TWI501971B - 著色組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置、固態攝影元件、以及二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物 - Google Patents
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Description
本發明係關於著色組成物、彩色濾光片(color filter)及其製造方法、液晶顯示裝置、固態攝影元件、以及二亞甲吡咯(dipyrromethene)系金屬錯合物及其互變異構物。
以往,彩色濾光片係藉由將有機顏料或無機顏料分散而成之顏料分散組成物、與多官能單體、聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、及按照需要的其他成分進行混合來做成著色組成物,使用它且利用光微影法(photolithography)、噴墨(ink-jet)法等形成著色圖案而製造的。
近年來,彩色濾光片在液晶顯示元件(Liquid Crystal Display:LCD)用途中,係有不只是在監視器(monitor)而且在電視(television(TV))的用途擴大的傾向。伴隨著該用途擴大的傾向,彩色濾光片達成了在色度、對比(contrast)等中高度色特性的要求。又,在影像感測器(image sensor)(固態攝影元件(solid-state imaging device))用途的彩色濾光片中,也同樣要求色不均(color irregularity)的減低、色分解能的提升等色特性的進一步提升。
然而,在以往的顏料分散系容易引起因顏料的粗大粒子所致的散亂發生、因分散穩定性不良所致的黏度上升等的問題,所以大多難以使對比、輝度進一步提升。
因此,就以往的著色材不只使用顏料,且還使用了染料來進行檢討(例如:參照特開平6-75375號公報)。若使用染料做為著色劑,由於染料本身的色純度或其色相的鮮明度而可使畫像顯示時的顯示畫像的色相與輝度受到提升,且就由於變成粗大粒子而使得對比提升之點而言係為有用。
染料的例子已知有二亞甲吡咯系染料、嘧啶偶氮基系染料、吡唑偶氮基系染料、二苯并吡喃系染料等具有各式各樣色素母體的化合物(例如:参照特開2008-292970號公報、特開2007-039478號公報、及~專利第3387541號)。
然而,將使用染料之情形與使用以往的顏料之情形做比較,容易產生耐光性、耐熱性、電壓保持率的降低。特別是電壓保持率的降低,從成為驅動電壓的上升、消費電力的增加、對比的降低、顯示不均、或是褪色的原因來說,使其極力減低係為所期望的。
又,以往已知的上述染料化合物係耐熱性、電壓保持率不充分,故期望能有改善。
本發明係有鑑於上述而成者,目的係提供色純度高、即使形成薄層之情形下亦可得到高吸光係數、堅牢性(特別是耐熱性及耐光性)及電壓保持率優異的著色組成物;以及彩色濾光片及其製造方法。另一目的係提供顯示畫像的彩色顯示鮮明且高對比的液晶顯示裝置及固態攝影元件,以及色純度優異、具有可薄層化的高吸光係數、堅牢性(特別是耐熱性及耐光性)及電壓保持率優異的二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物。
用以達成前述課題的具體手段的例子係如下所述。
<1>一種著色組成物,其係含有下述通式(I)所示之二亞甲吡咯金屬錯合物或其互變異構物:
前述通式(I)中,R2
、R3
、R4
、及R5
各自獨立地表示氫原子、或取代基;R7
表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基、或雜環基;Ma表示金屬或金屬化合物;X3
及X4
各自獨立地表示NR(R表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的醯基、取代或無取代的烷磺醯基、或取代或無取代的芳基磺醯基)、氮原子、氧原子、或硫原子;Y1
及Y2
各自獨立地表示NRc(Rc表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的醯基、取代或無取代的烷磺醯基、或取代或無取代的芳基磺醯基)、氮原子、或碳原子;R8
及R9
各自獨立地表示取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的烷氧基、取代或無取代的芳氧基、取代或無取代的烷胺基、取代或無取代的芳基胺基、或取代或無取代的雜環胺基;R8
與Y1
亦可互相鍵結以形成5員、6員、或7員的環;R9
與Y2
亦可互相鍵結以形成5員、6員、或7員的環;X5
表示來自從取代或無取代的脂肪族醯亞胺、取代或無取代的芳香族醯亞胺、取代或無取代的雜環醯亞胺、取代或無取代的芳香族羧酸、取代或無取代的酚、取代或無取代的苯硫酚、取代或無取代的碳數4以上的脂肪族羧酸、取代或無取代的二硫胺基甲酸、取代或無取代的磺醯胺、及取代或無取代的異羥肟酸中所選出的化合物之一價基;a表示1或2。
此外,所謂的來自前述化合物之一價基係指從各化合物的構造中1個氫原子脫離而具有1個結合鍵(bonding hand)的基。
<2>如前述<1>所記載的著色組成物,其係在前述通式(I)中,Ma表示Fe、Zn、Co、V=O、或Cu。
<3>如<1>或<2>所記載的著色組成物,其係在前述通式(I)中,由R2
、R3
、R4
、或R5
所表示的取代基為鹵素原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、矽烷基、羥基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、矽烷氧基、醯氧基、烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、胺甲醯氧基、胺磺醯氧基、烷磺醯氧基、芳基磺醯氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、胺基、苯胺基、雜環胺基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、磺醯胺基、胺磺醯基胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、烷磺醯基、芳基磺醯基、胺磺醯基、磺酸基、膦醯基、或膦基胺基。
<4>如<1>~<3>項中任一項所記載之著色組成物,其係在前述通式(I)中,X5
為來自取代或無取代的脂肪族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的雜環醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族羧酸之一價基、來自取代或無取代的酚之一價基、來自取代或無取代的碳數4以上30以下的脂肪族羧酸之一價基、或來自取代或無取代的二硫胺基甲酸之一價基。
<5>如前述<1>~<4>項中任一項所記載之著色組成物,其中進一步含有聚合性化合物與光聚合起始劑。
<6>一種下述通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物,
其係在前述通式(I)中,R2
、R3
、R4
、及R5
各自獨立地表示氫原子、或取代基;R7
表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基、或雜環基;Ma表示金屬或金屬化合物;X3
及X4
各自獨立地表示NR(R表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的醯基、取代或無取代的烷磺醯基、或取代或無取代的芳基磺醯基)、氮原子、氧原子、或硫原子;Y1
及Y2
各自獨立地表示NRc(Rc表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的醯基、取代或無取代的烷磺醯基、或取代或無取代的芳基磺醯基)、氮原子、或碳原子;R8
及R9
各自獨立地表示取代或無取代的烷基、取代或無取代的烯基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的烷氧基、取代或無取代的芳氧基、取代或無取代的烷胺基、取代或無取代的芳基胺基、或取代或無取代的雜環胺基;R8
與Y1
亦可互相鍵結以形成5員、6員、或7員的環;R9
與Y2
亦可互相鍵結以形成5員、6員、或7員的環;X5
表示來自從取代或無取代的脂肪族醯亞胺、取代或無取代的芳香族醯亞胺、取代或無取代的雜環醯亞胺、取代或無取代的芳香族羧酸、取代或無取代的酚、取代或無取代的苯硫酚、取代或無取代的碳數4以上的脂肪族羧酸、取代或無取代的二硫胺基甲酸、取代或無取代的磺醯胺、及取代或無取代的異羥肟酸中所選出的化合物之一價基;a表示1或2。
此外,所謂的來自前述化合物的一價基係指從各化合物的構造中1個氫原子脫離而具有1個結合鍵的基。
<7>一種彩色濾光片,其係使用如前述<1>~<5>項中任一項所記載之著色組成物而形成著色層所製作。
<8>一種彩色濾光片之製造方法,其係具有:將前述<1>~<5>項中任一項所記載之著色組成物塗布於支持體上而形成著色層的步驟,將所形成的前述著色層曝光、顯像成圖案狀而形成著色領域的步驟。
<9>一種液晶顯示裝置,其係具備前述<7>所記載的彩色濾光片、或具備前述<8>所記載的彩色濾光片之製造方法而製作的彩色濾光片。
<10>一種固態攝影元件,其係具備前述<7>所記載的彩色濾光片、或具備前述<8>所記載的彩色濾光片之製造方法而製作的彩色濾光片。
根據本發明,可提供即使在色純度高、形成薄層的情形下亦可得到高吸光係數、堅牢性(特別是耐熱性及耐光性)及電壓保持率優異的著色組成物以及彩色濾光片及其製造方法。
根據本發明,可提供顯示畫像的彩色顯示鮮明且高對比的液晶顯示裝置及固態攝影元件。
根據本發明,可提供色純度優異、具有可薄層化的高吸光係數、堅牢性(特別是耐熱性及耐光性)及電壓保持率優異的二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物。
又,本發明的著色組成物、以及二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物係為了解決使用以往眾所週知的染料之彩色光阻(color resist)所無法達成的課題,對於使用於固態攝影元件、顯示用元件(例如:液晶顯示元件、有機EL顯示元件等)的彩色濾光片特別有用。
[用以實施發明之形態]
以下,就本發明的著色組成物、以及使用它之彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置及固態攝影元件、以及二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物作詳細說明。二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物係可做為前述著色組成物的著色成分使用。
著色組成物、及二亞甲吡咯金屬錯合物
本發明的著色組成物係使用從以下所示之通式(I)表示的二亞甲吡咯金屬錯合物、及其互變異構物化合物中所選出之1種或2種以上而構成,較佳為進一步使用聚合性化合物、光聚合起始劑而構成有感光性。又,本發明的著色組成物可按照需要進一步使用鹼可溶性樹脂等的黏合劑、有機溶劑等、以及各種添加劑而構成。
在本發明中,在二亞甲吡咯系金屬錯合物之中,特別是使用具有特定的金屬配位子X5
之金屬錯合物,做為配位於金屬或金屬化合物的配位子。若含有具有特定的金屬配位子X5
之二亞甲吡咯系金屬錯合物做為著色劑,可得到耐熱性、耐光性、電壓保持率、對比、及輝度優異的著色組成物,進而可提供使用它所形成之著色圖案及含它之彩色濾光片。
關於藉由染料化合物的種類而電壓保持率低下的理由,雖然其作用機構還不明確,惟一般認為是做為彩色濾光片之際因電場而使金屬錯合物電離並產生離子所引起的。為此,認為金屬錯合物的穩定性(金屬-配位子間的鍵結力)是重要的。在此,一般的金屬錯合物的配位鍵若為路易士(Lewis)酸的金屬離子,可藉由與鹼之配位子的中和反應而看到鍵結,因此在這樣的過程中所生成的金屬錯合物的穩定性會對配位子的鹼性有很大的影響。
在本發明的二亞甲吡咯系金屬錯合物,其特徵係在通式(I)中,金屬配位子X5
的電子密度高。因此,雖然在原理上未必明確,但是一般認為因鹼性度變高後與金屬的配位力變強,且使錯合物穩定性提升而變得難以電離。又,本發明中記載的金屬配位子X5
係依照HSAB(Hard and Soft Acids and Bases)理論,選擇與中心金屬(酸)的親和性高的金屬配位子(鹼),一般認為藉由與彼等配位而使鍵結力提高,且使錯合物穩定性提升而變
得難以電離。
又,用以抑制電壓保持率降低的作用機構尚未明確,惟一般認為其係如下所述。亦即,假設金屬配位子X5
即使電離而產生離子,若該離子殘留於彩色濾光片內部而沒有流出至液晶中,一般認為會抑制電壓保持率的降低。為此,若選擇分子尺寸大者做為金屬配位子X5
、或具有可與彩色濾光片中的其他成分(例如:單體(monomer)、黏合劑聚合物(binder polymer)等)相互作用的取代基(例如氫鍵結性基、雜原子等)者,一般認為會降低金屬配位子X5
的移動度,且能抑制電壓保持率的降低。
然而,以往例如特開2008-292970號公報中所記載的、若金屬配位子為CH3
COO-
,由於電子密度低且鹼性度小,所以會降低金屬錯合物的穩定性(金屬-配位子間的鍵結力),且易以電離地解離。再者,在該金屬配位子的分子尺寸小、且電離而生成離子的情形下,該離子的移動度大。如上所述,一般認為會引起電壓保持率的降低。又,針對本發明的二亞甲吡咯系金屬錯合物,關於耐熱性、耐光性,一般認為亦基於同樣的理由所以金屬錯合物的穩定性高,不會因熱或光而引起輝度的降低,而可得到色變化少的彩色濾光片。特開2008-292970號公報中所記載的化合物係錯合物穩定性不充分,而無法達成彼等性能的改善。
通式(I)中的R2
、R3
、R4
、及R5
各自獨立地表示氫原子、或取代基。R7
表示氫原子、鹵素原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的芳基、或取代或無取代的雜環基。
通式(I)中的R2
~R5
所示之取代基係可舉出例如:鹵素原子(例如:氟、氯、溴)、烷基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的直鏈、支鏈、或環狀的烷基,例如:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、辛基、2-乙基己基、十二烷基、十六烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-降冰片基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~48,更佳為碳數2~18的烯基,例如:乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~48,更佳為碳數6~24的芳基,例如:苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~18的雜環基,例如:2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑基-1-基)、矽烷基(較佳為碳數3~38,更佳為碳數3~18的矽烷基,例如:三甲基矽烷基、三乙基矽烷基、三丁基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、第三己基二甲基矽烷基)、羥基、氰基、硝基、烷氧基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的烷氧基,例如:甲氧基、乙氧基、1-丁氧基、2-丁氧基、異丙氧基、第三丁氧基、十二烷氧基、環烷氧基(例如:環戊氧基、環己氧基))、芳氧基(較佳為碳數6~48,更佳為碳數6~24的芳氧基,例如:苯氧基、1-萘氧基)、雜環氧基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~18的雜環氧基,例如:1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫哌喃氧基)、矽烷氧基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~18的矽烷氧基,例如:三甲基矽烷氧基、第三丁基二甲基矽烷氧基、二苯基甲基矽烷氧基)、醯氧基(較佳為碳數2~48,更佳為碳數2~24的醯氧基,例如:乙醯氧基、三甲基乙醯氧基、苯甲醯氧基、十二醯氧基)、烷氧基羰氧基(較佳為碳數2~48,更佳為碳數2~24的烷氧基羰氧基,例如:乙氧羰氧基、第三丁氧基羰氧基、環烷氧基羰氧基(例如:環己氧基羰氧基))、芳氧基羰氧基(較佳為碳數7~32,更佳為碳數7~24的芳氧基羰氧基,例如:苯氧基羰氧基)、胺甲醯氧基(較佳為碳數1~48,較佳為碳數1~24的胺甲醯氧基,例如:N,N-二甲基胺甲醯氧基、N-丁基胺甲醯氧基、N-苯基胺甲醯氧基、N-乙基-N-苯基胺甲醯氧基)、胺磺醯氧基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的胺磺醯氧基,例如:N,N-二乙基胺磺醯氧基、N-丙基胺磺醯氧基)、烷磺醯氧基(較佳為碳數1~38,更佳為碳數1~24的烷磺醯氧基,例如:甲基磺醯氧基、十六烷基磺醯氧基、環己基磺醯氧基)、芳基磺醯氧基(較佳為碳數6~32,更佳為碳數6~24的芳基磺醯氧基,例如:苯基磺醯氧基)、醯基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的醯基,例如:甲醯基、乙醯基、三甲基乙醯基、苯甲醯基、十四烷醯基、環己醯基)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~48,更佳為碳數2~24的烷氧基羰基,例如:甲氧基羰基、乙氧羰基、十八烷氧基羰基、環己氧基羰基、2,6-二-第三丁基-4-甲基環己氧基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~32,更佳為碳數7~24的芳氧基羰基,例如:苯氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的胺甲醯基,例如:胺甲醯基、N,N-二乙基胺甲醯基、N-乙基-N-辛基胺甲醯基、N,N-二丁基胺甲醯基、N-丙基胺甲醯基、N-苯基胺甲醯基、N-甲基-N-苯基胺甲醯基、N,N-雙環己基胺甲醯基)、胺基(較佳為碳數32以下,更佳為碳數24以下的胺基,例如:胺基、甲基胺基、N,N-二丁基胺基、十四烷基胺基、2-乙基己基胺基、環己基胺基)、苯胺基(較佳為碳數6~32,更佳為6~24的苯胺基,例如:苯胺基、N-甲基苯胺基)、雜環胺基(較佳為碳數1~32,更佳為1~18的雜環胺基,例如:4-吡啶基胺基)、碳醯胺基(較佳為碳數2~48,更佳為2~24的碳醯胺基,例如:乙醯胺基、苯甲醯胺基、十四烷醯胺基、三甲基乙醯基醯胺基、環己烷醯胺基)、脲基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的脲基,例如:脲基、N,N-二甲基脲基、N-苯基脲基)、醯亞胺基(較佳為碳數36以下,更佳為碳數24以下的醯亞胺基,例如:N-琥珀醯亞胺基、N-酞醯亞胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~48,更佳為碳數2~24的烷氧基羰基胺基,例如:甲氧基羰基胺基、乙氧羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、十八烷氧基羰基胺基、環己氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~32,更佳為碳數7~24的芳氧基羰基胺基,例如:苯氧基羰基胺基)、磺醯胺基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的磺醯胺基,例如:甲磺醯胺基、丁磺醯胺基、苯磺醯胺基、十六烷磺醯胺基、環己烷磺醯胺基)、胺磺醯基胺基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的胺磺醯基胺基,例如:N、N-二丙基胺磺醯基胺基、N-乙基-N-十二烷基胺磺醯基胺基)、偶氮基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的偶氮基,例如:苯基偶氮基、3-吡唑基偶氮基)、烷硫基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的烷硫基,例如:甲硫基、乙硫基、辛硫基、環己硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~48,更佳為碳數6~24的芳硫基,例如:苯硫基)、雜環硫基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~18的雜環硫基,例如:2-苯并噻唑硫基、2-吡啶硫基、1-苯基四唑硫基)、烷基亞磺醯基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的烷基亞磺醯基,例如:十二烷亞磺醯基)、芳基亞磺醯基(較佳為碳數6~32,更佳為碳數6~24的芳基亞磺醯基,例如:苯基亞磺醯基)、烷磺醯基(較佳為碳數1~48,更佳為碳數1~24的烷磺醯基,例如:甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、丁基磺醯基、異丙基磺醯基、2-乙基己基磺醯基、十六烷基磺醯基、辛基磺醯基、環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~48,更佳為碳數6~24的芳基磺醯基,例如:苯基磺醯基、1-萘基磺醯基)、胺磺醯基(較佳為碳數32以下,更佳為碳數24以下的胺磺醯基,例如:胺磺醯基、N,N-二丙基胺磺醯基、N-乙基-N-十二烷基胺磺醯基、N-乙基-N-苯基胺磺醯基、N-環己基胺磺醯基)、磺酸基、膦醯基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的膦醯基,例如:苯氧基膦醯基、辛氧基膦醯基、苯基膦醯基)、膦基胺基(較佳為碳數1~32,更佳為碳數1~24的膦基胺基,例如:二乙氧基膦基胺基、二辛氧基膦基胺基)等。
在通式(I)中的R2
~R5
所示之取代基為可進一步取代的基之情形下,亦可含有R2
~R5
中所說明之取代基中的任一者來做為補充的取代基。在具有2個以上的補充取代基之情形下,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中所謂的R2
與R3
、或/及所謂R4
與R5
亦可各自獨立地互相鍵結以形成5員、6員、或7員的飽和環、或不飽和環。形成的5員、6員、及7員的環為可進一步取代的基之情形中,前述R2
~R5
中所說明的取代基亦可被取代,在被2個以上的取代基取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中的R7
表示氫原子、鹵素原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的芳基、或取代或無取代的雜環基,表示與在前述R2
~R5
所示之取代基所說明之鹵素原子、烷基、芳基、及雜環基相同的基,其較佳範圍亦為相同。
R7
所示之烷基、芳基、及雜環基為可進一步取代的基之情形下,以前述R2
~R5
所示之取代基中所說明的取代基亦可進一步被取代,在被具有2個以上的補充取代基取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中的Ma表示金屬或金屬化合物,若為可形成錯合物的金屬或金屬化合物則任一者均可。Ma的例子可舉例如2價的金屬原子、2價的金屬氧化物、2價的金屬氫氧化物、或2價的金屬氯化物。除了例如:Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等以外,亦可含有AlCl、InCl、FeCl、TiCl2
、SnCl2
、SiCl2
、GeCl2
等的金屬氯化物、Tio、VO等的金屬氧化物、Si(OH)2
等的金屬氫氧化物。
此等之中,從錯合物的穩定性、分光特性、耐熱、耐光性、及製造適性等的觀點而言,以Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、或VO為佳,以Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、或VO為更佳,以Zn為最佳。
通式(I)中,R8
及R9
各自獨立地表示烷基(較佳為碳數1~36,更佳為1~12的直鏈、支鏈、或環狀的烷基,例如:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、1,1-二甲基丙基、己基、辛基、2-乙基己基、十二烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~24,更佳為2~12的烯基,例如:乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~36,更佳為6~18的芳基,例如:苯基、萘基、甲苯基)、雜環基(較佳為碳數1~24,更佳為1~12的雜環基,例如:2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑基-1-基)、烷氧基(較佳為碳數1~36,更佳為1~18的烷氧基,例如:甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、2-乙基己氧基、十二烷氧基、環己氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~24,更佳為1~18的芳氧基,例如:苯氧基、萘氧基)、烷胺基(較佳為碳數1~36,更佳為1~18的烷胺基,例如:甲基胺基、乙基胺基、丙基胺基、丁基胺基、己基胺基、2-乙基己基胺基、異丙基胺基、第三丁基胺基、第三辛基胺基、環己基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-二丙基胺基、N,N-二丁基胺基、N-甲基-N-乙基胺基)、芳基胺基(較佳為碳數6~36,更佳為6~18的芳基胺基,例如:苯基胺基、萘基胺基、N,N-二苯基胺基、N-乙基-N-苯基胺基)、或雜環胺基(較佳為碳數1~24,更佳為1~12的雜環胺基,例如:2-胺基吡咯基、3-胺基吡唑基、2-胺基吡啶基、3-胺基吡啶基)。
通式(I)中,在R8
及R9
所示之烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷胺基、芳基胺基、或雜環胺基為可進一步被取代的基之情形中,可進一步被前述R2
~R5
中所說明的取代基所取代,在被2個以上的補充取代基所取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中,X3
及X4
各自獨立地表示NR、氮原子、氧原子、或硫原子,R表示氫原子、烷基(較佳為碳數1~36,更佳為1~12的直鏈、支鏈、或環狀的烷基,例如:甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~24,更佳為2~12的烯基,例如:乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~36,更佳為6~18的芳基,例如:苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數1~24,更佳為1~12的雜環基,例如:2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑基-1-基)、醯基(較佳為碳數1~24,更佳為2~18的醯基,例如:乙醯基、三甲基乙醯基、2-乙基己基、苯甲醯基、環己醯基)、烷磺醯基(較佳為碳數1~24,更佳為1~18的烷磺醯基,例如:甲基磺醯基、乙基磺醯基、異丙基磺醯基、環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~24,更佳為6~18的芳基磺醯基,例如:苯基磺醯基、萘基磺醯基)。
前述R所示之烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷磺醯基、芳基磺醯基亦可進一步被前述R2
~R5
的取代基所說明之基所取代,在以複數個補充取代基所取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中,Y1
及Y2
各自獨立地表示NRc、氮原子、或碳原子,Rc係與前述X3
及X4
的R同義,較佳的範圍也相同。
通式(I)中,R8
與Y1
係互相鍵結,R8
、Y1
亦可和與彼等鄰接之碳原子一起形成5員環(例如:環戊烷、吡咯啶、四氫呋喃、二氧戊環、四氫噻吩、吡咯、呋喃、噻吩、吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩)、6員環(例如:環己烷、哌啶、六氫吡、嗎啉、四氫吡喃、二烷、硫化環戊烷、二噻烷、苯、哌啶、六氫吡、嗒基、喹啉、喹唑啉)、或7員環(例如:環庚烷、六亞甲基亞胺)。
通式(I)中,R9
與Y2
係互相鍵結,R9
、Y2
亦可和與彼等鄰接之碳原子一起形成5員、6員、或7員的環。所形成的5員、6員、及7員的環的例子係可舉例如與在前述的R8
、Y1
和與彼等鄰接之碳原子所形成的環相同者。
通式(I)中,在R8
與Y1
、或R9
與Y2
鍵結所形成的5員、6員、及7員的環為可進一步取代的環之情形中,可被前述R2
~R5
的取代基所說明之基進一步取代,在被2個以上的補充取代基所取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
通式(I)中,X5
表示來自脂肪族醯亞胺(例如:丁二酸醯亞胺、馬來醯亞胺、戊二醯亞胺、二乙醯胺基)的一價基、來自芳香族醯亞胺基或是雜環醯亞胺(例如:酞醯亞胺、萘二甲醯亞胺、4-溴酞醯亞胺、4-甲基酞醯亞胺、4-硝基酞醯亞胺、萘羧基醯亞胺、四溴酞醯亞胺)的一價基、來自芳香族羧酸(例如:苯甲酸、2-甲氧基苯甲酸、3-甲氧基苯甲酸、4-甲氧基苯甲酸、4-氯苯甲酸、2-萘酸、水楊酸、3,4,5-三甲氧基苯甲酸、4-庚氧基苯甲酸、4-第三丁基苯甲酸)的一價基、來自酚(例如:酚、4-硝基酚、4-氰基酚、2-甲氧基酚、3-甲氧基酚、4-甲氧基酚、4-甲基酚、4-氯酚)、苯硫酚(例如:苯硫酚、4-甲氧基苯硫酚、4-甲基苯硫酚、4-氯苯硫酚)的一價基、來自碳數4以上的脂肪族羧酸(例如:三甲基乙酸、己酸、辛酸、2-乙基己酸、新癸酸、月桂酸、肉荳蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸、油酸、異硬脂酸、2-十六烷基十八烷酸、2-己基癸酸、環戊烷羧酸、環己烷羧酸、5-降莰烯-2-羧酸、1-金剛烷羧酸)的一價基、來自二硫胺基甲酸(例如:二甲基二硫胺基甲酸、二乙基二硫胺基甲酸、二丁基二硫胺基甲酸、乙基苯基二硫胺基甲酸、二苯甲基二硫胺基甲酸)的一價基、來自磺醯胺基(例如:苯磺醯胺基、4-氯苯磺醯胺基、4-硝基苯磺醯胺基、4-甲氧基苯磺醯胺基、4-甲基苯磺醯胺基、2-甲基苯磺醯胺基、甲磺醯胺基)的一價基、或來自異羥肟酸(例如:乙酰異羥肟酸、辛酰異羥肟酸、苯異羥肟酸、1-萘異羥肟酸)的一價基。
通式(I)中,來自X5
的脂肪族醯亞胺、芳香族醯亞胺或是雜環醯亞胺、芳香族羧酸、酚、苯硫酚、碳數4以上的脂肪族羧酸、二硫胺基甲酸、磺醯胺、或異羥肟酸的一價基為可進一步取代的基之情形中,可被前述R2
~R5
中所說明的取代基進一步取代,在被2個以上的補充取代基所取代之情形中,彼等取代基係可相同、或是不同。
又,通式(I)中的a表示1或2。
通式(I)中,X5
的較佳態樣係來自取代或無取代的脂肪族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的雜環醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族羧酸之一價基、來自取代或無取代的酚之一價基、來自取代或無取代的碳數4以上30以下的脂肪族羧酸之一價基、來自取代或無取代的二硫胺基甲酸之一價基。
X5
的更佳態樣係來自取代或無取代的脂肪族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的雜環醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族羧酸之一價基、來自取代或無取代的酚之一價基、來自碳數4以上20以下的取代或無取代的脂肪族羧酸之一價基。
X5
的特佳態樣係來自取代或無取代的脂肪族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的雜環醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族羧酸之一價基、來自取代或無取代的碳數8以上20以下的脂肪族羧酸之一價基。
X5
具有此等構造時,尤其由於X5
的鹼性度變大了,所以配位力上升,做為金屬錯合物的穩定性變高。又再者,由於X5
的移動度變小了,電壓保持率係可以高水準維持。
通式(I)所示之化合物的X5
以外的較佳態樣係如下所述:R2
及R5
各自獨立地表示烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、硝基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、醯亞胺基、烷磺醯基、芳基磺醯基、或胺磺醯基(此等係取代或無取代均可);R3
及R4
各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷磺醯基、芳基磺醯基、或胺磺醯基(此等係取代或無取代均可);R7
表示氫原子、鹵素原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的芳基、或取代或無取代的雜環基;Ma表示Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、或VO;X3
及X4
各自獨立地為NR(R為氫原子、烷基、或雜環基)、氮原子、或氧原子;Y1
及Y2
各自獨立地表示NRc(Rc表示氫原子、或取代或是無取代的烷基)、氮原子、或碳原子;R8
及R9
各自獨立地表示烷基、芳基、雜環基、烷氧基、或烷胺基;R8
與Y1
係互相鍵結以形成5員或6員環、或是R9
與Y2
係互相鍵結以形成5員、6員環;a表示1。
在前述X5
的較佳態樣之情形中,X5
以外的較佳態樣在上述範圍之情形為更佳。
通式(I)所示之化合物的更佳態樣係如下所述:R2
及R5
各自獨立地表示烷基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、烷磺醯基、或芳基磺醯基(此等係取代或無取代均可);R3
及R4
各自獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜環基(此等係取代或無取代均可);R7
表示氫原子、取代或無取代的烷基、取代或無取代的芳基、或取代或無取代的雜環基;Ma表示Zn、Cu、Co、或VO;X3
及X4
為氧原子;Y1
及Y2
為NH;R8
及R9
各自獨立地為烷基、芳基、雜環基、烷氧基、或烷胺基(此等係取代或無取代均可);R8
與Y1
係互相鍵結以形成5員或6員環、或R9
與Y2
係互相鍵結以形成5員、6員環;a表示1。
前述X5
的較佳態樣之情形中,X5
以外的較佳態樣在上述範圍之情形為更佳。
前述通式(I)所示之化合物的特別是較佳態樣係如下所述:R2
及R5
各自獨立地表示烷基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、或胺甲醯基(此等係取代或無取代均可);R3
及R4
各自獨立地表示烷基、芳基、或雜環基;R7
為氫原子;Ma表示Zn;X3
及X4
為氧原子;Y1
及Y2
為NH;R8
及R9
各自獨立地為取代或無取代的烷基、取代或無取代的芳基、取代或無取代的雜環基、取代或無取代的烷氧基、或取代或無取代的烷胺基;a表示1。
前述X5
的較佳態樣之情形中,X5
以外的較佳態樣在上述範圍之情形為更佳。
前述通式(I)所示之化合物亦可為互變異構物(tautomer)。
所謂的互變異構物若為藉由移動分子內的1個氫原子而形成得到的構造之化合物均可,例如可為從下述的通式(a)至通式(f)的構造等。
上述的構造係為互變異構物構造之一例,由R2
~R5
、R7
~R9
、Y1
、Y2
、X3
~X5
的構造得到各式各樣的異構物構造。例如,在X5
為來自丁二酸醯亞胺的1價基之情形,一般認為甚至有2種類的異構物構造,其中一例可舉例如由下述的通式(g)及(h)所表示的2種類的異構物構造。此外,在通式(g)及(h)中的R2
~R5
、R7
~R9
、Y1
~Y2
、及X3
~X4
係與前述通式(I)中者各個同義,較佳的範圍也相同。
在本發明中的二亞甲吡咯系金屬錯合物或其互變異構物的莫耳吸光係數,從膜厚的觀點而言,越高越佳。又,最大吸收波長λmax
,從提升色純度的觀點而言,520nm~580nm為佳,530nm~570nm為更佳。此外,最大吸收波長及莫耳吸光係數係藉由分光光度計UV-1800PC[(股)島津製作所(Shimadzu Corporation)製]而測定。
接著,以下係表示在本發明的二亞甲吡咯系金屬錯合物的具體例。但是,本發明並不受限於此等。
前述通式(I)化合物係可以美國專利第4,774,339號、同5,433,896號、特開2001-240761號、同2002-155052號、同2008/0076044A1、日本專利第3614586號、Aust.J.Chem,1965,11,1835-1845、J.H.Bogeret al,Heteroatom Chemistry,Vol.1,No.5,389(1990)等中所記載的方法而合成。
本發明的著色組成物可單獨1種含有、亦可併用2種以上的通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物或其互變異構物。
在通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物或其互變異構物的著色組成物中的含量會因分子量、及其吸光係數而有所不同,相對於著色組成物的總固體含量而言,以1~70質量%為佳,以10~50質量%為更佳。若染料的含量為10質量%以上,可得到良好的色濃度(例如適合液晶顯示的色濃度),若為50質量%以下,則在畫素的圖案化為良好之點上而言為有利。
又,本發明的著色組成物亦可進一步含有其他構造的染料化合物、顏料化合物及其分散物。染料化合物若為不影響著色畫像的色相者,什麼樣的構造均可,可舉出例如:蒽醌染料(例如:特開2001-108815記載的蒽醌化合物)、酞菁染料(例如:美國專利2008/0076044A1記載的酞菁化合物)、二苯并吡喃染料(例如:C.I.酸紅289(C.I. Acid Red 289))、三芳基甲烷染料(例如:C.I.酸性藍7(C.I. Acid Blue7)、C.I.酸性藍83(C.I. AcidBlue83)、C.I.酸性藍90(C.I. Acid Blue 90)、C.I.溶劑藍38(C.I. Solvent Blue38)、C.I.酸性紫17(C.I. Acid Violet17)、C.I.酸性紫49(C.I. Acid Violet49)、C.I.酸性綠3(C.I. Acid Green3))、方酸鎓染料、吡唑偶氮基染料、次甲基染料、吡唑啉酮偶氮基染料、巴比妥酸偶氮基染料、等。
顏料化合物可舉例如苝化合物、紫環酮化合物、喹吖酮化合物、喹吖酮醌化合物、蒽醌化合物、二苯并芘-5,10-二酮化合物、苯并咪唑化合物、二重氮稠合化合物、二重氮化合物、偶氮基化合物、陰丹酮化合物、酞菁化合物、三芳基碳陽離子化合物、二化合物、胺基蒽醌化合物、二酮吡咯并吡咯化合物、靛藍化合物、硫靛化合物、異吲哚滿化合物、異吲哚啉酮化合物、皮蒽酮化合物或異宜和藍酮化合物等。更詳而言之,可舉出例如:顏料紅190、顏料紅224、顏料紫29等的苝化合物顏料、顏料橙43、或顏料紅194等的紫環酮化合物顏料、顏料紫19、顏料紫42、顏料紅122、顏料紅192、顏料紅202、顏料紅207、或顏料紅209的喹吖酮化合物顏料、顏料紅206、顏料橙48、或顏料橙49等的喹吖酮醌化合物顏料、顏料黃147等的蒽醌化合物顏料、顏料紅168等的二苯并芘-5,10-二酮化合物顏料、顏料棕25、顏料紫32、顏料橙36、顏料黃120、顏料黃180、顏料黃181、顏料橙62、或顏料紅185等的苯并咪唑化合物顏料、顏料黃93、顏料黃94、顏料黃95、顏料黃128、顏料黃166、顏料橙34、顏料橙13、顏料橙31、顏料紅144、顏料紅166、顏料紅220、顏料紅221、顏料紅242、顏料紅248、顏料紅262、或顏料棕23等的二重氮稠合化合物顏料、顏料黃13、顏料黃83、或顏料黃188等的二重氮化合物顏料、顏料紅187、顏料紅170、顏料黃74、顏料黃150、顏料紅48、顏料紅53、顏料橙64、或顏料紅247等的偶氮基化合物顏料、顏料藍60等的陰丹酮化合物顏料、顏料綠7、顏料綠36、顏料綠37、顏料綠58、顏料藍16、顏料藍75、或顏料藍15等的酞菁化合物顏料、顏料藍56、或顏料藍61等的三芳基碳陽離子化合物顏料、顏料紫23、或顏料紫37等的二化合物顏料、顏料紅177等的胺基蒽醌化合物顏料、顏料紅254、顏料紅255、顏料紅264、顏料紅272、顏料橙71、或顏料橙73等的二酮吡咯并吡咯化合物顏料、顏料紅88等的硫靛化合物顏料、顏料黃139、顏料橙66等的異吲哚滿化合物顏料、顏料黃109、或顏料橙61等的異吲哚啉酮化合物顏料、顏料橙40、或顏料紅216等的皮蒽酮化合物顏料、或顏料紫31等的異宜和藍酮化合物顏料。
前述染料及顏料的含量可在不損及本發明效果的範圍內使用,相對於本發明的著色硬化性組成物的總固體含量而言,較佳為0.5質量%~70質量%。
聚合性化合物
本發明的著色組成物較佳係進一步含有至少一種的聚合性化合物。聚合性化合物可舉出例如:具有至少1個乙烯性不飽和雙鍵的加成聚合性化合物。
具體而言,從具有至少1個,較佳為2個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物選擇。如此的化合物群係在該產業領域中為眾所週知者,在本發明中可不特別限定彼等而使用。此等亦可為例如:單體、預聚物(prepolymer)、亦即二聚物、三聚物及寡聚物(oligomer)、或彼等的混合物以及彼等(共)聚合物等的化學形態中的任一者。
單體及其(共)聚合物的例子可舉例如不飽和羧酸(例如:丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸等)或其酯類、醯胺基類、以及此等的(共)聚合物。較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、及不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺基類、以及此等的(共)聚合物。又,亦可適當使用具有羥基或胺基、巰基等的求核性取代基之不飽和羧酸酯類或不飽和羧酸醯胺基類、與單官能或是多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物,或上述不飽和羧酸酯類或不飽和羧酸醯胺基類、與單官能或是多官能羧酸的脫水稠合反應物等。又,具有異氰酸酯基或環氧基等的親電子性取代基之不飽和羧酸酯類或不飽和羧酸醯胺基類、與單官能或是多官能醇類、胺類、硫醇類的加成反應物;更適宜係具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等的脫離性取代基之不飽和羧酸酯類或不飽和羧酸醯胺基類、與單官能或是多官能醇類、胺類、硫醇類的取代反應物。又,另一個例子係亦可使用將上述的不飽和羧酸取代為不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等所得之化合物群。
做為脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸的酯之單體的具體例係可舉例如下:丙烯酸酯可舉出例如:乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、伸丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1,4-環己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山梨醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、聚酯丙烯酸酯寡聚物、異三聚氰酸EO改質三丙烯酸酯等;甲基丙烯酸酯可舉出例如:伸丁二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨醇三甲基丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、雙[p-(3-甲基丙烯氧基-2-羥基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、雙-[p-(甲基丙烯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等;伊康酸酯係可舉出例如:乙二醇二伊康酸酯、丙二醇二伊康酸酯、1,3-丁二醇二伊康酸酯、1,4-丁二醇二伊康酸酯、伸丁二醇二伊康酸酯、季戊四醇二伊康酸酯、山梨醇四伊康酸酯等;巴豆酸酯係可舉出例如:乙二醇二巴豆酸酯、伸丁二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、山梨醇四-二巴豆酸酯(sorbitol tetradicrotonate)等;異巴豆酸酯可舉出例如:乙二醇二異巴豆酸酯、季戊四醇二異巴豆酸酯、山梨醇四異巴豆酸酯等;馬來酸酯可舉出例如:乙二醇二馬來酸酯、三乙二醇二馬來酸酯、季戊四醇二馬來酸酯、山梨醇四馬來酸酯等。
其他酯的例子可舉出例如:具有特公昭51-47334號公報、特開昭57-196231號公報記載的脂肪族醇系酯類、或特開昭59-5240號公報、特開昭59-5241號公報、特開平2-226149號公報記載的芳香族系骨架者,亦可是當使用含有特開平1-165613號公報記載的胺基者等。前述的酯單體亦可進一步做為混合物使用。
又,脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸的醯胺之單體的具體例係有亞甲基雙-丙烯醯胺、亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、二伸乙三胺三丙烯醯胺、苯二甲基雙丙烯醯胺、苯二甲基雙甲基丙烯醯胺等。
其他較佳醯胺基系單體的例子,可舉例如具有特公昭54-21726號公報中所記載的伸環己烷構造者。
又,使用異氰酸酯與羥基的加成反應所製造的胺基甲酸酯系加成聚合性化合物亦為適宜。那樣的具體例可舉出例如:特公昭48-41708號公報中中所記載的、在1分子具有2個以上的異氰酸酯基之聚異氰酸酯化合物中,加成含有下述通式(A)所示羥基的乙烯基單體的、在1分子中中含有2個以上的聚合性乙烯基之乙烯基胺基甲酸酯化合物等。
CH2
=C(R)COOCH2
CH(R’)OH ...(A)
[通式(A)中,R及R’係各自獨立地表示H或CH3
]
關於此等的聚合性化合物,其構造、單獨使用或併用、或添加量等的使用方法的詳細內容,可配合著色組成物的最終性能設計而任意設定。例如,在感度的觀點係每1分子的不飽和基含量多的構造為佳,大多的情形係2官能以上為佳。又,在提高著色硬化膜的強度之觀點係較佳為3官能以上者,進一步藉由併用不同的官能數及/或不同的聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)者,而調節感度與強度兩者的方法亦為有效。又,對於與著色組成物中所含有的其他成分(例如:光聚合起始劑、著色劑(顏料)、黏合劑聚合物等)的相溶性、分散性,聚合性化合物的選擇及/或使用法亦為重要的要因,例如:藉由低純度化合物的使用或並用2種以上而使相溶性提升。又,在提升與支持體等硬質表面的密合性之觀點,亦可選擇特定的構造。
著色組成物在總固體含量中的聚合性化合物的含量(2種以上的情形為總含量)沒有特別地限制,從可更有效地得到本發明的效果之觀點而言,以10質量%~80質量%為佳,以15質量%~75質量%為更佳,以20質量%~60質量%為特佳。
光聚合起始劑
本發明的著色組成物較佳係更含有至少一種的光聚合起始劑。光聚合起始劑若聚合前述聚合性化合物而得到者,沒有特別地限制,較佳係從特性、起始效率、吸收波長、入手性、成本等的觀點來做選擇。
光聚合起始劑可舉出例如:從鹵甲氧基二唑化合物及鹵甲基-s-三化合物所選擇的至少1種活性鹵化合物、3-芳基取代香豆素化合物、咯吩(lophine)二聚物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、肟系化合物等。關於光聚合起始劑的具體例,可舉例如特開2004-295116號公報的段落[0070]~[0077]中所記載者。其中,從聚合反應迅速之點等而言,尤以肟系化合物為佳。
前述肟系化合物(以下,亦稱為「肟系光聚合起始劑」)沒有特別地限制,可舉出例如:特開2000-80068號公報、WO02/100903A1、特開2001-233842號公報等中所記載的肟系化合物。
具體的例子可舉例如2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-戊二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-己二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-庚二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(甲基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(乙基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(丁基苯硫基)苯基]-1,2-丁二酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-甲基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-丙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-乙基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、1-(O-乙醯基肟)-1-[9-乙基-6-(2-丁基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮等。但是,並不限於此等。
又,在本發明中,從感度、經時穩定性、後加熱時的著色的觀點而言,肟系化合物更佳為下述通式(1)所示之化合物。
前述通式(1)中,R及X各自獨立地表示1價的取代基,A表示2價的有機基,Ar表示芳基。n為1~5的整數。n為2~5的整數之情形中,複數存在的X係可彼此相同、亦可不同。
R從高感度化之點而言,較佳為醯基,具體而言,較佳為乙醯基、丙醯基、苯甲醯基、苯乙醯基。
A從提高感度、抑制因加熱經時的著色之點而言,較佳為無取代的伸烷基、被烷基(例如:甲基、乙基、第三丁基、十二烷基)所取代的伸烷基、被烯基(例如:乙烯基、烯丙基)所取代的伸烷基、被芳基(例如:苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)所取代的伸烷基為佳。
Ar從提高感度、抑制因加熱經時的著色之點而言,較佳為取代或無取代的苯基。取代苯基的情形中,其取代基較佳係例如:氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等的鹵素基。
X從提升溶劑溶解性與長波長領域的吸收效率之點而言,較佳為亦可具有取代基的烷基、亦可具有取代基的芳基、亦可具有取代基的烯基、亦可具有取代基的炔基、亦可具有取代基的烷氧基、亦可具有取代基的芳氧基、亦可具有取代基的烷硫氧基、亦可具有取代基的芳硫氧基、亦可具有取代基的胺基。
又,在通式(1)中的n較佳為1~2的整數。
又,本發明的著色組成物中除了上述的光聚合起始劑以外,亦可使用特開2004-295116號公報的段落[0079]中所記載的其他眾所週知的光聚合起始劑。
光聚合起始劑係可1種單獨、或組合2種以上而含有。
光聚合起始劑在著色組成物的總固體含量中的含量(2種以上的情形為總含量),從可更有效地得到本發明的效果之觀點而言,以3質量%~20質量%為佳,以4質量%~19質量%為更佳,以5質量%~18質量%為特佳。
有機溶劑
本發明的著色組成物可含有至少一種的有機溶劑。
有機溶劑若可滿足並存的各成分之溶解性、或做為著色組成物時的塗布性即可,基本上沒有特別地限制,特別是考慮黏合劑的溶解性、塗布性、安全性而作選擇為佳。
有機溶劑為酯類可舉出例如:乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、羥乙酸烷基酯類(例如:羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯(具體而言,可舉例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-羥丙酸烷基酯類(例如:3-羥丙酸甲酯、3-羥丙酸乙酯等(具體而言,可舉例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-羥丙酸烷基酯類(例如:2-羥丙酸甲酯、2-羥丙酸乙酯、2-羥丙酸丙酯等(具體而言,可舉例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(具體而言,可舉例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧合丁酸甲酯、2-氧合丁酸乙酯等。
又,可做為有機溶劑使用的醚類可舉出例如:二甘醇二甲基醚、四氫呋喃、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、甲基賽路蘇乙酸酯、乙基賽路蘇乙酸酯、二甘醇單甲基醚、二甘醇單乙基醚、二甘醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯等。
可做為有機溶劑使用的酮類可舉出例如:甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等。
可做為有機溶劑使用的芳香族碳化氫類可適宜舉出例如:甲苯、二甲苯等。
此等有機溶劑在前述各成分的溶解性、及含有鹼可溶性黏合劑之情形,從其溶解性、塗布面狀的改良等的觀點而言,較佳亦可混合2種以上。該情形下,特較佳為以從3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基賽路蘇乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲基醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲基醚、及丙二醇甲基醚乙酸酯所選擇之2種以上而構成的混合溶液。
有機溶劑在著色組成物中的含量,較佳係組成物中的總固體含量濃度為10質量%~80質量%的量,更佳為15質量%~60質量%的量。
其他的成分
本發明的著色組成物係除了上述的各成分以外,在不損及本發明效果的範圍內,亦可進一步含有鹼可溶性黏合劑、交聯劑等的其他的成分。
鹼可溶性黏合劑
鹼可溶性黏合劑係除了具有鹼可溶性以外,沒有特別地限制,較佳係可從耐熱性、顯像性、入手性等的觀點來做選擇。
鹼可溶性黏合劑係線狀有機高分子聚合物,且可溶於有機溶劑,較佳為弱鹼性水溶液且可顯像者。如此的線狀有機高分子聚合物係在側鏈具有羧酸之聚合物,可舉出例如:特開昭59-44615號、特公昭54-34327號、特公昭58-12577號、特公昭54-25957號、特開昭59-53836號、特開昭59-71048號的各公報中所記載的、甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、伊康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等,同樣在側鏈具有羧酸之酸性纖維素衍生物係為有用的。
除了上述以外,在本發明中的鹼可溶性黏合劑係在具有羥基之聚合物加成酸酐而成者等、或多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、聚((甲基)丙烯酸2-羥基乙酯)、聚乙烯吡咯啶酮或聚環氧乙烷、聚乙烯醇等為有用的。又,線狀有機高分子聚合物亦可使具有親水性之單體共聚合而成者。該例子可舉例如:(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯、(甲基)丙烯酸羥基烷酯、甘油(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烯醯胺、2級或是3級的烷基丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二烷胺基烷酯、嗎啉(甲基)丙烯酸酯、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基己內醯胺、乙烯基咪唑、乙烯基三唑、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、支鏈或是直鏈的(甲基)丙烯酸丙酯、支鏈或是直鏈的(甲基)丙烯酸丁酯、或(甲基)丙烯酸苯氧基羥基丙酯等。此外,具有親水性的單體含有四氫糠基、磷酸基、磷酸酯基、4級銨鹼、環氧乙烷鏈、環氧丙烷鏈、來自磺酸基及其鹽的基、嗎啉基乙基等而成之單體等亦為有用。
又,鹼可溶性黏合劑為了提升交聯效率,亦可在側鏈上具有聚合性基,例如:在側鏈上具有烯丙基、(甲基)丙烯醯基、烯丙氧基烷基等之聚合物等亦為有用。含有上述聚合性基之聚合物的例子係可舉例如:市售品的KS RESIST-106(KS RESIST-106)(大阪有機化學工業(股)(Osaka Organic Chemical Industry Ltd.)製)、CYCLOMER(CYCLOMER)P系列(DAICEL化學工業(股)(Daicel Chemical Industries Ltd.)製)等。又,為了提高硬化皮膜的強度,醇可溶性耐綸或2,2-雙-(4-羥苯基)-丙烷與環氧氯丙烷的聚醚等亦為有用。
此等各種鹼可溶性黏合劑之中,從耐熱性之觀點而言,較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂,從顯像性控制的觀點而言,較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
前述丙烯酸系樹脂較佳係從(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺等所選出單體而構成的共聚物、或市售品的KS RESIST-106(大阪有機化學工業(股)製)、CYCLOMER P系列(DAICEL化學工業(股)製)等。
鹼可溶性黏合劑係從顯像性、液黏度等的觀點而言,重量平均分子量(以GPC法所測定的聚苯乙烯換算值)較佳為1000~2×105
的聚合物,更佳為2000~1×105
的聚合物,特佳為5000~5×104
的聚合物。
交聯劑
在本發明的著色組成物中使用補足用的交聯劑,亦可進一步提高使著色組成物硬化而成之著色硬化膜的硬度。
交聯劑若可藉由交聯反應而進行膜硬化者即可,沒有特別地限制,可舉出例如:(a)環氧樹脂、(b)被從羥甲基、烷氧基甲基、及醯氧基甲基所選出之至少1個取代基所取代的、三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物或脲化合物、(c)被從羥甲基、烷氧基甲基、及醯氧基甲基所選出之至少1個取代基所取代的、酚化合物、萘酚化合物或羥基蒽化合物。其中,尤以多官能環氧樹脂為佳。
關於交聯劑的具體例等的詳細內容,可參照特開2004-295116號公報的段落[0134]~[0147]中的記載。
其他的添加物
著色組成物中亦可按照需要摻混各種添加物、例如:填充劑、上述以外的高分子化合物、非離子系、陽離子系、陰離子系等的界面活性劑、密著促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、凝集防止劑等。此等的添加物係可舉例如特開2004-295116號公報的段落[0155]~[0156]中所記載者。
在本發明的著色組成物中,可含有特開2004-295116號公報的段落[0078]中所記載的增感劑或光穩定劑、同公報的段落[0081]中所記載的熱聚合抑制劑。
又,在謀圖促進非曝光領域的鹼可溶解性、更提升著色組成物的顯像性之情形中,較佳亦可在該組成物中添加有機羧酸,較佳為添加分子量1000以下的低分子量有機羧酸。
具體而言,可舉出例如:甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、新戊酸、己酸、二乙基乙酸、庚酸、辛酸等的脂肪族單羧酸;草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、巴西基酸、甲基丙二酸、乙基丙二酸、二甲基丙二酸、甲基丁二酸、四甲基丁二酸、檸康酸等的脂肪族二羧酸;丙三羧酸、烏頭酸、樟腦三酸等的脂肪族三羧酸;苯甲酸、苯乙酸、枯酸、2,3-二甲基苯甲酸、3,5-二甲基苯甲酸等的芳香族單羧酸;酞酸、異酞酸、對苯二甲酸、偏苯三酸、苯均三酸、偏苯四甲酸、苯均四酸等的芳香族多羧酸;苯基乙酸、氫化阿托酸、氫化肉桂酸、杏仁酸、苯基丁二酸、阿托酸、肉桂酸、肉桂酸甲酯、肉桂酸苄酯、亞肉桂基乙酸、闊馬酸、傘型酸等的其他羧酸。
著色組成物的調製方法
本發明的著色組成物可藉由混合前述的各成分與按照需要的任意成分而調製。
此外,調製著色組成物之際,可整批摻混構成著色組成物的各成分、亦可將各成分溶解及/或分散於溶劑之後再逐次摻混。又,摻混之際的投入順序或作業條件係不受到特別地限制。例如,亦可將全部成分同時溶解及/或分散於溶劑而調製組成物,亦可按照需要在各成分為適宜的2種以上的溶液‧分散液中,於使用時(塗布時)混合此等而調製成組成物。
如上述般所調製的著色組成物,較佳係可使用孔徑0.01μm~3.0μm,更佳為孔徑約0.05μm~0.5μm的過濾器等來進行過濾之後,而供作使用。
為了可形成色相及對比優異的著色硬化膜,本發明的著色組成物可做為液晶顯示裝置(LCD)或固態攝影元件(例如:CCD(charge coupled device,電荷耦合裝置)、CMOS(complementary metal-oxide semiconductor,互補金氧半導體)等)中所使用的彩色濾光片等的著色畫素形成用,又,可適合使用為印刷墨水、噴墨墨水、及塗料等的製作用途。特別是適合於液晶顯示裝置用的著色畫素形成用途。
彩色濾光片及其製造方法
本發明的彩色濾光片係設有基板、與在該基板上含有做為染料化合物的前述通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物及/或其互變異構物的著色領域而構成者。基板上的著色領域係由形成彩色濾光片的各畫素的例如紅(R)、綠(G)、藍(B)等的著色膜而構成。本發明的彩色濾光片由於含有具有特定構造的二亞甲吡咯系金屬錯合物而形成,所以在畫像顯示時的彩色鮮明且對比高,特別適合做為液晶顯示裝置用。
本發明的彩色濾光片若為可形成含有二亞甲吡咯系金屬錯合物硬化之著色領域(著色圖案)的方法,可以任一方法而形成。較佳係使用本發明的著色組成物而製作。
本發明的彩色濾光片之製造方法係設有下列步驟而構成:在支持體上塗布前述的著色組成物以形成著色層(亦稱為著色組成物層)的步驟(A);將在步驟(A)中所形成之著色組成物層(較佳為透過遮罩(mask))曝光成圖案狀,以顯像液顯像去除塗布膜的未硬化部而形成著色領域(著色圖案)的步驟(B)。經由此等步驟,可藉以形成由各色(3色或是4色)的畫素所構成的著色圖案,而得到彩色濾光片。又,在本發明的彩色濾光片之製造方法中,特佳係更設有:對在步驟(B)形成之著色圖案照射紫外線的步驟(C)、與對在步驟(C)照射紫外線之著色圖案進行加熱處理的步驟(D)的態樣。
藉由如此的方法,可以製程上的困難性少、高品質,且低成本來製作液晶顯示元件或固態攝影元件中所使用的彩色濾光片。
以下,更具體地說明本發明的彩色濾光片之製造方法。
步驟(A)
在本發明的彩色濾光片之製造方法,首先係直接或透過其他層藉由所希望的塗布方法而將前述的本發明的著色組成物塗布於支持體上,以形成由著色組成物所構成的塗布膜(著色組成物層),然後,按照需要進行預硬化(預烘焙)而使該著色組成物層乾燥。
支持體可舉出例如:液晶顯示元件等中所使用的無鹼玻璃、鈉玻璃(soda glass)、PYREX(註冊商標)玻璃、石英玻璃、及於彼等上附著有透明導電膜而成者、或固態攝影元件等中所使用的光電變換元件基板,可舉例如:矽基板、或塑膠基板等。又,在此等支持體上,可形成隔離各畫素的黑矩陣(black matrix)、亦可設置用以密著促進等的透明樹脂層。又,亦可在支持體上,依照需要設置用以改良與上部層的密著、防止物質的擴散、或是使表面平坦化用的底塗層。
又,塑膠基板較佳係在其表面具有氣體障壁(gas barrier)層及/或耐溶劑性層。
除此之外,使用配置有薄膜電晶體(Thin Film Transistor:TFT)方式彩色液晶顯示裝置的薄膜電晶體(TFT)的驅動用基板(以下,稱為「TFT方式液晶驅動用基板」)做為支持體,可在該驅動用基板上形成使用本發明的著色組成物所形成的著色圖案以製作彩色濾光片。
在TFT方式液晶驅動用基板中的基板可舉出例如:玻璃、矽(silicone)、聚碳酸酯、聚酯、芳香族聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等。在此等基板上,亦可依照期望施加矽烷偶合劑等的藥品處理、電漿處理、離子鍍敷(ion plating)、濺鍍(sputtering)、氣相反應法、真空蒸鍍等適宜的前處理。例如,在TFT方式液晶驅動用基板的表面,可使用形成氮化矽膜等的鈍化(passivation)膜之基板。
藉由旋轉塗布(spin coating)、狹縫塗布(slit coating)、流延塗布(cast coating)、輥塗(roll coating)、棒材塗布(bar coating)、噴墨等的塗布方法,直接或透過其他層將本發明的著色組成物塗布於基板上,可形成著色組成物的塗布膜。
在塗布步驟中,將本發明的著色組成物塗布於基板之方法沒有特別地限制,較佳係擠壓及旋轉(slit-and-spin)法、無旋轉(spinless)塗布法等的使用狹縫噴嘴(slit nozzle)的方法(以下,稱為狹縫噴嘴塗布法)。
在狹縫噴嘴塗布法中,擠壓及旋轉塗布法與無旋轉塗布法會因塗布基板的大小而有不同的條件,例如:在藉由無旋轉塗布法來塗布第五世代的玻璃基板(1100mm×1250mm)之情形中,來自狹縫噴嘴的著色組成物的吐出量通常為500微升/秒~2000微升/秒,較佳為800微升/秒~1500微升/秒,又,塗敷速度通常為50mm/秒~300mm/秒,較佳為100mm/秒~200mm/秒。
又,在塗布步驟中所使用的著色組成物的固體含量通常為10%~20%,較佳為13%~18%。
在將本發明著色組成物之塗布膜形成於基板上之情形中,該塗布膜的厚度(預烘焙處理後)一般為0.3μm~5.0μm,較宜為0.5μm~4.0μm、最佳為0.5μm~3.0μm。
又,若在固態攝影元件用的彩色濾光片的情形中,塗布膜的厚度(預烘焙處理後)較佳為0.5μm~5.0μm的範圍。
在塗布步驟中,通常在塗布後實施預烘焙處理。亦可按照需要,在預烘焙前實施真空處理。真空乾燥條件的真空度通常為0.1torr~1.0torr,較佳為0.2torr~0.5torr程度。
又,預烘焙處理可使用熱板(hot plate)、烘箱(oven)等,在50℃~140℃的溫度範圍內、較佳為70℃~110℃左右,以10秒~300秒的條件進行。此外,預烘焙處理亦可併用高頻處理等。高頻處理即使單獨使用也可以。
預烘焙的條件可舉例如使用熱板或烘箱、在70℃~130℃加熱0.5分鐘~15分鐘左右的條件。
又,由著色組成物所形成之著色組成物層的厚度,可按照目的做適宜選擇。在液晶顯示裝置用彩色濾光片係較佳為0.2μm~5.0μm的範圍,更佳為1.0μm~4.0μm的範圍,特佳為1.5μm~3.5μm的範圍。又,在固態攝影元件用彩色濾光片係較佳為0.2μm~5.0μm的範圍,更佳為0.3μm~2.5μm的範圍,特佳為0.3μm~1.5μm的範圍。
此外,著色組成物層的厚度為預烘焙後的膜厚。
步驟(B)
接者,在本發明的彩色濾光片之製造方法中,對著由如前述般形成於支持體上的著色組成物所構成之塗布膜(著色組成物層),例如透過光罩進行曝光。可適用於曝光的光或放射線較佳為g線、h線、i線、j線、KrF光、ArF光,特佳為i線。使用i線為照射光之情形中,較佳係以100mJ/cm2
~10000mJ/cm2
的曝光量進行照射。
又,其他的曝光光線亦可使用超高壓、高壓、中壓、低壓的各式水銀燈、化學燈、碳弧燈、氙氣燈、金屬鹵化物水銀燈、可見光及紫外光的各種雷射光源、螢光燈、鎢燈、太陽光等。
使用雷射光源的曝光步驟
在使用雷射光源的曝光方式,較佳係使用紫外光雷射做為光源。
照射光較佳係波長在300nm~380nm範圍的波長範圍的紫外光雷射,更佳係在300nm~360nm範圍波長的紫外光雷射,從符合光阻的感光波長之點而言為佳。具體而言,特別適宜使用輸出大、比較便宜的固體雷射之Nd:YAG雷射的第三高諧波(355nm)、或準分子雷射(excimer laser)的XeCl(308nm)、XeF(353nm)。
被曝光物(圖案)的曝光量為1mJ/cm2
~100mJ/cm2
的範圍,更佳為1mJ/cm2
~50mJ/cm2
的範圍。曝光量若在該範圍內,從圖案形成的生產性之點而言為佳。
曝光裝置係沒有特別地限制,市售品可使用Callisto(V科技股份有限公司(V Technology Co.,Ltd.)製)或EGIS(V科技股份有限公司製)或DF2200G(大日本SCREEN(股)(Dainippon Screen MFG,Co.,Ltd.)製)等。又亦可適宜使用上述以外的裝置。
在製造液晶顯示裝置用的彩色濾光片之際,利用近接式(proximity)曝光機、透鏡投射(mirror projection)曝光機,並使用主要是使用h線、i線的曝光為佳。又,在製造固態攝影元件用的彩色濾光片之際,以步進式(stepper)曝光機並主要使用i線為佳。此外,使用TFT方式液晶驅動用基板來製造彩色濾光片之際,所使用的光罩除了用以形成畫素(著色圖案)的圖案以外,亦可使用設置有用以形成貫穿孔(through-hole)或是ㄇ字型(或是U字型)凹坑的圖案者。
如上述般曝光之著色組成物層可進行加熱。
又,為了抑制著色組成物層中色材的氧化褪色,曝光可一邊使氮氣在腔室(chamber)內流動一邊進行。
繼而,以顯像液對著曝光後的著色組成物層進行顯像。藉此,可形成負型或正型的著色圖案(光阻圖案(resist pattern))。在顯像步驟中,曝光後塗布膜的未硬化部會溶出至顯像液中,而只有硬化部分殘存於基板上。
顯像液若是會溶解未硬化部中著色組成物的塗布膜(著色組成物層)、但不會溶解硬化部,可使用任一者。例如,可使用各種有機溶劑的組合或鹼性水溶液。
使用於顯像之有機溶劑可舉例如在調製本發明的著色組成物之際可使用的前述溶劑。
前述鹼性水溶液可舉出例如:將氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5,4,0]-7-十一碳烯等的鹼性化合物,溶解成濃度為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%而成之鹼性水溶液。顯像液為鹼性水溶液之情形中,鹼濃度較佳係調整為pH11~13、更佳係調整為pH11.5~12.5為宜。
鹼性水溶液中可適量添加例如甲醇、乙醇等的水溶性有機溶劑與界面活性劑等。
顯像溫度通常為20℃~30℃,顯像時間為20秒~90秒。
顯像係可為浸漬方式、淋浴方式、噴霧方式等任一者,在此亦可組合擺動方式、旋轉方式、超音波方式等。接觸到顯像液之前,預先用水等弄溼被顯像面,亦可防止顯像不均。又,亦可使基板傾斜來進行顯像。
又,在製造固態攝影元件用的彩色濾光片之情形中,亦可使用攪煉顯像。
在經由洗淨除去剩餘的顯像液之清洗處理並實施乾燥之後,為了使其完全硬化,顯像處理後可實施加熱處理(後焙)。
清洗加工處理通常用純水進行,但為了省水,可在最終洗淨時才使用純水,洗淨初期則使用已使用過的純水,又,可使用傾斜基板來洗淨、併用超音波照射之方法。
在清洗處理後進行瀝水、乾燥之後,通常係進行約200℃~250℃的加熱處理。該加熱處理(後焙)係可將顯像後的塗布膜,以成為上述條件的方式使用熱板或對流烘箱(convection oven)(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等的加熱手段,以連續式或是批式(batch)式來進行。
藉由配合所希望的色相數來依序重複各色進行以上的各步驟,可製作形成有複數色的經著色之硬化膜(著色圖案)而成之彩色濾光片。
本發明的彩色濾光片由於對比高、色濃度不均小、色特性良好,所以可適合使用於固態攝影元件或液晶顯示元件。
步驟(C)
在本發明的彩色濾光片之製造方法中,特別是亦可對著使用著色組成物所形成之著色圖案(畫素),進行紫外線照射的後曝光。
步驟(D)
較佳係對著進行照射如上述紫外線的後曝光而成之著色圖案,進一步進行加熱處理。藉由加熱處理(所謂的後焙處理)所形成的著色圖案,可使著色圖案進一步硬化。該加熱處理係可藉由例如:熱板、各種加熱器(heater)、烘箱等來進行。
加熱處理之際的溫度較佳為100℃~300℃,更佳為150℃~250℃。又,加熱時間較佳為10分~120分左右。
如此所得到的著色圖案係構成彩色濾光片中的畫素。在製作具有複數個色相的畫素之彩色濾光片中,可配合所希望的色數重複上述的步驟(A)、步驟(B)、及可按照需要步驟(C)或步驟(D)。
此外,亦可在單色的著色組成物層的形成、曝光、顯像完成後的每1次(每1色),進行前述步驟(C)及/或步驟(D),亦可在所希望的全部色數的著色組成物層的形成、曝光、顯像完成之後,整批進行前述步驟(C)及/或步驟(D)。
按照本發明的彩色濾光片之製造方法所得之彩色濾光片(本發明的彩色濾光片),由於使用了本發明的著色組成物,所以色相及對比非常優異。
本發明的彩色濾光片可使用於液晶顯示元件或固態攝影元件,特別適合於液晶顯示裝置的用途。使用於液晶顯示裝置之情形中,使用染料做為著色劑,可一邊達成良好的色相、一邊顯示分光特性及對比優異的畫像。
本發明的著色組成物的用途雖然以在上述中主要是彩色濾光片之著色圖案的形成用途為中心來加以說明,但亦適用於隔離構成彩色濾光片之著色圖案(畫素)的黑矩陣的形成。
基板上的黑矩陣可藉由使用碳黑(carbon black)、鈦黑(titanium black)等的具有黑色顏料之加工顏料的著色組成物,經由塗布、曝光、及顯像的各步驟,然後,可按照需要進行後焙(post baking)而形成。
液晶顯示裝置
本發明的液晶顯示元件及固態攝影元件具備本發明的彩色濾光片而成者。更具體而言,例如藉由在彩色濾光片的內面側形成配向膜,與電極基板呈對向,並在間隙部填滿液晶後密封,可得到本發明的液晶顯示元件之面板。又,例如藉由在受光元件上形成彩色濾光片,可得到本發明的固態攝影元件。
關於液晶顯示裝置的定義與各顯示裝置的詳細內容,係記載於例如「電子顯示器裝置(Denshi Display Device)(佐佐木 昭夫著、(股)工業調査會(Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.)1990年發行)」、「顯示器裝置(Display Device)(伊吹 順章著、產業圖書(股)(Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.)1989年發行)」等。又,關於液晶顯示裝置,係記載於例如「次世代液晶顯示器技術(Jisedai Ekisho Display Gijutsu)(內田 龍男編集、(股)工業調査會1994年發行)」。本發明可適用的液晶顯示裝置沒有特別地限制,例如可適用於上述的「次世代液晶顯示器技術」記載的各式各樣方式的液晶顯示裝置。
本發明的彩色濾光片尤其特別是對於彩色TFT方式的液晶顯示裝置有效。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置,係記載於例如「彩色TFT液晶顯示器(Color TFT Ekisho Display)(共立出版(股)(Kyoritsu Shuppan Co.,Ltd.)1996年發行)」。另外,本發明亦可適用於IPS(In-Plane Switching,面內切換)等的橫向電場驅動方式、MVA(Multi-domain Vertical Alignment,多域垂直配向)等的畫素分割方式等的視野角被擴大之液晶顯示裝置、或STN(Super Twisted Nematic,超扭轉向列)、TN(Twisted Nematic,扭轉向列)、VA(Vertical Alignment,垂直向列)、OCS(Optically Compensated Splay,光學補償擴展)、FFS(Fringe Field Switching,邊緣電場切換)、及R-OCB(Reflective Optically Compensated Bend,反射式光學補償板)等。
又,本發明的彩色濾光片亦可提供於明亮高精細的COA(Color-filter On Array,陣列上彩色濾光片)方式。
若將本發明的彩色濾光片使用於液晶顯示元件,可在組合以往眾所週知的冷陰極管的三波長管時實現高對比,另外,藉由將紅、綠、藍色的LED光源(RGB-LED)當做背光(backlight),可提供輝度高、又色純度高、色再現性良好的液晶顯示裝置。
[實施例]
以下,以實施例更具體說明本發明,惟本發明在不超出其主旨的範圍內,並不限定於以下的實施例。此外,若沒有特別地限定,「份」為質量基準。
(實施例1):二亞甲吡咯系金屬錯合物的合成
依照下述的反應流程圖(scheme),合成二亞甲吡咯系金屬錯合物的既述例示化合物B-8、D-2、C-4、L-1、L-8、及H-1。
中間體1的合成
關於中間體1,可藉由美國專利出願公開2008/0076044號說明書中所記載的方法來合成。
以下述所示的方式合成從中間體2到中間體8、例示化合物B-8、D-2、C-4、L-1、L-8、及H-1。
中間體2的合成
在由美國專利出願公開2008/0076044號說明書中所記載的方法所得之225.8g(0.55mol)的中間體1中加入690ml的乙腈,且在冰冷下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入93.5g(0.61mol)的對甲苯甲醯氯。然後,一邊滴下、一邊加入52.2g(0.66mol)的吡啶,並在冰冷下攪拌1小時、在室溫下攪拌2小時。反應終了後,過濾析出的固體,並用乙腈洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到229g(收率:79%)的中間體2。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.04(d、2H)、7.64(d、1H)、7.45~7.23(m、8H)、6.37(d、1H)、5.86(s、1H)、2.60(s、3H)、1.27~1.12(m、3H)、1.06~0.92(m、2H)0.84(s、18H)、0.70(d、3H)、0.63~0.47(m、2H)。
中間體3的合成
在乙酸酐420ml中,加入222.1g(0.42mol)的中間體2、31.1g(0.21mol)的原甲酸三乙酯,並在室溫下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入三氟乙酸630ml,並在室溫下攪拌3小時。反應終了後,將反應液注入於在6400ml水中加入有940g碳酸氫鈉的溶液中,且用3200ml的乙酸乙酯抽出,然後用飽和碳酸氫鈉水溶液進行中和。以硫酸鈉乾燥後過濾,並將過濾液減壓濃縮。在所得之固體中加入2600ml的甲醇,在60℃加熱攪拌1小時,然後,就這樣熱熱的進行過濾,再次用甲醇進行洗淨,以乾燥所得之固體。如此,以得到170.3g(76%)的中間體3。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.10(s、2H)、7.72(d、2H)、7.39~7.13(m、16H)、6.12(s、1H)、5.85(s、2H)、2.70(s、6H)、1.29~1.08(m、6H)、1.02~0.92(m、4H)0.80(s、36H)、0.64(d、6H)、0.44~0.31(m、4H)。
中間體4的合成
在美國專利出願公開2008/0076044號說明書中所記載的方法所得之205.3g(0.5mol)的中間體1中加入600ml的乙腈,且在冰冷下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入66.3g(0.55mol)的三甲基乙醯氯。然後,一邊滴下、一邊加入47.5g(0.6mol)的吡啶,並在冰冷下攪拌1小時、在室溫下攪拌2小時。反應終了後,過濾析出的固體,並用乙腈洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到238.5g(收率:96%)的中間體4。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.02(s、1H)、10.81(s、1H)、7.37~7.26(m、5H)、6.28(d、1H)、5.87(s、1H)、1.36(s、9H)、1.26~1.15(m、3H)、1.04~0.97(m、2H)0.83(s、18H)、0.70(d、3H)、0.63~0.46(m、2H)。
中間體5的合成
在乙腈625ml中,加入123.7g(0.25mol)的中間體4、74.1g(0.5mol)的原甲酸三乙酯,並在室溫下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入85.5g(0.75mol)的三氟乙酸,並在室溫下攪拌2小時。反應終了後,將反應液注入5000ml的水中,然後加入107.5g的碳酸氫鈉,並在室溫下攪拌5小時。然後,過濾析出的固體,使用水、乙腈、乙酸乙酯洗淨過濾物,以乾燥所得之固體。如此,以得到100g(80%)的中間體5。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:10.99(s、2H)、7.29~7.12(m、10H)、6.06(d、1H)、5.87(s、2H)、1.42(s、18H)、1.22~1.12(m、6H)、1.00~0.95(m、4H)0.80(s、36H)、0.64(d、6H)、0.44~0.31(m、4H)。
中間體6的合成
在100ml水、120ml甲醇的混合溶媒中,加入33.5g(0.22mol)的4-甲氧基苯甲酸、8.8g(0.22mol)的氫氧化鈉,並在60℃下進行攪拌。在該溶液中,加入於80ml水中溶化有28.8g(0.1mol)的硫酸鋅7水合物的溶液,並在60℃攪拌1小時、在室溫下攪拌2小時。攪拌終了後,過濾所得之析出物,並用水洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到25.2g(69%)的中間體6。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:8.09(d、4H)、6.94(d、4H)、3.88(s、6H)。
中間體7的合成
在650ml水中加入81.5g(0.44mol)的酞醯亞胺鉀,並在室溫下攪拌。在該溶液中,加入在100ml的水中溶化有57.5g(0.2mol)的硫酸鋅7水合物的溶液,並在室溫下攪拌3小時。攪拌終了後,過濾所得之析出物,並用水洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到71.5g(100%)的中間體7。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:7.90~7.86(m、4H)、7.80~7.76(m、4H)。
中間體8的合成
在50ml水中加入13.7g(0.11mol)的4-甲氧基酚、4.4g(0.11mol)的氫氧化鈉,並在60℃下進行攪拌。在該溶液中,加入在30ml水中溶化有14.4g(0.05mol)的硫酸鋅7水合物的溶液,並在60℃攪拌1小時、在室溫下攪拌2小時。攪拌終了後,過濾所得之析出物,並用水洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到5.7g(37%)的中間體8。
中間體9的合成
在16.52g(0.11mol)的2,4-二甲基苯甲酸中,加入20ml的二甲基乙醯胺基、30ml的乙腈,且在冰冷下攪拌。對該溶液滴下13.09g(0.11mol)的亞硫醯氯,藉由在冰冷下攪拌30分、接著在室溫下攪拌1小時,以得到反應液A。接著,在美國專利出願公開2008/0076044號說明書中所記載的方法所得之41.06g(0.1mol)的中間體1中加入80ml的二甲基乙醯胺基,且在冰冷下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入預先調製的反應液A,滴下終了後回溫至室溫且攪拌2小時。反應終了後,將反應液注入600ml的水中,過濾析出的固體,並用水、乙腈洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到51.2g(收率:94%)的中間體9。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.04(d、2H)、7.57(d、1H)、7.38~7.12(m、7H)、6.36(s、1H)、5.87(s、1H)、2.58(s、3H)、2.39(s、3H)、1.27~1.12(m、3H)、1.04~0.97(m、2H)0.84(s、18H)、0.71(d、3H)、0.63~0.47(m、2H)。
中間體10的合成
在60ml乙酸酐中,加入27.14g(0.05mol)的中間體9、3.71g(0.025mol)的原甲酸三乙酯,並在室溫下攪拌。對該溶液,一邊滴下、一邊加入75ml的三氟乙酸,並在室溫下攪拌2小時。反應終了後,將反應液注入在200ml乙酸乙酯、750ml水中加入112g碳酸氫鈉的溶液中,並在室溫下攪拌2小時。接著,過濾析出的固體,用乙酸乙酯洗淨、乾燥過濾物。如此,以得到14.8g(收率:54%)的中間體10。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為6:11.14(s、2H)、7.67(d、2H)、7.31~7.12(m、14H)、6.12(s、1H)、5.87(s、2H)、2.71(s、6H)、2.40(s、6H)、1.28~1.12(m、6H)、1.01~0.96(m、4H)0.82(s、36H)、0.66(d、6H)、0.45~0.33(m、4H)。
例示化合物B-8的合成
在60ml四氫呋喃中加入16g(0.015mol)的中間體3,在室溫下進行攪拌,並在該溶液中添加在150ml的甲醇中加入6.6g(0.018mol)中間體6的溶液,攪拌3小時。過濾析出的固體,將所得之過濾物加入150ml的甲醇中,在60℃下攪拌1小時。接著,進行過濾並乾燥過濾物。如此,以得到12.8g(67%)例示化合物B-8。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.63(s、2H)、8.05(d、2H)、7.74(d、2H)、7.47~7.13(m、16H)、6.83(d、2H)、6.40(s、1H)、5.91(s、2H)、3.83(s、3H)、2.73(s、6H)、1.29~1.12(m、6H)、1.02~0.96(m、4H)0.83(s、36H)、0.68(d、6H)、0.55~0.25(m、4H)。
又,針對所得到的化合物,使用分光光度計UV-1800PC((股)島津製作所(Shimadzu Corporation)製)來測定乙酸乙酯溶液中的莫耳吸光係數(ε),進而將在最大吸收波長(λmax)的吸光度(Abs)規格化成1.0,以評價450nm的吸光度。例示化合物B-8的最大吸收波長λmax為558nm,莫耳吸光係數(ε)為126000。此外,將吸光度(Abs值)、最大吸收波長λmax、及莫耳吸光係數(ε)的結果表示下述表1。
例示化合物D-2的合成
在50ml四氫呋喃中加入5.3g(0.005mol)的中間體3,在室溫下進行攪拌,接著加入1.9g(0.0052mol)的二乙基二硫胺基甲酸鋅,攪拌5小時。反應終了後,在溶液中加入50ml甲醇、50ml水,且在過濾析出之固體後,將所得之過濾物加入150ml的甲醇中,在60℃下攪拌1小時。接著,進行過濾且乾燥過濾物。如此,以得到5.6g(87%)的例示化合物D-2。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.47(s、2H)、7.72(d、2H)、7.41~7.15(m、16H)、6.40(s、1H)、5.86(s、2H)、3.93~3.86(m、4H)、2.72(s、6H)、1.25~1.18(m、10H)、1.00~0.95(m、4H)、0.81(s、36H)、0.65(d、6H)、0.45~0.35(m、4H)。
又,與前述同樣地進行最大吸收波長λmax與莫耳吸光係數(ε)的測定時,例示化合物D-2的最大吸收波長λmax為558nm,莫耳吸光係數(ε)為118000。
例示化合物C-4的合成
在50ml四氫呋喃、50ml甲醇中加入5.3g(0.005mol)的中間體3,在室溫下進行攪拌,接著加入3.2g(0.01mol)的中間體8,並加熱回流18小時。接著,在過濾析出之固體後,藉由管柱層析法精製所得之過濾物,以得到3.0g(48%)的例示化合物C-4。
此外,熔點為300℃以上。
又,與前述同樣地進行最大吸收波長λmax與莫耳吸光係數(ε)的測定時,例示化合物C-4的最大吸收波長λmax為547nm,莫耳吸光係數(ε)為79800。
例示化合物L-1的合成
在200ml四氫呋喃中加入45g(0.045mol)的中間體5,在室溫下進行攪拌,接著加入19.3g(0.054mol)的中間體7,並在50℃下攪拌24小時。反應終了後,過濾析出的固體,並將過濾液減壓濃縮。在所得之固體中,加入400ml甲醇,在室溫下攪拌1小時攪拌後進行過濾,再次用甲醇進行洗淨。如此,以得到50.4g(93%)的例示化合物L-1。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.52(s、2H)、7.64~7.61(m、2H)、7.49~7.46(m、2H)、7.28~7.11(m、10H)、6.31(d、1H)、5.87(s、2H)、1.41(s、18H)、1.25~0.78(m、10H)、0.88(s、18H)、0.71(s、18H)、0.62(d、6H)、0.54~0.42(m、2H)、0.28~0.15(m、2H)。
又,與前述同樣地進行最大吸收波長λmax與莫耳吸光係數(ε)的測定時,例示化合物L-1的最大吸收波長λmax為550nm,莫耳吸光係數(ε)為126000。
例示化合物H-1的合成
在60ml四氫呋喃中加入5g(0.005mol)的中間體5,在50℃下進行攪拌,接著加入3.5g(0.055mol)的硬脂酸鋅,並在50℃下攪拌2小時。反應終了後,過濾析出的固體,並將過濾液減壓濃縮。使用乙酸乙酯、甲醇對所得之固體進行再結晶,再用水洗淨。如此,以得到5.7g(85%)的例示化合物H-1。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.44(s、2H)、7.29~7.10(m、10H)、6.29(d、1H)、5.86(s、2H)、2.27~2.23(m、2H)、1.44(s、18H)、1.27~1.18(m、36H)、0.99~0.89(m、4H)0.80(s、36H)、0.66~0.64(m、9H)、0.44~0.31(m、4H)。
又,與前述同樣地進行最大吸收波長λmax與莫耳吸光係數(ε)的測定時,例示化合物H-1的最大吸收波長λmax為549nm,莫耳吸光係數(ε)為114000。
例示化合物L-8的合成
在50ml四氫呋喃中加入10.96g(0.01mol)的中間體10,在室溫下進行攪拌,接著加入4.65g(0.013mol)的中間體7,在50℃下攪拌4小時。反應終了後,以過濾去除析出的固體,並將過濾液減壓濃縮。在進行濃縮所得之固體中,加入100ml的甲醇,在50℃下攪拌1小時後進行過濾,再次用甲醇進行洗淨。如此,以得到12.9g(98%)的例示化合物L-8。
此外,1
H-NMR(CDCl3
)的詳細內容為δ:11.69(s、2H)、7.70(d、2H)、7.62~7.59(m、2H)、7.48~7.45(m、2H)、7.26~7.06(m、14H)、6.33(s、1H)、5.89(s、2H)、2.58(s、6H)、2.36(s、6H)、1.27~1.12(m、6H)、1.01~0.94(m、4H)、0.87(s、18H)、0.75(s、18H)、0.64(d、6H)、0.59~0.49(m、2H)、0.27~0.14(m、2H)。
又,與前述同樣地進行最大吸收波長λmax與莫耳吸光係數(ε)的測定時,例示化合物L-8的最大吸收波長λmax為560nm,莫耳吸光係數(ε)為134000。
實施例2
藉由與在實施例1中的反應流程圖類似的方法,進一步合成下述表1~表2所示的例示化合物(二亞甲吡咯系金屬錯合物或其互變異構物),並且以與實施例1同樣的方法進行辨識以及進行最大吸收波長λmax及莫耳吸光係數(ε)的測定。測定結果係表示於下述表1~表2。
如前述表1~表2所示,可知本發明的化合物係莫耳吸光係數(ε)高,且在450nm的吸光度(Abs值)低、色分離優異、適用於彩色濾光片的化合物。
以下,表示製作著色組成物、彩色濾光片的具體例。
實施例3
首先,以下顯示在著色組成物的調製中所使用的各成分。
(S-1)將12.8份的C.I.顏料藍15:6與7.2份的丙烯酸系顏料分散劑和80.0份丙二醇單甲基醚乙酸酯混合,使用珠磨機使顏料充分地分散所得之顏料分散液
(T-1)光聚合性化合物:KAYARAD DPHA(日本化藥(股)(Nippon Kayaku Co.,Ltd.)製;二季戊四醇五丙烯酸酯與季戊四醇六丙烯酸酯的混合物)
(U-1)黏合劑樹脂:甲基丙烯酸苯甲酯/甲基丙烯酸(75/25[質量比]共聚物(重量平均分子量:12,000)的丙二醇單甲基醚乙酸酯溶液(固體含量40.0質量%)
(V-1)光聚合起始劑:2-(苯甲醯氧基亞胺基)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1-辛酮
(V-2)光聚合起始劑:2-(乙醯氧基亞胺基)-4-(4-氯苯硫基)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-丁酮
(W-1)光聚合起始助劑:4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮
(X-1)溶劑:丙二醇單甲基醚乙酸酯
(X-2)溶劑:3-乙氧基丙酸乙基
(Y-1)界面活性劑:MEGAFACE F781-F(大日本油墨化學工業(股)(DIC Corporation)製)
B1.著色組成物(塗布液)的調製
混合下述組成中的成分以調製著色組成物1。
<組成>
‧前述例示化合物A-1‧‧‧6.9質量份
(二亞甲吡咯系金屬錯合物)
‧前述(S-1) ‧‧‧43.0質量份
‧前述(T-1) ‧‧‧103.4質量份
‧前述(U-1) ‧‧‧212.2質量份(固體含量換算值:84.9質量份)
‧前述(V-1) ‧‧‧21.2質量份
‧前述(W-1) ‧‧‧3.5質量份
‧前述(X-1) ‧‧‧71.9質量份
‧前述(X-2) ‧‧‧3.6質量份
‧前述(Y-1) ‧‧‧0.06質量份
B2.由硬化性著色組成物之彩色濾光片的製作及評價
將前述B1.所得之著色組成物(彩色光阻(color resist)液),以當做色濃度的指標的x值為0.650的方式塗布至100mm×100mm的玻璃基板(1737、CORNING公司(Corning Inc.)製)上,並在90℃的烘箱中乾燥60秒鐘(預烘焙)。然後,透過解析度評價用的具有10~100μm的遮罩孔幅之光罩(photomask)且利用高壓水銀燈以200mJ/cm2
(照度20mW/cm2
)進行曝光,將曝光後的塗膜以鹼性顯像液CDK-1(富士軟片電子材料(股)(Fujifilm Electronic Materials Co.,Ltd.)製)的1%水溶液加以覆蓋,並靜止60秒鐘。靜止後,將純水散布成淋浴狀以沖洗顯像液。而且,將如上述般施加曝光及顯像之塗膜在220℃的烘箱中加熱處理1小時(後焙),且在玻璃基板上形成彩色濾光片用的著色圖案(著色樹脂被膜),以製作著色濾光基板1(彩色濾光片1)。
評價
針對上述所得之彩色濾光片1進行下述的評價。評價結果表示於下述表3。
<1.耐熱性>
利用熱板將前述彩色濾光片在230℃下加熱30分之後,以色度計MCPD-1000(大塚電子(Otsuka Electronics Co.,Ltd.)製)測定耐熱測試前後之色差的ΔEab值,並依照下述基準進行評價。ΔEab值小者表示耐熱性良好。
<判定基準>
5:ΔEab值<3
4:3≦ΔEab值<5
3:5≦ΔEab值<10
2:10≦ΔEab值<20
1:20≦ΔEab值
<2.耐光性>
以5萬lux對著前述彩色濾光片照射氙氣燈(xenon lump)20小時(相當於100萬lux‧h)之後,測定耐光測試前後之色差的ΔEab值。ΔEab值小者表示耐光性良好。
<判定基準>
5:ΔEab值<3
4:3≦ΔEab值<5
3:5≦ΔEab值<10
2:10≦ΔEab值<20
1:20≦ΔEab值
<3.輝度>
前述彩色濾光片的輝度係利用Olympus(股)(Olympus Corporation)製的顯微分光測定裝置OSP-SP200來測定,並藉由Y值來加以評價。Y值越高,表示做為液晶顯示器用彩色濾光片有良好的性能。
<4.電壓保持率>
以膜厚為2.0μm的方式將著色組成物1塗布至附有ITO電極的玻璃基板(商品名:1737 CORNING公司製)上,在90℃的烘箱中乾燥60秒(預烘焙)。然後,不透過遮罩而進行100mj/cm2
的曝光(照度為20mW/cm2
),且使用鹼性顯像液(商品名:CDK-1、富士電子材料(股)製)的1質量%水溶液在25℃進行顯像,並將塗布膜在230℃的烘箱實施30分鐘加熱處理(後焙)。接著,以混合5μm的玻璃珠粒之密封劑,將形成該畫素的基板與僅使ITO電極蒸鍍成所定形狀而成之基板貼合在一起之後,注入默克(Merk & Co.,Inc.)製的液晶MJ971189(商品名)以製作液晶胞。
接著,在70℃的恆溫層將液晶胞注入48小時之後,利用東陽Technica公司(Toyo Corporation)製的液晶電壓保持率測定系統VHR-1A型(商品名)測定液晶胞的電壓保持率。點數越高表示電壓保持率越良好。
<測定條件>
‧電極間距離:5~15μm
‧外加電壓脈衝振幅:5V
‧外加電壓脈衝頻率:60Hz
‧外加電壓脈衝幅:16.67msec
*電壓保持率:以16.7毫秒後的液晶胞電位差/0毫秒經外加之電壓值
<判定基準>
5:90%以上
4:85%以上低於90%
3:80%以上低於85%
2:75%以上低於80%
1:低於75%
實施例4~31
除了在實施例3中,將例示化合物A-1分別取代為表3中所示既述的例示化合物(二亞甲吡咯系金屬錯合物)、以配合顏色的方式調節例示化合物與S-1的比率以外,以與實施例3同樣的方式,製作彩色濾光片2~29。
實施例32
除了在實施例3中,混合下述組成中的成分以調製著色組成物30、且取代著色組成物1而改用著色組成物30以外,以與實施例3同樣的方式,得到彩色濾光片30。
<組成>
‧前述例示化合物I-15 ‧‧‧6.9質量份
‧前述(S-1) ‧‧‧43.0質量份
‧前述(T-1) ‧‧‧103.4質量份
‧前述(U-1) ‧‧‧212.2質量份(固體含量換算值:84.9質量份)
‧前述(V-2) ‧‧‧21.2質量份
‧前述(W-1) ‧‧‧3.5質量份
‧前述(X-1) ‧‧‧71.9質量份
‧前述(X-2) ‧‧‧3.6質量份
‧前述(Y-1) ‧‧‧0.06質量份
實施例33~35
除了在實施例32的著色組成物30的調製中,將例示化合物I-15分別取代為表3所示既述的例示化合物(二亞甲吡咯系金屬錯合物)、以配合顏色的方式調節例示化合物與S-1的比率以外,以與實施例32同樣的方式,得到彩色濾光片31~33。
實施例36
除了在實施例3中,混合下述組成中的成分以調製著色組成物34以外,以與實施例3同樣的方式,得到彩色濾光片34。
<組成>
‧前述例示化合物A-1 ‧‧‧4.7質量份
‧前述(S-1) ‧‧‧42.1質量份
‧下述化合物(5) ‧‧‧2.3質量份
‧前述(T-1) ‧‧‧103.4質量份
‧前述(U-1) ‧‧‧212.2質量份(固體含量換算值:84.9質量份)
‧前述(V-2) ‧‧‧21.2質量份
‧前述(W-1) ‧‧‧3.5質量份
‧前述(X-1) ‧‧‧71.9質量份
‧前述(X-2) ‧‧‧3.6質量份
‧前述(Y-1) ‧‧‧0.06質量份
實施例37
除了在實施例36的著色組成物34的調製中,將例示化合物A-1取代為L-1以外,以與實施例36同樣的方式,得到彩色濾光片35。
比較例1~4
除了在實施例3的著色組成物1的調製中,將例示化合物A-1分別取代為表3所示之比較化合物、以配合顏色的方式變更比較化合物與S-1的比率以外,以與實施例3同樣的方式,得到彩色濾光片。
比較例5
除了在實施例32的著色組成物30的調製中,將例示化合物I-15取代為C.I.Acid Violet 17以外,以與實施例32同樣的方式,得到彩色濾光片。
比較例6
除了在實施例36的著色組成物34的調製中,將例示化合物A-1取代為C.I.Acid Violet 49以外,以與實施例36同樣的方式,得到彩色濾光片。
如前述表3所示,與使用以往眾所週知的化合物之比較例(比較例1~2,5~6)做比較,明顯具有非常高的輝度(Y值)。再者,與以往眾所週知的二亞甲吡咯系金屬錯合物(比較例3,4)做比較,可維持高電壓保持率。如此,以往眾所週知的二亞甲吡咯系金屬錯合物由於為容易電解離的化合物,所以會有電壓保持率低的問題,但是本發明的二亞甲吡咯系金屬錯合物為可抑制解離、且具有更泛用性的染料。
實施例38~77
除了在實施例3中,將例示化合物A-1分別取代為下述表4所示既述的例示化合物(二亞甲吡咯系金屬錯合物)、以配合顏色的方式調節例示化合物與S-1的比率以外,以與實施例3同樣的方式,製作彩色濾光片36~75。
如前述表4所示,與在上述中使用以往眾所週知的化合物之比較例(比較例1~2,5~6)做比較,具有非常高的輝度(Y值)。再者,與以往眾所週知的二亞甲吡咯系金屬錯合物(比較例3,4)做比較,可維持高電壓保持率。如此,以往眾所週知的二亞甲吡咯系金屬錯合物由於為容易電解離的化合物,所以會有電壓保持率低的問題,但是本發明的二亞甲吡咯系金屬錯合物為可抑制解離、且具有更泛用性的染料。
Claims (8)
- 一種著色組成物,其係含有下述通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物或其互變異構物,
- 如申請專利範圍第1項之著色組成物,其中在前述通式(I)中,X5 為來自取代或無取代的脂肪族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的雜環醯亞胺之一價基、來自取代或無取代的芳香族羧酸之一價基、來自取代或無取代的酚之一價基、來自取代或無取代的碳數4以上30以下的脂肪族羧酸之一價基、或來自取代或無取代的二硫胺基甲酸之一價基。
- 如申請專利範圍第1項之著色組成物,其進一步含有聚合性化合物與光聚合起始劑。
- 一種下述通式(I)所示之二亞甲吡咯系金屬錯合物及其互變異構物,
- 一種彩色濾光片,其係使用如申請專利範圍第1項之著色組成物形成著色層而製作。
- 一種彩色濾光片之製造方法,其係具有:將如申請專利範圍第1項之著色組成物塗布在支持體上,以形成著色層的步驟;將所形成的前述著色層曝光、顯像為圖案狀,以形成著色領域的步驟。
- 一種液晶顯示裝置,其係具備如申請專利範圍第5項之彩色濾光片、或具備如申請專利範圍第6項之彩色濾光片之製造方法所製作的彩色濾光片。
- 一種固態攝影元件,其係具備如申請專利範圍第5項之彩色濾光片、或具備如申請專利範圍第6項之彩色濾光片之製造方法所製作的彩色濾光片。
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Patent Citations (1)
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