明之一態樣，此玻璃料可形成一封閉路徑以圍繞有機發光單元。

根據本發明之一態樣，此有機發光單元可包含至少一有機發光元件，其中包含發光層之至少一有機層設置於此有機發光元件的第一電極與第二電極之間的至少一有機層。

本發明之其他態樣及/或優點將會在以下內容中敘述，且在某種程度上，自其敘述將顯而易知、或藉由本發明之實踐而可被了解 。

110‧‧‧第一基板

120‧‧‧第二基板

130‧‧‧有機發光單元

140‧‧‧密封單元

150‧‧‧雷射頭

155‧‧‧控制單元

160‧‧‧雷射光束

170‧‧‧基板平台

BW‧‧‧雷射光束寬度

FW‧‧‧玻璃料寬度

I‧‧‧強度

△t1~△t3‧‧‧時間間隔

△D‧‧‧距離

V1、V2‧‧‧速度

L1~L3‧‧‧振幅

自以下實施例之描述連同參閱附圖，本發明之這些及/或其他態樣與優點將變得更為明瞭且更易理解，其中：第1圖係說明使用本發明之雷射光束照射裝置來密封有機發光顯示裝置之密封單元之一實施例橫截面視圖；第2圖係為第1圖中之有機發光顯示裝置之上視圖；第3圖係說明在對應時間中玻璃料之一較佳溫度分布及一光束強度分布之曲線圖；第4圖係為雷射光束在密封路徑對應時間之位置示意圖；以及第5圖係為當基板平台移動時，描述雷射光束向前移動與向後移動之示意圖。

涉及本發明之本實施例被詳盡地敘述，其範例呈現於附圖中，其中全文中相似的參考符號對照相似之元件。為了解釋本發明，藉由參照圖式在下文中述闡述實施例。

第1圖係說明使用本發明之雷射光束照射裝置來密封一有機發光顯示裝置之密封單元140之一實施例截面示意圖。第2圖係為第1圖中之有機發光顯示裝置之上視圖。參閱第1圖與第2圖，有機發光單元130與圍繞在有機發光單元130周圍之密封單元140設置於一第一基板110與一第二基板120之間。一雷射頭150可發射出雷射光束160以照射在密封單元140上。

有機發光單元130形成在第一基板110上。第二基板120為一封裝基板，以封裝在第一基板110上的有機發光單元130，而將在以下 述敘的雷射光束160可透過其而被在第一基板110與第二基板120中傳輸。第一基板110及/或第二基板120可為玻璃基板，但本發明並不以此為限。

有機發光單元130包含至少一有機發光元件(OLED)(圖中未示)。有機發光元件包括含有設置於第一電極(圖中未示)與第二電極(圖中未示)之間的發光層(圖中未示)之至少一有機層(圖中未示)。第一電極(圖中未示)與第二電極(圖中未示)可分別作為用以注入電洞的陽極與用以注入電子的陰極。

根據是否使用薄膜電晶體來驅動有機發光元件，有機發光元件(圖中未示)可分類為被動矩陣(PM)有機發光元件與主動矩陣(AM)有機發光元件。根據本發明所示之實施例，被動矩陣式有機發光元件與主動矩陣式(AM)OLED皆可使用。

密封單元140設置於第二基板120上以圍繞前述的有機發光單元130。為了防止有機發光單元130與來自外部之水或氧氣接觸，密封單元140可為封閉迴圈。

在第2圖中，形成封閉迴圈的密封單元140之邊緣為具有預設曲度的弧形，但本發明之此實施例並不以此為限。亦即，密封單元140之邊緣可為不具有任何曲度的直角。

根據此實施例，密封單元140是由玻璃料形成以提供在第一基板110與第二基板120之間的緊密度，以可有效保護有機發光單元130。透過例如網版引刷法或點膠法之不同的方式，玻璃料可形成以具有一預設玻璃料寬度FW。

根據所示之實施例，密封單元140形成在第二基板120上。有機發 光單元130在第一基板110上以對準第一基板110與第二基板120。 然而，本發明不限定於所示之實施例。例如，密封單元140可形成在第一基板110上，有機發光單元130亦形成於其上，並且與第二基板120對準及黏附。此外，雖然在第1圖與第2圖中僅繪示一個有機發光單元130，但複數個有機發光單元130相對有機發光單元130環繞的與複數個密封單元140亦可各設置於第一基板110與第二基板120之間。

雷射光束照射裝置(圖中未示)可快速發射雷射光束160，使其沿著設置於第一基板110與第二基板120之間的密封單元140之路徑向前及向後移動。雖然在第1圖與第2圖中並未詳細顯示，雷射光束照射裝置(圖中未示)包含可產生雷射之雷射震盪器(圖中未示)、光束均質器(圖中未示)、雷射頭150以及控制單元155。雷射震盪器(圖中未示)可為一綜合式多核源，其為一般用於雷射密封的高輸出雷射源。當使用綜合式多核源時，各個核源的輸出可不同，因此可使用光束均質器(圖中未示)解決上述非均勻輸出。

雷射頭150可包含一反射單元(圖中未示)、一驅動單元(圖中未示)以及一透鏡單元(圖中未示)。反射單元(圖中未示)反射產生在雷射震盪器(圖中未示)中的雷射光束160，以發射雷射光束160至密封單元140。驅動單元(圖中未示)可驅動反射單元(圖中未示)。透鏡單元(圖中未示)可收集被反射的雷射光束160。反射單元(圖中未示)可使用一檢流計鏡(圖中未示)以精準控制雷射光束的速度與位置，例如本實施例中雷射光束160的向前移動與向後移動。

已透過透鏡單元(圖中未示)傳送之雷射光束160以一具有高斯分 佈的聚光束形式照射於密封單元140上，且可用發射。為了準確控制雷射光束160的焦點，透鏡單元(圖中未示)可包含一平場聚焦透鏡(F-Theta Lens)。

控制單元155控制雷射光束160的驅動速度及驅動方向。在本實施例中，控制單元155可包含用以控制檢流計鏡(圖中未示)的程式，以控制雷射光束160的速度與位置，藉此可使雷射光束160沿著密封單元140的路徑向前及向後移動。因此，控制單元155可被執行為至少一處理器，其使用在一電腦可讀媒體中由軟體或韌體編碼而成之程式。

基板平台170設置於第一基板110之下方，便於具有配置於其上之第一基板。藉由移動基板平台170，雷射光束160之位置可相對於密封單元140而移動。

第3圖係說明在對應時間中玻璃料之一較佳溫度分布及一光束強度分布之曲線圖。為了預防當有機發光顯示裝置被製造時對鄰近電路或有機發光元件之熱損壞，必須控制於第一基板110與第二基板120密封時受雷射光束160加熱之玻璃料的溫度分佈。

參閱第3圖，在對應時間中玻璃料較佳溫度分佈中，玻璃料最初以短時間間隔(△t1)加熱直至玻璃料之溫度達到融點。在第一基板110與第二基板120可彼此黏附的工作溫度可維持在一時間間隔(△t2)。接著，當玻璃料之溫度線性下降時(△t3)，玻璃料則緩慢地冷卻。如圖所述，玻璃料之降溫的時間間隔△t3大於玻璃料加熱至融點的時間間隔△t1。

為了於對應時間中找出玻璃料理想溫度分佈，必須根據熱流 (Heat Flux)的時間導出理想分布，其熱流為相對於時間雷射光束160強度之積分值，其中雷射光束160照射至玻璃料。因此，如二維熱方程式模擬操作之結果，可知本實施例熱流之最大值必須在加熱之初始狀態，再單一地降低，如第3圖所示。為了找出如此較佳的熱流分佈，可快速地掃描密封單元140之區域。

第4圖係為雷射光束160在密封路徑對應時間之位置示意圖，而第5圖係為當基板平台170移動時，描述本實施例之雷射光束160向前與向後移動之示意圖。參閱第5圖，本實施例之雷射光束160重複且快速地沿著密封單元140之密封路徑向前及向後移動。在本實施例中，雷射光束向前及向後移動之速度較佳為2500mm/sec，但本發明並不以此為限。然而，為了快速掃描速度，此掃描操作速度應大於100mm/sec。

參閱第5圖，此向前及向後移動各具有不同的三種振幅(L1、L2及L3)，且向前及向後的移動是重複的。如圖所示，各振幅具有不同的平均值。然而，本發明之一或多個實施例並不以此為限，振幅之更大或更小值亦可被使用。

為了當雷射光束160沿著密封單元140移動時雷射光束可在密封單元140之整個路徑提供熱，接收雷射光束160的區域不應被限定於密封單元140之部份區域。亦即，雷射光束160不僅可向前及向後在一重複區域△L重複移動，亦可沿著密封單元140之整個路徑移動。

參閱第4圖，其可看到當雷射光束160沿著密封單元140向前及向後移動時，在一時間區間t中本實施例之雷射光束160自一初始位 置向前移動△D。因此，每次震盪的起始點都會改變。

當雷射光束160在向前及向後移動時，向前移動可由基板平台170相對於雷射頭150向後移動的方式達成。此外，在基板平台170靜止不動的例子中，雷射頭150可沿著密封單元140直接地向前移動。

在此，雷射光束160向前及向後移動的速度V1必須大於雷射頭150向前行進速度V2。亦即，參閱第4圖與第5圖，在向前及向後移動中，雷射光束160必須在時間區間t期間移動3(2L1+2L2+2L3)的距離，且在向前移動中，雷射頭150(或基板平台170)在時間區間t期間移動△D的距離。

如此，當雷射光束160向前及向後移動與向前移動同時發生時，雷射光束160可照射在玻璃料之相同位置至少兩次，且光束強度I可由雷射光束160照射在玻璃料上位置集合而成。由於雷射光束160向前及向後移動與向前移動，集合在玻璃料之光束強度I產生相對於時間的較佳光束強度分佈。因此，亦達到較佳溫度分佈。

在本發明之實施例中，雷射光束寬度BW與玻璃料寬度FW大體上相同。然而，本發明之一或多個實施例並不限定於此。因此，雷射光束寬度BW可大於玻璃料寬度FW。然而，在雷射光束寬度BW太大的情況中，就必須使用雷射光罩(圖中未示)來保護玻璃料上的鄰近元件。因此，雷射光束寬度BW較佳為小於或等於玻璃料寬度FW的兩倍。

此外，雷射光束寬度BW亦可小於玻璃料寬度FW。然而，由於本實施例之聚光束具有高斯分佈，雷射光束160在向前及向後移動與 雷射頭150之向前移動時不會照射玻璃料的邊緣，故可能無法獲得玻璃料之理想溫度分佈。因此，在較玻璃料寬度FW為小的聚光束直徑的情況下，其必須對雷射光束160之向前及向後移動增加與寬度同向的方向的移動。因此，其移動包括在與玻璃料之寬度同向的方向上移動雷射光束160之位置，與寬度同向的方向即為與玻璃料長度方向垂直的方向。在與玻璃料之寬度同向的方向中以移動雷射光束160位置之組合移動可包含預設旋轉移動。如此，線性移動之向前及向後的移動與旋轉移動可被組合，使得雷射光束160可在進行螺旋移動之雷射光束160行進玻璃料之整個寬度時照射玻璃料。因此，藉由行經整個玻璃料後可得到較佳溫度分佈。

在本發明之實施例中，藉由照射雷射光束在玻璃料上，相對於鄰近元件間的熱應力可達到最小化，進而改善有機發光顯示裝置的性能。此外，由於在本發明之實施例中並沒有使用分離式雷射光罩，整個密封過程十分簡便。此外，在本發明之實施例中，基板上的多個晶胞可在短時間內有效地密封。再者，由於玻璃料之融化區域顯著地延伸，因此起始點與結束點幾乎無法區分，使得因溫度不同所造成的應力效應也會降低。

雖然本發明之一些實施例已經顯示且闡明，藉由那些本領域具有通常知識者可被理解，在此實施例中變化可被實施且沒有背離本發明之目的與精神，其範疇已定義在申請專利範圍與其等效範圍中。

110‧‧‧第一基板

120‧‧‧第二基板

130‧‧‧有機發光單元

140‧‧‧密封單元

150‧‧‧雷射頭

155‧‧‧控制單元

160‧‧‧雷射光束

170‧‧‧基板平台

BW‧‧‧雷射光束寬度

Claims (29)

1. 一種雷射光束照射裝置，係適用於照射一雷射光束在一密封單元上，該密封單元設置於一第一基板與一第二基板之間，以密封該第一基板與該第二基板，該雷射光束照射裝置包含：一雷射頭，係配置以發射該雷射光束至該密封單元上；以及一控制單元，係配置以控制該雷射光束之一驅動速度與一驅動方向，以使該雷射光束沿著該密封單元之一第一方向重複進行一向後移動與一向前移動，且該雷射光束通過該密封單元之一相同位置至少兩次。
2. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，其中該雷射光束之該向後移動與該向前移動的速度係大於100毫米/秒(mm/sec)。
3. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，其中：該雷射頭更包含一檢流計鏡(Galvanometer Mirror)，以進行該雷射光束之該向後移動與該向前移動；以及該控制單元儲存由該控制單元內之一處理器執行之一電腦程式，作為控制該檢流計鏡以進行該雷射光束之該向後移動與該向前移動。
4. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，其中該雷射頭以一較該雷射光束之該向後移動與該向前移動為慢的速度沿著該第一方向線性移動。
5. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，更包含一基板 平台，該基板平台設置於該第一基板與該第二基板之下，其中該基板平台以一較該雷射光束之該向後移動與該向前移動為慢的速度沿著該第一方向進行一線性移動。
6. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，其中該雷射光束係以一聚光束之形式發射。
7. 如申請專利範圍第6項所述之雷射光束照射裝置，其中該聚光束之直徑大體上介於該密封單元之寬度與該密封單元之兩倍寬度之間的範圍。
8. 如申請專利範圍第6項所述之雷射光束照射裝置，其中該聚光束之直徑大於零，且小於該密封單元之寬度。
9. 如申請專利範圍第8項所述之雷射光束照射裝置，其中該控制單元更控制該雷射頭，以在密封單元之寬度方向同向的方向進行該雷射光束之一移動，且該雷射光束根據該向後移動與該向前移動進行一旋轉移動。
10. 如申請專利範圍第1項所述之雷射光束照射裝置，其中該密封單元包含玻璃料(Frit)。
11. 一種製造有機發光顯示裝置之方法，係包含：在一第一基板或一第二基板上形成一有機發光單元；沿著圍繞該已形成之有機發光單元之一路徑在該第一基板與該第二基板之間形成一密封單元；對準該第一基板與該第二基板，使該已形成之有機發光單元介於該第一基板與該第二基板之間；以及藉由利用包含用以發射一雷射光束之一雷射頭及用以控制該雷射光束之一向後移動與一向前移動之控制單元的一雷射光束照射裝置，沿著該密封單元之該路徑重複地向前及向後移動該雷射光束 以通過該路徑上之一相同位置至少兩次。
12. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中該第一基板或該第二基板係傳送該雷射光束。
13. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中於該雷射光束通過該密封單元之該相同位置至少兩次後，該密封單元之該相同位置達到足以在該相同位置密封該第一基板與該第二基板之一封裝溫度。
14. 如申請專利範圍第13項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中重複地向前及向後移動該雷射光束的步驟包含於以一較達到該密封溫度所須的加熱時間為長之一冷卻時間中移動該雷射光束以使該相同位置之溫度由該密封溫度線性降低一溫度。
15. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中重複向前及向後移動該雷射光束之步驟，包含以大於100毫米/秒之速度向前及向後移動該雷射光束。
16. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中：重複向前及向後移動該雷射光束之步驟包含使用該雷射光束發射裝置之一檢流計鏡進行該雷射光束之該向後移動與該向前移動；以及藉由使用該控制單元之一處理器執行一電腦程式以控制該檢流計鏡進行該雷射光束之該向後移動與該向前移動。
17. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其更包含以一較向前及向後移動該雷射光束為慢之速度沿著該密封單元之該路徑從該位置移動該雷射頭至一下一位置。
18. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其 更包含以一較向前及向後移動該雷射光束為慢之速度沿著一第一方向線性移動一基板平台，該基板平台係進一步配置於該第一基板與該第二基板之下。
19. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其更包含以一聚光束之形式發射該雷射光束。
20. 如申請專利範圍第19項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中該聚光束之直徑大體上介於該密封單元之寬度與該密封單元之兩倍寬度之間的範圍。
21. 如申請專利範圍第19項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中該聚光束之直徑小於該密封單元之寬度且大於零。
22. 如申請專利範圍第21項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其更包含當向前及向後移動該雷射光束時，以在該密封單元之寬度方向同向的方向移動該雷射光束，使該雷射光束沿著該密封單元之路徑進行一旋轉移動。
23. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中該密封單元包含玻璃料(Frit)。
24. 如申請專利範圍第23項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中形成該密封單元之步驟包含形成該玻璃料為一封閉路徑以圍繞該有機發光單元。
25. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中：該有機發光單元包含至少一有機發光元件，該有機發光元件包含設置於該有機發光元件之一第一電極與一第二電極之間的至少一有機層，以及該至少一有機層包含一發光層。
26. 如申請專利範圍第11項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中重複向前及向後移動該雷射光束之步驟包含該雷射光束呈現包含具有一第一振幅之一第一波形及具有較該第一振幅小的一第二振幅之一第二波形的式樣。
27. 如申請專利範圍第26項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中重複向前及向後移動該雷射光束之步驟包含重複該第一波形與該第二波形之該式樣至少兩次。
28. 如申請專利範圍第26項所述之製造有機發光顯示裝置之方法，其中該第一波形之平均值與該第二波形之平均值不同。
29. 一種由處理類指令進行編碼之電腦可讀取媒體用以實施藉由至少一處理器所執行之如申請專利範圍第11項之方法。