TWI512056B - 紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法 - Google Patents

Description

紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法

本發明是有關於一種光學膜塗料，且特別是有關於一種紫外線固化光學膜塗料。

目前，為增加高硬度紫外線光學膠樹脂所製成之光學膜的硬度，一般會採取增加無機奈米粒子之添加量的方式。高硬度紫外線光學膠樹脂所添加之無機物的量需高達33wt%才能發揮出增強光學膜之硬度的較佳效果。然而，添加過多的無機奈米粒子後，無機奈米粒子在高分子樹脂中的分散性不佳，易形成團聚現象，而造成光學膜之可撓性下降。而且，過多的無機奈米粒子也會減弱高分子樹脂中分子鏈之間的網狀交聯程度，更會降低光學膜與基板之間的作用力，而導致光學膜對基板之附著力下降，光學膜容易從基板上剝落。

此外，高硬度紫外線光學膠樹脂所添加之無機奈米粒子通常為二氧化矽奈米粒子。二氧化矽添加量的增加會使所形成之光學膜的光澤度與穿透度顯著下降。特別是二氧化矽形成之多孔性結構對光學膜的光澤有很大影響，隨著二氧化矽奈米粒子之粗糙度越大、多孔性越高，光學膜的光澤就越低。而且，隨著無機奈米粒子含量的增加，會使光學膜之平整性和機械強度下降，而無法滿足抗磨耗與高硬度需求。

在高硬度紫外線光學膠樹脂中，多孔性二氧化矽奈米粒子之粒徑大都介於0.01微米至50微米之間。而且，這些多孔性二氧化矽奈米粒子在製作上通常採氣相法、火焰法、與溶膠-凝膠法，這些方法所製備之奈米粒子的粒徑不均，相當容易產生二次團聚的問題。

因此，本發明之一目的就是在提供一種紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法，其多孔性無機奈米粉體具有粒子之粒徑極小、表面多孔、密度低、以及可形成具有特殊網狀結構之奈米片的特性，如此一來，在紫外線固化光學膜之成膜過程中，會在光學膜頂部形成奈米片漂浮層。故，紫外線固化光學膜塗料可在大幅縮減奈米粉體之含量下，提升光學膜之表面強度。

本發明之另一目的是在提供一種紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法，其中紫外線固 化光學膜塗料中之奈米粉體含量極少，因此可大幅降低奈米粉體對紫外線固化光學膜之附著力的影響，並可減少光學膜在固化過程中之體積收縮及因體積收縮所產生之內應力。

本發明之又一目的是在提供一種紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法，其中紫外線固化光學膜塗料之奈米粉體可採電漿改質無機奈米粉體，其不僅具有窄粒徑分佈與分散性良好的特性，更可形成具網狀結構之奈米片，還可降低光學膜內之殘存應力，因此可進一步提高光學膜之附著力。

根據本發明之上述目的，提出一種紫外線固化光學膜塗料。此紫外線固化光學膜塗料包含0.1wt%至1wt%之多孔性無機奈米粉體、20wt%至29.9wt%之單體、70wt%至80wt%之寡聚物以及1wt%至10wt%之光啟始劑。

依據本發明之一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體包含數個奈米粒子，且每一奈米粒子之一次粒徑為1奈米至10奈米。

依據本發明之另一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體包含由奈米粒子構成之數個奈米片，每一奈米片之厚度為10奈米至70奈米。

依據本發明之又一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體係電漿改質無機奈米粉體。

依據本發明之再一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體之材料為二氧化矽(SiO₂ )、氧化鋁(Al₂ O₃ )、氧化鈦(TiO₂ )、氧化鋯(ZrO₂ )或碳化矽(SiC)。

依據本發明之再一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體之比表面積大於140m² /g。

依據本發明之再一實施例，上述之單體係選自於由二乙二醇二丙烯酸酯(diethylene glycol diacrylate，DEGDA)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(Trimethylol propane triacrylate，TMPTA)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(1,6-hexanediol diacrylate，HDDA)、二縮三丙二醇二丙烯酸酯(tripropylene glycol diacrylate，TPGDA)與六丙烯酸酯(dipentaerythritol hexaacrylate，DPHA)所組成之一族群。

依據本發明之再一實施例，上述之寡聚物係選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群。

根據本發明之上述目的，另提出一種紫外線固化光學膜。此紫外線固化光學膜包含紫外線膠層以及奈米片漂浮層。奈米片漂浮層附著在紫外線膠層之頂面，其中奈米片漂浮層包含數個奈米片，且每一該米片由數個多孔性無機奈米粒子所構成。

依據本發明之一實施例，上述之每一多孔性無機奈米粒子係電漿改質無機奈米粒子。

依據本發明之另一實施例，上述之多孔性無機奈米粒子之材料為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽。

依據本發明之又一實施例，上述之奈米片漂浮層與紫外線膠層之總厚度為5微米至40微米，且奈米片漂浮層之厚度為20奈米至100奈米。

依據本發明之再一實施例，上述之紫外線膠層之材料包含單體、寡聚物以及光啟始劑。單體係選自於由二乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯與六丙烯酸酯所組成之一族群。寡聚物係選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群。

根據本發明之上述目的，更提出一種紫外線固化光學膜之製造方法，其包含下列步驟。提供基板。形成紫外線固化光學膜塗層於基板之表面上，其中紫外線固化光學膜塗層包含0.1wt%至1wt%之多孔性無機奈米粉體、20wt%至29.9wt%之單體、70wt%至80wt%之寡聚物以及1wt%至10wt%之光啟始劑。對紫外線固化光學膜塗層進行烘乾處理。對紫外線固化光學膜塗層進行紫外線固化處理，以形成紫外線固化光學膜。

依據本發明之一實施例，上述之基板係塑料基板，且此塑料基板之材料係選自於由聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate，PMMA)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)與聚碳酸酯(polycarbonate，PC)所組成之一族群。

依據本發明之另一實施例，上述形成紫外線固化光學膜塗層之步驟包含均勻混合多孔性無機奈米粉體、單體、寡聚物以及光啟始劑，而獲得紫外線固化光學膜塗料；以及利用溶劑稀釋紫外線固化光學膜塗料。

依據本發明之又一實施例，上述之溶劑係醇類、酮類、酯類、醚類、對二甲苯、甲苯或其任意組合。

依據本發明之再一實施例，上述之多孔性無機奈米粉體包含由數個奈米粒子構成之數個奈米片，每一奈米粒子係電漿改質無機奈米粒子，且多孔性無機奈米粉體之比表面積大於140m² /g。

依據本發明之再一實施例，上述形成紫外線固化光學膜塗層之步驟包含利用二流體高壓氣流霧化噴嘴、高轉速離心式塗料設備、靜電霧化圓盤型塗裝機、片狀壓電陶瓷高速振動霧化噴嘴、快速氣流高速撞擊霧化超音波噴嘴、超音波霧化噴嘴、靜電噴槍、旋轉塗佈設備、毛刷塗佈設備或噴霧塗佈設備。

依據本發明之再一實施例，上述之紫外線固化光學膜之厚度為5微米至40微米。此外，形成紫外線固化光學膜之步驟包含形成紫外線膠層、以及形成奈米片漂浮層附著在紫外線膠層之頂面。其中，奈米片漂浮層之厚度為20奈米至100奈米。

100‧‧‧紫外線固化光學膜

102‧‧‧紫外線膠層

104‧‧‧頂面

106‧‧‧奈米片漂浮層

108‧‧‧奈米片

110‧‧‧厚度

112‧‧‧厚度

114‧‧‧厚度

200‧‧‧基板

202‧‧‧表面

204‧‧‧紫外線固化光學膜塗層

206‧‧‧紫外線膠層

208‧‧‧奈米片漂浮層

210‧‧‧紫外線固化光學膜

212‧‧‧奈米片

214‧‧‧頂面

為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：〔圖1〕係繪示依照本發明之一實施方式的一種紫外線固化光學膜之透視示意圖；以及〔圖2A〕與〔圖2B〕係繪示依照本發明之一實施方式的一種紫外線固化光學膜之製程透視圖。

有鑑於習知高硬度紫外線光學膠樹脂無法在兼顧附著性、可撓性、光澤性與平整性的情況下，有效提升光學膜之硬度與機械強度，因此本發明在此提出一種紫外線固化光學膜塗料、紫外線固化光學膜及其製造方法，其採用低密度之多孔性無機奈米粉體，而可在成膜過程中形成奈米片漂浮層。故。藉此可在大幅縮減紫外線固化光學膜塗料之奈米粉體的含量下，有效提升光學膜之硬度與抗刮性，並兼顧光學膜之附著性與光學特性。

在本發明之一實施方式中，紫外線固化光學膜塗料主要包含多孔性無機奈米粉體、單體、寡聚物以及光啟始劑。在一些紫外線固化光學膜塗料之實施例中，以整個紫外線固化光學膜塗料之總重量計，即以紫外線固化光學膜塗料之總重量百分比為100wt%計，多孔性無機奈米粉體之含量為0.1wt%至1wt%，單體之含量為20wt%至29.9wt%，寡聚物之含量為70wt%至80wt%，且光啟始劑之含量為1wt%至10wt%。

在一些例子中，多孔性無機奈米粉體為電漿改質無機奈米粉體，即多孔性無機奈米粉體係利用電漿法來製備。此外，多孔性無機奈米粉體之材料可例如為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽。利用電漿法所製備之多孔性無機奈米粉體具有高分散性，不易產生團聚現象。此外，此多孔性無機奈米粉體包含許多奈米粒子，其中這些奈米粒子的粒徑極小，且表面多孔，密度也低。在一些例子中，多孔性無機奈米粉體之比表面積可例如大於140m² /g。每個奈米粒子之一次粒徑可例如為1奈米至10奈米。在一些例子中，此多孔性無機奈米粉體更可包含許多奈米片的結構，每個奈米片係由奈米粒子所構成。每個奈米片之厚度可例如為10奈米至70奈米。此外，這些奈米片可具有特殊的網狀結構。

由於這些奈米粒子的密度低，因此多孔性無機奈米粉體與單體、寡聚物以及光啟始劑混合後，可在紫外線固化光學膜之成膜過程中形成單層之奈米片漂浮於紫外線固化光學膜之表面，而賦予紫外線固化光學膜之表面一定的強度。因此，在紫外線固化光學膜塗料中，多孔性無機奈米粉體之含量相當少，而可大幅降低對所製成之紫外線固化光學膜之光學特性的影響，進而可使紫外線固化光學膜保持應有的光學特性。

在一些例子中，單體可選自於由二乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯與六丙烯酸酯所組成之一族 群。此外，寡聚物可選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群。而光啟始劑可例如為自由基反應型光啟始劑或陽離子型光啟始劑。

可將多孔性無機奈米粉體、單體、寡聚物與光啟始劑於室溫下均勻混合，即可得紫外線固化光學膜塗料。在一些例子中，紫外線固化光學膜塗料可依塗佈技術需求而額外添加稀釋溶劑。舉例而言，所添加的稀釋溶劑可為醇類、酮類、酯類、醚類、對二甲苯、與甲苯等溶劑中的單一種溶劑或多種溶劑。經溶劑稀釋後，紫外線固化光學膜塗料可例如呈0.5wt%至100wt%的鍍膜溶液，其中100wt%代表紫外線固化光學膜塗料亦可不以額外溶劑加以稀釋。

在紫外線固化光學膜塗料中，單體及寡聚物所組成之樹脂與多孔性無機奈米粉體形成網狀交聯結構。當其中一條分子鏈受到應力時，可通過交聯點將應力分散。同時，由於多孔性無機奈米粉體中之奈米粒子與樹脂分子鏈間的作用力為部分共價鍵與部分多點氫鍵作用力的多重鍵結，因此當應力較高時，多點氫鍵會先斷裂吸收能量，從而保護了共價鍵，一旦外力撤銷，多點氫鍵作用力又可重新形成。此外，由於紫外線固化光學膜塗料中多孔性無機奈米粉體的含量極低，因此不僅對所形成之紫外線固化光學膜的附著力不會造成影響，且可減少紫外線固化光學膜在固化過程中的體積收縮與因體積收縮所產生之內應力。再者，由於利用電漿法製備之多孔性無機奈米粉體中之奈米粒子可構成 奈米片網狀結構，因此可進一步降低紫外線固化光學膜內之殘存應力，而可提高紫外線固化光學膜之附著力。

紫外線固化光學膜塗料可應用來製作紫外線固化光學膜。請參照圖1，其係繪示依照本發明之一實施方式的一種紫外線固化光學膜之透視示意圖。在一實施方式中，紫外線固化光學膜100可利用上述實施方式之紫外線固化光學膜塗料來製作，且主要可包含紫外線膠層102與奈米片漂浮層106。紫外線膠層102之材料可例如包含單體、寡聚物與光啟始劑。在一些例子中，單體可選自於由二乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯與六丙烯酸酯所組成之一族群。寡聚物可選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群。而光啟始劑可例如為自由基反應型光啟始劑或陽離子型光啟始劑。

奈米片漂浮層106附著在紫外線膠層102之頂面104，亦即奈米片漂浮層106係漂浮在紫外線膠層102上並與其頂面104接合。奈米片漂浮層106包含許多奈米片108，而每個奈米片108可由許多的多孔性無機奈米粒子所構成。多孔性無機奈米粒子之一次粒徑可例如為1奈米至10奈米。奈米片108之厚度110可例如為20奈米至100奈米。在一些例子中，奈米片108之厚度110可為10奈米至70奈米。在一些例子中，如圖1所示，奈米片漂浮層106係一單層奈米片層，即奈米片漂浮層106係由一片片的奈米片108 以未相互堆疊的方式排列而成之單層奈米片結構。多孔性無機奈米粒子可為利用電漿法所製備之電漿改質無機奈米粒子。在一些例子中，多孔性無機奈米粒子之材料為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽。

在一些例子中，紫外線固化光學膜100之厚度114，即紫外線膠層102之厚度112與奈米片漂浮層106之厚度110加總後之厚度，為5微米至40微米。在特定例子中，紫外線固化光學膜100之厚度114可為5微米至30微米。當紫外線固化光學膜100之厚度為5微米至40微米時，奈米片漂浮層106之厚度110可例如為20奈米至100奈米。

在紫外線固化光學膜100中，由於奈米片漂浮層106係浮置而附著在紫外線膠層102之頂面104上，而使得紫外線固化光學膜100之表面係由奈米片漂浮層106所構成，因此可使得紫外線固化光學膜100之表面具有一定的硬度。如此一來，紫外線固化光學膜100在應用時，僅會摩擦到奈米片漂浮層106的部分，而不會損傷到奈米片漂浮層106下方之紫外線膠層102，且這樣的摩擦也僅會在奈米片漂浮層106上形成人眼無法辨識之奈米級傷痕。

此外，由於可在紫外線固化光學膜100之成膜過程中形成奈米片漂浮層106漂浮於紫外線固化光學膜100之表面，來使紫外線固化光學膜100具有一定的表面強度，因此紫外線固化光學膜塗料中之多孔性無機奈米粉體的含量相當少。如此一來，不僅可大幅降低對所製成之紫外線固化光學膜之光學特性的影響，而可使紫外線固化光學膜保持 應有的光學特性，更可提升紫外線固化光學膜100之附著性。

請參照圖2A與圖2B，其係繪示依照本發明之一實施方式的一種紫外線固化光學膜之製程透視圖。在一實施方式中，製作如圖2B圖所示之紫外線固化光學膜210時，先提供基板200。由於紫外線固化光學膜210形成於基板200上時，可用以保護基板200，因此紫外線固化光學膜210之硬度通常比基板200之材料的硬度大。在一些例子中，基板200係塑料基板，基板200之材料可例如選自於由聚甲基丙烯酸甲酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯與聚碳酸酯所組成之一族群。

接著，如圖2A所示，形成紫外線固化光學膜塗層204於基板200之表面202上。在一些例子中，形成紫外線固化光學膜塗層204時，可先提供紫外線固化光學膜塗料，再利用例如二流體高壓氣流霧化噴嘴、高轉速離心式塗料設備、靜電霧化圓盤型塗裝機、片狀壓電陶瓷高速振動霧化噴嘴、快速氣流高速撞擊霧化超音波噴嘴、超音波霧化噴嘴、靜電噴槍、旋轉塗佈設備、毛刷塗佈設備或噴霧塗佈設備，將紫外線固化光學膜塗料塗覆在基板200之表面202上。在本實施方式中，紫外線固化光學膜塗料之組成、各組成之含量比例與各組成之特性可如同上述實施方式所述之紫外線固化光學膜塗料，於此不再贅述。

在一些例子中，可於室溫下，將紫外線固化光學膜塗料之所有成分均勻混合，而獲得所需之紫外線固化光 學膜塗料，再將紫外線固化光學膜塗料塗覆在基板200上，即可在基板200上形成紫外線固化光學膜塗層204。在另一些例子中，紫外線固化光學膜塗料可根據塗佈技術的需求而額外添加稀釋溶劑，例如醇類、酮類、酯類、醚類、對二甲苯、與甲苯等溶劑中的單一種溶劑或多種溶劑。經溶劑稀釋後，紫外線固化光學膜塗料可例如呈0.5wt%至100wt%的鍍膜溶液，其中100wt%代表紫外線固化光學膜塗料亦可不額外以溶劑稀釋。

將紫外線固化光學膜塗層204設置在基板200之表面202上後，對紫外線固化光學膜塗層204進行烘乾處理。在一些示範例子中，可對紫外線固化光學膜塗層204進行50℃至70℃的烘乾處理5分鐘至10分鐘。接著，利用紫外線照射烘乾後之紫外線固化光學膜塗層204的方式，對紫外線固化光學膜塗層204進行紫外線固化處理，藉以使紫外線固化光學膜塗層204形成紫外線固化光學膜210，而完成在基板200之表面202上覆蓋一層紫外線固化光學膜210的程序，如圖2B所示。

由於，紫外線固化光學膜塗料中所包含之多孔性無機奈米粉體具有高分散性，不易產生團聚現象，再加上多孔性無機奈米粉體內之奈米粒子的粒徑極小、表面多孔、密度低，且這些奈米粒子可構成具有特殊之網狀結構的奈米片212。因此，在紫外線固化光學膜210之成膜過程中，紫外線固化光學膜塗層204中之奈米片212向上漂浮而形成奈米片漂浮層208，其餘組成則形成紫外線膠層206，藉此形 成由紫外線膠層206與附著在紫外線膠層206之頂面214上的奈米片漂浮層208所構成之紫外線固化光學膜210。由於奈米片漂浮層208浮置在紫外線固化光學膜210之頂部，而使得紫外線固化光學膜210具有一定的表面強度。在一些例子中，紫外線固化光學膜210之厚度為5微米至40微米。在特定例子中，紫外線固化光學膜210之厚度可為5微米至30微米。當紫外線固化光學膜210之厚度為5微米至40微米時，奈米片漂浮層208之厚度可例如為20奈米至100奈米。

以鉛筆硬度計(PORA)型式3084，並按美國材料試驗協會(ASTM)之D3363-00規格進行測試。在一示範例子中，塗佈5微米之紫外線固化光學膜在聚對苯二甲酸乙二醇酯基板上之鉛筆硬度為4H。在另一示範例子中，塗佈5微米之紫外線固化光學膜在聚甲基丙烯酸甲酯基板上之鉛筆硬度為9H。

由上述之實施方式可知，本發明之一優點就是因為本發明之紫外線固化光學膜塗料中的多孔性無機奈米粉體具有粒子之粒徑極小、表面多孔、密度低、以及可形成具有特殊網狀結構之奈米片的特性，因此在紫外線固化光學膜之成膜過程中，會在光學膜頂部形成奈米片漂浮層。故，紫外線固化光學膜塗料可在大幅縮減奈米粉體之含量下，提升光學膜之表面強度。

由上述之實施方式可知，本發明之另一優點就是因為本發明之紫外線固化光學膜塗料中之奈米粉體含量極少，因此可大幅降低奈米粉體對紫外線固化光學膜之附著 力的影響，並可減少光學膜在固化過程中之體積收縮及因體積收縮所產生之內應力。

由上述之實施方式可知，本發明之又一優點就是因為本發明之紫外線固化光學膜塗料中的奈米粉體可採電漿改質無機奈米粉體，此電漿改質無機奈米粉體其不僅具有窄粒徑分佈與分散性良好的特性，更可形成具網狀結構之奈米片，還可降低光學膜內之殘存應力，因此可進一步提高光學膜之附著力。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何在此技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧紫外線固化光學膜

102‧‧‧紫外線膠層

104‧‧‧頂面

106‧‧‧奈米片漂浮層

108‧‧‧奈米片

110‧‧‧厚度

112‧‧‧厚度

114‧‧‧厚度

Claims (15)

1. 一種紫外線固化光學膜塗料，由一多孔性無機奈米粉體、一單體、一寡聚物以及一光啟始劑所組成，其中該多孔性無機奈米粉體之材料為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽，該單體係選自於由二乙二醇二丙烯酸酯(DEGDA)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、二縮三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)與六丙烯酸酯(DPHA)所組成之一族群，且該寡聚物係選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群，其中以該紫外線固化光學膜塗料之總重量百分比為100wt%計，該多孔性無機奈米粉體之含量為0.1wt%至1wt%；該單體之含量為20wt%至29.9wt%；該寡聚物之含量為70wt%至80wt%；以及該光啟始劑之含量為1wt%至10wt%。
2. 如申請專利範圍第1項之紫外線固化光學膜塗料，其中該多孔性無機奈米粉體包含複數個奈米粒子，且每一該些奈米粒子之一次粒徑為1奈米至10奈米。
3. 如申請專利範圍第2項之紫外線固化光學膜塗料，其中該多孔性無機奈米粉體包含由該些奈米粒子 構成之複數個奈米片，每一該些奈米片之厚度為10奈米至70奈米。
4. 如申請專利範圍第1項之紫外線固化光學膜塗料，其中該多孔性無機奈米粉體係一電漿改質無機奈米粉體。
5. 如申請專利範圍第1項之紫外線固化光學膜塗料，其中該多孔性無機奈米粉體之比表面積大於140m² /g。
6. 一種紫外線固化光學膜，包含：一紫外線膠層，其中該紫外線膠層係由一單體、一寡聚物與一光啟始劑所組成，該單體係選自於由二乙二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯與六丙烯酸酯所組成之一族群，且該寡聚物係選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群；以及一奈米片漂浮層，附著在該紫外線膠層之一頂面，其中該奈米片漂浮層包含複數個奈米片，且每一該些奈米片由複數個多孔性無機奈米粒子所構成，該些多孔性無機奈米粒子之材料為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽， 其中以該紫外線固化光學膜之總重量百分比為100wt%計，該單體之含量為20wt%至29.9wt%；該寡聚物之含量為70wt%至80wt%；該光啟始劑之含量為1wt%至10wt%；以及該些多孔性無機奈米粒子之含量為0.1wt%至1wt%。
7. 如申請專利範圍第6項之紫外線固化光學膜，其中每一該些多孔性無機奈米粒子係一電漿改質無機奈米粒子。
8. 如申請專利範圍第6項之紫外線固化光學膜，其中該奈米片漂浮層與該紫外線膠層之總厚度為5微米至40微米，且該奈米片漂浮層之厚度為20奈米至100奈米。
9. 一種紫外線固化光學膜之製造方法，包含：提供一基板；利用一紫外線固化光學膜塗料形成一紫外線固化光學膜塗層於該基板之一表面上，其中該紫外線固化光學膜塗料係由一多孔性無機奈米粉體、一單體、一寡聚物以及一光啟始劑所組成，該多孔性無機奈米粉體之材料為二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯或碳化矽，該單體係選自於由二乙二醇二丙烯酸酯(DEGDA)、三羥甲基丙烷三丙烯 酸酯(TMPTA)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA)、二縮三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)與六丙烯酸酯(DPHA)所組成之一族群，該寡聚物係選自於由壓克力聚酯寡聚物、壓克力改性聚胺酯寡聚物與壓克力改性環氧樹脂寡聚物所組成之一族群，其中以該紫外線固化光學膜塗料之總重量百分比為100wt%計，該多孔性無機奈米粉體之含量為0.1wt%至1wt%；該單體之含量為20wt%至29.9wt%；該寡聚物之含量為70wt%至80wt%；以及該光啟始劑之含量為1wt%至10wt%；對該紫外線固化光學膜塗層進行一烘乾處理；以及對該紫外線固化光學膜塗層進行一紫外線固化處理，以形成一紫外線固化光學膜。
10. 如申請專利範圍第9項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中該基板係一塑料基板，且該塑料基板之材料係選自於由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)與聚碳酸酯(PC)所組成之一族群。
11. 如申請專利範圍第9項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中形成該紫外線固化光學膜塗層之步驟包含： 均勻混合該多孔性無機奈米粉體、該單體、該寡聚物以及該光啟始劑，而獲得該紫外線固化光學膜塗料；以及利用一溶劑稀釋該紫外線固化光學膜塗料。
12. 如申請專利範圍第11項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中該溶劑係醇類、酮類、酯類、醚類、對二甲苯、甲苯或其任意組合。
13. 如申請專利範圍第9項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中該多孔性無機奈米粉體包含由複數個奈米粒子構成之複數個奈米片，每一該些奈米粒子係一電漿改質無機奈米粒子，且該多孔性無機奈米粉體之比表面積大於140m² /g。
14. 如申請專利範圍第9項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中形成該紫外線固化光學膜塗層之步驟包含利用二流體高壓氣流霧化噴嘴、高轉速離心式塗料設備、靜電霧化圓盤型塗裝機、片狀壓電陶瓷高速振動霧化噴嘴、快速氣流高速撞擊霧化超音波噴嘴、超音波霧化噴嘴、靜電噴槍、旋轉塗佈設備、毛刷塗佈設備或噴霧塗佈設備。
15. 如申請專利範圍第9項之紫外線固化光學膜之製造方法，其中該紫外線固化光學膜之厚度為5微米至40微米，且形成該紫外線固化光學膜之步驟包含： 形成一紫外線膠層；以及形成一奈米片漂浮層附著在該紫外線膠層之一頂面，其中該奈米片漂浮層之厚度為20奈米至100奈米。