TWI508790B - Coating device - Google Patents

Description

塗佈裝置

本發明係關於一種將塗佈液塗佈於有機EL(Electro Luminescence；電致發光)顯示裝置用玻璃基板、液晶顯示裝置用玻璃基板、PDP(Plasma Display Panel；電漿顯示面板)用玻璃基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板或半導體製造裝置用光罩基板等基板之塗佈裝置。

例如，於製造使用高分子有機EL(Electro Luminescence)材料之主動矩陣驅動方式之有機EL顯示裝置時，會對玻璃基板依序執行如下步驟：TFT(Thin Film Transistor；薄膜電晶體)電路之形成步驟、成為陽極之ITO(Indium Tin Oxide；氧化銦錫)電極之形成步驟、間隔壁之形成步驟、包含正電洞傳輸材料之流動性材料之塗佈步驟、藉由加熱處理之正電洞傳輸層之形成步驟、包含有機EL材料之流動性材料之塗佈步驟、藉由加熱處理之有機EL層之形成步驟、陰極之形成步驟、及藉由形成絕緣膜之密封步驟。

製造此一有機EL顯示裝置時，作為將包含正電洞傳輸材料之流動性材料或包含有機EL材料之流動性材料等之塗佈液塗佈於基板之塗佈裝置，已知有如下裝置：藉由使連續吐出塗佈液之複數個噴嘴對基板沿主掃描方向及副掃描方向相對移動，而將塗佈液呈條紋狀地塗佈於基板上之塗佈區 域。

又，於專利文獻1中提出有採用如下滑件作為使具有複數個噴嘴之塗佈頭沿主掃描方向往返移動之塗佈頭移動機構，該滑件係藉由一面卡合於沿主掃描方向延伸之導引部一面朝與導引部之間噴出空氣，而在非接觸狀態下支撐於導引部。於此專利文獻1所記載之塗佈裝置中，經由空氣供給管將空氣供給至滑件。又，經由與塗佈液蓄積部連接之可撓性之塗佈液供給管，將塗佈液供給至安裝於此滑件之塗佈頭之複數個噴嘴。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2009-131735號公報

於此一塗佈裝置中，要求塗佈液之膜厚之均勻性。如此，為使塗佈液之膜厚均勻，必須使自噴嘴所吐出之塗佈液之流量均勻。

然而，於經由可撓性之塗佈液供給管將塗佈頭之複數個噴嘴與塗佈液蓄積部連接之狀態下，在將塗佈液供給至以高速往返移動之噴嘴之情形時，因伴隨噴嘴移動之塗佈液供給管之變形、或對塗佈液供給管內之塗佈液所賦予之慣性力等之影響，而難以將自噴嘴所吐出之塗佈液之流量維持為固定。

本發明係為了解決上述課題而完成者，其目的在於提供一種即便於藉由可撓性之塗佈液供給管將塗佈液自塗佈液蓄積部向往返移動之噴嘴輸送之情形時，亦可將塗佈液之流量維持為固定而將塗佈液均勻地塗佈之塗佈裝置。

技術方案1所記載之發明係一種塗佈裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；噴嘴，其對保持於上述基板保持部之基板吐出塗佈液；主掃描方向移動機構，其使上述噴嘴沿與基板之表面平行之主掃描方向往返移動；副掃描方向移動機構，其使上述基板保持部沿與上述主掃描方向正交、且與基板之表面平行之副掃描方向對上述噴嘴進行相對移動；及可撓性之塗佈液供給管，其用以將塗佈液自塗佈液蓄積部對上述噴嘴輸送；其特徵在於具備有：壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構具有：壓力吸收部，其藉由伴隨自上述塗佈液供給管輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形而使塗佈液之收容部之體積變化；及流量阻抗部，其具有小於上述塗佈液供給管之流孔；該壓力變動吸收機構係配設於上述噴嘴與上述塗佈液供給管之間，並且與上述噴嘴一體而移動。

技術方案2所記載之發明係如技術方案1之發明，其中，上述壓力吸收部係由樹脂製之軟質管所構成。

技術方案3所記載之發明係如技術方案2之發明，其中， 上述樹脂製之軟質管，其外徑為1 mm至3 mm，其內徑為0.5 mm至2.5 mm。

技術方案4所記載之發明係如技術方案2之發明，其中，上述流量阻抗部係具有小於上述塗佈液供給管及上述軟質管的內徑之樹脂製之硬質管。

技術方案5所記載之發明係如技術方案4之發明，其中，上述硬質管，其外徑為1 mm至3 mm，其內徑為0.05 mm至0.2 mm。

技術方案6所記載之發明係一種塗佈裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；噴嘴，其對保持於上述基板保持部之基板吐出塗佈液；主掃描方向移動機構，其使上述噴嘴沿與基板之表面平行之主掃描方向往返移動；副掃描方向移動機構，其使上述基板保持部沿與上述主掃描方向正交、且與基板之表面平行之副掃描方向對上述噴嘴進行相對移動；及可撓性之塗佈液供給管，其用以將塗佈液自塗佈液蓄積部對上述噴嘴輸送；其特徵在於具備有：壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構具有：壓力吸收部，其係由壁厚度較薄之軟質管所構成，且藉由伴隨自上述塗佈液供給管輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形而使塗佈液之收容部之體積變化；及流量阻抗部，其具有小於上述塗佈液供給管及上述軟質管之內徑，且由壁厚度較上述軟質管厚之樹脂製之硬質管所構成；該壓力變動吸收機構係配設於上述噴嘴與上述 塗佈液供給管之間，並且與上述噴嘴一體而移動。

技術方案7所記載之發明係如技術方案1至6中任一項之發明，其中，上述噴嘴於上述副掃描方向上以特定間距配設有複數個，上述塗佈液供給管及上述壓力變動吸收機構係對應於各噴嘴而配設複數個，並且上述複數個塗佈液供給管係分別經由質量流量控制器連接於自上述塗佈液蓄積部壓送塗佈液之泵。

根據技術方案1所記載之發明，即便於藉由可撓性之塗佈液供給管將塗佈液自塗佈液蓄積部對往返移動之噴嘴輸送之情形時，亦可藉由具有壓力吸收部及流量阻抗部之壓力變動吸收機構之作用，將塗佈液之流量維持為固定而可將塗佈液均勻地塗佈。

根據技術方案2及3所記載之發明，可使壓力吸收部成為簡易之構成，且可藉由變更軟質管之長度而容易地控制塗佈液之壓力變動。

根據技術方案4及5所記載之發明，可使流量阻抗部成為簡易之構成，且可藉由變更硬質管之長度而容易地控制塗佈液之壓力變動。

根據技術方案6所記載之發明，即便於藉由可撓性之塗佈液供給管將塗佈液自塗佈液蓄積部對往返移動之噴嘴輸送之情形時，亦可藉由具有壓力吸收部及流量阻抗部之壓力變 動吸收機構之作用，將塗佈液之流量維持為固定而可將塗佈液均勻地塗佈。又，可使壓力吸收部及流量阻抗部成為簡易之構成，且可藉由變更軟質管及硬質管之長度而容易地控制塗佈液之壓力變動。

根據技術方案7所記載之發明，即便於藉由泵之作用將塗佈液對複數個噴嘴壓送之情形時，亦可將自各噴嘴所吐出之塗佈液之流量維持為固定而可將塗佈液均勻地塗佈。

以下，根據圖式說明本發明之實施形態。圖1係本發明之塗佈裝置之俯視圖，圖2係其前視圖。

此塗佈裝置係用以將塗佈液塗佈於矩形狀之玻璃基板100者。更詳細而言，此塗佈裝置係用以將包含揮發性溶劑(於本實施形態中係作為芳香族之有機溶劑之一的4-甲基苯甲醚)、及作為發光材料之有機EL材料之塗佈液塗佈於主動矩陣驅動方式之有機EL(Electro Luminescence)顯示裝置用玻璃基板100者。

此塗佈裝置具備有用以使玻璃基板100移動之基板移動機構11。如圖2所示，此基板移動機構11具有將玻璃基板100自其背面保持之基板保持部10。此基板保持部10係由沿一對導軌12移動之基台13、及配設於此基台13上之旋轉台14所支撐。因此，此基板保持部10可沿圖1所示之Y方向與玻璃基板100之表面平行移動。此Y方向係與下述 塗佈頭20之往返移動方向即主掃描方向(圖1中之X方向)正交之方向。以下，將此Y方向亦稱為「副掃描方向」。又，此基板保持部10能夠以朝向鉛垂方向(圖1之Z方向)之軸為中心進行旋轉。

此基板保持部10係於其內部具備有自下側加熱玻璃基板100之加熱器。於此玻璃基板100之表面，沿Y方向以例如100~150 μm之間距排列形成有分別沿X方向延伸之複數個塗佈區域。此塗佈區域例如藉由在X方向所配置之間隔壁等所形成。

又，此塗佈裝置具備有用以對形成於玻璃基板100上之未圖示之對準標記進行攝像並進行檢測，並且對塗佈頭20之塗佈軌跡進行攝像的左右一對攝像部15。於此一對攝像部15中，分別配設有CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合器件)攝影機。又，此塗佈裝置具備有用於塗佈軌跡之試驗性塗佈之左右一對試驗塗佈平台部16。

朝向保持於基板保持部10之玻璃基板100之表面吐出塗佈液之塗佈頭20係藉由塗佈頭移動機構21，沿一對導引部22，於與玻璃基板100表面平行之主掃描方向(圖1之X方向)往返移動。於此塗佈頭20沿副掃描方向以等間隔配設有用以連續吐出同一種塗佈液之複數個噴嘴23。於圖1及圖2中，雖然為方便圖示而僅圖示有5個噴嘴23，但噴嘴23之個數亦可為更多，或者亦可為1個。又，噴嘴23之配置只 要為特定間距，亦可不為等間隔。

塗佈頭20係經由將下述空氣供給管及下述複數個塗佈液供給管64全部匯整而成之供給管群26，而連接於塗佈液蓄積部24及空氣供給源25。於塗佈頭20之往返移動方向(X方向)上之基板保持部10之兩側，配設有接收來自塗佈頭20之噴嘴23之塗佈液之2個受液部17、18。又，於塗佈頭20之往返移動方向(X方向)上之一受液部18之側方，配設有用以調整上述複數個噴嘴23於副掃描方向之間距之噴嘴間距調整機構19。

圖3係塗佈頭移動機構21中滑件31附近之剖面圖。

於圖1所示之塗佈頭移動機構21之導引構件22，可滑動地配設有滑件31。於此滑件31形成有供導引構件22貫通之貫通孔32。如圖1所示，對此滑件31自空氣供給源25經由供給管群26中所含之空氣供給管供給有一定壓力之空氣。因此，如圖3所示，於貫通孔32之內周面與導引部22之外周面之間噴出空氣(氣體)。於圖3中，標示元件符號A1並以箭頭表示空氣之噴出方向。藉此，滑件31在非接觸狀態下一面卡合於導引部22，一面可沿主掃描方向移動地被支撐。

參照圖1，於一對導引部22之兩端部附近，配設有能夠以朝向Z軸方向之軸為中心進行旋轉之一對滑輪33。於此一對滑輪33纏繞有環狀之同步傳送帶34。滑件31之一端 固定於此同步傳送帶34。另一方面，於滑件31之另一端固定有上述塗佈頭20。因此，藉由未圖示之馬達之驅動使同步傳送帶34順時針或逆時針旋轉，藉此可使塗佈頭20朝(-X)方向或(+X)方向往返移動。此時，由於可藉由上述氣體之作用而相對於導引部22在非接觸狀態下支撐滑件31，故可使塗佈頭20之往返移動高速且平順。

於此塗佈裝置中，此塗佈頭移動機構21成為使塗佈頭20沿主掃描方向移動之主掃描方向移動機構，基板移動機構11成為使基板保持部10沿副掃描方向移動之副掃描方向移動機構。於此塗佈裝置中，每當塗佈頭20朝向主掃描方向之移動結束時，使玻璃基板100沿副掃描方向移動，藉此對玻璃基板100表面之塗佈區域執行塗佈液之塗佈。再者，於塗佈頭20之主掃描時，塗佈頭20係於受液部17、18之附近加速或完成減速，於玻璃基板100之上方以例如每秒3~5 m左右之固定速度移動。

圖4係表示圖1所示之塗佈液蓄積部24與複數個噴嘴23之連接關係之示意圖。

上述塗佈液蓄積部24係連結於用以壓送塗佈液之單一之泵61。此泵61係經由分支管連結於複數個質量流量控制器62。於塗佈頭20沿副掃描方向以等間隔配設之複數個噴嘴23，分別經由作為本發明之特徵部分之壓力變動吸收機構70、上述可撓性之塗佈液供給管64及電磁開閉閥63，而連 接於質量流量控制器62。

再者，各噴嘴23及壓力變動吸收機構70係配設於塗佈頭20，複數個噴嘴23與壓力變動吸收機構70構成為一體而沿主掃描方向進行往返移動。

藉由泵61之作用蓄積於塗佈液蓄積部24之塗佈液係朝向質量流量控制器62壓送。然後，此塗佈液係於質量流量控制器62中調整其流量後，經由電磁開閉閥63及可撓性之塗佈液供給管64而輸送至壓力變動吸收機構70。此時，藉由塗佈液供給管64所輸送之塗佈液之壓力由於塗佈頭20以高速往返移動所導致之塗佈液供給管64之變形、或對塗佈液供給管64內之塗佈液賦予之慣性力等影響而產生變動，而難以將其流量維持為固定。因此，於壓力變動吸收機構70中吸收此塗佈液之壓力之變動，從而使自各噴嘴23所吐出之塗佈液之流量為固定。

接著，對此壓力變動吸收機構70之構成進行說明。圖5係本發明之第1實施形態之壓力變動吸收機構70之概要圖。

此壓力變動吸收機構70具備有壓力吸收部71及流量阻抗部72。此處，壓力吸收部71係藉由伴隨自塗佈液供給管64輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形使塗佈液之收容部之體積變化者，其係由薄壁之樹脂製之軟質管73所構成。又，流量阻抗部72係由內徑小於塗佈液供給管64或軟質管73，即具有更小之流孔之厚壁之樹脂製之硬質管74所 構成。軟質管73係經由連接器75與塗佈液供給管64連接。又，硬質管74係經由連接器77與噴嘴23連接。而且，軟質管73與硬質管74係藉由連接器76相連接。

構成壓力吸收部71之軟質管73例如由其外徑為1.5 mm左右且其內徑為1.0 mm左右之PFA(Polyfluoroalkoxy，可溶性聚四氟乙烯)(四氟乙烯)製之管體所構成。此軟質管73具有藉由伴隨自塗佈液供給管64輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形，使其內徑即塗佈液之收容部之體積變化的構成。因此，此軟質管73係由具有柔軟性及彈性之薄壁之管狀構件所構成。作為此軟質管73，為實現較佳之彈性變形，其外徑較佳為1 mm至3 mm左右，其內徑較佳為0.5 mm至2.5 mm左右。

另一方面，構成流量阻抗部72之硬質管74係由其外徑為1.5 mm左右，其內徑為0.1 mm左右之氟樹脂製之管體所構成。此硬質管74因具有作為微小流孔之小管徑而發揮作為流量阻抗之功能。因此，此硬質管74係由較硬質之厚壁之管狀構件所構成。作為此硬質管74，為使其具有作為微小流孔之功能，其外徑較佳為1 mm至3 mm左右，其內徑較佳為0.05 mm至0.2 mm左右。再者，此硬質管74只要為可維持作為微小流孔之功能者，則亦可為具有柔軟性或特定彈性者。此處所謂之硬質係指硬度大於軟質管73。

於具有此一構成之壓力變動吸收機構70中，可藉由壓力 吸收部71及流量阻抗部72以兩個階段吸收自塗佈液供給管64所輸送塗佈液之壓力變動，而使自各噴嘴23所吐出之塗佈液之流量為固定。

即，於構成壓力吸收部71之軟質管73中，在自塗佈液供給管64供給至噴嘴23之塗佈液之壓力上升之情形時，藉由軟質管73膨脹使其內徑增大，使塗佈液之收容部之體積增加。另一方面，於自塗佈液供給管64供給至噴嘴23之塗佈液之壓力下降之情形時，藉由軟質管73收縮使其內徑減小，使塗佈液之收容部之體積減少。藉此，可吸收塗佈液之壓力之變動。

另一方面，於構成流量阻抗部72之硬質管74中，藉由作為微小流孔之小管徑之作用，可吸收塗佈液之壓力變動。即，於塗佈液之流路之內徑自某一數值變小後，再次恢復至原內徑之情形時，通過該處之塗佈液之平均流速先變為較快之速度後再恢復至原速度。此時，因塗佈液與管路內壁之摩擦所產生之於管路內流動之塗佈液之壓力損失係與其流速之平方成比例。因此，藉由在管路內設置微小流孔，可利用壓力損失吸收壓力變動。因此，於此硬質管72中吸收塗佈液之壓力之變動，從而可使自各噴嘴23所吐出之塗佈液之流量為固定。

此處，一般而言，雖然流量阻抗部72使流量變動減少之效果大於壓力吸收部71，但存在有若於流量阻抗部72過度 賦予壓力損失，則塗佈液可吐出之流量就會變小之問題。另一方面，於壓力吸收部71中，雖然抑制流量變動之效果小於流量阻抗部72，但可吐出之流量不會變小。因此，於本實施形態中係採用如下構成，即，於壓力吸收部71中在降低流量變動後，利用流量阻抗部72去除剩餘之流量變動，藉此將塗佈液之流量維持為固定，從而將塗佈液均勻地塗佈。

此時，於本實施形態中，由於係藉由軟質管73構成壓力吸收部71，故其構成較為簡易，又，藉由變更軟質管73之長度，可容易地控制塗佈液之壓力變動。同樣地，於本實施形態中，由於係藉由硬質管74構成流量阻抗部72，故其構成較為簡易，又，藉由變更硬質管74之長度，可容易地控制塗佈液之壓力變動。

接著，對壓力吸收部71之其他實施形態進行說明。圖6A及圖6B係本發明之第2實施形態之壓力吸收部71之概要圖。

此第2實施形態之壓力吸收部71之構成包含：塗佈液之流路82，其一端與塗佈液供給管64連通，且其另一端與噴嘴23側連通；腔室81，其側部形成有開口部並且具備有塗佈液之蓄積部83；及可彈性變形之薄膜84，其配設於此腔室81之開口部。於此壓力吸收部71中，藉由可彈性變形之薄膜84之作用，可吸收塗佈液之壓力變動。

即，於供給至噴嘴23之塗佈液之壓力上升之情形時，如圖6A所示，薄膜84膨脹而使塗佈液之蓄積部83之體積增大，於供給至噴嘴23之塗佈液之壓力下降之情形時，如圖6B所示，薄膜84凹陷而使塗佈液之蓄積部83之體積減小。藉此，可於此壓力吸收部71中吸收塗佈液之壓力之變動。

因此，可代替圖5所示之壓力吸收部71，將圖6A及圖6B所示之壓力吸收部71，配設於塗佈液供給管64與流量阻抗部72之間，藉此將塗佈液之流量維持為固定而將塗佈液均勻地塗佈。

接著，對流量阻抗部72之其他實施形態進行說明。圖7係本發明之第2實施形態之流量阻抗部72之概要圖。

圖7所示之流量阻抗部72之構成包含：管路85，該管路85之一端與塗佈液供給管64側連通，其另一端與噴嘴23連通，並且於其內部形成有由間隔壁86所形成之微小流孔。於本實施形態之流量阻抗部72中，亦可藉由微小流孔之作用而與上述硬質管74之情形同樣地吸收塗佈液之壓力變動。

因此，可代替圖5所示之流量阻抗部72，將圖7所示之流量阻抗部72配設於壓力吸收部71與噴嘴23之間，藉此將塗佈液之流量維持為固定而將塗佈液均勻地塗佈。

於具有如上述構成之塗佈裝置中，當開始進行塗佈液之塗佈時，首先將玻璃基板100保持於基板保持部10。然後， 藉由攝像部15檢測出形成於玻璃基板100之對準標記，並且根據該檢測結果使基板保持部10移動及旋轉，將玻璃基板100配置於圖1中以實線所示之塗佈開始位置。於此狀態下，開始自塗佈頭20中之複數個噴嘴23吐出塗佈液，並且藉由塗佈頭移動機構21使塗佈頭20沿主掃描方向移動。

然後，自複數個噴嘴23之各者以固定流量朝向玻璃基板100之表面連續地吐出塗佈液，並且塗佈頭20以固定速度沿主掃描方向連續地移動，從而將塗佈液以條紋狀塗佈於玻璃基板100之塗佈區域之複數個線狀區域。此時，由於在具備壓力吸收部71及流量阻抗部72之壓力變動吸收機構70中吸收塗佈液之壓力之變動，因此可使自各噴嘴23所吐出之塗佈液之流量為固定。

然後，藉由將塗佈頭20移動至圖1及圖2中以二點鏈線所表示之與受液部18相對向之待機位置為止，而形成由塗佈液所形成之條紋狀圖案。當塗佈頭20移動至待機位置為止時，驅動基板移動機構11，使玻璃基板100與基板保持部10一併沿副掃描方向移動。此時，於塗佈頭20中，自複數個噴嘴23朝向受液部18連續地吐出塗佈液。

繼續進行如上之動作直至必要之塗佈動作結束為止。然後，當玻璃基板100移動至塗佈結束位置為止時，停止自複數個噴嘴23吐出塗佈液，結束藉由塗佈裝置對玻璃基板100之塗佈液之塗佈動作。將已結束塗佈之玻璃基板100搬送至 其他塗佈裝置等，並對其塗佈藉由此塗佈裝置所進行塗佈之塗佈液以外之其他2種顏色之塗佈液。然後，於對玻璃基板100進行特定之塗佈步驟後，與其他零件組合而製造有機EL顯示裝置。

再者，於上述實施形態中，雖然在塗佈液供給管64側配設有壓力吸收部71，在噴嘴23側配設有流量阻抗部72，但亦可顛倒地配置。即，於在塗佈液供給管64側配設有流量阻抗部72，在噴嘴23側配設有壓力吸收部71之情形時，亦可使自各噴嘴23所吐出之塗佈液之流量為固定。

10‧‧‧基板保持部

11‧‧‧基板移動機構

12‧‧‧導軌

13‧‧‧基台

14‧‧‧旋轉台

15‧‧‧攝像部

16‧‧‧試驗塗佈平台部

17‧‧‧受液部

18‧‧‧受液部

19‧‧‧噴嘴間距調整機構

20‧‧‧塗佈頭

21‧‧‧塗佈頭移動機構

22‧‧‧導引部

23‧‧‧噴嘴

24‧‧‧塗佈液蓄積部

25‧‧‧空氣供給源

26‧‧‧供給管群

31‧‧‧滑件

32‧‧‧貫通孔

33‧‧‧滑輪

34‧‧‧同步傳送帶

61‧‧‧泵

62‧‧‧質量流量控制器

63‧‧‧電磁開閉閥

64‧‧‧塗佈液供給管

70‧‧‧壓力變動吸收機構

71‧‧‧壓力吸收部

72‧‧‧流量阻抗部

73‧‧‧軟質管

74‧‧‧硬質管

75、76、77‧‧‧連接器

81‧‧‧腔室

82‧‧‧流路

83‧‧‧塗佈液之蓄積部

84‧‧‧薄膜

85‧‧‧管路

86‧‧‧間隔壁

100‧‧‧玻璃基板

X、Y、Z‧‧‧方向

A1‧‧‧箭頭

圖1係本發明之塗佈裝置之俯視圖。

圖2係本發明之塗佈裝置之前視圖。

圖3係塗佈頭移動機構21中滑件31附近之剖面圖。

圖4係表示塗佈液蓄積部24與複數個噴嘴23之連接關係之示意圖。

圖5係本發明之第1實施形態之壓力變動吸收機構70之概要圖。

圖6A係本發明之第2實施形態之壓力吸收部71之概要圖。

圖6B係本發明之第2實施形態之壓力吸收部71之概要圖。

圖7係本發明之第2實施形態之流量阻抗部72之概要圖。

23‧‧‧噴嘴

64‧‧‧塗佈液供給管

70‧‧‧壓力變動吸收機構

71‧‧‧壓力吸收部

72‧‧‧流量阻抗部

73‧‧‧軟質管

74‧‧‧硬質管

75、76、77‧‧‧連接器

Claims (4)

1. 一種塗佈裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；噴嘴，其對保持於上述基板保持部之基板吐出塗佈液；主掃描方向移動機構，其使上述噴嘴沿與基板之表面平行之主掃描方向往返移動；副掃描方向移動機構，其使上述基板保持部沿與上述主掃描方向正交、且與基板之表面平行之副掃描方向，對上述噴嘴進行相對移動；及可撓性之塗佈液供給管，其用以將塗佈液自塗佈液蓄積部對上述噴嘴輸送；其特徵在於具備有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構具有：壓力吸收部，其由樹脂製之軟質管所構成，藉由伴隨自上述塗佈液供給管輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形，而使塗佈液之收容部之體積變化；及流量阻抗部，其由具有小於上述塗佈液供給管及上述軟質管的內徑之樹脂製之硬質管所構成，具有小於上述塗佈液供給管之流孔；該壓力變動吸收機構係配設於上述噴嘴與上述塗佈液供給管之間，並且與上述噴嘴一體而移動；上述噴嘴於上述副掃描方向上以特定間距配設有複數個，上述塗佈液供給管及上述壓力變動吸收機構係對應於各噴嘴而配設複數個，並且，上述複數個塗佈液供給管係經由對應於各噴嘴而被配設複數個之質量流量控制器，對於自上述塗佈液蓄積部而被壓送有塗佈液之分支管分別被連結。
2. 如申請專利範圍第1項之塗佈裝置，其中，上述樹脂製之軟質管，其外徑為1mm至3mm，其內徑為0.5mm至2.5mm。
3. 如申請專利範圍第1或2項之塗佈裝置，其中，上述硬質管，其外徑為1mm至3mm，其內徑為0.05mm至0.2mm。
4. 一種塗佈裝置，其具備有：基板保持部，其保持基板；噴嘴，其對保持於上述基板保持部之基板吐出塗佈液；主掃描方向移動機構，其使上述噴嘴沿與基板之表面平行之主掃描方向往返移動；副掃描方向移動機構，其使上述基板保持部沿與上述主掃描方向正交、且與基板之表面平行之副掃描方向，對上述噴嘴進行相對移動；及可撓性之塗佈液供給管，其用以將塗佈液自塗佈液蓄積部對上述噴嘴輸送；其特徵在於具備有壓力變動吸收機構，該壓力變動吸收機構具有：壓力吸收部，其係由壁厚度較薄之軟質管所構成，且藉由伴隨自上述塗佈液供給管輸送之塗佈液之壓力變動所產生之彈性變形，而使塗佈液之收容部之體積變化；及流量阻抗部，其具有小於上述塗佈液供給管及上述軟質管之內徑，且由壁厚度較上述軟質管厚之樹脂製之硬質管所構成；該壓力變動吸收機構係配設於上述噴嘴與上述塗佈液供給管之間，並且與上述噴嘴一體而移動；上述噴嘴於上述副掃描方向上以特定間距配設有複數 個，上述塗佈液供給管及上述壓力變動吸收機構係對應於各噴嘴而配設複數個，並且，上述複數個塗佈液供給管係經由對應於各噴嘴而被配設複數個之質量流量控制器，對於自上述塗佈液蓄積部而被壓送有塗佈液之分支管分別被連結。