TWI478773B - 用於供給來源之裝置及具有該裝置且用於沈積薄膜之裝置 - Google Patents
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Description
本發明係關於用於供給來源之裝置及具有該裝置且用於沈積薄膜之裝置，且更特定而言，係關於可定量供給作為沈積材料之粉末源之用於供給來源之裝置，及具有該裝置且用於沈積薄膜之裝置。
本申請案主張2008年5月23日申請之韓國專利申請案第10-2008-0048016號之優先權及在35 U.S.C.119下自其得到之所有益處，該韓國專利申請案以全文引用之方式併入本文。
一般而言，將用於形成薄膜之方法分類為物理氣相沈積(PVD)方法(諸如使用物理轟擊形成薄膜之濺射方法)及使用化學反應形成薄膜之化學氣相沈積(CVD)方法。
在CVD方法中，一般使用處於氣體狀態之反應源來沈積薄膜。然而，當由於反應源中含有具有較大原子量之重元素而難以製備處於氣體狀態之反應源時，使用在蒸發處於固體狀態之粉末源之後蒸發之來源氣體來沈積薄膜。舉例而言，在有機發光二極體(OLED)中，使用處於固體狀態之粉末源來沈積充當發光層之有機薄膜。因此，用於使用CVD方法沈積有機薄膜之裝置一般具備至少一用於供給來源之裝置，其將儲存於額外罐中之粉末源供給至腔室中。
同時，在用於供給來源之一般裝置中，藉由使用壓力差之方法或使用螺紋之方法將儲存於罐中之粉末源供給至腔室內。首先，在使用壓力差之方法中，藉由將第一氣體注入罐內而在罐與腔室之間產生壓力差，且隨後由於壓力差而將粉末源排放至罐之外部且供給至腔室內。因此，粉末源之供給量由第一氣體之注入壓力控制。然而，此方法所具有之問題在於，由於保留在罐中之粉末源之量及種類、濕氣、靜電等影響，粉末源之供給量頻繁改變。另一方面，在使用螺紋之方法中，具有螺紋之旋轉軸安裝在罐中且旋轉，且藉由允許粉末源藉由旋轉軸之旋轉沿著螺紋排放至罐之外部而將粉末源供給至腔室內。因此，粉末源之供給量由螺紋之間距及旋轉速度控制。然而，此方法所具有之問題在於，若粉末源之微粒較細，則粉末源便黏在螺紋與罐之內壁之間，使得無法將粉末源供給至腔室內。因此，其不適合於將非常少量之粉末源供給至腔室內，且粉末源之供給量亦每次變化。
如上文所描述，在用於沈積有機薄膜之習知裝置中，難以定量供給作為沈積材料之來源，且更難以正確供給非常少量之來源。因此，難以將薄膜之厚度控制為均勻的，且薄膜之質量降級，進而使得難以穩定地執行薄膜沈積製程。
本發明提供一種用於供給來源之裝置，其中藉由轉移軸之往復運動將填充於轉移孔中之粉末源供給至外部裝置，使得可藉由對應於轉移孔之內部容積之量來定量控制供給至外部裝置之粉末源之量，且亦提供一種具有該裝置且用於沈積薄膜之裝置。
本發明亦提供一種用於供給來源之裝置，其中定量供給非常少量之粉末源，使得可穩定執行薄膜沈積製程，且亦提供一種具有該裝置且用於沈積薄膜之裝置。
根據本發明之一態樣，提供一種用於供給來源之裝置，其包括：水平通道，其在一方向上延伸；抽吸口及轉移口，其延伸穿過該水平通道，該抽吸口及該轉移口彼此間隔開；轉移軸，其插入該水平通道內以在其中往復運動；及儲存室，其連接至該抽吸口之一側，該儲存室儲存並供給粉末源，其中該轉移軸包括至少一轉移孔，以用於允許經由該抽吸口供給之該粉末源填充於其中且經由該轉移口轉移至外部裝置。
該裝置可進一步包括抽吸單元，該抽吸單元連接至該抽吸口之另一側以形成排放壓力。
用於控制該粉末源之排放流量之閥較佳安裝在該抽吸口與該抽吸單元之間。
該裝置可進一步包括氣體供給單元，該氣體供給單元連接至該轉移口之一側以供給用於轉移該粉末源之氣體。
第一密封部件較佳安裝在插入該水平通道內之該轉移軸之外圓周表面上，且第二密封部件較佳安裝在該轉移軸插入其中的該水平通道之一端之外側上。
該轉移軸較佳由陶瓷或鐵氟隆材料形成。
該裝置可進一步包括往復運動驅動單元，該往復運動驅動單元連接至該轉移軸之一端且以往復運動方式驅動該轉移軸。
該往復運動驅動單元較佳包括氣動活塞部件。
該裝置可進一步包括氣體供給單元，該氣體供給單元用於供給用於將該粉末源排放至該儲存室內之氣體。
該裝置可進一步包括加熱部件，該加熱部件用於加熱該儲存室及該氣體供給單元中之至少一者。
該加熱部件較佳具有100℃或更高之加熱溫度。
根據本發明之另一態樣，提供一種用於沈積薄膜之裝置，其包括：腔室，其用於在基板上形成薄膜；及來源供給單元，其用於藉由使其中形成有轉移孔之轉移軸往復運動而將填充於該轉移孔中之粉末源供給至該腔室。
該來源供給單元可包括：水平通道，其在一方向上延伸；抽吸口及轉移口，其延伸穿過該水平通道，該抽吸口及轉移口彼此間隔開；轉移軸，其插入該水平通道內以在其中往復運動；及儲存室，其連接至該抽吸口之一側，該儲存室儲存及供給粉末源。
該裝置可進一步包括抽吸單元，該抽吸單元連接至該抽吸口之另一側以形成排放壓力。
該裝置可進一步包括氣體供給單元，該氣體供給單元連接至該轉移口之一側以供給用於轉移該粉末源之氣體。
該裝置可進一步包括氣體供給單元，該氣體供給單元用於供給用於將該粉末源排放至該儲存室內之氣體。
自以下結合隨附圖式做出之描述可更詳細地理解本發明之較佳實施例。
下文中，將參看隨附圖式詳細描述本發明之例示性實施例。然而，本發明不限於下文所揭示之實施例，而是可實施為不同之形式。僅為了說明性目的且為了熟習此項技術者完全理解本發明之範圍而提供此等實施例。全部圖式中，相同參考標號用於表示相同元件。
<第一實施例>
圖1為根據本發明第一實施例之用於供給來源之裝置之示意圖。
參看圖1，用於供給來源之裝置包括：轉移塊100，其具有在一方向上延伸之水平通道110以及抽吸口121及轉移口131，該抽吸口121及轉移口131穿過水平通道110而在另一方向上延伸且彼此間隔開；轉移軸300，其插入水平通道110內以在其中往復運動；儲存室200，其連接至抽吸口121之上側；及抽吸單元150，其連接至抽吸口121之下側。該裝置可進一步包括往復運動驅動單元500，其連接至轉移塊100之一側以允許以往復運動方式驅動轉移軸300。
儲存室200可包括：罐體210，其用於提供其中儲存粉末源10之預定空間；及罐蓋220，其覆蓋罐體210之開口區。用作沈積源之粉末源10(例如，在沈積有機薄膜之過程中呈固體粉末形式之有機源)儲存於罐體210中。罐蓋220可分離地或可打開地耦接至罐體210之頂部。因此，可藉由允許罐蓋220自罐體210分離或打開而容易將粉末源10輸入至罐體210之內部空間中。另外，於儲存室200之一側中形成至少一排放孔250，儲存於儲存室中之粉末源10經由該排放孔250排放至外部。儘管未圖示，但可在儲存室200中提供混合儲存於儲存室200中之粉末源10之混合單元。舉例而言，在罐體210中提供振動器以便在任何時間混合粉末源10，進而防止粉末源10之凝聚。然而，混合單元不限於此，而是可由可混合儲存於儲存室200中之粉末源10之任何單元(例如，螺桿單元)代替。另外，用於將第一氣體供給至儲存室200之第一氣體供給管231及用於控制儲存室之內部壓力之第一氣體排氣管241連接於儲存室200之另一側，使得順暢地排放粉末源。第一閥232及第二閥242分別安裝至第一氣體供給管231及第一氣體排氣管241，以便控制第一氣體供給管及第一氣體排氣管中之氣流。在此時，第一氣體供給管231及第一氣體排氣管241可經組態以部分彼此共用。
轉移塊100包括：在一方向(例如，水平方向)上延伸之水平通道110；及抽吸口121及轉移口131，其在另一方向(例如，與水平通道110交叉之垂直方向)上延伸且穿過水平通道110。抽吸口121為將儲存於儲存室200中之粉末源10填充於轉移軸300之轉移孔310中且隨後進行量化之通路。抽吸口之上側與儲存室200之排放孔250連通以用於供給粉末源10，且抽吸口之下側連接至抽吸單元150以用於在儲存室中形成必需之排放壓力。另外，用於控制粉末源之排放流量之第三閥122安裝在抽吸口121與抽吸單元150之間。過濾器部件140插入在抽吸口121之下側內。過濾器部件140具有呈網孔形式之複數個微孔，使得過濾器部件允許第一氣體穿過其中但粉末源10被阻擋。為此，每一微孔較佳形成為大於第一氣體之微粒且小於粉末源10之微粒。轉移口131為將由第二氣體載運之粉末源10供給至外部裝置所經過之通路。轉移口之上側與用於供給第二氣體之第二氣體供給單元(未圖示)連通，且轉移口之下側連接至粉末源10供給至之外部裝置(未圖示)。另外，用於控制所供給之第二氣體之流量的第四閥132較佳安裝在轉移口131與第二氣體供給單元之間。可藉由鑽孔穿過單一部件或藉由分別鑽孔穿過單獨部件並將其彼此耦接而形成水平通道110以及抽吸口121及轉移口131。
同時，為了防止經由抽吸口121供給至水平通道110內之第一氣體及粉末源10洩漏，諸如方形環之第一密封部件410可安裝在插入抽吸口121內之轉移軸300之外圓周表面上，且諸如波紋管之第二密封部件420可安裝在其中插入轉移軸300之水平通道110之一端的外側上。而且，諸如Ar或N2之惰性氣體較佳用作第一及第二氣體。
將轉移軸300之一部分插入水平通道110內且在水平通道110中以往復運動方式驅動。轉移軸300具備至少一轉移孔310，其允許經由抽吸口121所供給之粉末源10裝載於其中且經由轉移口131轉移。此時，轉移孔310在裝載粉末源10時定位於水平通道110與抽吸口121之相交點處，且隨後在排放粉末源10時移動至水平通道110與轉移口131之相交點。較佳地，轉移軸300具有等於或略小於水平通道110之內徑的外徑，使得轉移軸在抵著水平通道110之內壁摩擦或由水平通道110之內壁支撐時被以往復運動方式驅動。此時，若轉移軸300與水平通道110之間的表面摩擦過大，則藉由表面摩擦可能產生外來材料。因此，其中至少一者較佳由具有低表面粗糙度之材料形成。舉例而言，轉移軸300可由陶瓷材料形成，可經由表面處理而降低其表面粗糙度，或可由鐵氟隆(Teflon)線之含氟樹脂材料形成，其具有自潤滑特性。
具有氣缸510及在氣缸510中被以往復運動方式驅動之活塞520之往復運動驅動單元500安置在轉移塊100之一側處。轉移軸300之一端連接至活塞520之一端。活塞520具有等於或略小於氣缸510之內徑的外徑，使得活塞在抵著氣缸510之內壁摩擦或由氣缸510之內壁支撐時被以往復運動方式驅動。此時，若僅活塞520本身不具有氣密性，則將諸如橡膠環等密封部件530另外安裝在活塞520之外圓周表面上，藉此改進氣密性。在此實施例中，往復運動驅動單元500將允許在水平通道110中以往復運動方式驅動插入於水平通道110內之轉移軸300。舉例而言，如圖1所示，往復運動驅動單元500可經組態而以氣動方式操作，其中在氣缸510之一側處形成氣體經由其而流入及流出之閘道540，使得活塞520根據氣缸510中之壓力改變而操作。或者，往復運動驅動單元500可經組態而以液壓方式操作，其中活塞520在流體經由閘道540流入及流出時操作。另外，往復運動驅動單元500可經組態以由線性馬達驅動，該線性馬達實現將旋轉移動轉換為線性移動。
將如下描述根據如此組態之此實施例的用於供給來源之裝置之操作。
圖2及圖3為說明根據本發明第一實施例的用於供給來源之裝置之操作之示意圖。
首先，如圖2所示，在自罐體210分離罐蓋220之後將預定量之粉末源10填充至罐體210中，且隨後再次將罐蓋220耦接至罐體210。此時，填充於罐體210中之粉末源10可經受混合、研磨及壓製製程中之任一者，使得粉末源10具有適合於薄膜沈積製程之密集形成。同時，轉移軸300移動以使得轉移孔310與抽吸口121以共線關係對準，進而允許閉合之抽吸口121之上部及下部彼此連通。隨後，藉由打開第一閥232經由第一氣體供給管231將第一氣體供給至儲存室200內。若儲存室200之內部壓力達到預定水平，則打開第三閥122。而且，藉由操作抽吸單元150而形成抽吸口121中之排放壓力。因此，由於重力及儲存室200之內部與外部之間的壓力差，第一氣體及粉末源10自抽吸口121之上側移動至下側，且隨後，僅未穿過過濾器部件140之粉末源10填充於轉移孔310中。顯然，僅具有對應於轉移孔310之內部容積之固定量的粉末源10填充於轉移孔310中。
隨後，如圖3所示，轉移軸300移動以使得轉移孔310與抽吸口121以共線關係對準，進而允許閉合之抽吸口121之上部及下部彼此連通。同時，向轉移口131之上側供給用於將粉末源10轉移至外部裝置的第二氣體。因此，填充於轉移孔310中之固定量之粉末源10與第二氣體混合，經由轉移口131之下側排放，且隨後供給至需要粉末源10之外部裝置。
下表1說明使用根據本發明第一實施例的用於供給來源之裝置而供給至外部裝置之粉末源10之供給量的實驗結果。
如上文所描述，根據本發明，將供給至外部之粉末源10之量定量控制為與對應於轉移孔310之內部容積之固定量一樣多。因此，若轉移孔310被非常精細地加工為具有其所需內部容積，則可不僅在供給大量粉末源時而且在供給非常少量粉末源(例如，若干毫克至數百毫克)時可定量控制粉末源之量。
<第二實施例>
圖4為根據本發明第二實施例的用於供給來源之裝置之示意圖。
參看圖4，用於供給來源之裝置包括：轉移塊100，其具有在一方向上延伸之水平通道110以及抽吸口121及轉移口131，該抽吸口121及該轉移口131穿過水平通道110而在另一方向上延伸且彼此間隔開；轉移軸300，其插入水平通道110內以在其中往復運動；儲存室200，其連接至抽吸口121之上側；抽吸單元150，其連接至抽吸口121之下側；及第一氣體供給管231，其連接至儲存室200之一側以將第一氣體供給至儲存室200，使得順暢地排放粉末源10。該裝置可進一步包括用於將儲存室200之內部加熱至預定溫度之第一加熱部件261及用於將第一氣體供給管231之內部加熱至預定溫度之第二加熱部件262。
此處，第一加熱部件261將儲存於儲存室200中之粉末源10加熱至預定溫度，例如100℃或更高，且因此，移除粉末源10中含有之濕氣，進而使得可防止粉末源10凝聚且因此防止通路堵塞。第二加熱部件262將第一氣體加熱至預定溫度，例如100℃或更高，且因此移除第一氣體中含有之濕氣，進而使得可防止濕氣被供給至粉末源10。因此，使粉末源10中含有之濕氣最小化，進而防止粉末源10凝聚且因此防止通路堵塞。因此，即使當粉末源10之量非常小時，亦可定量控制粉末源10之量且可將其供給至外部裝置。為此，儘管未圖示，但可提供第三加熱部件以加熱轉移口131及第二氣體供給單元(未圖示)中之至少一者。
<第三實施例>
圖5為根據本發明實施例之具有用於供給來源之裝置的用於沈積薄膜之裝置之示意圖。
參看圖5，用於沈積薄膜之裝置包括：腔室600，薄膜即在其中形成在基板20上；及來源供給單元700，其用於將薄膜源供給至腔室600。有機薄膜沈積在基板20上，且來源供給單元700供給作為用於沈積有機薄膜中之材料之粉末有機源。
腔室600界定預定之閉合反應空間。在腔室600之內部下部中提供上面放置有基板之基板支撐單元610，且在腔室600之內部上部中提供與基板支撐單元610相對之來源注入單元620。另外，腔室600可具備用於允許裝載/卸載基板之打開/閉合單元630以及用於自腔室排出氣體之排氣單元640。
基板支撐件610包括上面放置基板20之支撐件611。可在支撐件611之外部或內部中提供用於將基板20之溫度保持恆定之冷卻單元或用於將基板20加熱至製程溫度之加熱單元。另外，支撐件611可經組態以升高、降低及旋轉。舉例而言，旋轉軸612耦接至支撐件611之底部，且旋轉軸612延伸至腔室600之外部且連接至用於向旋轉軸612施加旋轉力之往復運動驅動單元613。因此，可藉由旋轉支撐件611而在基板20之整個表面上沈積具有均勻厚度之薄膜。
來源注入單元620蒸發自來源供給單元700供給之粉末源且將蒸發之來源氣體注入至基板20。來源注入單元620包括：供給口621，其接收粉末源10；噴嘴單元622，其用於將來源氣體注入至基板20上；及加熱單元623，其用於將粉末源10蒸發為來源氣體。在此實施例中，將例如加熱線圈或燈加熱器等加熱部件623嵌入來源注入單元620之主體中。粉末源材料10由加熱部件623加熱且蒸發為氣態來源材料。然而，加熱單元623不限於此，而是可包括多種加熱部件。另外，來源注入單元620可固定安裝，但可安裝至驅動單元以自一側至另一側或來回地旋轉或移動。因此，藉由調節來源注入單元620與基板20之間的距離，可改變製程條件，且可將來源氣體均勻注入至基板20之整個表面上。而且，儘管未圖示，但可進一步在來源注入單元620與來源供給單元700之間提供用於預加熱粉末源10之預加熱單元。因此，增加了來源注入單元620中粉末源10之蒸發速率，進而使得可增強薄膜沈積速率。
來源供給單元700包括：轉移塊100，其具有在一方向上延伸之水平通道110以及抽吸口121及轉移口131，該抽吸口121及該轉移口131穿過水平通道110而在另一方向上延伸且彼此間隔開；轉移軸300，其插入水平通道110內以在其中往復運動；儲存室200，其連接至抽吸口121之上側；及抽吸單元150，其連接至抽吸口121之下側。轉移軸300具備至少一被粉末源10填充之轉移孔310，且經組態以使得轉移孔310在轉移孔310與抽吸口121及轉移口131中之每一者成共線關係對準之兩點之間往復運動。因此，儲存室200中之粉末源10可經由抽吸口121填充於轉移孔310中且隨後經由轉移口121轉移至腔室600。此時，將供給至腔室600之粉末源10之量定量控制為與對應於轉移孔310之內部容積之固定量一樣多。因此，若轉移孔310被非常精細地加工為具有其所需內部容積，則可不僅在供給大量粉末源時而且在供給非常少量粉末源(例如，若干毫克至數百毫克)時可定量控制粉末源之量。
如上文所描述，根據本發明，可不僅供給較大固定量之粉末源，而且可供給非常少之固定量之粉末源。因此，可穩定地執行薄膜沈積製程，例如容易地控制薄膜之厚度，進而使得可有效製造高質量薄膜產品。
同時，儘管已在上述實施例中說明了被供給有機材料之用於形成有機薄膜之裝置，但本發明不限於此，而是可應用於任何需要供給粉末源之裝置。
根據本發明，藉由使轉移軸往復運動而將填充於轉移孔中之粉末源供給至外部裝置，使得可將供給至外部裝置之粉末源之量定量控制為與對應於轉移孔之內部容積之固定量一樣多。
此外，藉由加熱單元移除粉末源中含有之濕氣且隨後供給至外部裝置，進而防止粉末源凝聚且因此防止通道堵塞。因此，可不僅供給較大固定量之粉末源，而且可供給非常少之固定量之粉末源。
此外，根據本發明，可不僅供給非常少量之粉末源而且可供給固定量之粉末源。因此，可穩定地執行薄膜沈積製程，例如容易地控制薄膜之厚度，進而使得可有效製造高品質薄膜產品。
儘管已結合隨附圖式及上述實施例描述了本發明，但本發明不限於此，且由附加申請專利範圍界定。因此，熟習此項技術者將理解，在不脫離附加申請專利範圍所界定之本發明之精神及範疇之情況下可對其做出各種修改及改變。
10．．．粉末源
20．．．基板
100．．．轉移塊
110．．．水平通道
121．．．抽吸口
122．．．第三閥
131．．．轉移口
132．．．第四閥
140．．．過濾器部件
150．．．抽吸單元
200．．．儲存室
210．．．罐體
220．．．罐蓋
231．．．第一氣體供給管
232．．．第一閥
241．．．第一氣體排氣管
242．．．第二閥
250．．．排放孔
261．．．第一加熱部件
262．．．第二加熱部件
300．．．轉移軸
310．．．轉移孔
410．．．第一密封部件
420．．．第二密封部件
500．．．往復運動驅動單元
510．．．氣缸
520．．．活塞
530．．．密封部件
540．．．閘道
600．．．腔室
610．．．基板支撐單元
611．．．支撐件
612．．．旋轉軸
613．．．往復運動驅動單元
620．．．來源注入單元
621．．．供給口
622．．．噴嘴單元
623．．．加熱單元
630．．．打開/閉合單元
640．．．排氣單元
700．．．來源供給單元
圖1為根據本發明第一實施例之用於供給來源之裝置之示意圖；圖2及圖3為說明根據本發明第一實施例之用於供給來源之裝置之操作之示意圖；圖4為根據本發明第二實施例之用於供給來源之裝置之示意圖；及圖5為根據本發明之具有用於供給來源之裝置的用於沈積薄膜之裝置之示意圖。
10．．．粉末源
100．．．轉移塊
110．．．水平通道
121．．．抽吸口
122．．．第三閥
131．．．轉移口
132．．．第四閥
140．．．過濾器部件
150．．．抽吸單元
200．．．儲存室
210．．．罐體
220．．．罐蓋
231．．．第一氣體供給管
232．．．第一閥
241．．．第一氣體排氣管
242．．．第二閥
250．．．排放孔
300．．．轉移軸
310．．．移孔
410．．．第一密封部件
420．．．第二密封部件
500．．．往復運動驅動單元
510．．．氣缸
520．．．活塞
530．．．密封部件
540．．．閘道
Claims (15)
- 一種用於供給一來源之裝置，其包含：一水平通道，其在一方向上延伸；抽吸口及轉移口，其延伸穿過該水平通道，該抽吸口及該轉移口彼此間隔開；一轉移軸，其插入該水平通道內以在其中往復運動；一儲存室，其連接至該抽吸口之一側，該儲存室儲存並供給一粉末源；一往復運動驅動單元，其連接至該轉移軸之一端且以往復運動方式驅動該轉移軸；及一密封部件，其安裝於該往復運動驅動單元之一外圓周表面上，其中該轉移軸包含至少一轉移孔，以用於允許經由該抽吸口供給之該粉末源填充於其中且經由該轉移口轉移至一外部裝置。
- 如請求項1之裝置，其進一步包含一抽吸單元，該抽吸單元連接至該抽吸口之另一側以形成排放壓力。
- 如請求項2之裝置，其中一用於控制該粉末源之排放流量之閥安裝於該抽吸口與該抽吸單元之間。
- 如請求項1之裝置，其進一步包含一氣體供給單元，該氣體供給單元連接至該轉移口之一側以供給一用於轉移該粉末源之氣體。
- 如請求項1之裝置，其中一第一密封部件安裝於插入該 水平通道內之該轉移軸之一外圓周表面上，且一第二密封部件安裝於該轉移軸插入其中的該水平通道之一端之一外側上。
- 如請求項1之裝置，其中該轉移軸由一陶瓷或鐵氟隆材料形成。
- 如請求項1之裝置，其中該往復運動驅動單元包含一氣動活塞部件。
- 如請求項1之裝置，其進一步包含一氣體供給單元，該氣體供給單元用於供給一用於將該粉末源排放至該儲存室內之氣體。
- 如請求項8之裝置，其進一步包含一加熱部件，該加熱部件用於加熱該儲存室及該氣體供給單元中之至少一者。
- 如請求項9之裝置，其中該加熱部件具有100℃或更高之一加熱溫度。
- 一種用於沈積一薄膜之裝置，其包含：一腔室，其用於在一基板上形成一薄膜；及一來源供給單元，其用於藉由使其中形成有一轉移孔之一轉移軸往復運動而將填充於該轉移孔中之一粉末源供給至該腔室。
- 如請求項11之裝置，其中該來源供給單元包含：一水平通道，其在一方向上延伸；抽吸口及轉移口，其延伸穿過該水平通道，該抽吸口及該轉移口彼此間隔開； 該轉移軸，其插入該水平通道內以在其中往復運動；及一儲存室，其連接至該抽吸口之一側，該儲存室儲存並供給一粉末源。
- 如請求項12之裝置，其進一步包含一抽吸單元，該抽吸單元連接至該抽吸口之另一側以形成排放壓力。
- 如請求項12之裝置，其進一步包含一氣體供給單元，該氣體供給單元連接至該轉移口之一側以供給一用於轉移該粉末源之氣體。
- 如請求項12之裝置，其進一步包含一氣體供給單元，該氣體供給單元用於供給一用於將該粉末源排放至該儲存室內之氣體。
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