TWI488953B - Resin sheet - Google Patents

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TWI488953B
TWI488953B TW099145056A TW99145056A TWI488953B TW I488953 B TWI488953 B TW I488953B TW 099145056 A TW099145056 A TW 099145056A TW 99145056 A TW99145056 A TW 99145056A TW I488953 B TWI488953 B TW I488953B
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Description

樹脂片材
本發明係有關於一種樹脂片材。
作為液晶顯示裝置之照射方式，已知有使用包含樹脂片材之光反射板者，具體而言，於複數個光源(冷陰極管、LED(Light Emitting Diode，發光二極體)等)之前面側依序配置有光擴散板或液晶面板之直下式液晶顯示裝置係眾所周知。對於直下式液晶顯示裝置而言，謀求維持較高之亮度，並且消除光源之影像而提供均勻之圖像。
近年來，為響應對於進一步之高亮度化、圖像之均勻性之提昇的要求，而實施以下對策：對光擴散板之表面賦予微細凹凸，或於光擴散板與液晶面板之間設置擴散膜、稜鏡膜、亮度提昇膜等光學膜。
另一方面，光擴散板主要為包含聚苯乙烯樹脂或MS(Methylstyrene，甲基苯乙烯)樹脂等樹脂之片材，故存在由於帶電而於其表面附著有塵埃等之不良狀況。塵埃對光擴散板之附著會導致畫質或亮度等顯示特性之下降。因此，提出了各種對光擴散板賦予防靜電性能之對策。
例如，提出有製作將高分子型防靜電劑混入至樹脂中之丙烯酸系樹脂膜，並將該膜熱貼合於光擴散板上之方法(例如參照日本專利特開2009-84521號公報)。
亦提出有以下方法：使包含界面活性劑、導電性微粒子等之防靜電劑溶解或分散於樹脂或溶劑中製備樹脂混合液，將該混合液塗佈於基材膜上，加以乾燥而形成含有防靜電劑之轉印膜，將該轉印膜自基材膜轉印至光擴散板上(例如參照國際公開第2007-052579號手冊)。
亦提出有於使用聚苯乙烯樹脂而形成之光擴散板之表面塗佈含有界面活性劑之水溶液，繼而加以乾燥，藉此於光擴散板上承載界面活性劑之方法，例如，日本專利特開2007-178544號公報中亦揭示有以0.1 g/m2 ~10 g/m2 之範圍之承載量使光擴散板上承載有防靜電劑之例。
日本專利特開2009-84521號公報及國際公開第2007-052579號手冊之方法係將防靜電劑混入至樹脂中之方法。因此，為藉由該等方法充分獲得防靜電效果，需要相對較多之量之防靜電劑。即，該等方法不經濟。另一方面，若為獲得充分之防靜電效果而增多防靜電劑之添加量，則亦有防靜電劑容易滲出而導致光擴散板之表面污染或光學特性下降之虞。又，必須進行製作含有防靜電劑之膜之步驟、進而將該膜熱貼合至光擴散板上之步驟，故步驟數增加而不經濟。
藉由日本專利特開2007-178544號公報之方法所得之光擴散板於與光學膜重合而組入至液晶顯示裝置中之狀態下，與光學膜接觸時防靜電劑移動，容易產生與光學膜局部地密接之密接不均勻。其結果，圖像之顯示出現不均，故顯示特性下降。
本發明之目的在於提供一種可作為光擴散板而使用、可抑制光擴散板與光學膜組合使用時之密接不均勻之產生的樹脂片材。
又，本發明之其他目的在於提供一種使用上述樹脂片材形成之光擴散板。
又，本發明之其他目的在於提供一種具備上述光擴散板之面光源裝置及液晶顯示裝置。
又，本發明之進而其他之目的在於提供一種可經濟地製造上述樹脂片材的樹脂片材之製造方法。
為達成上述目的，本發明之樹脂片材具備樹脂層、及形成於上述樹脂層上的含有0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑之防靜電劑層。
本發明之樹脂片材可僅於樹脂層之其中一面上具備含有0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑之防靜電劑層，亦可於樹脂層之兩面上具備。於本發明之樹脂片材僅於樹脂層之其中一面上具備含有0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑之防靜電劑層時，可於樹脂層之另一面上具備含有未滿0.02 mg/m2 或超過1 mg/m2 之量的防靜電劑之防靜電劑層，亦可於另一面上完全不具備防靜電劑層。
上述防靜電劑層之表面電阻值以1×109 Ω/□~1×1014 Ω/□為宜。
上述防靜電劑以含有陽離子系界面活性劑為宜。
上述陽離子系界面活性劑之分子量以100~1000為宜。
上述陽離子系界面活性劑以含有式(1)所表示之銨鹽為宜。
[化1]
式(1)中，R1~R4分別表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph。又，X- 表示鹵化物離子、氫氧化物離子、硫酸根離子、磷酸根離子、式(2)所表示之離子或式(3)所表示之離子。
[化2]
式(2)中，R5分別表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph。
[化3]
式(3)中，Z表示鹵素原子。
又，本發明提供一種面光源裝置，其具備：前面開放之樹脂製之光箱、以與上述前面相對向之方式於上述光箱內空開間隔而配置之光源、及堵塞上述前面而與上述光源相對向之光擴散板。上述光擴散板係藉由切斷本發明之樹脂片材而獲得。
又，本發明提供一種液晶顯示裝置，其具備上述本發明之面光源裝置、及配置於其前方之液晶面板。
上述液晶顯示裝置亦可進而具備配置於上述光擴散板與上述液晶面板之間之光學膜。上述光學膜之至少一面以具有1×1013 Ω/□以上之表面電阻值為宜。
於具備此種光學膜之情形時，光擴散板係於與光學膜相對向之側具備含有0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑之防靜電劑層。光擴散板亦可於與光源相對向之側不具備防靜電劑層，但較好的是於與光源相對向之側亦具備防靜電劑層，該防靜電劑層較好的是含有未滿0.02 mg/m2 或0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑，更好的是含有超過1 mg/m2 之防靜電劑。
又，本發明提供一種樹脂片材之製造方法，其包含以下步驟：將含有0.001質量%~0.07質量%之防靜電劑之溶液塗佈於樹脂層之至少一個面上；及使塗佈有上述溶液之上述樹脂層乾燥；並且上述溶液之塗佈量為500 mg/m2 ~2000 mg/m2 。
本發明之樹脂片材係至少於其一個面上形成有含有防靜電劑之防靜電劑層，故具有防靜電性能。又，防靜電劑層含有0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 之防靜電劑，故於將該樹脂片材用作光擴散板時，可防止由防靜電劑之移動所導致的光擴散板之表面污染。又，可抑制該光擴散板與光學膜組合使用時之密接不均勻。
又，本發明之面光源裝置中，光擴散板係使用本發明之樹脂片材形成，故即便於光擴散板上配置光學膜，亦可抑制光擴散板與光學膜之密接不均勻。其結果為，可抑制顯示之不均，可獲得高品質之光。
又，本發明之液晶顯示裝置中，面光源裝置之光擴散板係使用本發明之樹脂片材形成，故即便於光擴散板與液晶面板之間配置光學膜，亦可抑制光擴散板與光學膜之密接不均勻。其結果為，可抑制顯示之不均，可獲得高品質之光。
進而，本發明之樹脂片材之製造方法係於樹脂層之至少一個面上塗佈含有防靜電劑之溶液，其後加以乾燥之方法，故可經濟地製作樹脂片材。又，含有0.001質量%~0.07質量%之防靜電劑之溶液係以500 mg/m2 ~2000 mg/m2 之量塗佈於樹脂層上。因此，於將所得之樹脂片材用作光擴散板時，可抑制由防靜電劑之移動所導致的光擴散板之表面污染。又，可抑制該光擴散板與光學膜組合使用時之密接不均勻。
<液晶顯示器之整體構成>
圖1係本發明一實施形態之液晶顯示器之示意性側面圖。圖2係本發明一實施形態之液晶顯示器之示意性立體圖。
作為液晶顯示裝置之液晶顯示器1係所謂之直下式液晶顯示器，且具備作為面光源裝置之背光系統2、配置於背光系統2之前方(前面側)之液晶面板3、及配置於背光系統2與液晶面板3之間之光學膜4。再者，圖1及圖2中，為方便起見，以使其前方朝向紙面上側之姿態表示液晶顯示器1。又，以下之圖所表示之液晶顯示器1、背光系統2、液晶面板3等各構成構件之比例尺係為便於說明而分別設定，所有構成構件之比例尺未必要相同。
背光系統2具備：具有四方板狀之後壁5及自後壁5之周緣朝向前方一體地豎立設置之四方框狀之側壁6、前面開放之薄型箱狀之樹脂製光箱7；設置於光箱7內之複數個線狀光源8；及堵塞光箱7之開放面9(前面)之光擴散板10。
即，箱狀之光箱7係其開放面9之輪廓由四方框狀之側壁6所形成，且於由側壁6及後壁5所包圍之空間內設有線狀光源8。
於光箱7之後壁5內面，例如整體地安裝有用以使自線狀光源8朝後壁5側入射之光朝向箱之開放面9側反射的反射板(未圖示)。
線狀光源8例如係直徑為2 mm~4 mm之圓筒狀燈。複數個線狀光源8係以相對於光擴散板10之背面(後述主面18)空開一定間隔之狀態彼此平行地空開相等間隔而配置。
再者，作為線狀光源8，例如可使用螢光管(冷陰極管)、鹵素燈、鎢燈等公知之筒形燈。又，作為背光系統2之光源，亦可代替線狀光源8而使用發光二極體(LED)等點狀光源等。
液晶面板3具備液晶單元11、及自厚度方向兩側夾持液晶單元11之一對偏光板12、13。此種液晶面板3係以其中一塊偏光板13(後側之偏光板)與光擴散板10相對向之方式配置於背光系統2之前方。
作為液晶單元11，例如可使用TFT(Thin Film Transistor，薄膜電晶體)型液晶單元、STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型液晶單元等公知之液晶單元。
作為光學膜4，並無特別限制，例如其係不具防靜電性能(例如不含有防靜電劑)，且光擴散板10側之面(與光擴散板10相對向之面)之表面電阻值(例如以JIS K6911為基準)為例如1×1013 Ω/□以上、較好的是1×1013 Ω/□~1×1016 Ω/□之膜。具體而言，可使用具有上述表面電阻值之擴散膜、稜鏡膜、反射型偏光分離膜、相位差膜、偏光膜等。
作為擴散膜，並無特別限制，例如可列舉於透明樹脂膜之其中一個面上藉由黏合劑而固定有珠粒之膜等。
稜鏡膜係將於光擴散板10中擴散並且透射之透射光朝法線方向聚光，藉此以較高之亮度照明前面側者，例如可列舉：於與光擴散板10之對向面的相反側之面上，遍及整個面而設有微細之稜鏡透鏡或微細之凸透鏡、柱狀透鏡等微細之聚光性透鏡的片材等。作為稜鏡膜之市售品，例如可列舉：住友3M股份有限公司製造之「BEF(Brightness Enhancement Film)」(商品名)、積水膜股份有限公司製造之「Estina」(商品名)、GE Plastics公司製造之「Illuminex ADF膜」(商品名)等。
反射型偏光分離膜係具有使某種偏光透射、將具有與其相反之性質之偏光反射的性質者，例如可列舉：使特定振動方向之直線偏光透射、將與該方向正交之振動方向之直線偏光反射的反射型直線偏光分離膜，使特定旋轉方向之圓偏光透射、將朝該旋轉方向相反之方向旋轉之圓偏光反射的反射型圓偏光分離膜等。作為反射型直線偏光分離膜之市售品，例如可列舉：住友3M股份有限公司製造之「DBEF(Dual Brightness Enhancement Film)」(商品名)、日東電工股份有限公司製造之「NIPOX」(商品名)等。
相位差膜係藉由樹脂膜之延伸而具有相位差(延遲)者，例如可列舉聚碳酸酯系樹脂膜、聚碸系樹脂膜、聚醚碸系樹脂膜、聚芳酯系樹脂膜、降烯系樹脂膜等。作為相位差膜之市售品，例如可列舉Kaneka股份有限公司製造之「Elmec」(商品名)、住友化學股份有限公司製造之「Sumikalite」(商品名)等。
偏光膜例如係對聚乙烯醇實施延伸加工或者利用碘或二色性染料之染色加工，使該碘或二色性染料吸附配向者，使振動方向與該配向方向正交之直線偏光，將振動方向與配向方向相同之直線偏光吸收。作為偏光膜之市售品，例如可列舉日東電工股份有限公司製造之「NPF」(商品名)、住友化學股份有限公司製造之「Sumikalan」(商品名)等。
<光擴散板之構成>
圖3係光擴散板之示意性立體圖。圖4係表示對光箱安裝光擴散板之狀態的光箱之要部放大剖面圖。
如圖3所示，光擴散板10係形成為與光箱7之側壁6之框形狀大致相同之四方之板狀。光擴散板10係於厚度方向上積層有2片樹脂層之透過性之2層光擴散板，具備相對較厚之基材層14、及相對較薄之背面層15。
於光擴散板10之基材層14側之主面16(前面側之主面)上，條狀地形成有多數個在光擴散板10之一組對向周緣間延伸的圓柱透鏡形狀之半圓凸部17。
對於圓柱透鏡形狀之半圓凸部17而言，與其長度方向正交之切斷面具有大致半圓弧狀之輪廓。多數個半圓凸部17係彼此平行地空開相等間隔E1 (例如1 μm~15 μm)而配置。相鄰之半圓凸部17之中心彼此之距離(間距P1 )例如為10 μm~500 μm。又，半圓凸部17之高度ha相對於間距P1 之比率(ha/P1 )例如為0.2~0.8。
另一方面，於光擴散板10之背面層15側之主面18(背面側之主面)上，藉由壓花加工而形成有多數個微細凹凸19。微細凹凸19係遍及背面層15側之整個主面18大致均勻地分佈，背面層15側之主面18係設定為於整個面上形成有微細凹凸19的粗糙面。
微細凹凸19之形狀例如能以表面之粗糙度表示。作為一例，微細凹凸19之算術平均粗糙度Ra(以JIS B0601-2001為基準)為0.8 μm~5.0 μm。又，微細凹凸19之十點平均粗糙度Rz(以JIS B0601-2001為基準)為8.0 μm~30.0 μm。又，微細凹凸19之平均間隔Rsm(以JIS B0601-2001為基準)為100 μm~400 μm。
又，如圖4所示，將基材層14之厚度t1 與背面層15之厚度t2 相加的光擴散板10之總厚度T例如為0.1 mm~10 mm。又，基材層14之厚度t1 例如為0.05 mm~9 mm。又，背面層15之厚度t2 例如為0.03 mm~1 mm。
作為光擴散板10之原料，並無特別限制，例如可使用公知之透光性樹脂。
作為透光性樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯、環狀聚烯烴、環狀烯烴共聚物、聚對苯二甲酸乙二酯、MS樹脂(甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物樹脂)、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物樹脂)、AS樹脂(丙烯腈-苯乙烯共聚物樹脂)等。
上述透光性樹脂可單獨使用或併用兩種以上。又，該等中，較好的是可列舉苯乙烯系樹脂，更好的是可列舉苯乙烯系樹脂之單獨使用。
又，作為基材層14之原料而使用之樹脂(A)與作為背面層15之原料而使用之樹脂(B)可相同亦可不同。作為樹脂(A)與樹脂(B)之組合，較好的是可列舉同種透光性樹脂之組合，更好的是可列舉樹脂(A)、(B)均含有苯乙烯系樹脂之組合，特別好的是可列舉樹脂(A)、(B)均單獨為苯乙烯系樹脂之組合。
又，光擴散板10中視需要可含有光擴散劑(光擴散粒子)。
作為光擴散劑，只要係折射率與構成光擴散板10之透光性樹脂不同、可擴散透射光之粒子，則並無特別限制，例如，作為無機系之光擴散劑，可列舉碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、氫氧化鋁、二氧化矽、玻璃、滑石、雲母、白碳、氧化鎂、氧化鋅等。該等亦可為經脂肪酸等實施了表面處理者。
又，例如，作為有機系之光擴散劑，可列舉苯乙烯系聚合物粒子、丙烯酸系聚合物粒子、矽氧烷系聚合物粒子等，較好的是可列舉重量平均分子量為50萬~500萬之高分子量聚合物粒子、或溶解於丙酮中時之凝膠分率為10質量%以上之交聯聚合物粒子。上述光擴散劑可單獨使用或併用兩種以上。
於光擴散板10含有光擴散劑時，光擴散劑之調配比例相對於透光性樹脂100質量份而為0.001質量份~1質量份，較好的是0.001質量份~0.01質量份。又，光擴散劑能以與上述透光性樹脂之母料之形式使用。又，透光性樹脂之折射率與光擴散劑之折射率之差的絕對值就光擴散性之觀點而言通常為0.01~0.20，較好的是0.02~0.15。
又，光擴散板10中視需要例如亦可添加紫外線吸收劑、熱穩定劑、抗氧化劑、耐候劑、光穩定劑、螢光增白劑、加工穩定劑等各種添加劑。
作為紫外線吸收劑，並無特別限制，例如可列舉水楊酸苯酯系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑等。添加紫外線吸收劑時，相對於透光性樹脂100質量份，較好的是添加0.1質量份~3質量份之紫外線吸收劑。若在上述範圍內，則可抑制紫外線吸收劑於表面之滲出，可維持光擴散板之外觀良好。
作為熱穩定劑，並無特別限制，例如可列舉錳化合物、銅化合物等。添加熱穩定劑時，較好的是與紫外線吸收劑一起添加，且相對於透光性樹脂中之紫外線吸收劑1質量份，以2質量份以下之比例添加熱穩定劑，更好的是相對於透光性樹脂中之紫外線吸收劑1質量份，添加0.01質量份~1質量份之熱穩定劑。
又，作為抗氧化劑，並無特別限制，例如可列舉受阻酚化合物、受阻胺化合物等。添加抗氧化劑時，較好的是相對於透光性樹脂100質量份添加0.1質量份~3質量份之抗氧化劑。
又，該光擴散板10中，於前面側之主面16及背面側之主面18該兩面上，形成有含有包含界面活性劑之防靜電劑之防靜電劑層。所謂於該等面16、18上形成有防靜電劑層，例如係指於主面16、18各自之整個區域上薄薄地塗佈有防靜電劑。
作為防靜電劑，並無特別限制，較好的是可列舉陽離子系界面活性劑。
作為陽離子系界面活性劑，例如可列舉三級胺、四級銨鹽、陽離子系丙烯酸酯衍生物、陽離子系乙烯基醚衍生物等。
該等中，例如四級銨鹽係以式(1)所表示。
[化4]
式(1)中，R1~R4分別表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph。又、X- 表示鹵化物離子、氫氧化物離子、硫酸根離子、磷酸根離子、式(2)所表示之離子或式(3)所表示之離子。
[化5]
式(2)中，R5分別表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph。
[化6]
式(3)中，Z表示鹵素原子。
上述陽離子系界面活性劑中，更好的是可列舉分子量為100~1000之陽離子系界面活性劑。具體可列舉N-丙烯醯基醯胺丙基-N,N-二甲基-N-乙基銨乙基硫酸酯、氯化烷基銨、氯化二烷基銨等。
再者，作為防靜電劑，不限於陽離子系界面活性劑，可使用：例如烷基磺酸、烷基苯磺酸及該等之Li(鋰)鹽、Na(鈉)鹽、Ca(鈣)鹽、Mg(鎂)鹽、Zn(鋅)鹽，烯烴系磺酸酯及其金屬鹽，高級醇之磷酸酯類等陰離子系界面活性劑；例如烷基胺系甜菜鹼之兩性鹽、羧酸或磺酸丙胺酸之兩性鹽、氧化胺系等兩性系界面活性劑；例如脂肪酸多元醇酯、烷基(胺)之聚氧伸乙基加成物等非離子系界面活性劑等。該等可單獨使用或併用兩種以上(包括與陽離子系界面活性劑之併用)。
又，主面16、18上形成之含有防靜電劑層之防靜電劑之量為0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 ，較好的是0.1 mg/m2 ~1 mg/m2 ，更好的是0.1 mg/m2 ~0.5 mg/m2 。
又，形成有防靜電劑層之主面16、18之表面電阻值(例如以JIS K6911為基準)為1×109 Ω/□~1×1014 Ω/□，較好的是5×109 Ω/□~1×1013 Ω/□，更好的是1×1010 Ω/□~1×1012 Ω/□。
再者，防靜電劑層未必要形成在主面16、18兩面上，亦可形成於任一面上。此時，較好的是形成於與光學膜4相對向之面(前面側之主面16)上。若形成於與光學膜4之對向面上，則可更良好地抑制光擴散板10與光學膜4之密接不均勻。
而且，光擴散板10如圖4所示，於相對於光箱7內之線狀光源8而半圓凸部17成為平行之位置，使光擴散板10之背面(主面18)抵接於光箱7之側壁6，固定於光箱7。藉此，光箱7之開放面9係藉由光擴散板10而堵塞。
<光擴散板之製造方法>
上述光擴散板10可藉由將利用下述方法製造之樹脂片材切斷而製作。
圖5係本發明一實施形態之樹脂片材之製造方法所使用的製造裝置之概略構成圖。
片材製造裝置51具備：將原料樹脂擠出成片材狀而成形之片材成形機52、用以藉由擠壓將所擠出之樹脂片材53成形的一組擠壓用輥群54、用以對所成形之樹脂片材53塗佈防靜電劑之塗佈用輥群55、及用以抽取樹脂片材53之一對抽取用輥群56。
片材成形機52具備：用以將基材層14之原料樹脂(A)加熱熔融之第1擠出機57，用以將背面層15之原料樹脂(B)加熱熔融之第2擠出機58，被供給有在第1及第2擠出機57、58中經熔融之樹脂的進料塊59，以及將進料塊59內之樹脂以片材狀態擠出之模60。
作為第1及第2擠出機57、58，例如可使用單軸擠出機、雙軸擠出機等公知之擠出成形機。於第1及第2擠出機57、58上，安裝有用以於擠出機之料缸內投入樹脂之料斗61、62。
作為進料塊59，只要係將兩種以上之樹脂供給於模60並能以積層之狀態共擠出的形式，則並無特別限制，例如可使用兩種三層分配型、兩種二層分配型等公知之進料塊。
作為模60，只要係共擠出用之模則並無特別限制，例如可使用多歧管模等公知之模。
擠壓用輥群54具備3個擠壓輥63~65作為一邊藉由擠壓將樹脂片材53成形，一邊於樹脂片材53之上下面75、76(上面76為光擴散板10之前面側之主面16，下面75為光擴散板10之背面側之主面18)上藉由轉印模形成凹凸之機構。
3個擠壓輥63~65係分別由圓柱狀之金屬製(例如不鏽鋼製、鋼鐵製等)輥構成，且以各軸線成水平之方式配置，自上而下作為上輥63、中間輥64及下輥65以彼此之軸線平行之方式依序於鉛垂方向上連續地配置。擠壓輥63~65之旋轉軸上分別連接有馬達(未圖示)，上輥63及下輥65可逆時針旋轉，中間輥64可順時針旋轉。即，擠壓輥63~65自上而下依序為「可逆時針旋轉」、「可順時針旋轉」、「可逆時針旋轉」。藉此，所有之輥63~65能以夾持樹脂片材53之狀態同步旋轉，故可一邊對自片材成形機52擠出之樹脂片材53之兩面75、76實施加工一邊進行搬送，朝塗佈用輥群55送出。
各輥之直徑例如為100 mm~500 mm。又，於使用金屬製輥作為擠壓輥63~65之情形時，亦可對其表面實施例如鍍鉻、鍍銅、鍍鎳、鍍敷、鍍Ni-P等鍍敷處理。
上輥63之周面66例如可藉由實施鏡面加工而製成平滑面。
於中間輥64之周面67上，例如安裝有用以於樹脂片材53上形成微細凹凸19之粗糙轉印模68。
粗糙轉印模68中，於中間輥64之周面67上形成有多數的包含與光擴散板10之背面側之主面18的微細凹凸19形狀相反之微細凹凸的壓花形狀。即，粗糙轉印模68之表面成為包含微細凹凸之壓花形狀遍及整個表面大致均勻地分佈之粗糙面，其算術平均粗糙度Ra例如為6.0 μm~8.0 μm，其十點平均粗糙度Rz例如為45.0 μm~50.0 μm，其平均間隔Rsm例如為120 μm~150 μm。
於下輥65之周面69上，安裝有用以於樹脂片材53上形成半圓凸部17之凹版轉印模70。
凹版轉印模70上，沿著下輥65之周方向而形成有多數的條狀之與圓柱透鏡形狀之半圓凸部17形狀相反之凹槽。即，凹槽之與其長度方向(周方向)正交之切斷面具有大致半圓弧狀之輪廓。相鄰凹槽之中心彼此之距離(間距)係根據半圓凸部17之形狀而適當決定。
再者，粗糙轉印模68亦可安裝於下輥65上，凹版轉印模70亦可安裝於中間輥64上。又，中間輥64之周面67亦可藉由實施鏡面加工而設定為平滑面。此時，光擴散板10之背面側之主面18成為平滑面。
作為上述粗糙轉印模68及凹版轉印模70之原料，例如可使用有機材料。
作為有機材料，只要具有即便對在加熱熔融狀態下剛自模60擠出後之樹脂片材53反覆按壓亦可維持轉印模之形狀之耐熱性即可，例如可列舉熱硬化性樹脂、熱塑性樹脂等樹脂。
作為熱硬化性樹脂，例如可列舉酚樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、聚醯亞胺樹脂(PI樹脂)、不飽和聚酯樹脂、醇酸樹脂等。
作為熱塑性樹脂，例如可列舉苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、環狀烯烴聚合物樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯樹脂(ABS樹脂)、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂(PET樹脂)、聚碳酸酯樹脂(PC樹脂)、聚醚碸樹脂(PES樹脂)、熱塑性聚醯亞胺樹脂(PI樹脂)等。
該等中，較好的是可列舉維氏軟化點(JIS K7206-1999 A50法)較自模60擠出之樹脂片材53之維氏軟化點高40℃以上之熱塑性樹脂、經交聯之熱塑性樹脂。
塗佈用輥群55具備2個擠壓輥72、73及1個輔助輥74，具有該等3個輥72~74有機地組合而成之輥塗機構。
3個輥72~74分別由圓柱狀之金屬製(例如不鏽鋼製、鋼鐵製等)輥構成，且係以各軸線相對於擠壓輥63~65之軸線成為平行之方式於上下方向上連續地配置。
擠壓輥72係以其上端成為與下輥65之下端相同的高度位置之方式設置，自下側抵接於樹脂片材53。又，擠壓輥72之下部浸漬於第1液收容部78中蓄積之含有防靜電劑之溶液(防靜電劑溶液)中。藉此，可於對自下輥65送出之樹脂片材53以剛送出後之高度支持之狀態下，於樹脂片材53之下面75(主面18)上塗佈防靜電劑溶液，故可提高塗佈之作業性。擠壓輥72為自由輥，可轉動地接觸於樹脂片材53之下面75。
第1液收容部78中蓄積之防靜電劑溶液係使防靜電劑溶解於水或有機溶劑中之溶液。溶液中，防靜電劑之含量為0.001質量%~0.07質量%，較好的是0.005質量%~0.05質量%，更好的是0.01質量%~0.05質量%。
若防靜電劑之含量在該範圍內，可對光擴散板10穩定地賦予持續性優異、經高度地控制之防靜電性能。因此，可良好地抑制由防靜電劑之移動所導致的光擴散板10之表面污染、及光擴散板10與光學膜4之密接不均勻之產生。
作為被用作溶劑之有機溶劑，並無特別限制，例如可列舉醚類、芳香族烴類、酮類、醇類、酯類、醯胺類等，較好的是可列舉醇類。作為醇類，具體可列舉甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、丙二醇及甘油等。該等有機溶劑可單獨使用或併用兩種以上(包括與水之併用)。
又，作為防靜電劑之市售品，例如可列舉日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」(商品名)、松田硝子工業股份有限公司製造之「MX-50」(商品名)等。該些市售品可藉由利用水或有機溶劑適當稀釋‧溶解而製備以上述範圍含有防靜電劑之溶液。
擠壓輥73係其旋轉軸連接於馬達(未圖示)，於與樹脂片材53中之擠壓輥72之抵接位置(接觸位置)相同的位置，以可逆時針旋轉之方式自上側接觸於樹脂片材53之上面76。擠壓輥73之周面77較好的是包含橡膠材料。作為橡膠材料，例如可列舉以JIS K6253為基準而測定之硬度為A30~A90之橡膠材料，具體可列舉NBR系橡膠等，例如藉由將該等橡膠製片材安裝於周面77，可使周面77為橡膠製。又，擠壓輥73之周面77形狀例如較好的是藉由凸面加工而使軸方向中央部較兩端部更為隆起。
輔助輥74係其旋轉軸連接於馬達(未圖示)，於較包含擠壓輥73之軸線、與擠壓輥73對樹脂片材53之接觸線的第1平面79更朝樹脂片材53之送出方向上流側傾斜之角度位置，以可順時針旋轉之方式接觸於擠壓輥73之周面77。具體而言，以輔助輥74與擠壓輥73所成之角度、即包含輔助輥74之軸線及擠壓輥73之軸線的第2平面80與第1平面79所成之角度θ例如為10~90°、較好的是15~65°之方式旋轉接觸於擠壓輥73。
輔助輥74傾斜並接觸於擠壓輥73，藉此於擠壓輥73之上方，朝片材之送出方向下游側開放而形成有擠壓輥73之周面77與輔助輥74之周面81協動而區劃之於輥72~74之軸線方向上伸長之蓄液部82。
又，輔助輥74之周面81之材質較好的是與擠壓輥73之周面77之材質相同。即，輔助輥74之周面81較好的是包含橡膠材料。再者，輔助輥74之周面81之材質亦可為海綿製。又，輔助輥74之周面81形狀例如較好的是藉由平面加工而使軸方向中央部及兩端部平坦。藉由對擠壓輥73之周面77形狀進行凸面加工，對輔助輥74之周面81形狀進行平面加工，可使該等輥73、74之接觸狀態良好。
於蓄液部82之上方，於蓄液部82之長度方向(擠壓輥73之軸方向)上彼此空開相等間隔而設置有複數個供給噴嘴83。對蓄液部82之防靜電劑之供給例如係藉由自供給噴嘴83滴加防靜電劑而進行。再者，供給噴嘴83亦可僅設置於蓄液部82之長度方向中央部一處。
供給噴嘴83連接於第2液收容部84。於第2液收容部84中蓄積有防靜電劑溶液。作為第2液收容部84中蓄積之防靜電劑溶液，例如可列舉與第1液收容部78所蓄積之防靜電劑溶液相同者。
一對抽取用輥群56包含自厚度方向兩側夾持樹脂片材53之一對抽取輥85、86。
抽取輥85、86分別由圓柱狀之金屬製(例如不鏽鋼製、鋼鐵製等)輥構成，且係以下側之抽取輥85之上端與下輥65之下端為相同高度位置之方式對向設置。藉此，可將自下輥65送出之樹脂片材53保持以剛送出後之高度支持的狀態水平搬送，故可減小搬送阻力。
繼而，對使用上述製造裝置之樹脂片材53之製造方法加以說明。
(1)片材製造步驟
首先，於第1擠出機57之料斗61中投入基材層14之原料樹脂(A)，進行熔融混練後，供給於進料塊59。另一方面，於第2擠出機58之料斗62中投入背面層15之原料樹脂(B)，進行熔融混練後，供給於進料塊59。第1擠出機57及第2擠出機58之料缸溫度例如係設定為190℃~250℃。
繼而，將進料塊59內之樹脂自模60中共擠出，藉此以包含下側之基材層14及上側之背面層15的2層樹脂片材53之方式連續擠出。
(2)轉印步驟
自模60中擠出之樹脂片材53係藉由利用擠壓輥63~65進行擠壓‧冷卻而成形。
具體而言，自模60中共擠出之樹脂係經上輥63與中間輥64夾持並擠壓後，下面75(背面側之主面18)密接於中間輥64之周面67而被搬送，此時進行冷卻。作為上輥63及中間輥64之表面溫度，較好的是低於樹脂片材53之擠出溫度，例如為50℃~120℃。而且，於上輥63與中間輥64之擠壓時，於樹脂片材53之下面75(背面側之主面18)轉印中間輥64之粗糙轉印模68之形狀而形成有多數個微細凹凸19。
其後，藉由中間輥64與下輥65夾持並擠壓。作為下輥65之表面溫度，例如為50℃~120℃。而且，於中間輥64與下輥65之擠壓時，於樹脂片材53之上面76(前面側之主面16)轉印凹版轉印模70之表面形狀，藉此於片材之流動方向(送出方向)上形成多數條平行之條狀之半圓凸部17。
其後，樹脂片材53係上面76密接於下輥65之周面69而被搬送，自下輥65之下端朝塗佈用輥群55水平方向地送出。
(3)塗佈步驟
塗佈用輥群55中，擠壓輥73與下輥65同向旋轉(逆時針旋轉)，隨之，輔助輥74同步旋轉。
繼而，自供給噴嘴83供給於蓄液部82之防靜電劑藉由擠壓輥73之旋轉而連續地附著於通過蓄液部82之擠壓輥73之周面77，以附著於周面77之狀態被搬運至擠壓輥73與樹脂片材53之抵接位置。
繼而，於擠壓輥73與樹脂片材53之抵接位置，樹脂片材53之上面76被附著有防靜電劑之周面77所擠壓。藉此，樹脂片材53之半圓凸部17接觸於防靜電劑，於形成有半圓凸部17之上面76上均勻塗佈防靜電劑。
另一方面，擠壓輥72與中間輥64同向旋轉(順時針旋轉)。繼而，第1液收容部78中蓄積之防靜電劑藉由擠壓輥72之旋轉而連續地附著於通過第1液收容部78之擠壓輥72之周面，以附著於周面之狀態被搬運至擠壓輥72與樹脂片材53之抵接位置。
繼而，於擠壓輥72與樹脂片材53之抵接位置，樹脂片材53之下面75被附著有防靜電劑之周面所擠壓。藉此，樹脂片材53之微細凹凸19接觸於防靜電劑，於形成有微細凹凸19之下面75上均勻塗佈防靜電劑。
藉此，於樹脂片材53之兩面75、76上塗佈有防靜電劑。
再者，關於防靜電劑之塗佈量，於防靜電劑以上述範圍而含有於溶液中之情形時，相對於各面75、76而為500 mg/m2 ~2000 mg/m2 ，較好的是500 mg/m2 ~1500 mg/m2 ，更好的是1000 mg/m2 ~1500 mg/m2 。
(4)乾燥步驟
防靜電劑之塗佈後，將樹脂片材53於例如30℃~180℃、較好的是30℃~100℃下乾燥，藉此使防靜電劑溶液之溶劑成分蒸發，使樹脂片材53之兩面75、76承載防靜電劑，形成防靜電劑層。再者，作為乾燥方法，並無特別限制，例如可列舉送風乾燥法、熱風乾燥法、紅外線乾燥法等。
(5)抽取步驟
其後，藉由一對抽取輥85、86加以抽取而製造樹脂片材53。其後，將樹脂片材53進一步冷卻，以適當之大小切斷，藉此可獲得上述光擴散板10。
(6)作用效果
如上所述，根據本實施形態之樹脂片材53，於上面76(前面側之主面16)及下面75(背面側之主面18)上承載有防靜電劑，故可對樹脂片材53賦予防靜電性能。又，所承載之防靜電劑之量為0.02 mg/m2 ~1 mg/m2 ，故於用作利用該樹脂片材53而獲得之光擴散板10時，可抑制由防靜電劑之移動所致的光擴散板10之表面污染。又，可抑制該光擴散板10與光學膜4組合使用時之密接不均勻。再者，所謂密接不均勻，係指產生光擴散板10與光學膜4密接之部分、及光擴散板10不與光學膜4密接之部分。若產生密接不均勻，則密接部分中光擴散板10與光學膜4之間不存在空氣層，與存在空氣層之非密接部分相比較，光線之通過量或通過方向不同，而產生顯示不均。
相對於此，根據具備光擴散板10之背光系統2及液晶顯示器1，即便於光擴散板10上配置光學膜4，亦可抑制光擴散板10與光學膜4之密接不均勻。其結果，可抑制液晶顯示器1之顯示不均，可獲得高品質之光。
進而，根據本實施形態之樹脂片材53之製造方法，其係於樹脂片材53之上面76及下面75塗佈含有防靜電劑之溶液，其後進行乾燥之方法，故可經濟地製作樹脂片材53。
以上，對本發明之一實施形態加以說明，本發明亦能以進而其他之實施形態實施。
例如，光擴散板(樹脂片材)不限定於光擴散板10般之2層樹脂板，例如可為單層樹脂板、3層樹脂板、包含4層以上之層之樹脂板。
又，光擴散板10之表面形狀不限於圓柱透鏡形狀及粗糙面形狀(壓花加工)，亦可為經加工成各種形狀以提昇光擴散板10之光擴散性者。又，前面側之主面16與背面側之主面18之形狀可相同，亦可不同。
又，上述實施形態中，藉由輥塗法將防靜電劑溶液塗佈於樹脂片材53，作為防靜電劑溶液之塗佈方法，例如可採用噴塗法、唇口塗佈法、刀片塗佈法、凹版塗佈法、棒塗法、浸塗法、模塗法等。
又，光擴散板10適合用作背光用之光擴散板，但並不特別限定於此種用途。
又，背光系統2適合用作液晶顯示器用之面光源裝置，但並不特別限定於此種用途。
[實施例]
繼而，根據實施例及比較例對本發明加以說明，但本發明不限定於下述實施例。再者，以下之說明中，「%」及「份」只要無特別說明則為質量%及質量份。
<樹脂片材之原料>
作為樹脂片材之原料，準備以下(1)~(8)之材料。
(1)透光性樹脂A
苯乙烯樹脂(東洋苯乙烯股份有限公司製造之「HRM40」，折射率1.59)
(2)防靜電劑溶液A
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.06質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.02質量份)與離子交換水30質量份混合(稀釋500倍)。藉此製備防靜電劑含量為0.066質量%之溶液A。
(3)防靜電劑溶液B
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.03質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.01質量份)與離子交換水30質量份混合(稀釋1000倍)。藉此製備防靜電劑含量為0.033質量%之溶液B。
(4)防靜電劑溶液C
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.020質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.007質量份)與離子交換水30質量份混合(稀釋1500倍)。藉此製備防靜電劑含量為0.022質量%之溶液C。
(5)防靜電劑溶液D
將防靜電劑(松田玻璃工業股份有限公司製造之「MX-50」)0.03質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.01質量份)與離子交換水30質量份混合(1000倍稀釋)。藉此製備防靜電劑含量為0.033質量%之溶液D。
(6)防靜電劑溶液E
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.3質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.1質量份)與離子交換水30質量份混合(100倍稀釋)。藉此製備防靜電劑含量為0.33質量%之溶液E。
(7)防靜電劑溶液F
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.09質量份(其中，防靜電劑有效成分含量為0.03質量份)與離子交換水30質量份混合(稀釋330倍)。藉此製備防靜電劑含量為0.1質量%之溶液F。
(8)防靜電劑溶液G
將防靜電劑(日本純藥股份有限公司製造之「SAT-6C」)0.00075質量份(其中，防靜電劑有效成分含量0.00025質量份)與離子交換水30質量份混合(稀釋40000倍)。藉此製備防靜電劑含量為0.0008質量%之溶液G。
<實施例及比較例>
(實施例1)1.樹脂片材之製造裝置之構成
使用具有與圖5所示之樹脂片材製造裝置51相同之構成的裝置。再者，使擠壓輥群及塗佈用輥群之條件如下。
(1)上輥
周面經鏡面加工之金屬製輥(直徑：450 mm)。
(2)中間輥
周面上設有粗糙轉印模之金屬製輥(直徑：450 mm)。即，將中間輥之周面設定為形成有多數個微細凹凸之粗糙面。
(3)下輥
周面上設有凹版轉印模之金屬製輥(直徑：450 mm)。即，於下輥之周面上，彼此平行地形成有多數根條狀之繞周方向一圈之剖面半圓弧狀之凹槽。
(4)擠壓輥(上側)
周面為橡膠製、周面形狀經凸面加工之金屬製輥(直徑50 mm)。
(5)輔助輥
周面為橡膠製、周面形狀經平面加工之金屬製輥(直徑50 mm)。又，輔助輥與上側之擠壓輥所成之角度(第2平面與第1平面所成之角度θ)係設置為20°。
(6)擠壓輥(下側)
使用與擠壓輥(上側)相同之輥。
2.具體之製造方法
將透光性樹脂A 100質量份於料缸內之溫度為190℃~250℃之第1擠出機中熔融混練，供給於2層分配型進料塊。又，將透光性樹脂A 100質量份於料缸內之溫度為190℃~250℃之第2擠出機中熔融混練後，供給於上述2層分配型進料塊。
繼而，以自第1擠出機供給於進料塊之樹脂成為基材層(樹脂(A)層)、自第2擠出機供給於進料塊之樹脂成為背面層(樹脂(B)層)之方式將進料塊內之樹脂於擠出樹脂溫度250℃下藉由多歧管模(寬：1500 mm)共擠出後，藉由上、中間及下輥進行擠壓‧冷卻，藉此製作出寬1300 mm、總厚度2.0 mm(基材層1.95 mm、背面層0.05 mm)之包含2層之積層樹脂層。
於積層樹脂層之製作過程中，自模中共擠出之樹脂係經上輥與中間輥夾持並擠壓後，密接於中間輥之周面而被搬送，此時進行冷卻。由於中間輥之周面上設有粗糙轉印模，故於上輥與中間輥之擠壓時，於積層樹脂層之背面層(樹脂(B)層)側之主面上轉印粗糙轉印模，藉此形成多數個微細凹凸。
其後，藉由中間輥與下輥夾持並擠壓。由於下輥之周面上具備凹版轉印模，故中間輥與下輥之擠壓時，於積層樹脂層之基材層(樹脂(A)層)側之主面上轉印凹版轉印模，藉此於積層樹脂層之流動方向上形成多數根平行之條狀之半圓凸部。
又，以上輥之表面溫度成為65℃、中間輥之表面溫度成為77℃、下輥之表面溫度成為98℃之方式調整各輥之表面溫度。
塗佈用輥群中，藉由上側及下側之擠壓輥，於積層樹脂層之兩面(前面側及背面側)以1000 mg/m2 ~1500 mg/m2 塗佈防靜電劑溶液A。再者，上側之擠壓輥之蓄液部中，對上側之擠壓輥之軸方向每1 m以70 mL/秒~100 mL/秒滴加防靜電劑溶液A。又，樹脂片材之生產速度為4.0 m/分。
利用氣刀對塗佈有防靜電劑溶液A之積層樹脂層進行送風乾燥，製成於積層樹脂層之兩面上形成有含有防靜電劑之防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.7 mg/m2 ~1.0 mg/m2 ，背面側：0.7 mg/m2 ~1.0 mg/m2 )。
(實施例2)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液B以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 ，背面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 )。
(實施例3)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液C以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.2 mg/m2 ~0.3 mg/m2 ，背面側：0.2 mg/m2 ~0.3 mg/m2 )。
(實施例4)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液D以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 ，背面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 )。
(實施例5)除了以對上側之擠壓輥之蓄液部供給防靜電劑溶液C、對下側之擠壓輥通過之第1液收容部供給防靜電劑溶液E之方式進行變更以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.2 mg/m2 ~0.3 mg/m2 ，背面側：3.3 mg/m2 ~5.0 mg/m2 )。
(實施例6)除了以對上側之擠壓輥之蓄液部供給防靜電劑溶液C、對下側之擠壓輥通過之第1液收容部供給防靜電劑溶液B之方式進行變更以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.2 mg/m2 ~0.3 mg/m2 ，背面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 )。
(實施例7)除了以對上側之擠壓輥之蓄液部供給防靜電劑溶液B、對下側之擠壓輥通過之第1液收容部供給防靜電劑溶液E之方式進行變更以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.3 mg/m2 ~0.5 mg/m2 ，背面側：3.3 mg/m2 ~5.0 mg/m2 )。
(比較例1)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液E以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：3.3 mg/m2 ~5.0 mg/m2 ，背面側：3.3 mg/m2 ~5.0 mg/m2 )。
(比較例2)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液F以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：1.5 mg/m2 ~2.0 mg/m2 ，背面側：1.5 mg/m2 ~2.0 mg/m2 )。
(比較例3)除了將防靜電劑溶液A變更為防靜電劑溶液G以外，藉由與實施例1相同之方法‧條件，製作具備防靜電劑層之樹脂片材(防靜電劑層中之防靜電劑之含量係前面側：0.008 mg/m2 ~0.012 mg/m2 ，背面側：0.008 mg/m2 ~0.012 mg/m2 )。
<物性評價>
1.光擴散板之製作
將上述實施例及比較例中製作之各樹脂片材以適當之長度切斷，藉此製作光擴散板。對所製作之光擴散板實施以下之2~6之物性測定。將結果適於表1中。
2.表面電阻值
以JIS K6911為基準，使用絕緣計(東亞DKK股份有限公司製造之「SM-8220」)及平板試樣用電極(東亞DKK股份有限公司製造之「SME-8311」)，對光擴散板之兩面測定初期之表面電阻值(Ω/□)。再者，為於測定前調整測定試樣之狀態，於23℃×濕度50%RH之條件下放置6小時。測定係對單面各2點、共計4點進行測定，將4點之測定值範圍示於表1中。
3.塗佈表面之均勻性
於防靜電劑溶液之塗佈‧乾燥處理前後，將完全無光擴散板之變色及表面狀態之變化者記作「○」，將變色或表面狀態之變化明顯者記作「×」。
4.安裝顯示
依照圖1所示之液晶顯示器1之構成，組裝32型陰極管直下式液晶顯示器。而且，對該液晶顯示器之陰極管背光(線狀光源)點亮時之顯示不均進行確認。將完全無顯示不均者記作「○」，將目測確認到顯示不均者記作「×」。再者，作為光擴散板上積層之光學膜，使用大日本印刷股份有限公司製造之「稜鏡膜PM6」(商品名)。
5.密接不均勻‧移動有無
使用貼合機(住友3M股份有限公司製造之「LS-1000」，商品名)，對光擴散板與光學膜(大日本印刷股份有限公司製造之「稜鏡膜PM6」)之積層樣品以速度50 mm/sec施加1.0 MPa之壓力，實施密接不均勻‧移動現象之促進試驗。於背光上確認通過貼合機後之樣品，目測評價背光點亮時之光擴散板與光學膜之密接不均勻。藉由下述式計算出密接不均勻部分之佔有面積率(%)。
密接不均勻部分佔有面積率=密接不均勻產生面積/總評價面積×100(%)
又，促進試驗後，對於光擴散板與光學膜之密接面，將目測完全無防靜電劑之移動者記作「無」，將有移動者記作「有」。
6.表面電阻值可靠性試驗
將測定資料分別投入至75℃ Hg燈照射(強度1 mW/cm2 )之條件下，經過100小時後，根據「2.表面電阻值」所記載之方法測定表面電阻值(Ω/□)。再者，關於75℃ Hg燈照射條件，Hg燈照射係自光擴散板之背面側進行。
7.考察
實施例1~7之光擴散板係初期表面電阻值在1×109 Ω/□~1×1014 Ω/□之範圍內，防靜電性能良好。另一方面，比較例3之光擴散板係初期表面電阻值在1×109 Ω/□~1×1014 Ω/□之範圍外，防靜電性能不充分。
實施例1~7之光擴散板係安裝顯示之不均勻、及密接不均勻‧移動現象之促進試驗中之密接較少，或完全無移動，良好。另一方面，比較例1及2之光擴散板可確認到安裝顯示之不均勻、及密接不均勻‧移動現象之促進試驗中之密接及移動。又，關於比較例3之光擴散板，雖然完全無安裝顯示之不均勻、及密接不均勻‧移動現象之促進試驗中之密接或移動，但表面電阻值較大，防靜電性能不充分，故可確認到塵埃附著之不良狀況。
根據以上結果可知，藉由將防靜電劑溶液之有效成分濃度調整為0.001~0.07質量%，可具有具持續性之優異防靜電性能，且可良好地抑制由防靜電劑之移動所致的光擴散板之表面污染、及光擴散板與光學膜之密接不均勻之產生。
1．．．液晶顯示器
2．．．背光系統
3．．．液晶面板
4．．．光學膜
5．．．後壁
6．．．側壁
7．．．光箱
8．．．線狀光源
9．．．開放面
10．．．光擴散板
11．．．液晶單元
12、13．．．偏光板
14．．．基材層
15．．．背面層
16、18．．．主面
17．．．半圓凸部
19．．．凹凸
51．．．樹脂片材製造裝置
52．．．片材成形機
53．．．樹脂片材
54．．．擠壓用輥群
55．．．塗佈用輥群
56．．．抽取用輥群
57．．．第1擠出機
58．．．第2擠出機
59．．．進料塊
60．．．模
61、62．．．料斗
63．．．上輥
64．．．中間輥
65．．．下輥
66、67、69、77、81．．．周面
68．．．粗糙轉印模
70．．．凹版轉印模
72、73．．．擠壓輥
74．．．輔助輥
75．．．下面
76．．．上面
78．．．第1液收容部
79．．．第1平面
80．．．第2平面
82．．．蓄液部
83．．．供給噴嘴
84．．．第2液收容部
85、86．．．抽取輥
E1 ．．．間隔
ha．．．高度
P1 ．．．間距
T．．．總厚度
t1 、t2 ．．．厚度
圖1係本發明一實施形態之液晶顯示器之示意性側面圖。
圖2係本發明一實施形態之液晶顯示器之示意性立體圖。
圖3係光擴散板之示意性立體圖。
圖4係表示光擴散板對光箱之安裝狀態的光箱之要部放大剖面圖。
圖5係本發明一實施形態之樹脂片材之製造方法所使用的製造裝置之概略構成圖。
16、18．．．主面
51．．．樹脂片材製造裝置
52．．．片材成形機
53．．．樹脂片材
54．．．擠壓用輥群
55．．．塗佈用輥群
56．．．抽取用輥群
57．．．第1擠出機
58．．．第2擠出機
59．．．進料塊
60．．．模
61、62．．．料斗
63．．．上輥
64．．．中間輥
65．．．下輥
66、67、69、77、81．．．周面
68．．．粗糙轉印模
70．．．凹版轉印模
72、73．．．擠壓輥
74．．．輔助輥
75．．．下面
76．．．上面
78．．．第1液收容部
79．．．第1平面
80．．．第2平面
82．．．蓄液部
83．．．供給噴嘴
84．．．第2液收容部
85、86．．．抽取輥

Claims (9)

  1. 一種樹脂片材，其具備：樹脂層、及形成於上述樹脂層上之含有0.02mg/m2 ~1mg/m2 之防靜電劑的防靜電劑層，且一側之主面形成半圓凸部，另一側之主面形成凹凸。
  2. 如請求項1之樹脂片材，其中上述防靜電劑層之表面電阻值為1×109 Ω/□~1×1014 Ω/□。
  3. 如請求項1之樹脂片材，其中上述防靜電劑含有陽離子系界面活性劑。
  4. 如請求項3之樹脂片材，其中上述陽離子系界面活性劑之分子量為100~1000。
  5. 如請求項4之樹脂片材，其中上述陽離子系界面活性劑含有式(1)所表示之銨鹽， (式(1)中，R1~R4分別表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph，X- 表示鹵化物離子、氫氧化物離子、硫酸根離子、磷酸根離子、式(2)所表示之離子或式(3)所表示之離子)，[化2] (式(2)中，R5表示氫原子、碳原子數1~22之直鏈狀烷基、碳原子數3~22之分支狀烷基或-CH2 Ph)， (式(3)中，Z表示鹵素原子)。
  6. 一種面光源裝置，其具備：前面開放之樹脂製之光箱、以與上述前面相對向之方式於上述光箱內空開間隔而配置之光源、及堵塞上述前面而與上述光源相對向之光擴散板，且上述光擴散板係藉由將如請求項1至5中任一項之樹脂片材切斷而獲得。
  7. 一種液晶顯示裝置，其包含：如請求項6之面光源裝置、及配置於上述面光源裝置之前方之液晶面板。
  8. 如請求項7之液晶顯示裝置，其更包含配置於上述光擴散板與上述液晶面板之間之光學膜，且上述光學膜之至少一個面具有1×1013 Ω/□以上之表面電阻值。
  9. 一種樹脂片材之製造方法，其包含以下步驟：將含有0.001質量%~0.07質量%之防靜電劑之溶液塗佈於樹脂層之至少一個面上；使塗佈有上述溶液之上述樹脂層乾燥；且上述溶液之塗佈量為500mg/m2 ~2000mg/m2 ；及一側之主面形成半圓凸部，另一側之主面形成凹凸。
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