TWI454739B - 具折射光轉向特徵之光轉向裝置 - Google Patents

Description

具折射光轉向特徵之光轉向裝置

本發明大體而言係關於光轉向裝置。更明確而言，本發明係關於利用折射結構導引光以(例如)照明顯示器之光轉向裝置。本發明亦係關於此等裝置之使用方法及製造方法。

本申請案根據35 U.S.C. §119(e)主張2008年9月2日所申請之美國臨時專利申請案第61/093,695號之優先權益。

微機電系統(MEMS)包括微機械元件、致動器及電子裝置。可使用沈積、蝕刻，及/或蝕刻掉基板及/或沈積材料層之部分或添加層以形成電裝置及機電裝置的其他微機械加工製程來產生微機械元件。一種類型之MEMS裝置被稱為干涉調變器。如在本文中所使用，術語干涉調變器或干涉光調變器指使用光學干涉之原理來選擇性地吸收及/或反射光的裝置。在特定實施例中，干涉調變器可包含一對導電板，該對導電板中之一者或兩者可為整體或部分透明及/或反射性的，且能夠在施加適當電信號後相對運動。在一特定實施例中，一導電板可包含一沈積於基板上之固定層，且另一導電板可包含一藉由氣隙而與該固定層分離之金屬膜。如本文中更詳細地描述，一導電板相對於另一導電板之位置可改變入射於干涉調變器上之光的光學干涉。此等裝置具有廣泛應用，且在此項技術中利用及/或修改此等類型之裝置的特性以使得其特徵可用來改良現有產品及產生尚未開發出之新產品將為有利的。

在一些實施例中，提供一種光導設備。該設備包含一光導主體，該光導主體由一支援光傳播穿過該光導主體之一長度的光傳播材料形成。該光導主體係由複數個外表面界定。該等外表面中之一第一者包含第一複數個間隔開之狹縫，該等狹縫經組態以使入射於該光導主體上之光重定向，其中每一狹縫由該第一外表面中之一底切形成。該等外表面中之一第二者包含第二複數個間隔開之狹縫，該等狹縫經組態以使入射於該光導主體上之光重定向，其中每一狹縫由該第二外表面中之一底切形成。

在一些其他實施例中，提供一種照明設備。該設備包含：一第一構件，其用於產生光且引導該光傳播穿過一光轉向主體；一第二構件，其用於使傳播穿過該光轉向主體之該光重定向；及一第三構件，其用於使傳播穿過該光轉向主體之該光重定向。

在其他實施例中，提供一種用於照明之方法。該方法包含使光傳播穿過一光轉向主體。傳播穿過該主體之光係藉由使該光撞擊第一及第二複數個狹縫之小面而重定向。該等複數個狹縫由該光轉向主體之兩個表面中的底切形成。

在一些其他實施例中，提供一種用於製造一照明裝置之方法。該方法包含提供光傳播材料之一主體，該光傳播材料支援光傳播穿過該主體之一長度。第一及第二複數個間隔開之底切形成於該主體之不同側面中。在一些其他實施例中，提供一種藉由此方法形成之照明裝置。

以下詳細描述係針對某些具體實施例。然而，可以眾多不同方式來應用本文中之教示。在此描述中參看圖式，其中通篇以相同數字表示相同或類似部分。可在經組態以顯示影像(無論是運動影像(例如，視訊)抑或靜止影像(例如，靜態影像)，且無論是文字影像抑或圖片影像)之任何裝置中實施該等實施例。更明確而言，預期該等實施例可實施於諸如(但不限於)以下各者之各種電子裝置中或與該等電子裝置相關聯：行動電話、無線裝置、個人資料助理(PDA)、掌上型或攜帶型電腦、GPS接收器/導航器、相機、MP3播放器、攜帶型攝像機(camcorder)、遊戲控制台、腕錶、鐘錶、計算器、電視監視器、平板顯示器、電腦監視器、汽車顯示器(例如，里程錶顯示器等)、駕駛艙控制器及/或顯示器、相機視野顯示器(例如，車輛中的後視相機之顯示器)、電子照片、電子廣告牌或電子標記、投影儀、建築結構、封裝及美學結構(例如，一件珠寶上之影像顯示)。與本文中所描述之MEMS裝置結構類似的MEMS裝置亦可用於諸如電子開關裝置之非顯示器應用中。

本文中揭示之一些實施例包括一光導，其具有在光導之主體中的底切。該等底切形成使傳播穿過光導主體之光轉向或重定向的折射特徵(亦被稱作狹縫)。舉例而言，底切之壁形成在所要方向上反射光之小面。在一些實施例中，一光源連接至光導主體。來自該光源之光射入至光導主體中，傳播穿過該主體且接觸該等底切之小面。該等狹縫之小面使光重定向以離開光導主體(例如)至由(例如)干涉調變器形成之顯示器。在一些實施例中，將第一及第二複數個狹縫提供於光導主體之相對主表面上。該等狹縫經組態使光重定向以離開共同主表面。

在一些其他實施例中，複數個狹縫形成於線光源中。舉例而言，該等狹縫經定位及成角度以使來自一在該線光源之末端處之點光發射器併入射至該線光源中的光轉向。經轉向之光可(例如)沿光源之長度而被驅使而離開線光源，或在一些其他實施例中，被驅使至含有第二複數個狹縫之區域。第二複數個狹縫可使光朝向一顯示器而轉向。

包含一干涉MEMS顯示元件之一干涉調變器顯示器實施例說明於圖1中。在此等裝置中，像素處於明亮或黑暗狀態。在明亮(「鬆弛」或「斷開」)狀態下，顯示元件將大部分入射之可見光反射給使用者。當在黑暗(「致動」或「閉合」)狀態下，顯示元件將極少的入射之可見光反射給使用者。視實施例而定，可顛倒「接通」與「關斷」狀態之光反射性質。MEMS像素可經組態以主要在選定顏色下反射，藉此允許除了黑色及白色之外的彩色顯示。

圖1為描繪一視覺顯示器之一系列像素中之兩個相鄰像素的等角視圖，其中每一像素包含一MEMS干涉調變器。在一些實施例中，一干涉調變器顯示器包含此等干涉調變器之一列/行陣列。每一干涉調變器包括按一彼此間可變且可控制之距離定位之一對反射層以形成一具有至少一可變尺寸之諧振光學間隙。在一實施例中，該等反射層中之一者可在兩個位置之間移動。在第一位置(本文中稱作鬆弛位置)中，可移動反射層定位於與一固定之部分反射層相距相對較遠距離之處。在第二位置(本文中稱作致動位置)中，可移動反射層定位成較緊密鄰近於該部分反射層。自該兩層反射之入射光視可移動反射層之位置而相長或相消地干涉，從而針對每一像素產生一整體反射或非反射狀態。

圖1中之像素陣列之所描繪部分包括兩個相鄰干涉調變器12a及12b。在左邊之干涉調變器12a中，可移動反射層14a經說明為處於與包括一部分反射層之光學堆疊16a相距一預定距離之鬆弛位置中。在右邊之干涉調變器12b中，可移動反射層14b經說明為處於鄰近於光學堆疊16b之致動位置中。

如本文中所提及之光學堆疊16a及16b(統稱為光學堆疊16)通常包含若干融合層，該等融合層可包括一諸如氧化銦錫(ITO)之電極層、一諸如鉻之部分反射層及一透明介電質。光學堆疊16因此為導電、部分透明且部分反射性的，且可(例如)藉由在透明基板20上沈積以上層中之一或多者來加以製造。部分反射層可由部分反射之各種各樣的材料(諸如，各種金屬、半導體及介電質)形成。部分反射層可由一或多個材料層形成，且該等層中之每一者可由單一材料或材料之組合形成。

在一些實施例中，光學堆疊16之諸層經圖案化為平行條帶，且可形成如下文進一步描述之顯示裝置中之列電極。可移動反射層14a、14b可形成為一或多個經沈積之金屬層之一系列平行條帶(與16a、16b之列電極正交)以形成沈積於柱18及介入犧牲材料(沈積於柱18之間)之頂部上的多個行。當蝕刻掉該犧牲材料時，可移動反射層14a、14b與光學堆疊16a、16b以一經界定之間隙19分開。諸如鋁之高導電性且反射性材料可用於反射層14，且此等條帶可形成顯示裝置中之行電極。應注意，圖1可未按比例。在一些實施例中，柱18之間的間隔可為約10-100μm，而間隙19可為約<1000埃。

如在圖1中藉由像素12a說明，在無施加之電壓之情況下，間隙19保留在可移動反射層14a與光學堆疊16a之間，其中可移動反射層14a處於機械鬆弛狀態。然而，當將一電位(電壓)差施加至選定列及行時，在對應像素處的列電極與行電極之相交處形成之電容器變得帶電，且靜電力將該等電極拉在一起。若電壓足夠高，則可移動反射層14變形且壓抵光學堆疊16。光學堆疊16內之一介電層(此圖中未說明)可防止短路且控制層14與16之間的分離距離，如由在圖1中右邊之致動像素12b所說明。無關於施加的電位差之極性，該行為係相同的。

圖2至圖5A及圖5B說明用於在顯示器應用中使用一干涉調變器陣列之一例示性程序及系統。

圖2為說明可併有干涉調變器的一電子裝置之一實施例的系統方塊圖。該電子裝置包括一處理器21，該處理器21可為任何通用單晶片或多晶片微處理器(諸如、、8051、、Power或)，或任何特殊用途微處理器(諸如，數位信號處理器、微控制器或可程式化閘陣列)。如此項技術中所習知，處理器21可經組態以執行一或多個軟體模組。除執行作業系統外，處理器可經組態以執行一或多個軟體應用程式，包括網頁瀏覽程式、電話應用程式、電子郵件程式或任何其他軟體應用程式。

在一實施例中，處理器21亦經組態以與一陣列驅動器22通信。在一實施例中，陣列驅動器22包括將信號提供至一顯示陣列或面板30之一列驅動器電路24及一行驅動器電路26。圖1中所說明之陣列之截面由圖2中之線1-1展示。應注意，雖然為了清晰起見圖2說明干涉調變器之3×3陣列，但顯示陣列30可含有大量干涉調變器，且可在列中具有與行中數目不同數目之干涉調變器(例如，每列300個像素乘每行190個像素)。

圖3為圖1之干涉調變器之一例示性實施例的可移動鏡位置對施加之電壓的曲線圖。對於MEMS干涉調變器，列/行致動協定可利用如圖3中所說明之此等裝置之滯後性質。干涉調變器可需要(例如)10伏特電位差來使可移動層自鬆弛狀態變形至致動狀態。然而，當電壓自彼值減小時，隨著電壓跌回10伏特以下，該可移動層維持其狀態。在圖3之例示性實施例中，可移動層直到電壓降至2伏特以下時才會完全鬆弛。因此，存在一電壓範圍(在圖3中所說明之實例中為約3V至7V)，在該情況下，存在一施加電壓窗，在該施加電壓窗內，裝置穩定於鬆弛或致動狀態。本文將此窗稱為「滯後窗」或「穩定窗」。對於一具有圖3之滯後特性的顯示陣列，列/行致動協定可經設計以使得在列選通期間，所選通列中待致動之像素被曝露至約10伏特之電壓差，且待鬆弛之像素被曝露至接近零伏特之電壓差。在選通後，使像素曝露至約5伏特之穩定狀態或偏壓電壓差，使得其保持於列選通將其置於之任何狀態。在此實例中，在被寫入後，每一像素經歷3伏特至7伏特之「穩定窗」內之電位差。此特徵使圖1中所說明之像素設計在相同施加電壓條件下穩定於致動的或鬆弛的預先存在之狀態。由於干涉調變器之每一像素(無論處於致動狀態或鬆弛狀態)基本上都為一由固定及移動反射層形成之電容器，所以可在滯後窗內之一電壓下保持此穩定狀態，而幾乎無功率耗散。若施加之電位固定，則基本上無電流流入該像素中。

如下進一步描述，在典型應用中，可藉由根據第一列中的所要致動像素集合在行電極集合上發送資料信號集合(每一者具有一特定電壓位準)來產生影像之圖框。接著將列脈衝施加至第一列電極，從而致動對應於該資料信號集合之像素。接著改變該資料信號集合以對應於第二列中之所要致動像素集合。接著將脈衝施加至第二列電極，從而根據資料信號致動第二列中之適當像素。第一列像素不受第二列脈衝之影響，且保持於其在第一列脈衝期間被設定至之狀態。對於整個系列之列，可以順序方式重複此程序以產生圖框。通常，藉由以每秒某一所要數目之圖框不斷地重複此程序而以新影像資料來再新及/或更新圖框。可使用用於驅動像素陣列之列及行電極以產生影像圖框之廣泛的各種各樣之協定。

圖4及圖5A至圖5B說明用於在圖2之3×3陣列上產生一顯示訊框之一可能的致動協定。圖4說明可由展現出圖3之滯後曲線的像素使用之行及列電壓位準的可能集合。在圖4實施例中，致動一像素包含將適當的行設定為-V_bias 及將適當的列設定為+ΔV，其可分別對應於-5伏特及+5伏特。藉由將適當的行設定為+V_bias 及將適當的列設定為相同的+ΔV(在像素上產生零伏特電位差)，實現鬆弛像素。在將列電壓保持於零伏特之彼等列中，像素穩定於其最初所處之任何狀態，而不管該行是處於+V_bias 還是-V_bias 無關。亦如圖4中所說明，可使用與上述電壓之極性相反之電壓，例如，致動一像素可包含將適當行設定至+V_bias 及將適當列設定至-ΔV。在此實施例中，藉由將適當行設定為-V_bias 及將適當列設定為相同的-ΔV(此在像素上產生零伏特電位差)，實現釋放像素。

圖5B為展示施加至圖2之3×3陣列之一系列列及行信號的時序圖，其將導致圖5A中所說明之顯示配置(其中致動像素為非反射性的)。在寫入圖5A中所說明之圖框之前，該等像素可處於任何狀態，且在此實例中，所有列最初處於0伏特且所有行處於+5伏特。藉由此等施加之電壓，所有像素穩定於其現有的致動或鬆弛狀態。

在圖5A圖框中，像素(1,1)、(1,2)、(2,2)、(3,2)及(3,3)被致動。為實現此目的，在列1之「線時間」期間，將行1及2設定為-5伏特，且將行3設定為+5伏特。因為所有像素都保持在3-7伏特之穩定窗內，所以此情形並不改變任何像素之狀態。接著，藉由一自0伏特上升至5伏特再返回至零之脈衝對列1進行選通。此情形致動(1,1)及(1,2)像素並鬆弛(1,3)像素。陣列中之其他像素不受影響。為了按需要設定列2，將行2設定為-5伏特且將行1及行3設定為+5伏特。施加至列2之相同選通將接著致動像素(2,2)且鬆弛像素(2,1)及(2,3)。再次地，陣列之其他像素不受影響。藉由將行2及行3設定為-5伏特且將行1設定為+5伏特而類似地設定列3。列3選通設定列3像素，如圖5A中所展示。在寫入該圖框之後，列電位為零，且行電位可保持於+5或-5伏特，且顯示器接著穩定於圖5A之配置。相同程序可用於數十或數百個列及行之陣列。在上文概述之一般性原理內，可廣泛地變化用以執行列及行致動之時序、順序及電壓位準，且以上實例僅為例示性的，且任何致動電壓之方法皆可與本文中所描述之系統及方法一起使用。

圖6A及圖6B為說明一顯示裝置40之一實施例的系統方塊圖。舉例而言，顯示裝置40可為蜂巢式或行動電話。然而，顯示裝置40之相同組件或其輕微變化亦說明各種類型之顯示裝置，諸如電視及攜帶型媒體播放器。

顯示裝置40包括一外殼41、一顯示器30、一天線43、一揚聲器45、一輸入裝置48及一麥克風46。通常由各種各樣的製造程序(包括射出成形及真空成形)中之任一者形成外殼41。此外，外殼41可由各種各樣的材料中之任一材料(包括(但不限於)塑膠、金屬、玻璃、橡膠及陶瓷，或其組合)製成。在一實施例中，外殼41包括可與具有不同顏色或含有不同標識、圖片或符號之其他可移除部分互換的可移除部分(未圖示)。

例示性顯示裝置40之顯示器30可為包括如本文中所描述之雙穩態顯示器之各種各樣的顯示器中之任一者。在其他實施例中，顯示器30包括一平板顯示器，諸如如上所描述之電漿、EL、OLED、STN LCD或TFT LCD；或非平板顯示器，諸如CRT或其他管式裝置。然而，為了描述本實施例之目的，顯示器30包括一如本文中所描述之干涉調變器顯示器。

例示性顯示裝置40之一實施例的組件示意性地說明於圖6B中。所說明之例示性顯示裝置40包括一外殼41，且可包括至少部分封閉於其中之額外組件。舉例而言，在一實施例中，例示性顯示裝置40包括一網路介面27，該網路介面27包括一耦接至一收發器47之天線43。收發器47連接至一處理器21，處理器21連接至調節硬體52。調節硬體52可經組態以調節信號(例如，濾波信號)。調節硬體52連接至揚聲器45及麥克風46。處理器21亦連接至輸入裝置48及驅動器控制器29。驅動器控制器29耦接至圖框緩衝器28及陣列驅動器22，陣列驅動器22又耦接至顯示陣列30。電源50按特定例示性顯示裝置40設計之要求將電力提供至所有組件。

網路介面27包括天線43及收發器47使得例示性顯示裝置40可在一網路上與一或多個裝置通信。在一實施例中，網路介面27亦可具有減輕處理器21之要求的一些處理能力。天線43為用於發射及接收信號之任何天線。在一實施例中，該天線根據IEEE 802.11標準(包括IEEE 802.11(a)、(b)或(g))來發射及接收RF信號。在另一實施例中，該天線根據藍芽(BLUETOOTH)標準發射及接收RF信號。在蜂巢式電話之情況下，天線經設計以接收CDMA、GSM、AMPS、W-CDMA或用以在無線蜂巢式電話網路內通信的其它已知信號。收發器47預處理自天線43接收之信號，使得該等信號可由處理器21接收且由處理器21進一步操縱。收發器47亦處理自處理器21接收之信號，使得該等信號可經由天線43自例示性顯示裝置40發射。

在一替代實施例中，收發器47可由一接收器替換。在又一替代實施例中，網路介面27可由一影像源替換，該影像源可儲存或產生待發送至處理器21之影像資料。舉例而言，影像源可為數位視訊碟(DVD)或含有影像資料之硬碟機或者產生影像資料之軟體模組。

處理器21通常控制例示性顯示裝置40之整體操作。處理器21接收資料(諸如，來自網路介面27或影像源之壓縮影像資料)，且將該資料處理為原始影像資料或易於處理為原始影像資料之格式。處理器21接著將經處理之資料發送至驅動器控制器29或發送至圖框緩衝器28以供儲存。原始資料通常指識別一影像內之每一位置處之影像特性的資訊。舉例而言，此等影像特性可包括顏色、飽和度及灰度階。

在一實施例中，處理器21包括一微控制器、CPU或邏輯單元來控制例示性顯示裝置40之操作。調節硬體52通常包括用於將信號發射至揚聲器45及用於自麥克風46接收信號之放大器及濾波器。調節硬體52可為例示性顯示裝置40內之離散組件，或者可併入處理器21或其他組件內。

驅動器控制器29直接自處理器21或自圖框緩衝器28取得由處理器21產生之原始影像資料，且適當地重新格式化該原始影像資料以用於高速發射至陣列驅動器22。具體言之，驅動器控制器29將原始影像資料重新格式化為具有光柵狀格式之資料流，使得其具有適合於跨越顯示陣列30而掃描之時間次序。接著，驅動器控制器29將經格式化之資訊發送至陣列驅動器22。雖然諸如LCD控制器之驅動器控制器29常作為單獨積體電路(IC)而與系統處理器21相關聯，但可以許多方式實施此等控制器。其可作為硬體嵌入處理器21中、作為軟體嵌入處理器21中，或以硬體形式與陣列驅動器22完全整合。

通常，陣列驅動器22自驅動器控制器29接收經格式化之資訊，且將視訊資料重新格式化為一組平行波形，該組波形每秒許多次地被施加至來自顯示器之x-y像素矩陣之數百且有時甚至數千條引線。

在一實施例中，驅動器控制器29、陣列驅動器22及顯示陣列30適合於本文中所描述之任何類型顯示器。舉例而言，在一實施例中，驅動器控制器29為習知顯示控制器或雙穩態顯示控制器(例如，干涉調變器控制器)。在另一實施例中，陣列驅動器22為習知驅動器或雙穩態顯示驅動器(例如，干涉調變器顯示器)。在一實施例中，驅動器控制器29與陣列驅動器22整合。此實施例在諸如蜂巢式電話、手錶及其他小面積顯示器之高度整合系統中係常見的。在又一實施例中，顯示陣列30為一典型顯示陣列或一雙穩態顯示陣列(例如，一包括一干涉調變器陣列之顯示器)。

輸入裝置48允許使用者控制例示性顯示裝置40之操作。在一實施例中，輸入裝置48包括一小鍵盤(諸如，QWERTY鍵盤或電話小鍵盤)、一按鈕、一開關、一觸控感應式螢幕或者一壓敏或熱敏膜。在一實施例中，麥克風46為例示性顯示裝置40之輸入裝置。當麥克風46用以將資料輸入至裝置時，可由使用者提供用於控制例示性顯示裝置40之操作的語音命令。

電源供應器50可包括如此項技術中所熟知之各種各樣的能量儲存裝置。舉例而言，在一實施例中，電源供應器50為諸如鎳鎘電池或鋰離子電池之可再充電電池。在另一實施例中，電源供應器50為可再生能源、電容器或太陽能電池(包括塑膠太陽能電池及太陽能電池漆)。在另一實施例中，電源供應器50經組態以自壁式插座接收電力。

如上所描述，在一些實施中，控制可程式化性駐留於可位於電子顯示系統中之若干處的驅動器控制器中。在一些狀況下，控制可程式化性駐留於陣列驅動器22中。上述最佳化可實施於任何數目個硬體及/或軟體組件中且可以各種組態來實施。

根據以上陳述的原理操作之干涉調變器之結構細節可廣泛地變化。舉例而言，圖7A至圖7E說明可移動反射層14及其支撐結構之五個不同的實施例。圖7A為圖1之實施例之截面，其中金屬材料條帶14沈積於正交延伸的支撐件18上。在圖7B中，每一干涉調變器之可移動反射層14在形狀上為方形或矩形且僅在繫栓32上之轉角處附接至支撐件。在圖7C中，可移動反射層14在形狀上為方形或矩形且自可變形層34懸掛，可變形層34可包含可撓性金屬。可變形層34在可變形層34之周邊周圍直接或間接連接至基板20。此等連接在本文中被稱作支撐柱。圖7D中所說明之實施例具有支撐柱插塞42，可變形層34擱置於該等支撐柱插塞42上。可移動反射層14保持懸掛於間隙上(如圖7A至圖7C中)，但可變形層34並不藉由填充在可變形層34與光學堆疊16之間的孔而形成支撐柱。更確切而言，支撐柱係由平坦化材料形成，該平坦化材料用以形成支撐柱插塞42。圖7E中所說明之實施例係基於圖7D中所展示之實施例，但亦可經調適成與圖7A至圖7C中所說明之實施例中之任一者以及未展示之額外實施例一起起作用。在圖7E中所展示之實施例中，已使用金屬或其他導電材料之一附加層形成匯流排結構44。此情形允許沿干涉調變器之背部導引信號，從而消除可能否則必須形成於基板20上之若干電極。

在諸如圖7中所示之實施例的實施例中，干涉調變器充當直視裝置，其中自透明基板20之前側觀看影像，該側與其上配置有調變器之一側相對。在此等實施例中，反射層14光學地遮蔽反射層之與基板20相對的一側上之干涉調變器之部分(包括可變形層34)。此情形允許在不消極地影響影像品質之情況下組態及操作經遮蔽區。舉例而言，此種遮蔽允許圖7E中之匯流排結構44，該結構提供將調變器之光學性質與調變器之機電性質(諸如，定址與由彼定址導致的移動)分開的能力。此可分開之調變器架構允許用於調變器之機電態樣及光學態樣之結構設計及材料彼此獨立地選擇及起作用。此外，圖7C至圖7E中所展示之實施例具有來源於反射層14之光學性質與其機械性質(由可變形層34實行)解耦的額外益處。此情形允許用於反射層14之結構設計及材料關於光學性質而最佳化，及用於可變形層34之結構設計及材料關於所要機械性質而最佳化。

視光學堆疊16與反射層14之間的距離而定，入射於干涉調變器上之光歸因於相長干涉或相消干涉而被反射或吸收。使用干涉調變器之顯示器的感知亮度及品質視入射於顯示器上之光而定，此係因為光經反射以在顯示器中產生影像。在一些情況下，諸如在低環境光條件下，可使用照明系統來照明顯示器以產生影像。

圖8為包括一照明系統的顯示裝置之截面，該照明系統包括一安置成鄰近顯示器81之光導面板80。光導面板80包括一具有光轉向特徵82之光轉向薄膜89。一光源92將光射入至面板80中。該光轉向特徵82引導光傳播穿過光導面板80而至顯示器81上。

參看圖9，已發現光轉向特徵82易於受到光損失，此可減少經重定向至顯示器81的光之量。特徵82由分別與表面83a、83b形成大於90°之角度θ₁ 及θ₂ 的小面82a及82b形成。通常，入射於小面82a之光朝向顯示器81反射或可藉由全內反射繼續在光導面板80內部傳播。然而，以接近與彼表面正交之角度入射於小面82a之光未被反射，且可傳播離開光導面板80，藉此造成光損失。在顯示器光應用中，此光損失可導致降低的顯示器亮度及/或均一性。

參看圖10A，本發明之一些實施例提供用於使傳播穿過光導主體180之光重定向的狹縫100，光導主體180可為具有光透射材料之面板。有利地，狹縫100藉由再循環傳播離開面板180之光來減少光損失。舉例而言，光線103傳播離開面板180，但接著再射入至面板180中，其中該光線繼續傳播直至藉由與小面104接觸而按需要重定向以離開面板180。

應瞭解，狹縫100為光導主體180中之底切，且由小面104及106界定。當表面108面向下定位時，由「底切」界定之體積至少部分地直接在光導主體180之表面108上延伸。在一些實施例中，小面106與表面108始終鄰接且界定小於90°之角度110。應瞭解，雖然無形成光導主體180之材料，但狹縫100可藉由有助於在主體180中之全內反射之另一種材料來填充。在其他實施例中，狹縫100可具有開放體積且可完全不具有固體材料。

使小面104成角度以使傳播穿過面板180之光在所要方向上重定向或將其反射。在一些實施例中，光由光源192射入至光導主體中，撞擊小面104且朝向顯示器81重定向。

參看圖10B，在一些實施例中，藉由抗反射塗層112襯墊狹縫100。抗反射塗層112具有減少不當光反射之優點。舉例而言，對於射出小面104之光，塗層112可使離開小面106之光反射最小化，藉此有助於光再射入至面板180中。抗反射塗層之實例包括(但不限於)二氧化矽(SiO₂ )、氮化矽(SiN₄ )及氧化鋁(Al₂ O₃ )塗層。

在一些實施例中，狹縫100形成開放至表面108之體積。在一些其他實施例中，參看圖10C，狹縫100可完全安置於光導主體180內。舉例而言，狹縫100可形成於表面108下方，且每一狹縫100之末端處的窄連接部件114可(例如)藉由形成面板180之材料的天然回彈性或藉由在彼等窄連接部件上塗覆密封劑或黏著劑而密封。對部件114之密封可藉由保護狹縫100使其免受可接觸狹縫100之小面104及106之表面或邊緣的外部物件之接觸來減少對狹縫100之污染或損壞。在一些其他實施例中，未密封窄部件114，但由該部件界定之開口與所說明的狹縫100之截面面積相比相對較窄，藉此亦提供對狹縫100之保護。

應瞭解，所說明之狹縫100未必按比例繪製，且其相對大小可不同。此外，小面104及106之相對角度可與所說明之角度不同。舉例而言，狹縫100之截面面積可變化，且由小面104、106界定之相對定向及角度可在狹縫間變化。

參看圖10A至10C，在一些實施例中，小面104與106可大體上彼此相對且平行，且可由平行於表面108之單一狹縫側壁105接合。狹縫100可因此界定具有平行四邊形之形狀的體積。狹縫側壁105之平行定向有利地有助於光在主體102內之全內反射，此係因為平行側壁105以類似於表面108之角度反射光。

狹縫100可用於需要光轉向或重定向之各種裝置中。在一些實施例中，可將狹縫100用作照明裝置中之光轉向特徵。此等照明裝置可包括用於室內或室外使用之廣區域燈。舉例而言，照明裝置可提供對房間及其他室內空間之頭頂照明。

圖11A為具有一光導主體180及一照明系統(包括一將狹縫100用作光轉向特徵之燈條190)之顯示裝置之俯視平面圖。圖11B為顯示裝置之截面。燈條190及光導主體180由可支援光傳播穿過彼等結構之長度的大體上光學透射材料形成。舉例而言，燈條190及光導主體180可由玻璃、塑膠或其他高度透明之材料形成。

參看圖11A及圖11B兩者，光導主體180安置成鄰近並面向顯示器181。該等狹縫100經組態以使光自燈條190朝向顯示器181轉向。在一些實施例中，照明系統充當前燈。自顯示器181反射之光往回透射穿過光導主體180並離開光導主體180朝向檢視者。顯示器181可包括各種顯示元件(例如，複數個空間光調變器、干涉調變器、液晶元件、電泳元件等)，其可配置成平行於面板180之主表面。在一些實施例中，顯示器181為顯示器30(圖6A及圖6B)。

繼續參看圖11A，燈條190具有用於接收來自光發射器192之光的第一末端190a。燈條190及光發射器192一起形成線光源。光發射器192可包括發光二極體(LED)，但其他發光裝置亦係可能的。自光發射器192發射之光傳播至燈條190中。光(例如)經由在燈條190之側壁處之全內反射而在其中受導引，該等側壁與空氣或某其他周圍流體或固體介質形成界面。舉例而言，在燈條190由具有與光導主體180類似之折射率的材料形成之情況下，燈條190可由空氣、流體或固體介質與光導主體180分開以促進燈條190內之全內反射。

燈條190包括在至少一側面上(例如，大體上與光導主體180相對之側面190b)之狹縫100。該等狹縫100經組態以使入射於燈條190之該側面190b上之光轉向且引導該光使之離開燈條190(例如，自側面190c出來)至光導主體180內。應瞭解，圖11A中所展示之狹縫100係示意性的。狹縫100之大小、形狀、密度、位置等可與所描述之彼等不同以達成所要光轉向效果。舉例而言，在一些實施例中，隨著與側面190a之距離增加，狹縫100至燈條190之主體內延伸得更遠。

在某些實施例中，照明設備進一步包括一處於燈條190與光導主體180之間的耦合光學元件(未圖示)。舉例而言，耦合光學元件可使自燈條190傳播的光準直，放大、擴散，改變顏色等。

因此，光自第一端190a在燈條190之第二末端190d之方向上行進，且可再次朝向第一端190a而往回反射。沿該路徑，撞擊狹縫100之光朝向鄰近光導主體180轉向。光導主體180相對於燈條190而安置以便接收已由狹縫轉向之光。光導主體180又使光重定向以離開光導主體180且朝向顯示器181。

雖然為了易於論述及說明而展示於燈條190之一個側面上(圖11A)，但在一些實施例中，狹縫100沿燈條190之多個表面形成。參看圖11C，狹縫100沿燈條190之側面190b及190c形成。在多個側面上形成狹縫100可具有燈條190之每單位長度更有效率地使光轉向之優點。此外，可針對每單位長度燈條190上之狹縫100之給定密度而增加每一側面190b、190c上的狹縫100之間的間隔，此可具有有助於製造密集狹縫圖案的優點。應瞭解，表面108及109中之狹縫可在總數、截面形狀、尺寸及形成於該等狹縫與主表面之間的角度中之一或多者方面有所不同。

參看圖11D，諸如燈條190之燈條可整合至光導主體中，藉此形成單一光導主體/光條結構182。經整合之光導主體/光條結構182具有關於製造及減少顯示裝置中之組件的數目之優點。應瞭解，光轉向特徵可採取各種形式，包括諸如狹縫100之折射特徵(如本文中進一步論述)、全像特徵或此項技術中已知之各種其他光轉向特徵。

應瞭解，光導主體182或180(圖10A至圖11C)由第一及第二相對邊緣界定。如所說明，狹縫100可形成於此等邊緣中之一者中且使光在朝向相對邊緣之方向上重定向。第三及第四邊緣進一步界定光導主體182，其中光藉由撞擊(例如)第三邊緣(圖11E中之下部邊緣)而進入光導主體。光導主體182亦含有上部及下部主側面或主表面(自第一邊緣伸展至第二邊緣且自第三邊緣伸展至第四邊緣)。

光自光發射器192射入至光導主體182內。可使光準直且藉由狹縫100朝向顯示區域183重定向，其中由光轉向特徵使光朝向顯示器(未圖示)重定向。

繼續參看圖11D，較靠近光發射器192之狹縫100可阻止光到達較遠離光發射器192之其他狹縫100之表面。隨著沿Y軸與光發射器192之距離增加，狹縫100沿X軸延伸得更遠，以允許接觸來自光發射器192之光。在一些實施例中，與光發射器192相距最遠的狹縫100可跨越發射器192沿X軸的大體上整個長度。

應瞭解，狹縫100沿Y軸之間距或密度、狹縫100沿X軸之長度及狹縫之角度可為均勻的或可變化以達成所要光轉向效應。舉例而言，在一些實施例中，狹縫100之用於接觸光及使其轉向的曝露之表面積沿Y軸每單位長度為大體上均等的，藉此有助於沿Y軸每單位長度的經轉向光之均勻通量。

為了進一步增加光提取之效率(亦即，為了增加朝向顯示區域183轉向的發射光之比例)，來自光發射器192之光朝向所說明的光導主體182之邊緣184成角度，沿邊緣184形成狹縫100。藉由(例如)以一角度使光發射器192附接至光導主體182或藉由使用適當的光學組件或薄膜在所要方向上引導光，可使光成角度。有利地，可循環使用未經轉向之光，藉此增加相對於光未沿形成有狹縫100的邊緣被引導之配置之光提取效率。

參看圖11E，如上所指出，在一些實施例中，將額外狹縫100提供於對應於顯示器之區域182中。自光發射器192發射光，接著藉由邊緣184上之狹縫100使該光轉向，且藉由顯示區域182中之狹縫100使經轉向之光朝向一顯示器(未圖示)轉向。

在一些其他實施例中，狹縫100可提供於光導主體中而無形成燈條之光轉向特徵的狹縫100。圖12A展示包括具有狹縫100之光導主體180的顯示裝置之截面。燈條190將光射入至光導主體180之第一末端180a中。該光自第一末端180a在光導主體180之第二末端180d的方向上行進，且可藉由全內反射再次朝向第一末端180a往回反射。當該光傳播穿過光導主體180時，一些光撞擊狹縫100，且朝向顯示器181轉向。

繼續參看圖12A，沿面向顯示器181之主側面或主表面180b形成狹縫100。在一些其他實施例中，參看圖12B，可沿光導主體180之兩個主表面(例如，沿兩個主側面180b及180c)安置狹縫100。如上指出，沿多個表面形成狹縫100可具有有效率地使光轉向及易於製造之優點，在該情況下，對於光導主體180之單位長度，需要狹縫之高密度。雖然為了易於說明而在圖12A及圖12B中展示燈條190與末端180a分開，但應瞭解，燈條190可與光導主體180形成整合結構，或可經分開。舉例而言，圖12A及圖12B之燈條190可與燈條190中之狹縫及光導主體之主表面形成整體光導主體。

可使狹縫100以各種圖案分散於燈條190、光轉向光導主體180及整合之光導主體/光條結構182中以達成所要光轉向性質。應瞭解，在許多應用中需要每面積功率之均一性以均勻地照亮顯示器181(圖11B、圖12A及圖12B)。狹縫100可經配置以達成每面積良好的功率均一性。

參看圖13A、圖13B及圖13C，狹縫100之密度隨著與燈條190(圖13A)、點光發射器192(圖13B)或邊緣184(圖13C)相距增加的距離而增加。參看圖13A，每單位面積狹縫100之數目(在光導主體180之頂部及底部主側面中之一或兩者中)隨著與直接鄰近燈條190的光導主體180之邊緣相距增加的距離而增加。狹縫100平行於燈條190在大體直線上延伸。

參看圖13B，每單位面積狹縫100之數目(在光導主體180之頂部及底部主側面中之一或兩者中)隨著與點光源192相距之距離而增加。半圓形段之狹縫100以點光源192為中心。

參看圖13C，每單位面積狹縫100之數目(在光導主體180之頂部及底部主側面中之一或兩者中)隨著與邊緣184相距之距離而增加。沿彼邊緣之額外狹縫100使光轉向，且允許光導主體182之彼側面充當線光源。

在一些實施例中，狹縫100之變化的密度允許每單位面積重定向的光之通量在對應於顯示器181之光轉向光導主體180、182之區域上高度均勻。當光傳播穿過光轉向光導主體180、182時，一些量的光接觸狹縫100且經重定向以離開光導主體180、182。因此，傳播穿過光導主體180、182之剩餘光隨著與光源相距之距離而減少，此係因為愈來愈多的光藉由與狹縫100接觸而經重定向。為了補償光傳播穿過光導主體180、182減少的量，狹縫100之密度隨著與光點源或線光源相距之距離而增加。

應瞭解，狹縫之密度指形成狹縫的材料主體之每單位面積由狹縫100佔據之面積。在給定區域中的單一大狹縫100或複數個較小狹縫100可具有相同密度。因此，歸因於(例如)每面積狹縫100之大小及/或數目之改變，可改變密度。

可藉由各種方法形成狹縫100。在一些實施例中，當形成光傳播材料之主體(諸如，光導主體或燈條)時，形成狹縫100。舉例而言，藉由擠壓穿過一壓模，可形成光傳播材料之主體，該壓模具有一對應於光導主體或燈條之截面形狀之開口且亦具有對應於狹縫100的在壓模中之突出物。在狹縫100延伸之方向上推進及/或拉動形成主體之材料穿過壓模，藉此形成具有所要截面形狀且具有狹縫100的材料長度。接著將材料長度切割為用於光導主體或燈條之所要尺寸。

在另一實例中，可藉由澆鑄形成光傳播材料之主體，其中將材料置放於模具中且允許其硬化。該模具含有對應於狹縫之延伸物。一旦經硬化，自模具移除光傳播材料之主體。該模具可對應於單一光導主體或燈條，使得可將光傳播材料之經移除之主體用作單一光轉向光導主體或燈條。在其他實施例中，該模具產生大的材料薄片，將其切割為用於一或多個光轉向光導主體及/或燈條之所要尺寸。

在又一實例中，藉由射出成形來形成光傳播材料之主體，其中流體材料經注入至模具中且接著在硬化後自模具脫出。在模具對應於單一光導主體或燈條之情況下，可將光傳播材料之經移除之主體用作單一光轉向光導主體或燈條。該模具亦可產生大的材料薄片，且將該薄片切割為用於一或多個光轉向光導主體及/或燈條之所要尺寸。

在一些其他實施例中，在光轉向主體之形成後形成狹縫100。舉例而言，可藉由軋花形成狹縫100，其中將具有對應於狹縫100之突起的壓模按壓在光傳播材料之主體上以在主體中形成狹縫100。可加熱該主體，使主體具有足夠延展性以得到狹縫100之形狀。

在另一實例中，自光傳播材料之主體移除材料以形成狹縫100。舉例而言，可藉由機械加工或切入主體來形成狹縫100。在其他實施例中，藉由雷射切除自主體移除材料。

應瞭解，本文中揭示之方法可用以形成燈條及/或光導主體。在一些實施例中，在光導主體之形成後，可形成燈條。舉例而言，在形成具有狹縫的材料薄片(例如，藉由擠壓、澆鑄、射出成形或自光傳播材料之主體移除材料)後，材料薄片可經切割或衝壓成所要形狀。在此切割或衝壓程序中，狹縫100可形成於光導主體之邊緣處。

在一些其他實施例中，光導主體形成於稍後加以組合之部分中。可使用本文中揭示之方法形成該等部分。可將該等部分與一折射率匹配材料膠接或以其他方式附接在一起以形成單一光導主體。光導主體之逐部分形成允許可否則對於一特定方法難以形成為單一連續結構之彎曲狹縫100之形成。

在一些實施例中，在經形成後，將光導主體附接至顯示器。光導主體亦附接至光源以形成具有一照明系統之顯示裝置。

熟習此項技術者應理解，儘管已在某些較佳實施例及實例的情況下揭示了本發明，但本發明超越具體揭示之實施例而擴展至其他替代實施例及/或擴展至對本發明及其明顯修改及均等物之使用。此外，雖然已詳細展示且描述了本發明之若干變型，但對於熟習此項技術者而言，基於本揭示案，在本發明之範疇內之其他修改將易於顯而易見。亦預期，可進行實施例之具體特徵及態樣之各種組合或子組合且其仍屬於本發明之範疇。應理解，所揭示實施例之各種特徵及態樣可彼此組合或替換以便形成所揭示之本發明之變化模式。因此，意欲本文中所揭示之本發明的範疇不應受到以上描述之特定揭示的實施例限制，而應僅由隨後之[申請專利範圍]決定。

12a．．．干涉調變器/像素

12b．．．干涉調變器/像素

14．．．可移動反射層

14a．．．可移動反射層

14b．．．可移動反射層

16．．．光學堆疊

16a．．．光學堆疊

16b．．．光學堆疊

18．．．柱/支撐件

19．．．間隙

20．．．基板

21．．．處理器

22．．．陣列驅動器

24．．．列驅動器電路

26．．．行驅動器電路

27．．．網路介面

28．．．圖框緩衝器

29．．．驅動器控制器

30．．．顯示陣列或面板/顯示器

32．．．繫栓

34．．．可變形層

40．．．顯示器件

41．．．外殼

42．．．支撐柱插塞

43．．．天線

44．．．匯流排結構

45．．．揚聲器

46．．．麥克風

47．．．收發器

48．．．輸入裝置

50．．．電源供應器

52．．．調節硬體

80．．．光導面板

81．．．顯示器

82．．．光轉向特徵

82a．．．小面

82b．．．小面

83a．．．表面

83b．．．表面

89．．．光轉向薄膜

92．．．光源

100．．．狹縫

103．．．光線

104．．．小面

106．．．小面

108．．．表面

110．．．角度

112．．．抗反射塗層

114．．．窄連接部件

180．．．光導主體

180a．．．第一末端

180b．．．主側面

180c．．．主側面

180d．．．第二末端

181．．．顯示器

182．．．光導主體

183．．．顯示區域

184．．．邊緣

190．．．燈條

190a．．．第一末端

190b．．．燈條之側面

190c．．．燈條之側面

190d．．．第二末端

192．．．光發射器/點光源

圖1為描繪一干涉調變器顯示器之一實施例之一部分的等角視圖，其中第一干涉調變器之可移動反射層處於鬆弛位置，且第二干涉調變器之可移動反射層處於致動位置。

圖2為說明併有一3×3干涉調變器顯示器之電子裝置之一實施例的系統方塊圖。

圖3為圖1之干涉調變器之一例示性實施例的可移動鏡位置對施加之電壓的曲線圖。

圖4為可用以驅動一干涉調變器顯示器之一組列電壓及行電壓的說明。

圖5A說明圖2之3×3干涉調變器顯示器中之顯示資料之一例示性圖框。

圖5B說明可用以寫入圖5A之圖框之列及行信號之一例示性時序圖。

圖6A及圖6B為說明一包含複數個干涉調變器之視覺顯示裝置之實施例的系統方塊圖。

圖7A為圖1之裝置之截面。

圖7B為一干涉調變器之一替代實施例之截面。

圖7C為一干涉調變器之另一替代實施例之截面。

圖7D為一干涉調變器之又一替代實施例之截面。

圖7E為一干涉調變器之一額外替代實施例之截面。

圖8為一顯示裝置之截面。

圖9為圖8之截面的一部分之放大。

圖10A為光轉向特徵之一實施例之截面。

圖10B為光轉向特徵之另一實施例之截面。

圖10C為光轉向特徵之又一實施例之截面。

圖11A為一顯示裝置之一實施例之俯視平面圖。

圖11B為圖11A之顯示裝置之截面。

圖11C至圖11E為顯示裝置之實施例之俯視平面圖。

圖12A至圖12B為顯示裝置之實施例之截面。

圖13A至圖13C為顯示裝置之實施例之俯視平面圖。

100．．．狹縫

182．．．光導主體/光條結構

183．．．顯示區域

184．．．邊緣

192．．．光發射器/點光源

Claims (39)

1. 一種光導設備，其包含：一光導主體，其由一支援光傳播穿過該光導主體之一長度的光傳播材料形成，該光導主體由複數個外表面所界定，其中該等外表面中之一第一者包含：第一複數個間隔開之狹縫，其經組態以使傳播於該光導主體中之光重定向，每一狹縫由該第一外表面中之一底切形成；及其中該等外表面中之一第二者包含：第二複數個間隔開之狹縫，其經組態以使傳播於該光導主體中之光重定向，每一狹縫由該第二外表面中之一底切形成。
2. 如請求項1之設備，其中該光導主體係由第一及第二相對邊緣、第三及第四相對邊緣及在該第一邊緣與該第二邊緣及該第三邊緣與該第四邊緣之間延伸的第一及第二相對主側面所界定。
3. 如請求項2之設備，其中該第一外表面為該第一主側面之一表面，且其中該第一複數個狹縫由該第一主側面中之諸底切形成。
4. 如請求項3之設備，其中該第二外表面為該第一邊緣之一表面，且其中該第二複數個狹縫由該第一邊緣中之諸底切形成。
5. 如請求項4之設備，其中該第二複數個狹縫經組態以跨 該光導主體使自該第三邊緣傳播之光朝向該第二邊緣重定向，且其中該第一複數個狹縫經組態以使由該第二複數個狹縫重定向之該光朝向該第二主側面重定向。
6. 如請求項3之設備，其中該第二複數個狹縫由該第二主側面中之諸底切形成，且其中該第一複數個及該第二複數個狹縫經組態以使自該第一邊緣之一方向傳播之光朝向該第二主側面重定向。
7. 如請求項2之設備，其中該等狹縫之一密度隨著自該第一邊緣之增加的距離而增加。
8. 如請求項2之設備，其中該等狹縫之一表面積隨著自該第一邊緣之增加的距離而增加。
9. 如請求項1之設備，其中在一狹縫與該第一外表面之間形成的一角度在該第一複數個狹縫間或在該第一複數個狹縫與該第二複數個狹縫之間變化。
10. 如請求項1之設備，其中一狹縫之表面積在該第一複數個狹縫間或在該第一複數個狹縫與該第二複數個狹縫之間變化。
11. 如請求項1之設備，其進一步包含一在該第一複數個及該第二複數個狹縫之表面上的抗反射塗層。
12. 如請求項1之設備，其中該等狹縫界定若干間隔開之同心半圓。
13. 如請求項1之設備，其進一步包含：一顯示器；一處理器，其經組態以與該顯示器通信，該處理器經 組態以處理影像資料；及一記憶體裝置，其經組態以與該處理器通信。
14. 如請求項13之設備，其進一步包含一經組態以將至少一信號發送至該顯示器之驅動器電路。
15. 如請求項14之設備，其進一步包含一經組態以將該影像資料之至少一部分發送至該驅動器電路之控制器。
16. 如請求項13之設備，其進一步包含一經組態以將該影像資料發送至該處理器之影像源模組。
17. 如請求項16之設備，其中該影像源模組包含一接收器、收發器及發射器中之至少一者。
18. 如請求項13之設備，其進一步包含一經組態以接收輸入資料及將該輸入資料傳送至該處理器之輸入裝置。
19. 如請求項13之設備，其中該光導主體構成該顯示器之一前燈，該前燈包含一經組態以使光傳播穿過該光導主體之光源，該第一複數個狹縫經組態以使該光朝向該顯示器重定向。
20. 如請求項19之設備，其中該顯示器包含複數個干涉調變器，該等干涉調變器形成諸像素元件。
21. 一種照明設備，其包含：一第一構件，其用於產生光且引導該光傳播穿過一光導主體；一第二構件，其用於使傳播穿過該光導主體之該光重定向，其中該第二構件包含由該光導主體之一表面中的多個底切形成之複數個狹縫；及 一第三構件，其用於使傳播穿過該光導主體之該光重定向。
22. 如請求項21之設備，其中該第二構件及該第三構件包含由該光導主體之一表面中的諸底切形成之複數個狹縫。
23. 如請求項21之設備，其中該第一構件包含一發光二極體。
24. 如請求項23之設備，其中該第二構件包含由該光導主體之邊緣中的諸底切形成之複數個狹縫，其中該發光二極體位於一燈條之一邊緣處且其中該第二構件經組態以跨該光導主體之一長度使來自該發光二極體之光重定向。
25. 如請求項21之設備，其進一步包含一用於經由該光導主體顯示一影像之第四構件。
26. 如請求項25之設備，其中該第四構件包含複數個干涉調變器，該等干涉調變器形成諸像素元件。
27. 一種用於照明之方法，其包含：使光傳播穿過一光導主體；及藉由使該光撞擊第一複數個及第二複數個狹縫之若干小面而使該光重定向，該等複數個狹縫由該光導主體之兩個表面中的諸底切形成。
28. 如請求項27之方法，其中該光導主體係由第一及第二相對邊緣、第三及第四相對邊緣及在該第一邊緣與該第二邊緣及該第三邊緣與該第四邊緣之間延伸的第一及第二相對主側面所界定，其中該第一複數個狹縫係安置於該第一邊緣中， 其中使該光傳播包含引導該光至該光導主體之該第三邊緣中，其中使該光重定向包含使來自該第三邊緣之該光跨該光導主體在朝向該第二邊緣之一方向上重定向。
29. 如請求項28之方法，其中該第二複數個狹縫係安置於該第一主側面中，其中使該光重定向進一步包含使該光朝向該第二主側面重定向。
30. 一種用於製造一照明裝置之方法，其包含：提供光傳播材料之一主體，該材料支援光傳播穿過該主體之一長度；及在該主體之不同側面中形成第一複數個及第二複數個間隔開之底切。
31. 如請求項30之方法，其中該等不同側面包含該主體之一邊緣及一主側面。
32. 如請求項30之方法，其進一步包含將一抗反射塗層沈積於該等底切之諸表面上。
33. 如請求項30之方法，其中形成該複數個間隔開之底切包含擠壓該光傳播材料穿過一壓模。
34. 如請求項30之方法，其中形成該複數個間隔開之底切包含在一模具中澆鑄該光傳播材料。
35. 如請求項30之方法，其中形成該複數個間隔開之底切包含經由一模具射出成形光傳播材料。
36. 如請求項30之方法，其中形成該複數個間隔開之底切包含對光傳播材料之該主體軋花。
37. 如請求項30之方法，其中形成該複數個間隔開之底切包含機械加工或雷射切除光傳播材料之該主體。
38. 如請求項30之方法，其進一步包含將一包含複數個像素之顯示器黏附至光傳播材料之該主體。
39. 一種藉由如請求項30之方法製造得之照明裝置。