TWI464101B - Substrate floating device - Google Patents

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TWI464101B TW098123728A TW98123728A TWI464101B TW I464101 B TWI464101 B TW I464101B TW 098123728 A TW098123728 A TW 098123728A TW 98123728 A TW98123728 A TW 98123728A TW I464101 B TWI464101 B TW I464101B
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Description

基板浮起裝置 發明領域
本發明係關於一種藉由氣體使液晶顯示器(LCD)平板顯示器(FPD)等之基板浮起之基板浮起裝置。
 發明背景
以往，藉由光刻過程於玻璃基板(母玻璃)進行抗蝕層圖案形成而在液晶面板製造過程或檢查此玻璃基板之檢查過程中，係採用藉由氣體使母玻璃基板浮起，以檢查或搬送此非接觸狀態之母玻璃基板之方法(請參考例如專利文獻1)。
藉由氣體使母玻璃基板浮起時，係於基板檢查裝置或基板搬送裝置之載置玻璃基板之台上面或搬送玻璃基板之搬送面排列已形成氣體吐出孔之複數浮起板，並使氣體由該等浮起板之氣體吐出孔吐出而使玻璃基板浮起。
對浮起板供給吐出用氣體時，係採用由暫時儲存氣體供給源供給之氣體之緩衝槽，透過氣體配管將氣體供給至各浮起板之方法。
【專利文獻1】日本專利公報特開2005-62819號
發明揭示
然而，若氣體配管之長度隨著每個浮起板不同的話，會因氣體配管之壓力損失產生差異而使每個浮起板之氣體吐出量產生差異，因此，會無法將浮起時之基板保持水平。
就這點而言，可藉由使全部氣體配管長度相同而將氣體配管之壓力損失保持一定。以往，係將由設置於基板搬送裝置旁邊之緩衝槽至離最遠之浮起板之間的距離作為氣體配管之基準長度，並以基準長度之氣體配管連接緩衝槽與各浮起板之間來防止壓力損失之差異。若以緩衝槽至離最遠之浮起板之距離作為基準長度的話，離緩衝槽最近之浮起板之氣體配管相較於與緩衝槽之距離最遠之浮起板，會多出一玻璃基板之搬送路寬度左右的長度。
為搬送一邊3000mm之大型玻璃基板時，在一於搬送寬度方向依預定間隔排列13片浮起板(例如已形成為寬200mm×長1000mm之矩形狀者)之搬送台，連接於配置在兩側之浮起板之氣體配管間會產生約2800mm的差。即，由離最遠之浮起板起，氣體配管所產生之鬆弛會依序增加約200mm，因此必須將鬆弛變長之氣體配管捲起，產生配管作業複雜化之問題。
將產生鬆弛之氣體配管捲於緩衝槽側時，該捲起部分會對氣體之流動產生阻力，因此流動於各氣體配管之氣體壓力會不同，而產生各浮起板之浮起壓無法保持一定之新問題。
且，由於全部氣體配管之長度必須配合緩衝槽至浮起板之距離最長之氣體配管之長度，因此壓力損失會變大，而必須提高供給至浮起板之氣體壓力。
有鑑於上述以往之實際情形，本發明之課題係提供一種藉由簡單的構造而將壓力一定之氣體供給至浮起板之基板浮起裝置。
為解決上述課題，本發明之基板浮起裝置係包含有吐出基板浮起用之氣體的複數浮起板、暫時儲存供給至該複數浮起板之氣體的緩衝槽、及由該緩衝槽分別供給氣體至前述複數浮起板之複數氣體配管者，其中，前述浮起板係呈矩形瓷磚狀，排列成矩陣狀；前述緩衝槽係配置於前述複數浮起板所配置之領域下方，且朝前述浮起板之排列方向的其中一方向延伸；前述複數氣體配管係以實質上相同之長度連結前述緩衝槽與前述複數浮起板之間。
根據本發明，可縮短氣體配管，且可防止因氣體配管之配置形狀而發生氣體之壓力損失差，因此，可藉由簡單之構成將壓力一定之氣體供給至浮起板。
 較佳實施例之詳細說明
以下，係對於本發明其中一實施形態之基板浮起裝置一面參照圖式一面說明之。
第1圖係顯示具有本發明其中一實施形態之基板浮起裝置10之基板檢查裝置1之立體圖。又，同圖中，基板搬入用及基板搬出用的基板搬送裝置與滑件係省略圖示，基板搬送裝置係配置於基板檢查裝置1之檢查領域所配置之基板搬送裝置10之基板搬送方向(箭頭D1)前後，而滑件則保持且搬送已將浮起板11浮起之基板之一邊側端部。
第2圖係由上方看基板浮起裝置10之立體圖，第3圖係由下方看基板浮起裝置10之立體圖。又，第2圖中，基板浮起裝置10之浮起板11係省略圖示。
第1圖所示之基板檢查裝置1係高架固定方式之微觀檢查裝置，由第2圖及第3圖所示之基板浮起裝置10、顯微鏡(檢查單元)2、高架3、基部4、除振部5、及架設框6所構成。
高架3係呈門型形狀，且跨過搬送至基板浮起裝置10上之基板而固定於基部4。顯微鏡2藉由設於高架3之水平梁側面之線性馬達機構3a的作動，可朝與基板搬送方向(箭頭D1)正交之水平1軸方向(箭頭D2)移動。
此基板檢查裝置，由於高架3固定於基部4，因此藉圖中未顯示之滑件將基板往基板搬送方向(箭頭D1)搬送，且藉線性馬達3a之作動使顯微鏡2往1軸方向(箭頭D2)移動來觀察，可觀察基板之全貌。又，顯微鏡2之下方設有面向該顯微鏡2而與顯微鏡2之動作同步移動的透過照明用光源。
後述浮起板11之中，將位於包夾顯微鏡2之基板檢查對象領域(可藉由顯微鏡2朝移動方向D2移動而檢查之領域)之2列浮起板11’，配置成相較於其他位置之浮起板11在短邊方向之顯微鏡移動方向(箭頭D2)上沒有間隔地緊靠，以使基板精密浮起。
基部4之下部配置有吸收來自外部之振動的複數除振部5。又，基部4上沿著基板搬送方向(箭頭D1)架設有複數架設框6，架設框6上設有4個第2圖及第3圖所示之單元化基板浮起台10。
基板浮起裝置10由浮起板11(只有第3圖有顯示)、板支持框12、緩衝槽12a、氣體配管13，14、框基部15及高度調整部16等所構成。
浮起板11(11’)係呈矩形瓷磚狀，由形成於上面之氣體吐出孔吐出基板浮起用氣體。又，浮起板11係排列於基板搬送方向(箭頭D1)與顯微鏡移動方向(箭頭D2)而呈矩陣狀，且長邊方向與基板搬送方向(箭頭D1)平行。
浮起板11(11’)之下部層疊有角管，由下方支持浮起板11(11’)之板支持框12係配置複數個而朝顯微鏡移動方向(箭頭D2)上延伸。
板支持框12固定於已形成於矩形框上之框基部15。該框基部15之四個角透過高度調整部16固定於上述架設框6上。
緩衝槽12a配置於浮起板11所配置之領域下方，且配置於已排列於同一方向之各浮起板正下方所在的近處，使相對各浮起板11距離相同。本實施形態中，將角管使用於板支持框12(支持已排列於與搬送方向正交之方向的複數各浮起板11者)，並將該角管之內部中空部份(層疊之角管之其中一根的中空部份)的兩端開口部以板狀之密封材12b加以密封而作為緩衝槽12a使用。此緩衝槽12a之其中一端部連結氣體配管14，而將由圖中未顯示之氣體供給源所供給之氣體導向緩衝槽12a。緩衝槽12a將由氣體供給源供給之氣體暫時儲存於一定壓力，只要具有比來自各浮起板11之排出量充分的容量即可。
且，緩衝槽12a朝支持浮起板11之短邊側(浮起板11之排列方向(箭頭D1，D2)的其中一方)的板支持框12之長邊方向(即，顯微鏡移動方向D2)延伸。
由於緩衝槽12a係朝與基板搬送方向(與形成細長矩形狀之浮起板11之短邊平行)正交之方向(顯微鏡移動方向箭頭D2)延伸，因此由緩衝槽12a至各浮起板11間之距離彼此相同，且由緩衝槽12a對各浮起板11供給氣體之複數氣體配管13的長度(箭頭L)也彼此相同，而呈現相同的彎曲形狀。
連接於各浮起板之氣體配管13係由設於緩衝槽12a(板支持框13)之側面的各配管接頭13a沿著板支持框12之側面向上方延伸，並於板支持框12之上端彎曲沿著各浮起板11之底面水平延伸，而連接於設於各浮起板11之底面的配管接頭13b。各氣體配管13可連接於設於緩衝槽12a之側面的各配管接頭13a與設於各浮起板11之底面的各配管接頭13b之間而呈直線狀或曲率半徑較大。
以上說明之本實施形態中，將緩衝槽12a配置於複數浮起板11所配置之領域下方，藉此可使緩衝槽12a與各浮起板11之距離縮短且相等，故連接於各浮起板11之各氣體配管13之長度L彼此實質上相同。
因此，可使氣體配管13縮短，且可防止因氣體配管13之配置形狀不同而發生氣體的壓力損失差。故，依據本實施形態，可藉由簡單的構造將壓力一定之氣體供給至浮起板11。
又，本實施形態中，緩衝槽12a係形成於板支持框12之內部。因此，可省略緩衝槽12a之設置空間，故，可藉由簡單的構造將壓力一定之氣體供給至浮起板11。
又，本實施形態中，連接緩衝槽12a與浮起板11之氣體配管13可使用全部長度相同且短者，因此沒有以往為了調整配管長度而於現場進行之切斷作業，且沒有以往在狹隘的作業空間捲繞長又重之配管之麻煩作業，作業效率會顯著地提升。
而，本實施形態中，雖將緩衝槽12a形成於板支持框12之內部，但另外於板支持框12、12間之領域配置緩衝槽亦可。此時，藉由於浮起板11之長邊方向的中間配置緩衝槽，可將氣體平均地供給至各浮起板11內之氣體儲存空間，且藉由將氣體配管13配置於緩衝槽之兩側面，更可將氣體平均地供給至各浮起板11內之氣體儲存空間。
又，本實施形態中，係說明於高架固定方式(高架3固定於基部4)的基板檢查裝置1上配置基板浮起裝置10之例子，但於高架移動方式(高架3沿著基部4移動)的基板檢查裝置上配置基板浮起裝置10亦可。
又，亦可於基板檢查裝置1之基板搬送方向(箭頭D1)前後所配置之基板搬送裝置或基板交接裝置上配置基板浮起裝置10。又，亦可於不與基板檢查裝置1連接的基板搬送裝置配置基板浮起裝置10。
又，本實施形態中，緩衝槽12a雖朝浮起板11之其中一排列方向的顯微鏡移動方向(箭頭D2)延伸，但亦可朝浮起板11之另一排列方向的基板搬送方向(箭頭D1)延伸。此時，可將板支持框12配置成使板支持框12之長邊方向平行於基板搬送方向(箭頭D1)，或將緩衝槽配置成貫通板支持框11。
又，本實施形態中，由緩衝槽12a延伸至浮起板11之氣體配管13係於每個浮起板11配置一個，但亦可使氣體配管13分歧而連接兩個或四個浮起板11。此時，使分歧的氣體配管之長度彼此相同即可。
又，於長邊方向連結兩個形成細長矩形瓷磚狀之浮起板11，而板支持框12支持兩個相互對向之浮起板11之短邊側端部時，藉由於板支持框12內部所形成之緩衝槽12a之兩側面連接共有氣體配管13，可減少緩衝槽12a之數量。
又，預先於緩衝槽12a(板支持框12)之側面形成安裝配管接頭13a之氣體供給口，使其數量較氣體配管13多，藉此在將浮起板11變更成不同大小時，亦可於該變更後之浮起板連接一定距離之氣體配管。
且，可將緩衝槽12a於與基板搬送方向正交之方向分割設置複數個，並隨著每個緩衝槽變更氣體配管13。此時，使各個緩衝槽之氣體配管13之長度完全相同。
又，本實施形態中，不使全部氣體配管13之長度(箭頭L)完全相同，而使一部份之氣體配管13之長度不同，並調整對浮起板11之供給壓力來消除因此產生之氣體配管13之壓力損失差時，亦視為氣體配管13之長度實質上相同。
又，亦可串聯複數緩衝槽12a，並抑制由氣體供給源至緩衝槽12a之氣體配管14的數量或長度。
1‧‧‧基板檢查裝置
2‧‧‧顯微鏡
3‧‧‧高架
3a‧‧‧線性馬達機構
4‧‧‧基部
5‧‧‧除振部
6‧‧‧架設框
10‧‧‧基板浮起裝置
11‧‧‧浮起板
11’‧‧‧浮起板
12‧‧‧板支持框
12a‧‧‧緩衝槽
12b‧‧‧密封材
13,14‧‧‧氣體配管
13a,13b‧‧‧配管接頭
15‧‧‧框基部
16‧‧‧高度調整部
第1圖係顯示具有本發明其中一實施形態之基板浮起裝置之基板檢查裝置之立體圖。
第2圖係顯示由上方看本發明其中一實施形態之基板浮起裝置之立體圖。
第3圖係顯示由下方看本發明其中一實施形態之基板浮起裝置之立體圖。
10．．．基板浮起裝置
11．．．浮起板
12．．．板支持框
12a．．．緩衝槽
12b．．．密封材
13,14．．．氣體配管
13a,13b．．．配管接頭
15．．．框基部
16．．．高度調整部

Claims (5)

  1. 一種基板浮起裝置，特徵在於吐出基板浮起用氣體的基板浮起裝置中包含有：浮起板，於上表面呈現形成有氣體吐出孔之矩形瓷磚狀，並且在基板搬送方向和與前述搬送方向正交的水平1軸方向呈矩陣狀地複數個並列配置，緩衝槽，配置在複數個排列在前述水平1軸方向之前述浮起板的配置領域下方，並且暫時地儲存供給至前述複數個浮起板的氣體，及複數個氣體配管，在該緩衝槽及複數個排列在前述水平1軸方向之前述各浮起板的各個底面之間以相同長度連結，自前述緩衝槽對前述複數個浮起板的每一個供給氣體；其中前述緩衝槽設在由沿著前述水平1軸方向延伸並自下方支持前述複數個浮起板的角管所構成之板支持框，並將前述角管之中空部分的兩端開口部用板狀密封材密封作為密封緩衝槽使用，且於前述角管設有連接複數個氣體配管的配管接頭。
  2. 如申請專利範圍第1項之基板浮起裝置，其中前述緩衝槽設於，支持成為形成細長矩形瓷磚狀之前述浮起板的排列方向之前述水平1軸方向的前述浮起板的中間之前述板支持框。
  3. 如申請專利範圍第1項之基板浮起裝置，其中前述緩衝槽設於，支持成為形成細長矩形瓷磚狀之前述浮起板的 排列方向之前述水平1軸方向的前述浮起板的短邊側之前述板支持框。
  4. 如申請專利範圍第1項之基板浮起裝置，其中前述緩衝槽設於，支持成為在前述長邊方向上2個相連結且形成細長矩形瓷磚狀之前述各浮起板的前述水平1軸方向之彼此相對向之短邊側端部的板支持框。
  5. 如申請專利範圍第1項之基板浮起裝置，其中前述氣體配管連接於設在前述緩衝槽之側面的各配管接頭與設在前述複數個浮起板之各個底面的各配管接頭之間，從緩衝槽往上方延伸再彎曲成沿著前述浮起板的底面水平地延伸。
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