TWI467596B - Charged particle line irradiation device, charged particle line irradiation method and charged particle line irradiation program - Google Patents

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TWI467596B TW100128678A TW100128678A TWI467596B TW I467596 B TWI467596 B TW I467596B TW 100128678 A TW100128678 A TW 100128678A TW 100128678 A TW100128678 A TW 100128678A TW I467596 B TWI467596 B TW I467596B
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Description

帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式
本發明有關一種帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式。
習知，已知有用於對被照射物(例如患者體內的腫瘤)照射質子束等帶電粒子線來對被照射物實施治療之帶電粒子線照射裝置。作為有關該種裝置之技術，例如於專利文獻1中記載有為了調整帶電粒子線向被照射物的照射量，調變帶電粒子線的射束強度之技術。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1：日本特開2000-354637號公報
在此，由於帶電粒子線的射束強度係不穩定者，因此很難對此進行正確地調變。因此，如專利文獻1中記載，在將射束強度作為控制量來調整帶電粒子線的照射量之手法中，存在無法高精確度地控制照射量之類的問題。
再者，在帶電粒子線照射裝置的應用領域中，期望例如對患者體內的腫瘤進行放射線治療等，不對被照射物的周圍照射帶電粒子線，而是僅對被照射物照射帶電粒子線，因此要求能夠高精確度地對所希望的被照射物照射帶電粒子線。
本發明是為了解決上述問題點而完成的，其目的在於提供一種能夠高精確度地控制帶電粒子線的照射量之帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式。
本發明人等經過深入研究之結果，發現了帶電粒子線的掃描速度對帶電粒子線的照射量高精確度的控制產生影響。
因此，為了解決上述課題，本發明之帶電粒子線照射裝置為對被照射物照射帶電粒子線之裝置，其特徵為，具備：掃描手段，掃描被照射至被照射物之帶電粒子線；照射量設定手段，設定帶電粒子線於藉由掃描手段於被照射物上掃描之帶電粒子線的掃描線上每複數個目標掃描位置上的照射量；及掃描速度設定手段，根據藉由照射量設定手段設定之照射量，設定帶電粒子線在各個目標掃描位置上的目標掃描速度。
同樣，為了解決上述課題，本發明之帶電粒子線照射方法為對被照射物照射帶電粒子線之方法，其特徵為，具備：照射量設定步驟，設定帶電粒子線於藉由掃描手段於被照射物上掃描之帶電粒子線的掃描線上每複數個目標掃描位置上的照射量；及掃描速度設定步驟，根據在照射量設定步驟中設定之照射量，設定帶電粒子線在各個目標掃描位置上的目標掃描速度。
同樣，為了解決上述課題，本發明之帶電粒子線照射程式為對被照射物照射帶電粒子線之程式，其特徵為，使電腦實現照射量設定功能和掃描速度設定功能，前述照射量設定功能設定帶電粒子線於藉由掃描手段於被照射物上掃描之帶電粒子線的掃描線上每複數個目標掃描位置上的照射量，前述掃描速度設定功能根據藉由照射量設定功能設定之照射量，設定帶電粒子線於各個目標掃描位置上的目標掃描速度。
藉由該種帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式，若帶電粒子線於被照射物上的帶電粒子線的每複數個目標掃描位置上的照射量被設定，則根據該照射量設定帶電粒子線於各目標掃描位置上的目標掃描速度。帶電粒子線的掃描速度與習知作為帶電粒子線的照射量的控制量利用之射束強度相比，可輕松地使其穩定，因此能夠正確地調變成所希望的值。因此，藉由將目標掃描速度作為用於調整帶電粒子線的照射量利用，能夠使控制量正確地調變成所希望的值，其結果，能夠高精確度地控制帶電粒子線的照射量。
並且，帶電粒子線照射裝置具備控制手段為較佳，前述控制手段以帶電粒子線隨目標掃描位置及目標掃描速度於被照射物上掃描的方式控制掃描手段。
藉由該結構，藉由將可穩定的調整之目標掃描速度作為用於調整帶電粒子線的照射量的控制量利用，能夠使控制量正確地調變成所希望的值，其結果，能夠高精確度地控制帶電粒子線的照射量。
此外，帶電粒子線照射裝置具備測量手段，前述測量手段測量藉由掃描手段於被照射物上掃描之帶電粒子線的掃描位置及掃描速度，控制手段，以目標掃描位置與藉由測量手段測量之掃描位置的誤差消失，並且目標掃描速度與藉由測量手段測量之掃描速度的誤差消失的方式進行對向掃描手段的控制輸入進行調整之位置速度反饋控制來控制掃描手段為較佳。
藉由該結構，由於根據帶電粒子線的掃描位置及掃描速度進行位置速度反饋控制來控制掃描手段，因此，提高向目標掃描位置及目標掃描速度的追隨性，且能夠進一步更高精確度地控制帶電粒子線的照射量。
並且，本發明的帶電粒子線照射裝置進一步具備射束強度檢測手段，前述射束強度檢測手段檢測帶電粒子線的射束強度，當由射束強度檢測手段檢測之射束強度向預定的誤差範圍外變動時，控制手段以相互抵消該變動的方式調整藉由掃描手段之掃描速度為較佳。
藉由該結構，即使於帶電粒子線的射束強度變動之情況下，亦能夠繼續以正確的照射量照射帶電粒子線。
藉由本發明之帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式，能夠高精確度地控制帶電粒子線的照射量。
以下，參考附圖對本發明的較佳實施方式進行詳細說明。再者，在以下說明中對相同或者相應要件附加相同元件符號，省略重複說明。
第1圖係表示應用本發明的一實施方式之帶電粒子線照射裝置之帶電粒子線治療裝置之立體圖，第2圖係表示第1圖的帶電粒子線照射裝置之立體圖，第3圖係表示帶電粒子線照射裝置的控制系統之圖。
如第1圖所示般，在帶電粒子線照射裝置100中，照射部1安裝於以環繞治療臺105的方式設置之旋轉機架103，且可藉由該旋轉機架103圍繞治療臺105旋轉。並且，對載置於治療臺105上之患者體內的腫瘤52(被照射物)以照射方向A照射帶電粒子線R(參考第3圖)。雖在第1圖中未表示，但帶電粒子線照射裝置100於遠離治療臺105及旋轉機架103之位置具備加速帶電粒子而生成帶電粒子線R之迴旋加速器，透過輸送帶電粒子線R之射束輸送系統(射束輸送線)連結迴旋加速器與照射部1。再者，迴旋加速器未必一定設置於遠離旋轉機架103之位置，可以安裝於旋轉機架103上。並且，並非利用迴旋加速器，亦可以利用同步加速器或同步迴旋加速器加速帶電粒子而生成帶電粒子線R。
如第3圖所示般，該照射部1藉由掃描方式，朝向載置於治療臺105上之患者51體內的腫瘤52連續照射帶電粒子線R。具體而言，照射部1於深度方向(Z方向或照射方向A)上將腫瘤52分為多層，於各層中被設定之照射範圍F中沿掃描線L以掃描速度V掃描帶電粒子線R，並且進行連續照射(所謂光柵掃描或行掃描)。亦即，由於照射部1形成與腫瘤52對應之3維照射範圍，因此將腫瘤52分割成多層且分別對這些各層進行平面掃描。藉此，對應腫瘤52的3維形狀照射帶電粒子線R。
帶電粒子線R係高速加速帶電荷之粒子者，作為帶電粒子線R可以舉出例如質子束、重粒子(重離子)束、電子束等。照射範圍F設為例如最大200mm×200mm的區域，其外形設為矩形狀。再者，照射範圍F的形狀可以設為各種形狀，當然亦可以設為例如沿腫瘤52的形狀之形狀。掃描線L為照射帶電粒子線R之預定線(假想線)，當為上述矩形狀的照射範圍F時，若以行掃描為例，則掃描線L延伸成矩形波狀。再者，掃描線L不限於矩形波狀，亦可以為旋渦狀等。或者，掃描線L的形狀為能夠佈滿照射範圍F之形狀即可。
如第2圖所示般，照射部1具備沿帶電粒子線R的照射方向A依次排列之如下構件：四極磁鐵2，用於抑制透過射束輸送線從迴旋加速器輸入之帶電粒子線R發散並使其收斂；掃描磁鐵(Scanning Magnet)(掃描手段)3，在X方向和Y方向上掃描帶電粒子線R；劑量監控器(射束強度檢測手段)4，測定已照射之帶電粒子線R的劑量(射束強度)；X射線管5，為了於照射帶電粒子線R之前後確認腫瘤52的位置、大小、形狀，於藉由X射線拍攝CT圖像時照射X射線；平坦監控器(平面監控器)6，測定照射範圍F的射束(帶電粒子線)的平坦程度(射束到達之進深的平坦程度)；及射束位置監控器(測量手段)7，測定帶電粒子線R存在之X方向和Y方向的位置。
再者，如第3圖所示般，X方向及Y方向為與Z方向(照射方向A)正交且相互正交之2個方向，是特定腫瘤52的照射範圍F所形成之平面上的位置之2個方向。並且，如第3圖所示般，掃描磁鐵3包含用於控制帶電粒子線R的X方向的掃描位置之一組電磁鐵3a和用於調整Y方向的掃描位置之一組電磁鐵3b而構成。射束位置監控器7包含用於檢測帶電粒子線R的X方向的掃描位置之網格線7a和用於檢測Y方向的掃描位置之網格線7b而構成。
尤其是在本實施方式中，照射部1以在照射範圍F上的掃描線L的各掃描位置上，根據該掃描位置上的掃描速度調整帶電粒子線R的照射量的方式構成。其中，本實施方式中，帶電粒子線R的“照射量”可以用作照射至腫瘤52之帶電粒子的量而使用。
以下，參考第3圖對照射部1的控制系統進行說明。第3圖中作為照射部1的控制系統，示出照射部1的掃描磁鐵3和射束位置監控器7，還示出控制裝置8，前述控制裝置配置於照射部1的外部，且與掃描磁鐵3及射束位置監控器7可通信地連接。
控制裝置8按照射範圍F中帶電粒子線R在掃描線L上的目標掃描位置決定照射量，決定應實現該決定之照射量之掃描軌道(目標掃描位置及目標掃描速度)。並且，根據藉由射束位置監控器7測量之帶電粒子線R的掃描軌道，進行掃描磁鐵3的位置或速度反饋控制。
如第3圖所示般，控制裝置8具備掃描線設定部9、照射量設定部(照射量設定手段)10、掃描速度設定部11及掃描控制部(控制手段)12而構成。
掃描線設定部9設定藉由掃描磁鐵3於腫瘤52上掃描之帶電粒子線R的掃描線L。更詳細而言，掃描線設定部9按照腫瘤52的照射範圍F的形狀，以遍及整個該照射範圍F而照射帶電粒子線R的方式，設定掃描線L。例如，當照射範圍F為矩形狀時，掃描線L形成為矩形波狀。掃描線設定部9於所設定之掃描線L上設定複數個目標掃描位置。該目標掃描位置藉由後述之掃描控制部12作為位置反饋控制的目標值來利用。目標掃描位置例如於掃描線L上以等間隔設定。掃描線設定部9將目標掃描位置的信息發送至照射量設定部10。
照射量設定部10決定帶電粒子線R於藉由掃描線設定部9設定之掃描線L上各目標掃描位置上的照射量。帶電粒子線R的照射量可以藉由由操作員對照射部1進行輸入操作來取得，亦可以按照腫瘤的癥狀或照射範圍F的深度等各種條件並參考給予的資料庫等而設定。照射量設定部10若設定帶電粒子線R於各目標掃描位置上的照射量，則向掃描速度設定部11發送該信息。
掃描速度設定部11根據藉由照射量設定部10設定之照射量，設定帶電粒子線R於各個目標掃描位置上的目標掃描速度。當帶電粒子線R的射束強度恆定時，由於帶電粒子線R的照射量與掃描速度之間有單值對應關係，因此掃描速度設定部11保持例如對照射量與掃描速度做對應關聯之圖表，選擇與給予的照射量相應之掃描速度，從而作為目標掃描速度設定。其中，給予的照射量越大目標掃描速度設定得越慢，給予的照射量越小目標掃描速度設定得越快即可。掃描速度設定部11將所設定之目標掃描速度與目標掃描位置做對應關聯而作為目標掃描軌道，發送至掃描控制部12。
掃描控制部12以帶電粒子線R隨目標掃描軌道(目標掃描位置及目標掃描速度)於腫瘤52上掃描的方式控制掃描磁鐵3。具體而言，掃描控制部12對作為掃描磁鐵的控制輸入發送至產生調整掃描磁鐵3的磁力之電流之電源(未圖示)之電流強度進行位置或速度反饋控制。更詳細而言，以目標掃描位置與藉由射束位置監控器7測量之帶電粒子線R的實際掃描位置的誤差消失，並且目標掃描速度與藉由射束位置監控器7測量之帶電粒子線R的實際掃描速度的誤差消失的方式進行位置或速度反饋控制，並對向掃描磁鐵3的控制輸入(電源的電流強度)進行調整。
在此，參考第4圖對掃描控制部12的位置或反饋控制進行詳細說明。第4圖係表示掃描控制部12的位置或反饋控制之框圖。在第4圖中用虛線圍住之區域與掃描控制部12的處理對應。
首先，如第4圖的塊12a所示般，時刻t的目標掃描速度Vref(t)與藉由射束位置監控器7測量之1步驟之前的時刻t-1的掃描速度V(t-1)的差分乘以常數k，且如以下(1)式那樣計算時刻t的掃描速度V(t)。再者，例如如塊12d所示般，掃描速度V(t-1)能夠將藉由射束位置監控器7測量之1步驟之前的時刻t-1的帶電粒子線R的掃描位置P(t-1)對時刻t進行一階微分來導出。
V(t)=k‧(Vref(t)-V(t-1))+V(t-1)　(1)
接著，如第4圖的塊12b所示般，用(1)式計算出之掃描速度V(t)乘以時間幅度Δt(時刻t與t-1的差分)，且如以下(2)式那樣計算時刻t的理論上的掃描位置Pc(t)。再者，該Pc(t)為與目標掃描位置Pref(t)對應之值。
Pc(t)=V(t)‧Δt+P(t-1)　(2)
接著，如第4圖的塊12c所示般，用(2)式計算出之理論上的掃描位置Pc(t)與藉由射束位置監控器7測量之1步驟之前的時刻t-1的掃描位置P(t-1)的差分乘以常數k’，且如以下(3)式那樣計算向掃描磁鐵3的控制輸入I(t)。該控制輸入具體為用於產生掃描磁鐵3的磁力之電源(未圖示)的電流強度。
I(t)=k’‧(Pc(t)-P(t-1))　(3)
若根據用(3)式計算出之電流強度調整掃描磁鐵3的電源的電流強度，則按照該電流強度調整掃描磁鐵3的磁力，其結果，調整帶電粒子線R的掃描位置。此時的掃描位置P(t)藉由射束位置監控器7測量，且反饋至塊12a及塊12c。
再者，由於掃描磁鐵3及射束位置監控器7分別構成為個別地進行X、Y方向的控制及測量，因此掃描位置P、掃描速度V、理論上的掃描位置Pc、目標掃描速度Vref分別作為包含X方向成份和Y方向成份之二維矢量構成。
控制裝置8於物理性方面作為具有CPU(Central Processing Unit)、作為主儲存裝置之RAM(Random Access Memory)及ROM(Read Only Memory)、硬盤裝置等輔助儲存裝置、作為輸入器件之輸入鍵等輸入裝置、顯示器等輸出裝置、通信模組等之電腦構成。第3圖、第4圖所示之控制裝置8的各功能藉由於CPU、RAM、ROM等硬件上讀入預定的電腦軟體，從而在CPU的控制下使輸入裝置、輸出裝置及通信模組動作，並且藉由進行RAM或ROM、輔助儲存裝置中的資料的讀出及寫入來實現。
接著，參考第5圖對於本實施方式的照射部1中執行之處理進行說明，並且對本實施方式之帶電粒子線照射方法進行說明。
首先，藉由掃描線設定部9設定藉由掃描磁鐵3於腫瘤52上掃描之帶電粒子線R的掃描線L(S101)。掃描線設定部9於所設定之掃描線L上設定作為位置反饋控制的目標值利用之複數個目標掃描位置，且將該目標掃描位置的信息發送至照射量設定部10。
接著，藉由照射量設定部10設定帶電粒子線R於步驟S101中被設定之各個目標掃描位置上的照射量(S102：照射量設定步驟)。帶電粒子線R的照射量可以藉由由操作員對照射部1進行輸入操作來取得，亦可以按照腫瘤的癥狀或照射範圍F的深度等各種條件，並參考給予的資料庫等來設定。若設定帶電粒子線R在各目標掃描位置上的照射量，則照射量設定部10向掃描速度設定部11發送該信息。
接著，藉由掃描速度設定部11，根據在步驟S102中被設定之照射量，設定帶電粒子線R在各個目標掃描位置上的目標掃描速度(S103：掃描速度設定步驟)。掃描速度設定部11保持例如對照射量與掃描速度做對應關聯之圖表，選擇與給予的照射量相應之掃描速度，從而作為目標掃描速度設定。掃描速度設定部11將所設定之目標掃描速度與目標掃描位置做對應關聯並作為目標掃描軌道，且發送至掃描控制部12。
並且，藉由掃描控制部12，以帶電粒子線R隨目標掃描軌道(目標掃描位置及目標掃描速度)於腫瘤52上掃描的方式執行掃描磁鐵3的控制(S104)。如已參考第4圖說明般，掃描控制部12將目標掃描軌道設為控制輸入，並將藉由射束位置監控器7測量之帶電粒子線R的實際掃描軌道(掃描位置、掃描速度)作為反饋成份，藉由對調整掃描磁鐵3的磁力之電源的電流強度進行調整來進行帶電粒子線R的掃描軌道的位置或速度反饋控制。
接著，參考第6圖，對用於使電腦執行於上述之照射部1中執行之一連串的處理的帶電粒子線照射程式進行說明。如第6圖所示般，帶電粒子線照射程式202儲存於形成於電腦所具備之記憶媒體200之程式儲存區域201內。
帶電粒子線照射程式202具備總括控制帶電粒子線照射處理之主模組202a、掃描線設定模組202b、照射量設定模組(照射量設定功能)202c、掃描速度設定模組(掃描速度設定功能)202d及掃描控制模組202e而構成。
藉由執行掃描線設定模組202b、照射量設定模組202c、掃描速度設定模組202d及掃描控制模組202e來實現之功能分別與上述之第3圖的控制裝置8的掃描線設定部9、照射量設定部10、掃描速度設定部11及掃描控制部12的功能相同。
再者，帶電粒子線照射程式202可以設成如下結構，亦即其一部份或全部透過通信線路等傳送介質傳送，且藉由其他設備接收且被記錄(包含安裝)之結構。並且，帶電粒子線照射程式202亦可以設成如下結構，亦即其一部份或全部從儲存於CDROM、DVD-ROM、閃存器等可移動式記憶媒體之狀態，記錄(包含安裝)於其他設備之結構。
藉由該種帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式，若帶電粒子線R於腫瘤52上的帶電粒子線R的各個目標掃描位置上的照射量被設定，則根據該照射量，設定帶電粒子線R在各目標掃描位置上的目標掃描速度。帶電粒子線R的掃描速度與習知作為帶電粒子線R的照射量的控制量利用之射束強度相比，可輕松地使其穩定，因此可正確地調變成所希望的值。因此，藉由將目標掃描速度作為用於調整帶電粒子線R的照射量的控制量利用，能夠使控制量正確地調變成所希望的值，其結果，能夠高精確度地控制帶電粒子線R的照射量。
並且，由於掃描控制部12以帶電粒子線R隨目標掃描位置及目標掃描速度於腫瘤52上掃描的方式控制掃描磁鐵3，因此藉由將可穩定的調整之目標掃描速度作為用於調整帶電粒子線R的照射量的控制量利用，能夠使控制量正確地調變成所希望的值，其結果，能夠高精確度地控制帶電粒子線R的照射量。
再者，掃描控制部12以目標掃描位置與藉由射束位置監控器7測量之掃描位置的誤差消失，並且目標掃描速度與藉由射束位置監控器7測量之掃描速度的誤差消失的方式進行對向掃描磁鐵3的控制輸入(電流強度)進行調整之位置速度反饋控制來控制掃描磁鐵3。因此，根據帶電粒子線R的掃描位置及掃描速度進行位置速度反饋控制並控制掃描磁鐵3，因此提高向目標掃描位置及目標掃描速度的追隨性，且能夠進一步更高精確度地控制帶電粒子線R的照射量。
以上，舉出較佳的實施方式對本發明之帶電粒子線照射裝置、帶電粒子線照射方法及帶電粒子線照射程式進行了說明，但本發明並不限於上述實施方式。藉由掃描控制部12之位置速度反饋控制可以設成與第4圖所示之框圖的結構不同的結構，例如，亦可以個別地進行根據目標掃描位置之位置反饋控制與根據目標掃描速度之速度反饋控制，將合計雙方的控制輸出之值作為電流強度來調整掃描磁鐵3的電源。
並且，掃描控制部12監視由劑量監控器4檢測之帶電粒子線R的射束強度，當射束強度向預定的誤差範圍外變動時，可以以相互抵消該變動來實現給予的照射量的方式，進一步進行調整藉由掃描磁鐵3之掃描速度之控制。亦即，應為恆定的上述射束強度變動而成為預定的上限以上時，掃描控制部12將掃描速度向增大之方向調整，當射束強度成為預定的下限以下時，將掃描速度向減小之方向調整。再者，上述的上限及下限作為應被容許之射束強度的誤差範圍的上限或下限設定。藉由這種控制，不僅可以考慮帶電粒子線R的射束強度的變動，而且能夠以正確的照射量繼續照射帶電粒子線R。並且，能夠避免因射束強度的變動引起之治療中斷。
1．．．照射部
3．．．掃描磁鐵(掃描手段)
4．．．劑量監控器(射束強度檢測手段)
7．．．射束位置監控器(測量手段)
8．．．控制裝置
9．．．掃描線設定部
10．．．照射量設定部(照射量設定手段)
11．．．掃描速度設定部
12．．．掃描控制部(控制手段)
52．．．腫瘤(被照射物)
202．．．帶電粒子線照射程式
202b．．．掃描線設定模組
202c．．．照射量設定模組(照射量設定功能)
202d．．．掃描速度設定模組(掃描速度設定功能)
202e．．．掃描控制模組
L．．．掃描線
第1圖係表示應用本發明的一實施方式之帶電粒子線照射裝置之帶電粒子線治療裝置之立體圖。
第2圖係表示圖1的帶電粒子線照射裝置之立體圖。
第3圖係表示帶電粒子線照射裝置的控制系統之圖。
第4圖係表示掃描控制部中的位置或反饋控制之框圖。
第5圖係表示在本實施方式的帶電粒子線照射裝置中執行之處理之流程圖。
第6圖係表示本發明之帶電粒子線照射程式的結構之圖。
1．．．照射部
3．．．掃描磁鐵
3a．．．電磁鐵
3b．．．電磁鐵
R．．．帶電粒子線
A．．．照射方向
7．．．射束位置監控器
7a．．．網格線
7b．．．網格線
51．．．患者
52．．．腫瘤
L．．．掃描線
F．．．照射範圍
8．．．控制裝置
9．．．掃描線設定部
10．．．照射量設定部
11．．．掃描速度設定部
12．．．掃描控制部

Claims (4)

  1. 一種帶電粒子線照射裝置，其係對被照射物照射帶電粒子線之裝置，其特徵為，具備：掃描手段，掃描被照射至前述被照射物之前述帶電粒子線；照射量設定手段，設定在掃描線上之複數之目標掃描位置之個別目標掃描位置之前述帶電粒子線之照射量，該掃描線係藉由前述掃描手段於前述被照射物上掃描之前述帶電粒子線的掃描線；掃描速度設定手段，根據藉由前述照射量設定手段設定之照射量，設定前述帶電粒子線於各個前述目標掃描位置上的目標掃描速度；控制手段，係控制前述掃描手段，使前述帶電粒子線依照前述目標掃描位置及前述目標掃描速度，於前述被掃描物上進行掃描；及射束強度檢測手段，其係檢測前述帶電粒子線的射束強度，當由前述射束強度檢測手段檢測之前述射束強度向預定的誤差範圍外變動時，前述控制手段以相互抵消該變動的方式調整藉由前述掃描手段之掃描速度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之帶電粒子線照射裝置，其中，具備測量手段，其係測量藉由前述掃描手段於前述被照射物上掃描之前述帶電粒子線的掃描位置及掃描速度， 前述控制手段為使前述目標掃描位置與藉由前述測量手段測量之前述掃描位置之間的誤差消失，及使前述目標掃描速度與藉由前述測量手段測量之前述掃描速度之間的誤差消失，而進行對向前述掃描手段的控制輸入進行調整之位置速度反饋控制來控制前述掃描手段。
  3. 一種帶電粒子線照射方法，其為對被照射物照射帶電粒子線之方法，其特徵為，具備：照射量設定步驟，設定在掃描線上之複數之目標掃描位置之個別目標掃描位置之前述帶電粒子線之照射量，該掃描線係藉由掃描手段於前述被照射物上掃描之前述帶電粒子線的掃描線上；掃描速度設定步驟，根據在前述照射量設定步驟中設定之照射量，設定前述帶電粒子線在各個前述目標掃描位置上的目標掃描速度；及控制步驟，係控制前述掃描手段，使前述帶電粒子線依照前述目標掃描位置及前述目標掃描速度，於前述被掃描物上進行掃描，前述控制步驟中，當由檢測帶電粒子線的射束強度的射束強度檢測手段檢測之前述射束強度向預定的誤差範圍外變動時，以相互抵消該變動的方式調整藉由前述掃描手段之掃描速度。
  4. 一種帶電粒子線照射程式，其為對被照射物照射帶電粒子線之程式，其中，該程式用於使電腦實現照射量設定功能和掃描速度設定功能和控制功能， 前述照射量設定功能設定前述帶電粒子線於藉由掃描手段於前述被照射物上掃描之前述帶電粒子線的掃描線上的每複數個目標掃描位置上的照射量，前述掃描速度設定功能根據藉由前述照射量設定功能設定之照射量，設定前述帶電粒子線在各個前述目標掃描位置上的目標掃描速度，前述控制功能，係控制前述掃描手段，使前述帶電粒子線依照前述目標掃描位置及前述目標掃描速度，於前述被掃描物上進行掃描，當由檢測帶電粒子線的射束強度的射束強度檢測手段檢測之前述射束強度向預定的誤差範圍外變動時，以相互抵消該變動的方式調整藉由前述掃描手段之掃描速度。
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