JP5837743B2

JP5837743B2 - 基板の密封に使用されるレーザビーム照射装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法

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Publication number: JP5837743B2
Application number: JP2010278259A
Authority: JP
Inventors: ボロノフアレキサンドル; 圭完韓; 泰旭姜; ▲てつ▼ 來盧
Original assignee: Samsung Display Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 2010-01-19
Filing date: 2010-12-14
Publication date: 2015-12-24
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Description

本発明は、基板の密封に使用されるレーザビーム照射装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法に関する。

近年、ディスプレイ装置は、携帯可能な薄型の平板ディスプレイ装置が主流になりつつある。平板ディスプレイ装置のうち、電界発光ディスプレイ装置は、自発光型であって、視野角が広く、コントラストが優秀であるだけでなく、応答速度が速いという長所を有しているため、次世代ディスプレイ装置として注目されている。また、発光層が有機物で構成されている有機発光ディスプレイ装置は、無機発光ディスプレイ装置に比べて、輝度、駆動電圧、応答速度特性が優秀であり、多色化が可能であるという利点を有する。

一般的な有機発光ディスプレイ装置は、一対の電極間に発光層を備えた少なくとも一つの有機層が介在する構造を有している。

このような有機発光ディスプレイ装置は、周辺環境から水分や酸素が素子内部に流入した場合に、電極物質の酸化、剥離による有機発光素子の寿命短縮、発光効率低下のみならず、発光色の変質のような問題を発生させる。

したがって、有機発光ディスプレイ装置の製造において、有機発光素子を外部から隔離して水分が浸透しないようにするための密封処理が一般的に行われている。このような密封処理方法として、一般的には、有機発光ディスプレイ装置の第２電極の上部に無機薄膜及びＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）のような有機高分子をラミネーティングする方法か、または封止基板の内部に吸湿剤を形成し、封止基板の内部に窒素ガスを充填させた後、封止基板のエッジをエポキシのようなシーラントで封合する方法が用いられる。

しかし、これらの方法は、外部から流入する水分や酸素のような有機発光素子の破壊性因子を１００％遮断することが不可能であり、水分に特に脆弱である有機発光ディスプレイ装置への適用には適していない。また、これらの方法は工程が複雑である。上記のような問題点を解決するために、シーラントとしてフリットを使用して、有機発光素子基板と封止基板との密着性を向上させる基板封合方法が考案されている。

上記の方法は、ガラス基板にフリットを塗布して有機発光ディスプレイ装置を密封する構造を採用することにより、有機発光素子基板及び封止基板を完全に密封することができるので、より効果的に有機発光ディスプレイ装置を保護することができる。

このようにフリットで基板を密封する方法は、フリットをそれぞれの有機発光ディスプレイ装置のシーリング部に塗布した後に、レーザビーム照射装置を移動し、それぞれの有機発光ディスプレイ装置の密封部にレーザビームを照射することによりフリットを硬化させて基板を密封するというものである。

本発明が解決しようとする課題は、周辺素子の熱損傷を発生させることなく高品質なフリットシーリング工程を実行可能な基板シーリング用のレーザビーム照射装置、及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供することである。

前記課題を達成するために、本発明の一側面は、第１基板と第２基板との間に配置された密封部にレーザビームを照射することにより前記第１基板及び第２基板を密封するために使用されるレーザビーム照射装置であって、前記レーザビーム照射装置は、レーザビームを照射するレーザヘッドと、前記レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備え、前記レーザビームは、スポットビーム状に照射され、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅と同一であるか、または前記密封部の幅の２倍以下であって、前記制御部による制御下で、前記レーザビームは、前記密封部により形成される経路に沿って前後方向のみに、漸減する複数の振幅で反復運動を行い、前記経路上の同一箇所を２回以上通過するように照射され、前記同一箇所が前記第１基板及び前記第２基板の密封に必要な密封温度に到達し、前記密封温度に到達した前記同一箇所の温度は、前記同一箇所が前記密封温度に到達するまでにかかった時間よりも長い時間をかけて線形的に低下することを特徴とするレーザビーム照射装置を提供する。

本発明の他の特徴によれば、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度は、１００ｍｍ／ｓｅｃよりも大きい。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザ照射装置は、前記レーザビームに前後方向に沿った反復運動を行わせるためのガルバノメータミラーを備えており、前記制御部は、前記ガルバノメータミラーを制御するプログラムを備えている。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザヘッドは、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度よりも小さい速度で前記経路に沿って直線運動を行うことができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１基板及び第２基板の下部には、基板ステージがさらに備えられており、前記ステージは、前記経路に沿って前記レーザビームが前後方向に反復運動する速度よりも小さい速度で直線運動を行うことができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビームは、スポットビーム状に照射される。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅と同一であるか、または前記密封部の幅の２倍以下である。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅よりも小さい。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビームは、前記密封部の幅方向に沿った運動をさらに行なうことにより、回転運動を行うことができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記密封部は、フリットを備えている。

本発明の他の側面は、（ａ）第１基板または第２基板上に有機発光部を形成する工程と、（ｂ）前記第１基板と第２基板との間に前記有機発光部を取り囲むように密封部を形成する工程と、（ｃ）前記第１基板と第２基板とを整列させる工程と、（ｄ）レーザビームを照射するレーザヘッドと、前記レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備えたレーザビーム照射装置を利用して、前記密封部が形成する経路に沿って前記レーザビームが前後方向のみに、漸減する複数の振幅で反復運動を行い、前記経路上の同一箇所を２回以上通過するように、前記レーザビームを照射する工程と、を含み、前記密封部が形成する前記経路上の同一箇所は、前記レーザビームが２回以上通過した後に、前記第１基板及び第２基板の密封に必要な密封温度に到達し、前記密封温度に到達した前記同一箇所の温度は、前記同一箇所が前記密封温度に到達するまでにかかった時間よりも長い時間をかけて線形的に低下し、前記レーザビームは、スポットビーム状に照射され、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅と同一であるか、または前記密封部の幅の２倍以下であることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。

本発明の他の特徴によれば、前記第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方は、レーザビームを透過させることができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度は、１００ｍｍ／ｓｅｃよりも大きい。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザ照射装置は、前記レーザビームに前後方向に反復運動を行わせるためのガルバノメータミラーを備えており、前記制御部は、前記ガルバノメータミラーを制御するプログラムを備えている。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザヘッドは、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度よりも小さい速度で前記密封部が形成する前記経路に沿って直線運動を行うことができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記第１基板及び第２基板の下部には、基板ステージがさらに備えられており、前記ステージは、前記経路に沿って前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度よりも小さい速度で直線運動を行うことができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記レーザビームは、スポットビーム状に照射されることができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記フリットは、前記有機発光部の周囲を取り囲むように閉ループを形成することができる。

本発明のさらに他の特徴によれば、前記有機発光部は、第１電極と第２電極との間に発光層を備えた少なくとも一つの有機層が介在する有機発光素子を少なくとも一つ備えている。

本発明によると、レーザビームをフリットに照射することにより、周辺の構成要素に対するサーマルストレスを最小化し、有機発光ディスプレイ装置の性能を向上させることができる。また、別途のレーザマスクを常用する必要がないため、密封工程を単純化することができる。また、基板上の複数のセルを短時間で効率的に密封することができる。また、フリットの溶融領域が大幅に拡張され、開始点及び終了点をほとんど区別することができないので、温度差による応力を減らすことができる。

本発明の一実施形態によるレーザビーム照射装置を利用して、有機発光ディスプレイ装置の密封部を密封する方法を概略的に示す断面図である。図１に対応する上面図である。フリットの望ましい経時的な温度プロファイル及び経時的なビーム強度プロファイルを示す概略図である。本実施形態によるレーザビームの密封経路上の位置の経時的な変化を示す概略図である。基板ステージが移動する場合のレーザビームの前後方向の運動について説明するための概略図である。

以下、添付した図面を参照して、本発明の望ましい実施形態について詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施形態によるレーザビーム照射装置を利用して、有機発光ディスプレイ装置の密封部を密封する方法を概略的に示す断面図であり、図２は、図１に対応する上面図である。

図１及び図２を参照すれば、第１基板１１０と第２基板１２０との間に有機発光部１３０及び有機発光部１３０を取り囲む密封部１４０が配置されており、レーザヘッド１５０から前記密封部１４０にレーザビーム１６０が照射される。

有機発光部１３０は第１基板１１０上に形成される。第１基板１１０は、例えば、ガラス材基板である。

第２基板１２０は、第１基板１１０上に形成された有機発光部１３０を封入するための封止基板であって、後述するレーザビーム１６０を透過させることができる。第２基板１２０は、望ましくは、ガラス材基板である。

有機発光部１３０は、第１電極（図示せず）と第２電極（図示せず）との間に発光層を備えた少なくとも一つ有機層（図示せず）が介在する有機発光素子（ＯｒｇａｎｉｃＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｅｖｉｃｅ：ＯＬＥＤ）（図示せず）を少なくとも一つ含んでいる。ここで、第１電極（図示せず）及び第２電極（図示せず）は、それぞれ正孔を注入する正極（アノード）及び電子を注入する負極（カソード）としての機能を発揮することができる。

有機発光素子（図示せず）は、各有機発光素子の駆動を薄膜トランジスタ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＴＦＴ）で制御するか否かにより、受動駆動型（ＰａｓｓｉｖｅＭａｔｒｉｘ：ＰＭ）または能動駆動型（ＡｃｔｉｖｅＭａｔｒｉｘ：ＡＭ）に分類される。本実施形態による有機発光素子は、能動駆動型及び受動駆動型のどちらであってもよい。

第２基板１２０上には、前述した有機発光部１３０を取り囲むように密封部１４０が形成される。

密封部１４０は、有機発光部１３０を外部の水分や酸素との接触から遮断するために、閉ループを形成することが望ましい。

一方、上記図面には、閉ループを形成する密封部１４０の各コーナー部分が一定の曲率を有する曲線で形成されているが、本発明はこれに限定されない。すなわち、密封部１４０の各コーナー部分は、曲率なしに直交する形状をなすこともある。

本実施形態では、第１基板１１０と第２基板１２０との気密性を確保し、有機発光部１３０をさらに効果的に保護するために、密封部１４０としてフリットを使用している。フリットは、スクリーン印刷法またはペンディスペンシング法などの多様な方法により一定の幅（ＦｒｉｔＷｉｄｔｈ：ＦＷ）を有するように形成される。

なお、本実施形態では、密封部１４０を第２基板１２０上に形成し、有機発光部１３０を第１基板１１０上に形成して、第１基板１１０と第２基板１２０とを整列させているが、本発明はこれに限定されない。例えば、密封部１４０は、予め有機発光部が形成されている第１基板１１０上にさらに形成され、第２基板１２０と整列させられた後に合着されてもよい。

また、上記図面は、一つの有機発光部１３０が設けられた例を示しているが、本発明において、第１基板１１０と第２基板１２０との間には複数の有機発光部１３０と、複数の有機発光部１３０を取り囲む複数の密封部１４０とが設けられてもよい。

レーザビーム照射装置（図示せず）により照射されるレーザビーム１６０は、第１基板１１０と第２基板１２０との間に配置された密封部１４０が形成する経路に沿って前後方向に高速で運動する。

上記図面では詳細に示されていないが、レーザビーム照射装置（図示せず）は、レーザを発生させるレーザ発振器（図示せず）、ビーム均質器（図示せず）、レーザヘッド１５０、及び制御部（図示せず）を備えている。

ここで、レーザ発振器（図示せず）として、一般的なレーザシーリング用の高出力レーザソースであるバンドルタイプのマルチコアソースを使用することができる。

このようなバンドルタイプのマルチコアソースを使用する場合、それぞれのコアの出力が互いに少しずつ異なっている可能性があるので、ビーム均質器（図示せず）を使用して、そのような不均一を解決することがある。

レーザヘッド１５０は、レーザ発振器（図示せず）で生成されたレーザビームを反射して密封部１４０に照射する反射部（図示せず）、反射部を駆動する駆動部（図示せず）、及び反射されたレーザビームを集光するレンズ部（図示せず）を備えている。

本実施形態による反射部（図示せず）は、前述のように前後方向に移動するレーザビーム１６０の位置及び速度を精密に制御するためのガルバノメータミラーを使用することができる。

レンズ部（図示せず）を通過したレーザビーム１６０は、ガウスプロファイルを有するスポットビーム状をなして密封部１４０に照射される。レーザビーム１６０の精密な焦点制御のために、レンズ部（図示せず）は、Ｆ−θレンズを備えることができる。

制御部（図示せず）は、レーザビーム１６０の走行速度及び運動方向を制御する。

本実施形態で、制御部（図示せず）は、密封部１４０が形成する経路に沿って前後方向に運動するように、レーザビーム１６０の位置及び速度を制御するガルバノメータミラー（図示せず）を制御するプログラムを含むことができる。

また、前記第１基板１１０の下部には、第１基板１１０を載置するための基板ステージ１７０が配置される。基板ステージ１７０を移動させることによって、密封部１４０に照射されるレーザビーム１６０の位置を相対的に移動させることができる。

図３は、フリットの望ましい経時的な温度プロファイル及び経時的なビーム強度プロファイルを示す概略図である。

有機発光ディスプレイ装置の製造時の損傷、及び周辺配線や有機発光素子の熱による損傷を防止するためには、基板１１０，１２０の密封工程時にレーザビーム１６０によって加熱されるフリット１４０の温度プロファイルを制御しなければならない。

上記図面を参照すれば、フリット１４０の望ましい経時的な温度プロファイルは、初期段階においてフリット１４０が融点に達するまでフリット１４０を短時間（△ｔ１）加熱し、その後しばらく第１基板１１０と第２基板１２０との接合工程を実施可能な作業温度を維持してから（△ｔ２）、フリット１４０の温度が線形的に低下するように徐々に冷却する（△ｔ３）というものである。

ここで、フリット１４０の溶融に要する時間（△ｔ１）よりも、フリット１４０の温度低下に要する時間（△ｔ３）の方が長くなっている。

このようなフリット１４０の温度の理想的な経時的プロファイルを実現するためには、フリット１４０に照射されるレーザビーム１６０の強度の経時的な積分値であるヒーティングフラックスの理想的な経時的プロファイルを導出しなければならない。

２次元熱拡散方程式のモデリング結果から、本実施形態による望ましいヒーティングフラックスは、上記図面に示したように、その最大値が加熱の初期段階で達成され、その後は単調に減少することが分かった。

このような望ましいヒーティングフラックスプロファイルを実現するためには、密封領域を非常に高速でスキャンする必要がある。

図４は、本実施形態による密封部１４０の経路上のレーザビーム位置の経時的変化を示す概略図であり、図５は、ステージが移動する場合のレーザビームの前後方向の運動について説明するための概略図である。

図５を参照すれば、本実施形態によるレーザビーム１６０は、密封部１４０が形成する経路に沿って非常に高速で前方及び後方に反復運動していることが分かる。

本実施形態では、レーザビーム１６０が前後方向に運動する速度は、２５００ｍｍ／ｓｅｃとされたが、これは一例に過ぎない。ただし、高速でのスキャニングのためには、１００ｍｍ／ｓｅｃよりも大きいスキャニング速度が望ましい。

なお、上記図面には、互いに異なる３つの振幅Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３で前後方向の運動が反復される点が示されているが、これは一例に過ぎず、本発明はこれに限定されない。

レーザビーム１６０が密封部１４０に沿って運動する間に、レーザビーム１６０が密封部１４０の経路の全体に熱を供給するためには、レーザビーム１６０が照射される領域が密封部１４０の一部のみに限定されてはならない。すなわち、レーザビーム１６０は、その前後方向の反復運動領域△Ｌだけでなく、密封部１４０の経路の全体を通過するように前後方向の運動を行なわなければならない。

図４を参照すれば、本実施形態によるレーザビーム１６０は、密封部１４０が形成する経路に沿って前後方向に運動すると同時に、時間ｔが経過する間に最初の位置から△Ｄだけ前方に移動していることが分かる。

このような前方への移動は、レーザビーム１６０が前後方向に運動する間に、レーザヘッド１５０を固定した状態で基板ステージ１７０をレーザヘッド１５０に対して後方に移動させることにより実現可能である。また、基板ステージ１７０を移動させる代わりに、レーザヘッド１５０を直接密封部１４０に沿って前方に移動させる方法も可能である。

この時、レーザビーム１６０が前後方向に運動する速度Ｖ１は、レーザヘッド１５０が前方に移動する速度Ｖ２よりも大きくされなければならない。すなわち、上記図面を参照すれば、前後方向に運動するレーザビーム１６０は、時間ｔが経過する間に３×（２×Ｌ１＋２×Ｌ２＋２×Ｌ３）の距離を運動しなければならず、前方に移動するレーザヘッド１５０（または基板ステージ１７０）は、時間ｔが経過する間に△Ｄの距離を移動することになる。

上記のように、レーザビーム１６０の前後方向の反復運動とレーザヘッド１５０（または基板ステージ１７０）の前方への移動とが複合的に進められれば、フリット１４０の同一箇所には、レーザビーム１６０が２回以上照射され、フリット１４０のレーザビーム１６０が照射された箇所には、ビーム強度Ｉが集積される。このようなレーザビーム１６０の前後方向の反復運動及びレーザヘッド１５０（または基板ステージ１７０）の前方への移動によりフリット１４０に集積されたレーザ強度Ｉは、望ましい経時的なビーム強度プロファイルを形成し、その結果、望ましい経時的な温度プロファイルを形成する。

また、前述した実施形態では、レーザビームの幅（ＢＷ）とフリットの幅（ＦＷ）とが実質的に同一である場合を例示した。しかし、本発明はこれに限定されない。つまり、フリット幅（ＦＷ）よりも大きいレーザビーム幅（ＢＷ）のレーザビーム１６０を使用することもできる。しかし、レーザビーム幅（ＢＷ）が過度に大きい場合には、フリット１４０の周辺素子を保護するためのレーザマスク（図示せず）を使用しなければならないので、レーザビーム幅（ＢＷ）は、フリット幅（ＦＷ）の２倍を超えないことが望ましい。

他方、レーザビーム幅（ＢＷ）は、フリット幅（ＦＷ）よりも小さくてもよい。ただし、本実施形態によるスポットビームは、ガウス分布を有するため、前述したレーザビーム１６０の前後方向の反復運動及びレーザヘッド１５０の前方への移動のみでは、フリット１４０の端部にビームが照射されないので、フリット１４０の理想的な温度プロファイルを得ることができない虞がある。

そこで、スポットビーム１６０の直径がフリット幅（ＦＷ）よりも小さい場合には、前述したレーザビーム１６０の前後方向の反復運動に、フリット１４０の長手方向と垂直をなす幅方向に沿ったレーザビームの運動を追加しなければならない。

このように、フリット１４０の幅方向に沿ったレーザビーム１６０の運動には、所定の回転運動が含まれることがある。その結果、前後方向の反復的な直線運動と回転運動とが組み合わせられて、レーザビーム１６０は螺旋運動を行うので、フリット１４０の幅の全体を横断するようにフリット１４０に照射されることになる。これにより、フリット１４０の全体にわたり望ましい温度プロファイルを形成することができる。

前述したように、本発明によるレーザビームをフリットに照射することにより、その周辺の構成要素に対するサーマルストレスを最小化し、有機発光ディスプレイ装置の性能を向上させることができる。

また、別途のレーザマスクを常用する必要がないため、密封工程を単純化することができる。

また、基板上の複数のセルを短時間で効率的に密封することができる。

また、フリットの溶融領域が大幅に拡張され、その開始点及び終了点をほとんど区別することができないので、温度差による応力を減らすことができる。

本発明は、添付図面に示された実施形態を参照して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者であれば本実施形態から多様な変形例及び均等な他の実施形態が実現可能であるということが理解される。したがって、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲に記載された技術的思想に基づいて決定されなければならない。

本発明は、ディスプレイ関連の技術分野において好適に利用可能である。

１１０第１基板、
１２０第２基板、
１３０有機発光部、
１４０密封部、
１５０レーザヘッド、
１６０レーザビーム、
１７０基板ステージ。

Claims

第１基板と第２基板との間に配置された密封部にレーザビームを照射することにより前記第１基板及び第２基板を密封するレーザビーム照射装置であって、
レーザビームを照射するレーザヘッドと、
前記レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備え、
前記レーザビームは、スポットビーム状に照射され、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅と同一であるか、または前記密封部の幅の２倍以下であって、
前記制御部による制御下で、前記レーザビームは、前記密封部が形成する経路に沿って前後方向のみに、漸減する複数の振幅で反復運動を行い、前記経路上の同一箇所を２回以上通過するように照射され、前記同一箇所が前記第１基板及び前記第２基板の密封に必要な密封温度に到達し、前記密封温度に到達した前記同一箇所の温度は、前記同一箇所が前記密封温度に到達するまでにかかった時間よりも長い時間をかけて線形的に低下することを特徴とするレーザビーム照射装置。
前記レーザビームが前後方向に反復運動を行う速度は、１００ｍｍ／ｓｅｃよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム照射装置。
前記レーザ照射装置は、前記レーザビームに前後方向に反復運動を行わせるためのガルバノメータミラーを備えており、前記制御部は、前記ガルバノメータミラーを制御するプログラムを備えていることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザビーム照射装置。
前記レーザヘッドは、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行う速度よりも小さい速度で前記経路に沿って直線運動を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
前記第１基板及び第２基板の下部には、基板ステージがさらに備えられており、
前記基板ステージは、前記経路に沿って前記レーザビームが前後方向に反復運動を行う速度よりも小さい速度で直線運動を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
前記密封部は、フリットを備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のレーザビーム照射装置。
（ａ）第１基板または第２基板上に有機発光部を形成する工程と、
（ｂ）前記第１基板と第２基板との間に前記有機発光部を取り囲むように密封部を形成する工程と、
（ｃ）前記第１基板と第２基板とを整列させる工程と、
（ｄ）レーザビームを照射するレーザヘッドと、前記レーザビームの走行速度及び運動方向を制御する制御部と、を備えたレーザビーム照射装置を利用して、前記密封部が形成する経路に沿って前記レーザビームが前後方向のみに、漸減する複数の振幅で反復運動を行い、前記経路上の同一箇所を２回以上通過するように、前記密封部に前記レーザビームを照射する工程と、を含み、
前記密封部が形成する前記経路上の同一箇所は、前記レーザビームが２回以上通過した後に、前記第１基板及び第２基板の密封に必要な密封温度に到達し、
前記密封温度に到達した前記同一箇所の温度は、前記同一箇所が前記密封温度に到達するまでにかかった時間よりも長い時間をかけて線形的に低下し、
前記レーザビームは、スポットビーム状に照射され、前記スポットビームの直径は、前記密封部の幅と同一であるか、または前記密封部の幅の２倍以下であることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方は、前記レーザビームを透過させることを特徴とする請求項７に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度は、１００ｍｍ／ｓｅｃよりも大きいことを特徴とする請求項７または８に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記レーザ照射装置は、前記レーザビームに前後方向に反復運動を行わせるためのガルバノメータミラーを備えており、前記制御部は、前記ガルバノメータミラーを制御するプログラムを備えていることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記レーザヘッドは、前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度よりも小さい速度で前記密封部が形成する前記経路に沿って直線運動を行うことを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記第１基板及び第２基板の下部には、基板ステージがさらに備えられており、
前記ステージは、前記経路に沿って前記レーザビームが前後方向に反復運動を行なう速度よりも小さい速度で直線運動を行うことを特徴とする請求項７〜１１のいずれか１項に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記密封部は、フリットを備えていることを特徴とする請求項７〜１２のいずれか１項に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記フリットは、前記有機発光部の周囲を取り囲むように閉ループを形成することを特徴とする請求項１３に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。
前記有機発光部は、第１電極と第２電極との間に発光層を備えた一つ以上の有機層が介在する有機発光素子を少なくとも一つ備えていることを特徴とする請求項７〜１４のいずれか１項に記載の有機発光ディスプレイ装置の製造方法。