TWI505873B - 降流式反應器之混合裝置 - Google Patents

Description

降流式反應器之混合裝置

本發明係關於用於多床加氫處理反應器(multi-bed hydroprocessing reactor)之混合裝置。具體言之，該混合裝置適用於包括顆粒催化劑物質之垂直重疊填料床之降流式催化反應器，其中液體或液體與氣體混合物在其向下流經填料床時經處理。此類型反應器用於石油化學加工工業以執行多種催化反應，諸如加氫處理反應，包括氫化處理(hydrotreating)、加氫精製(hydrofinishing)、加氫裂解(hydrocracking)及脫蠟(dewaxing)。

在固定床燃料及潤滑油加氫處理單元中，氣體及液體向下流經多個固體催化劑床。催化反應釋放熱量，引起溫度隨沿床往下的距離而增加。可在諸床之間引入冷富氫氣體以中止升溫且補充由反應消耗之氫。為保持反應器整體效能，反應器內流體之溫度和壓力應儘可能均勻且任何液體與氣體應充分混合以最大化效能。不佳的互層流體混合可以多種方式限制反應器操作。當互層混合不能消除溫差時，此等溫差隨處理流體沿反應器往下移動而持續或增長。任何床中之熱點可引起該區域中催化劑快速失活，從而縮短反應器總循環長度。高溫下產物選擇性通常較弱。舉例而言，熱區域可引起顏色、黏度及其他品質不合格(off-specification)。又，若任一點處之溫度超過某一值(通常為800至850℉)，則放熱反應可變為自加速，引起可損害催化劑、容器或下游設備之失控。由於此等危害，以不佳的內部硬體操作之精煉機必須犧牲產率及/或產量來避免不佳互層流體混合之有害影響。可經由混合及平衡催化劑床之間的反應物、校正任何溫度及流動分佈不均及最小化壓降來最小化反應器溫度分佈不均及熱點。可使用分配器總成及混合室來完成催化劑床之間流體之混合。鑒於目前精煉廠經濟情況表明加氫處理單元在遠超過設計之進料率下操作，因此最佳的互層流體混合為有價值之低成本解瓶頸辦法。

分配器總成可用於在多床催化劑反應器之互層區域中收集、混合及分配流體。分配器總成通常包括用於收集及混合自上層催化劑床流來之液體及氣體的槽(trough)，及安置於該槽中心以用於接收來自槽之液體且進一步混合液體及氣體的混合裝置或混合室。混合裝置為許多分配器總成之關鍵組件，因為其提供流體之高效且充分的混合且幫助避免熱點及不佳的溫度分佈。混合裝置具有至少一入口以用於接收來自槽之液體及至少一出口以用於引導流向下層催化劑床。混合裝置將通常經由湍流或漩渦效應改良液體與氣體之混合。在存在情況下，混合裝置通常位於反應器中催化劑床之間的互層空間中。許多反應器中的互層空間由於支臂、管道及其他佔據互層區域之障礙物之存在而受限。由於此等空間限制，需要獨特硬體，諸如經調整以符合可用空間之混合裝置，以相當於受限體積之形式執行高效二相混合。

由於足夠的互層流體混合對優良催化劑壽命、高產量、長循環時間及反應器整體效能之重要性，因此需要經改良之混合裝置。此外，尤其需要可經改型以適用於具有受限互層空間之現有反應器的混合裝置。

本發明提供一種新穎構件，其提供多床反應器中催化劑床之間的空間中流體之更有效混合。詳言之，本發明係關於改良混合二相系統之氣相及液相中現有混合體積之有效性之混合裝置。該裝置由於其相對小尺寸而良好適用於改型應用且亦可經調整以用於新穎反應器設計從而達成多床反應器之互層空間中的高效流體混合。

根據本發明，用於多床降流式反應器之混合裝置置放於反應器中之互層空間中且附接至通常為環形之收集板。收集板收集自上層催化劑床流來之液體及氣體，本文中統稱為「流體」，且幫助將流體引導至混合裝置之開口。收集板在此項技術中已為吾人所熟知。本發明之混合裝置可位於箱形腔室(混合箱)中或簡單地置放於收集板頂部。本發明之混合裝置通常為圓柱形，具有彎曲側壁及平坦頂壁與底壁。混合裝置之底壁以流體密封(fluid tight)方式安裝至收集板上。在一實施例中，圓柱形側壁安裝於催化劑支臂之間。

混合裝置通常為圓柱形，具有a)通常為圓形之頂壁，其基本上平行於第一催化劑床之底部；b)通常為圓形之底壁，其基本上平行於頂壁且包含定位於中央之通常為圓形之出口開口；c)該頂壁與該底壁之間的圓柱形間隔壁(divider wall)，其與頂壁及底壁基本上流體密封接觸且其中該間隔壁具有至少一開口自間隔壁之底部延伸至小於間隔壁之全高度；及d)至少一用於流體之入口過道。在一實施例中，混合裝置進一步包含至少一圓柱形上升壁(riser wall)，其中該上升壁圍繞出口開口且其中上升壁之半徑(自出口開口之中心至上升壁之表面量測)小於間隔壁之半徑(自出口開口之中心至間隔壁之表面量測)，且其中上升壁與底壁流體密封接觸但不延伸至間隔壁之全高度。本文中使用的「基本上平行」意謂兩物件及/或組件在相差5度以內共面。入口過道由間隔壁之外表面、間隔壁開口、與間隔壁之外表面鄰接且涵蓋間隔壁開口之彎曲側壁、及頂蓋部分(top capping portion)形成。該側壁以基本上流體密封方式連接至間隔壁。側壁延伸小於間隔壁之全高度且與間隔壁開口之頂部相齊。蓋頂部分(capping top portion)與側壁頂部及間隔壁之外表面基本上流體密封接觸且與間隔壁開口之頂部相齊。間隔壁、間隔壁開口、側壁及頂蓋部分形成至少一入口過道。入口過道在入口過道開口處相較於在側壁間隔壁開口處具有較大半徑(自出口開口之中心至側壁量測)，由此形成收縮的過道，藉此對進入之流體賦予弧形流動。

在一實施例中，隨著流體經由入口進入混合裝置，入口過道體積逐漸減小從而增加混合裝置內流體之湍流且引導流體以渦旋運動到達第一混合區。第一混合區可由混合裝置之底部、流體穩定器之外表面、間隔壁之內表面及上升壁之外表面界定。除非另作說明，否則如本文中使用之「內」表面指代面向自頂壁經由出口開口之中心延伸之中心軸的表面。除非另作說明，否則如本文中使用之「外」表面指代面向反應器側壁之表面。上升壁為圓柱形器壁，其與混合裝置之底壁流體密封接觸且向上延伸但不與混合裝置之頂壁流體密封接觸。上升壁之外部面向間隔壁之內部。流動穩定器附接至上升壁之外壁，在混合裝置內形成內部通道且幫助界定第一混合區。

在一實施例中，流體溢出流動穩定器且收集於第二混合區中流動穩定器與上升壁之間的間隙空間中。上升壁及流動穩定器經設計以增加流體之渦旋及湍流從而允許更有效混合及溫度平衡。在一實施例中，一或多個多孔板可附接至上升壁及/或流動穩定器。若存在多孔板，則流體越過及/或穿過多孔板而流動，從而增加小滴形成且改良混合。流體進入泡帽(bubble cap)85之複數個溝槽(slot)且在進入環形出口區域前溢出上升壁頂部。泡帽85附接至混合裝置40之頂壁49且平行於間隔壁45與上升壁75下降。泡帽85大致位於上升壁75之外壁與流動穩定器60之內壁之間的中部。泡帽85安置於上升壁75之上且圍繞上升壁75使得泡帽頂部高於上升壁頂部以便提供供流體進入第三混合區之過道。泡帽85通常為圓柱形且直徑大於上升壁75但小於流動穩定器60之直徑(自流動穩定器頂部至混合裝置之中心軸量測)。第三混合區由上升壁外表面與泡帽內表面之間的環形過道界定。泡帽85之溝槽86圍繞泡帽開口端的周圍實質上對稱安置且自下端開始並實質上垂直攀升泡帽之一部分。此組態允許流體在經由環形出口流出前自第二混合區流至第三混合區。

圓柱形器壁上升壁之內壁形成環形出口90。螺旋狀多孔板75視情況附接至上升壁之內壁，充當擋板以增加小滴形成且改良流體混合。螺旋狀多孔板75不延伸環形出口90之全直徑。螺旋狀板形成半螺旋形擋板，其視情況固定於混合裝置之出口區域中上升壁之內壁上。流體經由出口流出混合裝置且在與後繼催化劑床接觸前排出至互層再分配盤31(圖1)上。可根據需要將驟冷氣體或流體在多點處注入收集板或混合裝置中。

混合裝置經組態為可配置且可固定附接於多床降流式反應器之器壁的內表面之間以及配置於反應器內垂直堆疊的催化劑床之間。改型應用中混合裝置可經組態以安裝於現有反應器中之催化劑支臂之間。

可在結合附圖閱讀以下「實施方式」後更容易地理解本發明之此等及其他特徵。

在一實施例中，本發明之混合裝置居中安置於收集板頂部及催化劑支臂之間。本發明之混合裝置具有至少一用於接收來自槽之流體的入口。在一實施例中，混合裝置具有兩個入口以接收來自收集板之流體。使用彼此以180度定向的兩個入口且其開口經定位以便增強流入流體之圓形、渦旋運動來改良混合裝置設計之湍流效應。

如圖1所示，多床降流式反應器10具有圓柱形側壁11。圖1中展示之部分為多床催化反應器之橫剖面。各催化劑床，5及6，含有所填充之顆粒催化劑物質。各催化劑床支撐於由支撐柵板、空格布及金屬網(在此項技術中均已為吾人所熟知)組成之柵屏總成12上。柵屏總成安裝於平行支臂14及15上，而後者水平安裝至反應器壁11。本發明之混合裝置40安裝於催化劑支臂之間於催化劑床5下方，且與收集板30流體密封接觸以接收自上層催化劑床5之底面流下來之液體及氣體並混合該液體與氣體。

圖2為混合裝置40之實施例之透明示意性透視圖。混合裝置之底壁41以流體密封連接方式安裝至收集盤。在自上層催化劑床流下來之流體到達混合裝置40之入口過道50及55前，環形收集盤收集該等流體。

混合裝置40具有圓柱形側壁42及48，其以流體密封關係安裝至底壁41。頂蓋部分46及47分別以流體密封連接方式安裝至側壁42及48之頂部。間隔壁45跨越混合裝置之全高度且與頂壁49流體密封接觸。間隔壁具有外表面43及內表面44。

混合裝置40具有通常為圓柱形之形狀，其經調適以自收集盤30向上於支撐上層催化劑床的一對橫樑14與15之間延伸。在一實施例中，混合裝置40具有經調適以佔據橫樑之間的空間的寬度。混合裝置外表面由入口50之側壁42及入口55之側壁48、入口之頂壁46及47、頂壁49及間隔壁45之外表面43形成。在一實施例中，混合裝置40之底壁41與收集盤30形成為一體且包含收集盤30之中央部分。亦即，混合裝置40之底壁可由收集盤自身形成。在另一實施例中，混合裝置之底壁為獨立器壁且以基本上流體密封接觸方式直接安裝至收集板。收集盤30安裝於橫樑下方且緊挨橫樑使得本發明之混合裝置40安置於中央橫樑對之間，藉此最小化混合裝置40佔據之垂直空間。藉由最小化混合裝置所需之空間，可達成反應器總體積之高效使用及較高催化劑填充體積。

在一實施例中，混合裝置40具有分別自外壁42及48延伸之兩個入口50及55，及位於底壁41中央的單一出口80(如圖2及圖3所示)。出口開口穿過收集盤30。入口50由外壁42、頂蓋部分46、底壁41及間隔壁45之外表面43形成，其具有形成用於來自收集盤30之流體進入之矩形開口的上游端。入口55由外壁48、頂蓋部分47、底壁41及間隔壁45之外表面43形成，其具有形成用於來自收集盤30之流體進入之矩形開口的上游端。間隔壁45之底部邊緣與收集盤30形成實質上流體密封式密封，且間隔壁45之外表面43分別與入口50之頂蓋部分46及入口55之頂蓋部分47形成通常為流體密封式之密封。兩入口50及55經設計以允許流體以相同流向進入，亦即流入流體將增強混合裝置內流體之渦旋方向。間隔壁中之開口51及56(圖3)允許流體進入混合裝置40之第一混合區。

如圖2及圖3中最佳可見，一入口過道由間隔壁45之外表面43、間隔壁開口51、與間隔壁45之外表面43鄰接且涵蓋間隔壁開口之彎曲側壁42、及頂蓋部分46形成。側壁42以基本上流體密封方式連接至間隔壁45。側壁42延伸小於間隔壁45之全高度且與間隔壁開口51之頂部相齊。頂蓋部分46與側壁頂部及間隔壁之外表面基本上流體密封接觸且與間隔壁開口之頂部相齊。入口過道在入口過道開口50處相較於在間隔壁開口51處具有較大半徑(自出口開口之中心至側壁量測)，由此形成收縮的過道，藉此對進入之流體賦予弧形流動。如圖2及圖3所示，在一實施例中，混合裝置具有第二入口開口55。第二入口過道以與上述入口過道類似之方式形成。第二入口過道由間隔壁45之外表面43、間隔壁開口56、與間隔壁45之外表面43鄰接且涵蓋間隔壁開口之彎曲側壁48、及頂蓋部分47形成。側壁48以基本上流體密封方式連接至間隔壁45。側壁48延伸小於間隔壁45之全高度且與間隔壁開口56之頂部相齊。蓋頂部分47與側壁頂部及間隔壁之外表面基本上流體密封接觸且與間隔壁開口之頂部相齊。入口過道在入口過道開口55處相較於在間隔壁開口56處具有較大半徑(自出口開口之中心至側壁量測)，由此形成收縮的過道，藉此對進入之流體賦予弧形流動。

隨著流體在不同位置處向下流入環形收集盤30，入口50及55之存在建立流體之弧形或圓形混合模式。槽之水平面中之圓形流動模式引起池中流體與自催化劑床流下之流體之相對低能量混合，使得進入入口50及55之流體具有相對均勻之溫度及組成。根據經由反應器10之液體之流速操作範圍選擇入口50及55之大小，特定言之，其上游端及下游端之寬度及高度。由此將發現可借助於收縮的入口過道使具有顯著深度之液體池聚積在收集盤中。此係由於以下事實：混合裝置鄰接於收集板且混合裝置包含自收集板30之唯一出口80。入口過道限制流體自收集板30之流動從而引起流體聚積於板上且藉此亦借助於流量之收縮及其下游之擴張而對自其離開之液體及氣流賦予湍流。

如圖2及圖3中可發現，至混合裝置40之入口過道沿混合裝置之周邊延伸，徑向偏離反應器壁11之中心軸且亦與混合裝置之底壁41中形成之圓形出口80相切。此相對於出口80之定向連同混合裝置內流動過道之環形形狀一起對所添加的液體及氣體賦予旋轉或螺旋流動模式。又，入口過道之錐形沿來自收集盤30之液體及氣體流入混合裝置40之方向逐漸縮小，藉此在液體及氣體流經入口過道之收縮的下游端進入混合裝置40之第一混合區時引起流動中之湍流。由出口80之中心點與圓柱形側壁42形成之半徑自入口開口(50及55)處最大變化至側壁(分別為42及48)與間隔壁45之接合處最小。側壁42與出口80之中心點之變化半徑及側壁48與出口80之中心點之變化半徑建立入口過道中之錐形，從而增加進入混合裝置40之流體之弧形移動。

隨著流體經由入口50及55進入混合裝置40，其進入第一混合區。第一混合區由間隔壁45及上升壁75界定。上升壁75包含外表面73及內表面74。上升壁75之外表面73、間隔壁45之內表面44、及頂壁49界定第一混合區。一或多個多孔板及一或多個流動穩定器自上升壁75之外表面73伸入混合區中。如圖2所示，多孔板62自上升壁75之外表面73向外延伸入第一混合區中。在一實施例中，多孔板與上升壁形成約45度角。多孔板62延伸入混合區中朝向間隔壁45，但不與間隔壁交叉。

半圓柱形流動穩定器60安裝至上升壁75之外表面73。流動穩定器60以上升壁之約一半全高度結合上升壁且以約45度角向外伸入間隔壁與上升壁之間的空間中。流動穩定器持續此45度向外凸伸直至其與向下凸伸之泡帽85基本上相齊且進入泡帽85與間隔壁45之間的空間。接著流動穩定器平行於泡帽85及間隔壁45向上凸伸直至流動穩定器之頂部高於向下凸伸的泡帽之底部但低於混合裝置40之頂壁49。流動穩定器強迫流體流至混合裝置中由間隔壁45之內表面44及流動穩定器之外表面界定之區域。流動穩定器之角度經設計以增加混合裝置中流體之渦旋運動及增加湍流。流動穩定器可視情況具有多孔板61附接至其頂部部分且伸入流動穩定器頂部與間隔壁45之間的空間中。多孔板61可與混合裝置之頂壁49及底壁41平行。多孔板61不延伸流動穩定器60頂部與間隔壁45之間的空間的全長度。

隨著流體進入第一混合區，其以弧形移動流動且接觸多孔板62。液面上升直至流體與流動穩定器60之頂部相齊。位於流動穩定器頂部之多孔板61在流體溢出流動穩定器且進入第二混合區時進一步增加小滴形成且改良混合。第二混合區由流動穩定器60之內壁與上升壁75之外壁73界定。泡帽85自頂壁49向下伸入流動穩定器與上升壁之間的空間中。泡帽具有複數個溝槽86，其圍繞泡帽基本上對稱定位且自泡帽底部向上延伸至泡帽之部分高度。溝槽頂部低於上升壁75之頂部。由多孔板與泡帽之組合提供進一步液體混合及液體-氣體挾帶。第二混合區之狹窄底部部分及較寬頂部部分幫助增加流體之渦旋流動。視情況選用之多孔板63伸入第二混合區中以增加小滴形成。多孔板63以約45度角安裝至上升壁75之外壁。多孔板63在不接觸流動穩定器或向下凸伸的泡帽85情況下部分延伸入第二混合區中。流體填充第二混合區同時保持渦旋流動直至其到達泡帽85之溝槽86。接著流體溢出上升壁75且進入第三混合區。

第三混合區由上升壁75之圓柱形內壁74界定。螺旋狀多孔板90視情況安裝至上升壁75之內壁。螺旋狀多孔板90順著流體流動方向圍繞上升壁內部彎曲，進一步增加流經混合裝置之流體之渦旋運動。螺旋狀多孔板90開始於上升壁75頂部之下且以螺旋方式向下捲繞或螺旋使得最接近上升壁75頂部之末端處螺旋狀板之高度大於螺旋狀板及最接近出口開口80之相對末端處之高度，其中自出口開口起且垂直於底壁量測螺旋狀板之高度。螺旋狀板90自上升壁頂部下方延伸且在出口開口80上方終止。出口開口80由底壁41中之環形開口及收集盤30中之環形開口形成。在一實施例中，出口80為形成於收集盤30中央且與反應器側壁11之中心軸同軸的通常為圓形之孔。接著流體經由出口80離開混合裝置。一或多個催化劑床定位於出口80下方。

可在流體進入混合裝置前經由一或多個管將驟冷氣體(例如，氫氣)注入收集盤30內所收集之流體池中。一或多個位置處之驟冷氣體注射可引起液體池於各位置處之攪動，藉此在流體進入混合裝置前增強流入及流經槽之液體之混合。

本發明之較佳實施例之先前描述主要用於說明性目的，應承認可能使用仍納入本發明之本質的多種變化。因此，應參考以下申請專利範圍來確定本發明之範疇。

5．．．催化劑床

6．．．催化劑床

10．．．多床降流式反應器

11．．．側壁

12．．．柵屏總成

14．．．支臂

15．．．支臂

30．．．收集板

31．．．再分配盤

40．．．混合裝置

41．．．混合裝置之底壁

42．．．側壁

43．．．間隔壁外表面

44．．．間隔壁內表面

45．．．間隔壁

46．．．入口之頂壁

47．．．入口之頂壁

48．．．側壁

49．．．混合裝置之頂壁

50．．．入口

51．．．開口

55．．．入口

56．．．開口

60．．．流動穩定器

61．．．多孔板

62．．．多孔板

63．．．多孔板

73．．．上升壁之外壁/上升壁之外表面

74．．．上升壁之內壁/上升壁之內表面

75．．．上升壁

80．．．出口

85．．．泡帽

86．．．溝槽

90．．．螺旋狀多孔板

圖1為位於多床催化反應器內本發明之混合裝置之實施例之示意圖；

圖2為本發明之實施例之透明示意性透視圖；及

圖3為本發明之實施例之俯視圖。

5．．．催化劑床

6．．．催化劑床

10．．．多床降流式反應器

11．．．側壁

12．．．柵屏總成

14．．．支臂

15．．．支臂

30．．．收集板

31．．．再分配盤

40．．．混合裝置

Claims (20)

1. 一種安裝於一多床降流式催化反應器中兩個催化劑床之間的混合裝置，其中該混合裝置包含：a.一通常為圓形之頂壁，其基本上平行於該第一催化劑床之底部；b.一通常為圓形之底壁，其基本上平行於該頂壁且包含定位於中央之通常為環形之出口開口；c.該頂壁與該底壁之間的一圓柱形間隔壁，其與該頂壁及該底壁基本上流體密封接觸且其中該間隔壁具有至少一開口自該間隔壁之底部延伸至小於該間隔壁之全高度；及d.至少一用於流體之入口過道，其中該入口過道由以下各者形成：該間隔壁之外表面；該間隔壁開口；一與該間隔壁之外表面鄰接且涵蓋該間隔壁開口之彎曲側壁，且其中該側壁以基本上流體密封接觸方式連接至該間隔壁且其中該側壁延伸小於該間隔壁之全高度；及一與該側壁之頂部及該間隔壁之外表面流體密封接觸之蓋頂部分，其中該蓋頂部分與該間隔壁之頂部相齊以形成該至少一入口過道且其中該入口過道在該入口過道開口處相較於在該側壁間隔壁開口處具有較大半徑(自該出口開口之中心至該側壁量測)，從而形成一收縮的過道，藉此對所述流體賦予弧形流動。
2. 如請求項1之混合裝置，進一步包含至少一圓柱形上升壁，其中該上升壁圍繞該出口開口且其中該上升壁之半 徑(自該出口開口之中心至該上升壁之內表面量測)小於該間隔壁之半徑(自該出口開口之中心至該間隔壁之內表面量測)，且其中該上升壁與該底壁流體密封連接但不延伸至該間隔壁之全高度。
3. 如請求項1之混合裝置，其中該混合裝置包含至少兩個間隔壁開口及至少兩個入口過道。
4. 如請求項3之混合裝置，其中該等間隔壁開口以彼此成180度定位。
5. 如請求項1之混合裝置，其中該混合裝置位於催化劑床支臂之間。
6. 如請求項2之混合裝置，進一步包含一多孔板，其安裝至該上升壁之外部於該上升壁與該底壁之接合處且部分伸入該上升壁與該間隔壁之間的空間中。
7. 如請求項2之混合裝置，進一步包含一流動穩定器，其延伸該上升壁至少部分高度而安裝且安裝至該上升壁之外部且部分伸入該上升壁與該間隔壁之間的空間中。
8. 如請求項7之混合裝置，其中該流動穩定器以45度角凸伸該流動穩定器之至少一部分長度且接著與該間隔壁平行凸伸該流動穩定器之至少一部分長度。
9. 如請求項7之混合裝置，其中該流動穩定器進一步包含一與該頂壁及該底壁平行延伸之多孔板。
10. 如請求項2之混合裝置，進一步包含一泡帽，其中該泡帽自該頂壁向下延伸且位於該上升壁與該間隔壁之間。
11. 如請求項7之混合裝置，進一步包含一泡帽，其中該泡 帽自該頂壁向下延伸且位於該上升壁與該流動穩定器之間。
12. 如請求項10之混合裝置，其中該泡帽進一步包含複數個基本上對稱安置之溝槽。
13. 如請求項11之混合裝置，其中該泡帽進一步包含複數個基本上對稱安置之溝槽。
14. 如請求項7之混合裝置，進一步包含一安裝至該上升壁之外部於該上升壁之頂部與該流動穩定器之間的多孔板。
15. 如請求項10之混合裝置，進一步包含一安裝至該上升壁之外部於該上升壁之頂部與該流動穩定器之間的多孔板。
16. 如請求項2之混合裝置，進一步包含一位於該上升壁之內壁上且與該出口開口相鄰之螺旋狀多孔板，該螺旋狀板沿流體流動方向朝向該出口開口向下螺旋。
17. 如請求項6之混合裝置，進一步包含一位於該上升壁之內壁上且與該出口開口相鄰之螺旋狀多孔板，該螺旋狀板沿流體流動方向朝向該出口開口向下螺旋。
18. 如請求項7之混合裝置，進一步包含一位於該上升壁之內壁上且與該出口開口相鄰之螺旋狀多孔板，該螺旋狀板沿流體流動方向朝向該出口開口向下螺旋。
19. 如請求項10之混合裝置，進一步包含一位於該上升壁之內壁上且與該出口開口相鄰之螺旋狀多孔板，該螺旋狀板沿流體流動方向朝向該出口開口向下螺旋。
20. 如請求項14之混合裝置，進一步包含一位於該上升壁之內壁上且與該出口開口相鄰之螺旋狀多孔板，該螺旋狀板沿流體流動方向朝向該出口開口向下螺旋。