TWI520784B - 用於噴灑加壓液體的裝置 - Google Patents

Description

用於噴灑加壓液體的裝置

本發明係關於一種裝置，該裝置用於噴灑加壓液體(尤其是水)，且儘管該裝置可達成極小容積流量，但該裝置可達成極優良清潔效果。詳言之，此裝置可經設計成作為用於衛生出流配件之口件，或作為用於蓮蓬頭之嵌件，或其類似者。

在地球上之許多地區中，水為必須節儉地使用之寶貴日用品。此處，限制流過出流配件、蓮蓬頭或其類似者之水之容積流量的裝置可作出重要貢獻。在飛機、露營車等等中之狀況亦為：節約可獲得之水可為重要的。

如今，衛生出流配件通常具有嵌於其中之口件，口件在水出射時將空氣混合至水中。一方面，此情形使出流射流令人愉快地柔和。另一方面，可顯著地縮減水之容積流量。對於家用盥洗台，容積流量(流動速率)之典型值當前為大約12 l/min(公升/分鐘)。使用所謂的經濟噴嘴會允許將此值縮減至大約6 l/min至8 l/min。然而，顯著較低容積流量仍合乎需要。

出於此目的，先前技術已建議將水引入至渦漩腔室中，在渦漩腔室中使水執行渦漩移動。通過噴嘴開口之後續軸向加速產生精細分散之射流，其給出優良清潔作用，即使在小容積流量之狀況下亦如此。

舉例而言，俄羅斯專利RU 2 196 205中揭示此渦漩腔室。其中所呈現之渦漩腔室為錐形。水通過切線方向入流通道而在圓錐之最大橫截面附近饋送至渦漩腔室，且通過軸向出口通道而離開渦漩腔室。

世界專利WO 2008/073062中亦揭示一種渦漩腔室。此文件揭示一口件，該口件意欲用於衛生出流配件且可在經濟模式與正常模式之間進行切換。在經濟模式下，所進入之水自對置側沿切線方向通過兩個通道而引入至短圓柱形渦漩腔室中，水自該渦漩腔室軸向地通過中心出口開口而出射。與此對比，在正常模式下，水略過渦漩腔室以到達中心出口開口且亦到達複數個另外分散式出口開口，且因此達成極其較大之容積流量。

儘管使用渦漩腔室可幫助極大地縮減容積流量，但可藉此達成之清潔作用仍能夠改良。

世界專利WO 2007/062536中已推行相當不同之方法。此文件已尤其建議允許兩個水射流以高速度且以相對大角度相抵於彼此而撞擊，以形成薄水盤狀物。此盤狀物以與衝擊點相隔某一距離而分散以形成精細小液滴。此裝置之缺點為：水需要極高壓力，以便確保充分霧化。該文件提及15巴至25巴之較佳壓力範圍，而正常總管壓力僅僅為大約2巴至5巴。此情形通常使分離泵之使用成為必要。水射流之高壓力及所得極高出射速度亦需要特殊措施，以便防止水射流在尚未預先霧化之情況下與使用者之皮膚或眼睛直接地接觸的情形。

美國專利US 5,358,179揭示一種噴灑頭，該噴灑頭意欲用於噴灑高黏度液體，且在一具體實例中具有渦漩腔室。自渦漩腔室出射之液體射流接著彼此接觸。

歐洲專利EP 1 277 516及世界專利WO 93/23174各自揭示一種具有兩個噴嘴之噴灑頭，該等噴嘴具有渦漩腔室且朝向彼此，使得所得射流彼此接觸。

本發明之一目標係提供一種裝置，該裝置意欲用於噴灑一加壓液體、可以大約2巴至5巴之一正常總管壓力進行操作，且儘管該裝置引起一小容積流量，但該裝置引起一改良型清潔作用。該裝置亦意欲能夠被大量地直接且具成本效益地生產。此目標係藉由一種具有申請專利範圍1之特徵的裝置而達成。附屬申請專利範圍中規定另外具體實例。

因此，根據本發明之該裝置包含：複數個渦漩腔室，其中該等渦漩腔室中每一者具有用於將該液體饋送至該各別渦漩腔室中之至少一入口，且亦具有為了使一液體射流自該渦漩腔室出射之一出口噴嘴；及一入流通道配置，其係為了使進入該裝置之一液體串流分佈於該等渦漩腔室之該等入口之間。

此處，該等出口噴嘴中每一者界定一縱向噴嘴軸線(在一至少部分圓柱形出口噴嘴之狀況下，該縱向噴嘴軸線與圓柱軸線相同)。該等縱向噴嘴軸線相對於彼此而傾斜，使得自該等出口噴嘴出射之液體射流以與該等出口噴嘴相隔一預定距離而彼此接觸。詳言之，此情形可被達成之處在於：該等縱向噴嘴軸線在該裝置外部基本上相交於一相交點處，該相交點與該出口噴嘴相隔該上述距離。

以此方式，提供一種裝置，該裝置相比於單一渦漩腔室引起一相當大改良型清潔作用，而同時地維持一低容積流量。若使用(例如)三個渦漩腔室，則在大約3巴之一正常總管壓力及總體上僅僅0.6 l/min之一容積流量的情況下，有可能出於洗手目的而達成極好清潔作用。因為該等液體射流由於該等渦漩腔室而在其離開該等出口噴嘴時已經呈精細分散之形式，所以若在該等射流彼此接觸之前此等射流與一使用者之皮膚接觸，則根本不存在問題。

可以多種不同方式使用該裝置。因此，有可能將該裝置設計成作為用於針對冷自來水或熱自來水之一衛生出流配件之一口件(例如，在一盥洗台或洗身盆中)。然而，亦有可能將該裝置用作一淋浴盥洗室之一噴灑頭、用作一正常淋浴配件之一蓮蓬頭、用作此蓮蓬頭之一可互換嵌件、用作一水療池設施中之一噴灑頭，等等。亦有可能將該裝置用於在一行動房屋或大篷車中之露營中，或用於盥洗台中或甚至用於飛機上之淋浴器中。待噴灑之該液體未必為水；相反地，其亦可為具備清潔劑之一清潔溶液。最後，本發明可有利地用於如下所有應用中：其中需要具有一優良清潔效能，同時維持一低容積流量。

該裝置較佳地具有至少三個渦漩腔室，該等渦漩腔室具有關聯出口噴嘴，來自該等出口噴嘴之該等液體射流彼此接觸。此處，渦漩腔室之數目的一適宜上限將似乎為大約十。該等渦漩腔室及該等出口噴嘴較佳地以圍繞一中心縱向裝置軸線之一環之形式而配置。該等出口噴嘴接著較佳地均一地分佈於該環之圓周方向上。然而，亦有可能選擇其他配置。

該等液體射流彼此接觸所處之在該等出口噴嘴之間的軸向距離較佳地介於40 mm與150 mm之間，但此值取決於應用而亦可更大。對於在衛生出流配件中之使用，大約80 mm之一距離係較佳的。在用於衛生出流配件之口件及該等出口噴嘴之一環狀配置之典型尺寸的狀況下，此距離對應於大約3°的該等縱向噴嘴軸線相對於該中心縱向裝置軸線之傾斜角。然而，取決於該裝置之尺寸及所設想之應用，此傾斜角亦可更大或更小，尤其為大約1°至10°，較佳地為大約2°至5°。

將此文件中之一渦漩腔室理解為如下一腔室：藉由該腔室，由於其幾何形狀，使通過一入口而進入之水圍繞一渦漩軸線而執行一渦漩移動(亦即，使該水圍繞該渦漩軸線而產生一渦流)，該腔室具有一出口噴嘴，使得該水相對於該渦漩軸線基本上軸向地出射。較佳地如下設計該渦漩腔室。該渦漩腔室界定一縱向腔室軸線。該渦漩腔室之該入口形成於該渦漩腔室之一入流區域中，使得該液體相對於該縱向腔室軸線基本上沿切線方向饋送至該渦漩腔室中。與此對比，該出口噴嘴相對於該縱向腔室軸線基本上在中心配置。該縱向噴嘴軸線與該縱向腔室軸線相對於彼此同軸地延行或圍封至多15°之一角度，較佳地為至多10°，特別較佳地為至多5°。在生產方面特別較佳之一具體實例中，該等渦漩腔室之該等縱向腔室軸線基本上平行於彼此且尤其是平行於一共同縱向裝置軸線而延行，而該等縱向噴嘴軸線相對於該等縱向腔室軸線及/或該等縱向裝置軸線而傾斜。

該出口噴嘴較佳地與該入流區域軸向地間隔開，如相對於該縱向腔室軸線所見。該渦漩腔室接著較佳地以一似漏斗方式在該入流區域與該出口噴嘴之間漸縮。出於此目的，該等渦漩腔室中每一者較佳地具有一基本上錐形區域，在該錐形區域中，該渦漩腔室之橫截面沿著該縱向腔室軸線連續地漸縮至該出口噴嘴。一基本上圓柱形區域可相對於此錐形區域軸向地配置於上游，該基本上圓柱形區域配置於該入流區域與該錐形區域之間。此意謂液體起初沿切線方向進入該入流區域、描述通過該圓柱形區域之一螺旋移動，且在該所得渦流進入該出口噴嘴之前於該錐形漸縮區域中被進一步加速。此情形引起該液體射流在其離開該出口噴嘴時特別有效率地分散。此處，「基本上圓柱形」亦應被視為稍微偏離一純粹圓柱形形狀而不顯著地更改此區域之功能的覆蓋形狀，例如，具有一小張角之截頭錐形形狀，尤其是在該張角(在直徑上對置側向表面區域之間的角度)小於2×10°或甚至小於2×5°時。

為了改良渦流形成，該等渦漩腔室中每一者可含有一隆凸，該隆凸沿著該縱向腔室軸線在中心延伸至該渦漩腔室之該入流區域中，且因此，該渦漩腔室之該入流區域形成一環狀空腔。此處，該隆凸較佳地為圓柱形，但亦可為截頭錐形。

該等出口噴嘴較佳地係藉由圓柱形孔口形成。然而，即使該等出口噴嘴應具有某一其他形狀，但較佳地，每一出口噴嘴在其末端處亦具有一圓柱形出射區域，該圓柱形出射區域在向外方向上被與該圓柱軸線正交地延行之一基本上平面出射表面跟隨。詳言之，該出口噴嘴較佳地不在其外部末端處向外加寬。一尖銳邊緣較佳地形成於該出射區域與該關聯出射表面之間，以便促進該液體射流與該出口之分離。此情形總體上引起一清晰界定之射流圖案。

較佳的是使該等渦漩腔室(但至少使該等出口噴嘴)形成於一共同(較佳地為單件式)渦漩腔室元件中。在此狀況下，若該渦漩腔室元件已在其外部上於每一出口噴嘴附近形成一淺(較佳地為截頭錐形)凹陷，則在生產方面係較佳的，該凹陷之圓錐軸線與該噴嘴軸線重合且該凹陷形成該出射表面。

出於饋送該液體之目的，該裝置較佳地具有用於該液體之一中心饋送通道，該中心饋送通道沿著一裝置軸線延行且視需要在軸向方向上漸縮，以便達成進入該裝置之該液體串流的初始加速。該等渦漩腔室接著較佳地以相對於該裝置軸線之一分散式方式(例如，以圍繞該裝置軸線之一環之形式)而配置，且該等入流通道將該饋送通道基本上橫向於該裝置軸線而連接至該等渦漩腔室。若該等入流通道中每一者自該饋送通道開始起描述具有至少90°之角度的一弧形，則可達成改良型渦流形成。然而，亦有可能提供某一其他形狀之入流通道(例如，直線或似風扇入流通道)，此將在下文中予以更詳細地描述。為了達成一清晰界定之射流圖案，在該等入流通道中每一者具有一矩形橫截面時係較佳的。此處，在該橫截面遍及該入流通道之長度基本上恆定時係較佳的。

此處應注意，該等入流通道之橫截面積在一給定操作壓力下具有對該容積流量之一顯著影響。因此，有可能在一給定操作壓力下藉由該等入流通道之該橫截面積的一合適選擇來設定該容積流量。此意謂不需要使用一分離流量限制器。

若該裝置包含一(較佳地為單件式)饋送元件及一(較佳地同樣地為單件式)渦漩腔室元件，則可特別直接地生產該裝置，該饋送元件與該渦漩腔室元件連接至彼此，尤其是一者停置於另一者上，使得其一起結合每一入流通道之至少一區域，其中該等渦漩腔室係至少部分地藉由該渦漩腔室元件中之凹陷(例如，孔口)形成。此處，在該渦漩腔室元件及該饋送元件使其端側(如相對於該縱向裝置軸線所見)將一者停置於另一者上時(亦即，在其基本上沿著垂直於該縱向裝置軸線而延行之一共同平面將一者停置於另一者上時)係較佳的。詳言之，在該等入流通道係藉由該饋送元件中之凹陷(例如，凹槽)形成時係較佳的，而該渦漩腔室元件具有一末端表面，該末端表面係朝向該饋送元件而定向且在該等入流通道附近係基本上平面的，以便因此連同該饋送元件一起結合該等入流通道。在此具體實例中，詳言之，亦有可能僅僅藉由將該饋送元件與具有用於該等入流通道之一不同橫截面表面積的另一饋送元件互換而使該裝置極直接地適應於各種壓力範圍，而該渦漩腔室元件可保持相同，而不管該壓力範圍如何。

為了使該饋送元件與該渦漩腔室元件相對於彼此而正確地定位，且防止該饋送元件與該渦漩腔室元件相對於彼此而旋轉，至少一分散式定位隆凸可形成於該饋送元件或該渦漩腔室元件上，此定位隆凸嚙合於另一元件上之一互補定位凹槽中。然而，亦可以其他方式(例如，藉由提供側向中斷之中空短柱)達成此定位，該等中空短柱形成於該饋送元件上，且在環繞該等渦漩腔室之該入流區域的一區域中突出至該渦漩腔室元件之凹陷中。

該饋送元件及該渦漩腔室元件可一起固持於一容納套筒中，使得該饋送元件、該渦漩腔室元件及該容納套筒一起形成一可互換單元(服務單元)。出於此目的，該渦漩腔室元件可與該容納套筒之一內部軸向止件對接(可能地在該渦漩腔室元件與該內部軸向止件之間經配置有一密封件)，而該饋送元件停置於該渦漩腔室元件上且係藉由一搭扣配合連接而固持於該容納套筒上。出於此目的，一或多個搭扣配合臂可形成於該饋送元件上，以用於嚙合於該容納套筒中之對應內部凹陷中。

在下文中將參看圖式來描述本發明之較佳具體實例，該等圖式僅僅用於解釋性目的且不應以任何限制性方式予以解釋。

圖1及圖2說明根據本發明之第一具體實例的衛生出流配件之口件1。外部套筒2具有連接螺紋3，連接螺紋3配合至市售盥洗台配件中。外部套筒容納：容納套筒，其在下文中被稱為內部套筒4；饋送元件，其在下文中被稱為外殼嵌件5；及渦漩腔室元件，其在下文中被稱為渦漩板6。此等部件較佳地係由抵制灰塵及石灰之材料生產。詳言之，外殼嵌件5及/或渦漩板6可藉由射出成形而由塑膠生產。外殼嵌件5另外獨自地在圖3至圖6之各種視圖中予以說明。搭扣配合至外殼嵌件5中之粒子過濾器7防止灰塵或砂土之粒子滲透至口件中。呈正方形或矩形橫截面之密封環之形式的密封件8在出流配件與內部套筒4之內部之間產生密封。呈O形環之形式的另外密封件9在內部套筒4與渦漩板6之間產生密封。

外殼嵌件5含有中心孔口10，中心孔口10以逐步方式向下漸縮至圓柱形饋送通道11。孔口10之圓柱軸線界定中心縱向裝置軸線21。

自饋送通道11，三個入流通道13橫向於縱向裝置軸線21而延伸至三個分散式渦漩腔室14，渦漩腔室14係以圍繞縱向裝置軸線之環之形式而配置。此處，入流通道13中每一者起初在徑向部分12中基本上徑向地向外延行，且接著在沿切線方向展開至各別渦漩腔室14中之前描述略微大於180°之弧形。此處，入流通道經設計成作為矩形橫截面之凹陷，該等凹陷係在經定位成與渦漩板6對置的外殼嵌件5之彼端側中。與此對比，渦漩板6之對置端側係以平面且平滑之方式形成於入流通道13附近。以此方式，外殼嵌件5及渦漩板6一起結合入流通道13。

渦漩腔室14中每一者具有入流區域29，關聯入流通道13基本上沿切線方向通向入流區域29。此處，入流區域29在外殼嵌件5中經形成為矩形橫截面之環狀空腔。入流區域29之中心含有圓柱形短柱27，圓柱形短柱27形成於外殼嵌件5上且自上方延伸至該入流區域中。此處，短柱之長度基本上對應於入流通道之高度，且因此，短柱軸向地終止於使外殼嵌件5與渦漩板6分離之共同平面中。入流區域29軸向地被在渦漩板6中呈圓柱形孔口之形式的圓柱形區域15(過渡區域)跟隨，此圓柱形區域又被錐形漸縮區域16跟隨。錐形漸縮區域16展開至在中心配置之軸向延行的圓柱形出口噴嘴18中。出口噴嘴18終止於與該噴嘴之圓柱軸線成直角延行的出射表面17處，其中尖銳邊緣形成於圓柱形噴嘴孔口與該出射表面之間。出射表面係藉由渦漩板6之外部末端表面中的淺截頭錐形凹陷19形成，且因此為環狀。

每一渦漩腔室14之圓柱軸線界定縱向腔室軸線32。相似地，關聯出口噴嘴18之圓柱軸線界定縱向噴嘴軸線20。在本實施例中，縱向腔室軸線32與縱向噴嘴軸線20重合，且一起相對於縱向裝置軸線21傾斜達大約3°。因此，縱向噴嘴軸線20交會於與噴嘴之出射表面相隔大約80 mm之距離的共同相交點處。然而，亦有可能使縱向腔室軸線與縱向噴嘴軸線相對於彼此呈小角度。此情形將在下文中結合圖12予以更詳細地闡釋。

外殼嵌件5已沿著其外部圓周形成三個隆凸22，隆凸22在渦漩板6之方向上軸向地突出且嚙合於渦漩板6之外部上的互補凹槽中，以便使渦漩板6與外殼嵌件5相對於彼此而正確地定位且經緊固以防旋轉。外殼嵌件5及渦漩板6一起固持於內部套筒4中。出於此目的，渦漩板6已在其上形成向內偏移之階梯，該階梯係定向於出口方向上且停置於密封件9上；此密封件又在內部套筒4之出口末端處停置於向內定向之環狀凸緣上。外殼嵌件5被推動至渦漩板6上。外殼嵌件5係經由搭扣配合臂23而固定於內部套筒4上，搭扣配合臂23將在下文中予以更詳細地描述且嚙合於內部套筒4之內部上的對應孔隙中，因此，內部套筒4、外殼嵌件5及渦漩板6連同密封件9及粒子過濾器7一起形成易於交換之服務單元30。

在操作期間，水軸向地通過粒子過濾器7(其網格寬度小於入流通道13及出口噴嘴18之最小橫截面尺寸)而進入中心孔口10，且自中心孔口10進入饋送通道11。中心孔口10之漸縮形狀意謂：此處，水串流第一次被加速。在饋送通道11中，水分佈於入流通道13之間且在該程序中偏轉。水通過入流通道13而導引至渦漩腔室14。水沿切線方向進入每一渦漩腔室14之入流區域29，且在彼處開始描述螺旋移動。此處，入流區域中之中心隆凸27另外輔助形成渦漩移動。接著，所得渦流沿著圓柱形區域15向下移動，且在其進入出口噴嘴18之前於錐形漸縮區域16中被進一步加速。水以高速度離開出口噴嘴18且在該程序中分散成精細小液滴。此處，在圓柱形噴嘴孔口與出射表面17之間的過渡之尖銳邊緣式形成輔助達成水射流的清晰界定之分離。此情形引起精細分散之定向射流，而不會在任何過度程度上形成非定向噴霧。此等先前已經分散之水射流在出射表面下方大約80 mm的縱向噴嘴軸線之相交點處彼此接觸，且在此區域中確保最佳清潔效能。因此，有可能出於洗滌目的而使手完全地濕潤，且亦有可能再次使肥皂或其他清潔劑易於自手洗去。

在供家用盥洗台上使用之口件的狀況下，可如下選擇口件之尺寸：口件之外徑為大約24 mm；在噴嘴出口與中心縱向裝置軸線之間的距離為大約4.2 mm；縱向噴嘴軸線及縱向腔室軸線相對於縱向裝置軸線之傾斜角為大約3°；入流通道之橫截面為矩形、寬度為大約1 mm且深度為0.5 mm；針對3巴之流量壓力引起之容積流量針對每一出口噴嘴為大約0.2 l/min(總容積流量為大約0.6 l/min)。當然，有可能使此等參數在廣泛範圍內變化。詳言之，在預定流量壓力下，有可能藉由入流通道之橫截面表面積的合適選擇來設定相對大或小容積流量，或在預定容積流量之狀況下，有可能使口件適應於不同壓力條件。

圖7及圖8中說明根據本發明之第二具體實例之口件。此口件之構造極大地對應於第一具體實例之構造，且等效部件具備與第一具體實例中之參考數字相同的參考數字。詳言之，圖8清晰地展示外殼嵌件5上之搭扣配合臂23，此等搭扣配合臂連同內部套筒一起建立已經提及之搭扣配合連接。

詳言之，此具體實例與第一具體實例相差如下方式：外殼嵌件5與渦漩板6相對於彼此而緊固以防旋轉。此處所使用之定位輔助設備(positioning aid)為在外殼嵌件5上之中空短柱25，該等短柱軸向地突出超出外殼嵌件5之末端表面且環繞渦漩腔室之入流區域。此等中空短柱突出至短盲孔口26中，盲孔口26形成於渦漩板6中。為了允許水沿切線方向饋送至渦漩腔室中，每一中空短柱25係藉由通路31中斷。此外，此具體實例廢除中心短柱27，中心短柱27在第一具體實例中軸向地突出至渦漩腔室14之入流區域29中。

圖9及圖10中說明根據第三具體實例之口件。再一次，等效部件具備與第一具體實例中之參考數字相同的參考數字。在此具體實例中，入流通道13經塑形成不同於前兩個具體實例中之入流通道；另外，入流通道經形成為渦漩板6之端面中的凹陷，而非經形成為外殼嵌件5中之凹陷。代替恆定橫截面之弓形形狀，此處，入流通道為具有在明顯程度上漸縮之橫截面的似風扇形狀。此意謂：此處，水流亦在入流通道中被加速。

圖11中說明根據第四具體實例之口件。再一次，等效部件具備與第一具體實例中之參考數字相同的參考數字。此處，入流通道13之橫截面為半圓形，而非矩形。另外，市售流量限制器28已嵌於中心孔口10中。此情形允許口件極直接地適應於相對高流量壓力，而不以任何方式更改尺寸設定。

圖12中說明根據本發明之第五具體實例之口件。此口件之構造極大地對應於第一具體實例之構造，且等效部件又具備與第一具體實例中之參考數字相同的參考數字。此具體實例與第一具體實例不同之處在於：每一渦漩腔室之縱向腔室軸線32不與有關渦漩腔室之縱向噴嘴軸線20重合。取而代之，此處，縱向腔室軸線32平行於縱向裝置軸線21而延行，而僅縱向噴嘴軸線20在縱向裝置軸線21之方向上傾斜達大約3°之角度。此情形在相當大程度上簡化渦漩板6之生產：渦漩腔室14可平行於縱向裝置軸線21而自上方被機械加工(或在射出成形之狀況下，平行於該軸線而自上方被脫模)。視情況而定，僅出口噴嘴18需要與縱向裝置軸線21成一角度而自下方被機械加工或脫模。

圖13至圖15說明渦漩板6之另外具體實例。此渦漩板係以與第一、第四或第五具體實例之渦漩板極其類似的方式而形成。然而，此渦漩板在少許態樣中不同於第一、第四或第五具體實例之渦漩板，該等態樣將在下文中予以闡釋。

詳言之，圖13至圖15之渦漩板在渦漩腔室中具有過渡區域15'，過渡區域15'在向下方向上稍微錐形地漸縮(見圖14)。每一過渡區域15'在對應入流區域(如在第一、第四或第五例示性具體實例中，對應入流區域形成於外殼嵌件5中)與錐形區域16(其被出口噴嘴18跟隨)之間形成一過渡。儘管在以上第一至第五例示性具體實例中對應過渡區域為精確圓柱形，但本例示性具體實例中之過渡區域為稍微錐形，以便改良藉由射出成形進行生產之脫模能力。然而，所得截頭圓錐之小於2×5°的小張角意謂此等過渡區域在功能上以其他方式等效於純粹圓柱形過渡區域。

在渦漩板之出口側上存在另外差異。儘管以上例示性具體實例中之渦漩板在出口側上具有極大實心設計，但此具體實例之渦漩板具有複數個凹陷，尤其是中心盲孔33及在出射表面17之間的三個凹陷34。凹陷34直接地在圓周方向上接界出射表面17，且因此，與以上實施例對比，出射表面17自身不再係藉由周圍材料中之截頭凹陷形成。相反地，周圍材料接著僅僅形成內環35及外環36，內環35及外環36在徑向方向上結合出射表面。出於生產原因，具有盲孔33及凹陷34之此組態係較佳的，此係因為此意謂材料厚度在任何地方皆不過度，且因此，渦漩板在藉由射出成形生產時相對均一地冷卻及硬化。

最後，此例示性具體實例之渦漩板亦在其外部圓周上具有三個定位隆凸37，定位隆凸37使得有可能使渦漩板6獨立於外殼嵌件5而在固定定向上固持於內部套筒4中，對應導引凹槽被設置於內部套筒中。若外殼嵌件亦具備對應隆凸，則不需要使渦漩板與外殼嵌件互嚙合。

自以上描述可看出，在不脫離本發明之範疇的情況下，大量修改係可能的。因此，詳言之，有可能使裝置亦形成為蓮蓬頭或形成為用於蓮蓬頭之嵌件，而非形成為用於出流配件之口件。取決於應用面積及尺寸，有可能使三個以上或三個以下渦漩腔室圍繞中心縱向裝置軸線而配置。在較大數目個渦漩腔室之狀況下，可能有利的是使不同出口噴嘴相對於縱向裝置軸線不同地傾斜，以便使出射射流遍及較大區域而分佈。此情形在蓮蓬頭之狀況下可合乎需要。亦有可能將入流通道設計成不同於上文所呈現之入流通道，例如，呈恆定或可變橫截面之直線通道的形式。

1．．．口件

2．．．外部套筒

3．．．連接螺紋

4．．．內部套筒(容納套筒)

5．．．外殼嵌件(饋送元件)

6．．．渦漩板(渦漩腔室元件)

7．．．粒子過濾器

8．．．密封件

9．．．密封件

10．．．中心孔口

11．．．饋送通道

12．．．徑向部分

13．．．入流通道

14．．．渦漩腔室

15．．．圓柱形區域

15'．．．圓柱形區域

16．．．錐形區域

17．．．出射表面

18．．．出口噴嘴

19．．．凹陷

20．．．縱向噴嘴軸線

21．．．縱向裝置軸線

22．．．隆凸

23．．．搭扣配合臂

25．．．中空短柱

26．．．孔口

27．．．中心隆凸

28．．．流量限制器

29．．．入流區域

30．．．服務單元

31．．．通路

32．．．縱向腔室軸線

33．．．盲孔

34．．．凹陷

35．．．內環

36．．．外環

37．．．定位隆凸

圖1展示如在中心縱向截面中所見的根據本發明之第一具體實例之口件；

圖2展示如在沿著來自圖1之平面A-A之橫截面中所見的來自圖1之口件；

圖3展示在來自下方之視圖中來自圖1之口件之外殼嵌件；

圖4展示如在沿著來自圖3之平面B-B之縱向截面中所見的來自圖3之外殼嵌件的細節；

圖5展示如在沿著來自圖3之平面C-C之縱向截面中所見的來自圖3之外殼嵌件的細節；

圖6展示沿著來自圖3之平面D-D截取的來自圖3之外殼嵌件的中心縱向截面；

圖7展示如在中心縱向截面中所見的根據本發明之第二具體實例之口件；

圖8展示來自圖7之口件之外殼嵌件的透視圖；

圖9展示如在中心縱向截面中所見的根據本發明之第三具體實例之口件；

圖10展示如在沿著來自圖9之平面E-E之橫截面中所見的來自圖9之口件；

圖11展示如在中心縱向截面中所見的根據本發明之第四具體實例之口件；

圖12展示如在沿著來自圖2之平面F-F之縱向截面中所見的根據本發明之第五具體實例之口件的細節；

圖13展示用於根據本發明之第六具體實例之口件的渦漩板的透視圖；

圖14展示如在沿著來自圖15之平面G-G之中心縱向截面中所見的來自圖13之渦漩板；及

圖15展示如在沿著來自圖14之平面H-H之橫截面中所見的來自圖13之渦漩板。

1．．．口件

2．．．外部套筒

3．．．連接螺紋

4．．．內部套筒(容納套筒)

5．．．外殼嵌件(饋送元件)

6．．．渦漩板(渦漩腔室元件)

7．．．粒子過濾器

8．．．密封件

9．．．密封件

10．．．中心孔口

11．．．饋送通道

14．．．渦漩腔室

15．．．圓柱形區域

16．．．錐形區域

17．．．出射表面

18．．．出口噴嘴

19．．．凹陷

20．．．縱向噴嘴軸線

21．．．縱向裝置軸線

22．．．隆凸

23．．．搭扣配合臂

30．．．服務單元

32．．．縱向腔室軸線

Claims (20)

1. 一種用於噴灑一加壓液體之裝置，其包含：一中心饋送通道(11)，其用於收納該液體，該中心饋送通道沿著一裝置軸線(21)而延行；複數個渦漩腔室(14)，其係以相對於該裝置軸線(21)之一分散式方式而配置，其中該等渦漩腔室中每一者具有用於將該液體饋送至該各別渦漩腔室中之至少一入口，及為了使一液體射流自該渦漩腔室出射之一出口噴嘴(18)；及一入流通道(13)配置，該等入流通道配置將該饋送通道(11)基本上橫向於該裝置軸線(21)而連接至該等渦漩腔室(14)，以便使進入該裝置之一液體流分佈於該等渦漩腔室(14)之該等入口之間，其中該等出口噴嘴(18)中每一者界定與該縱向裝置軸線成1°至10°之一角度而延行的一縱向噴嘴軸線(20)，且其中該等縱向噴嘴軸線(20)相對於彼此而傾斜，使得自該等出口噴嘴出射之液體射流以與該等出口噴嘴(18)相隔一預定距離而彼此接觸，特徵在於：該裝置包含一饋送元件(5)，其中形成該饋送通道(11)，該裝置包含一渦漩腔室元件(6)，其中該等渦漩腔室(14)係至少部分地藉由該渦漩腔室元件(6)中之凹陷形成，且該饋送元件(5)與該渦漩腔室元件(6)連接至彼 此，使得其一起結合每一入流通道(13)之至少一區域。
2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該饋送元件(5)停置於該渦漩腔室元件(6)上。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之裝置，其進一步包含一容納套筒(4)，該饋送元件(5)及該渦漩腔室元件(6)一起固持於該容納套筒(4)中，使得該饋送元件(5)、該渦漩腔室元件(6)及該容納套筒(4)一起形成一可互換單元。
4. 如申請專利範圍第3項之裝置，其中該渦漩腔室元件(6)直接地與或經由一密封件而與該容納套筒(4)之一內部軸向止件對接。
5. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中該饋送元件(5)停置於該渦漩腔室元件(6)上且固持於該容納套筒(4)上。
6. 如申請專利範圍第5項之裝置，其中一搭扣配合連接形成於該饋送元件(5)與該容納套筒(4)之間。
7. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該裝置經設計成作為一衛生出流配件之一口件。
8. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等入流通道(13)中每一者自該饋送通道開始起最初基本上徑向地向外延行。
9. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等入流通道(13)中每一者自該饋送通道(11)開始起界定具有至少90°之一角度的一弧形。
10. 如申請專利範圍第9項之裝置，其中該弧形界定至少180°之一角度。
11. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該裝置包含至少三個渦漩腔室(14)，該等渦漩腔室之該等縱向噴嘴軸線相對於彼此而傾斜。
12. 如申請專利範圍第11項之裝置，其中該等渦漩腔室(14)係以圍繞該中心裝置軸線(21)之一環之形式而配置。
13. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等渦漩腔室(14)中每一者界定一縱向腔室軸線(32)，其中該等渦漩腔室(14)中每一者之該入口形成於該渦漩腔室(14)之一入流區域(29)中，使得該液體相對於該縱向腔室軸線(32)基本上沿切線方向饋送至該各別渦漩腔室中，其中該出口噴嘴(18)相對於該縱向腔室軸線(32)基本上在中心配置，且其中該縱向噴嘴軸線(20)與該縱向腔室軸線(32)相對於彼此呈0°至15°之一角度。
14. 如申請專利範圍第13項之裝置，其中該等渦漩腔室之該等縱向腔室軸線(32)基本上平行於彼此而延行，而該等縱向噴嘴軸線(20)相對於該等縱向腔室軸線(32)而傾斜。
15. 如申請專利範圍第13項之裝置，其中該等渦漩腔室 中每一者具有一基本上錐形區域(16)，在該基本上錐形區域(16)中，該渦漩腔室之橫截面沿著該縱向腔室軸線(32)連續地漸縮至該出口噴嘴(18)。
16. 如申請專利範圍第15項之裝置，其中每一渦漩腔室具有配置於該入流區域(29)與該錐形區域(16)之間的一基本上圓柱形區域(15)。
17. 如申請專利範圍第13項之裝置，其中該等渦漩腔室(14)中每一者含有一隆凸(27)，該隆凸(27)在中心延伸至該渦漩腔室(14)之該入流區域(29)中，使得該渦漩腔室之該入流區域(29)形成一環狀空腔。
18. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等入流通道(13)中每一者具有一矩形橫截面。
19. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該等入流通道(13)係藉由該饋送元件(5)中之凹陷形成，而該渦漩腔室元件(6)具有一末端表面，該末端表面係朝向該饋送元件(5)而定向且在該等入流通道(13)附近係基本上平面的。
20. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中至少一分散式定位隆凸(22)形成於該饋送元件(5)或該渦漩腔室元件(6)上，此定位隆凸嚙合於另一元件上之一互補定位凹槽中，以便使該饋送元件(5)與該渦漩腔室元件(6)相對於彼此而定位。