TWI452252B - Rotary heat treatment device - Google Patents

Description

迴轉式加熱處理裝置

本發明係關於加熱處理被處理物之迴轉式加熱處理裝置，例如係適於迴轉窯等橫型迴轉式焚燒爐或碳化爐者。

迴轉窯等橫型迴轉式焚燒爐或乾燥機等迴轉式加熱處理裝置中，尤其處理加熱時如可燃性氣體等產生之被處理物，或可燃性高之被處理物時，為確保運轉時之安全性，必須防止內部氣體從迴轉式加熱處理裝置內洩漏或外氣向迴轉式加熱處理裝置內流入。

因此，為防止迴轉式加熱處理裝置中爐內所存在之內部氣體向外部洩漏，且防止外氣向裝置內流入，而設置複數個密封部分。又，已知有一種技術，為保護密封部分而在由該等複數之密封部分隔開之空間內，封入經冷卻之惰性氣體。例如下述專利文獻1所示者係利用該惰性氣體而進行氣體淨化之方法，該惰性氣體不僅擔負著防止內部氣體之洩漏，亦擔負著遮斷外氣(氧)之作用。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2008-256287號公報

[專利文獻2]日本特開平10-96509號公報

[專利文獻3]日本特開平10-206021號公報

[專利文獻4]日本特開平10-300358號公報

[專利文獻5]日本特開平2-113088號公報

但，因溫度下降而粘性增加之柏油等成份，或相對凝縮之金屬有腐蝕性之成份含於內部氣體中時，隨著將經冷卻之惰性氣體封入由複數之密封部分隔開之空間內，柏油成份等冷卻而黏著於密封部分，有密封部分或爐本體腐蝕之憂慮。另一方面，供給在由複數之密封部分隔開之空間內冷卻成低溫之惰性氣體時，隨著內部溫度之下降，柏油等成份冷卻而黏著於螺旋輸送機等上，亦有爐本體等腐蝕之憂慮。

本發明考慮到上述事實，其目的係提供一種迴轉式加熱處理裝置，其可防止內部氣體溫度下降而有機物等黏著於密封部分或螺旋輸送機等上並腐蝕。

請求項1之迴轉式加熱處理裝置之特徵在於具備：外側殼體，其一部分嵌著於加熱處理被處理物之爐本體之一端部；螺旋輸送機，其配置於外側殼體之內周側，搬送被處理物；氣體供給管，其與外側殼體連接且對外側殼體與螺旋輸送機之間之空間供給經加熱之氣體；及氣體排出口，其將從氣體供給管供給之氣體從外側殼體與螺旋輸送機之間之空間，向由爐本體、配置於爐本體之一端部之固定殼體、及設於爐本體與固定殼體之間之密封材所包圍之外側殼體外之封鎖空間內排出。

以下說明請求項1之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置中，於加熱處理被處理物之爐本體之一端部嵌著外側殼體之一部分，搬送被處理物之螺旋輸送機，其包含螺旋軸與螺旋殼體且配置於上述外側殼體之內周側。又，與上述外側殼體連接之氣體供給管不僅對外側殼體與上述螺旋殼體之間之空間供給經加熱之氣體，氣體排出口亦從該空間向由爐本體、配置於爐本體之一端部之固定殼體、及設於爐本體與固定殼體之間之密封材所包圍之外側殼體外之封鎖空間內排出氣體。

因此，取代經冷卻之惰性氣體，將經加熱之氣體由氣體供給管向外側殼體與螺旋輸送機之間之空間供給，從而藉由該經加熱氣體之加熱，螺旋輸送機內之溫度或該螺旋輸送機所連接之爐本體內之溫度不易下降。伴隨與此，螺旋輸送機內之被處理物被加熱，有機物等從該被處理物內氣體化時，藉由經加熱之氣體之熱，該有機物等亦不會冷卻，因此可防止氣體成份之液化。

又，隨著經由氣體排出口對由密封材封鎖之外側殼體外之封鎖空間內供給經加熱之氣體，柏油等黏著於密封部分之憂慮變少。另，利用氣體加壓該封鎖空間，從而亦可防止爐內氣體、粉塵及柏油成份向該封鎖空間內侵入。

其結果，根據本請求項之迴轉式加熱處理裝置，由於氣體化成份不冷卻，因而無柏油等黏著於外側殼體外周側之密封部分或螺旋輸送機附近之憂慮。伴隨與此，亦可於螺 旋輸送機內以氣體將送至爐本體之前之處理物進行預備加熱。

以下說明請求項2之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項1相同之作用。但本請求項中，具有前述氣體供給管所供給之氣體之溫度比爐內部或螺旋輸送機內之溫度高之構成。

即，根據本請求項，從氣體供給管供給之氣體之溫度比連接於爐本體之一端部，藉由爐本體內之熱而加熱之螺旋輸送機內之溫度高，因此確實無柏油黏著之憂慮。

以下說明請求項3及4之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項1及請求項2相同之作用。但本請求項中，具有前述氣體為惰性氣體之構成。

即，根據本請求項，供給惰性氣體從而不對爐內供給氧，可防止氣體化成份之液化、凝縮。尤其如爐內產生可燃性氣體時可防止可燃性。

以下說明請求項5之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項1至請求項4相同之作用。但本請求項中，具有外側殼體上設有複數之氣體供給管之構成。

即，根據本請求項，從設於外側殼體之複數之氣體供給管分別發送經加熱之氣體之惰性氣體，從而對外側殼體與螺旋輸送機之間之空間分散供給經加熱之惰性氣體。其結果，可更均一地加熱由螺旋輸送機搬送之被處理物。

以下說明請求項6及7之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項1至請求項5相同之作用。但本請求項中，具有氣體排出口形成於作為於上述外側殼體與上述螺旋殼體之間之空間流動之氣體的流動方向下游側之外側殼體之部分之構成。

即，根據本請求項，對外側殼體與螺旋輸送機之間之空間供給經加熱之氣體之惰性氣體，從而於該等之間之空間內流動惰性氣體。於成該惰性氣體之流動方向下游側之外側殼體之部分形成氣體排出口，因此從該氣體排出口向由密封材封鎖之外側殼體外之封鎖空間內排出該惰性氣體。其結果，隨著由流動之惰性氣體可均等地加熱螺旋輸送機內，而促進螺旋輸送機內之被處理物之預備加熱。

以下說明請求項8至11之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項1至請求項7相同之作用。但本請求項中，具有從前述氣體排出口將爐內部側之前述爐本體與前述外側殼體之間之空間密封之第2密封材之構成。

即，根據本請求項，密封固定殼體與爐本體之密封材、與第2密封材之間成一定程度封鎖之封鎖空間。對應該封鎖空間內設置氣體排出口，從而可以氣體布滿該封鎖空間內，可防止爐內氣體之侵入。

請求項12之迴轉式加熱處理裝置之特徵在於具備：螺旋輸送機，其包含螺旋軸與螺旋殼體且配置於加熱處理被處理物之爐本體之一端部，搬送被處理物；筒狀之外側殼體，其配置為包覆上述螺旋殼體之外面，且延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部； 加熱氣體第1通路，其使上述螺旋殼體與上述外側殼體之間形成有空間，且加熱氣體得以流過；筒狀之熱風筒，其配置為包覆上述外側殼體之外面且延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部；加熱氣體的第2通路，其使上述外側殼體與上述熱風筒之間形成有空間，且加熱氣體得以流過：蓋材，其以將上述螺旋殼體之爐本體側端部與上述熱風筒之爐本體側端部之間予以連接之方式進行阻塞；間隙，其設置於上述外側殼體之爐本體側端部與上述蓋材之間，且連接上述第1通路與第2通路；及氣體供給管，其連接於上述外側殼體且對上述第1通路內供給加熱氣體。

以下說明請求項12之迴轉式加熱處理裝置之作用。

根據本請求項之迴轉式加熱處理裝置，於加熱處理被處理物之爐本體之一端部配置螺旋輸送機，該螺旋輸送機搬送被處理物。另，經由作為空間之第1通路且配置於螺旋輸送機外周側之筒狀外側殼體延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部，且經由作為空間之第2通路且配置於外側殼體外周側之筒狀熱風筒延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部。

又，不僅對外側殼體連接供給管，亦於與該外側殼體之一端部之間具有間隙，且將螺旋輸送機之爐本體側端部與熱風筒之一端部之間以蓋材連接之方式阻塞，使第1通路與第2通路之間連通。

因此，取代經冷卻之惰性氣體，經加熱之氣體從連接於 外側殼體之氣體供給管供給於第1通路內，從而由經加熱之氣體之熱而使螺旋輸送機內之溫度或螺旋輸送機所連接之爐本體內之溫度不易下降。伴隨於此，於螺旋輸送機內加熱被處理物，來自該被處理物內之有機物等被氣體化時，隨著利用經加熱之氣體之熱不使該有機物等冷卻，可防止氣體化成份之液化。

另一方面，氣體不僅流動於螺旋輸送機與外側殼體之間之第1通路內，亦沿著外側殼體外周流動於與以覆蓋外側殼體外周之方式配置之熱風筒之間之第2通路內。因此，位於熱風筒外側之密封部分由該氣體加熱，藉此於密封部分黏著柏油等之憂慮變少。

然後，筒狀之熱風筒以覆蓋外側殼體外周之方式配置，因此氣體流動至外側殼體之前端，可使外側殼體表面成為內部氣體溫度以上。由此，亦防止柏油向外側殼體之前端部分附著，可實現迴轉式加熱處理裝置之穩定之運轉。

其結果，根據本請求項之迴轉式加熱處理裝置，由於氣體化成份等不冷卻，而無於熱風筒外周側之密封部分或螺旋輸送機附近黏著柏油等之憂慮。伴隨於此，亦可利用氣體將送至爐本體之前之被處理物於螺旋輸送機內進行預備加熱。

以下說明請求項13之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項12相同之作用。但本請求項中，具有於作為螺旋輸送機與外側殼體之間之空間之第1通路內、及作為外側殼體與熱風筒之間之空間之第2通路內，形成有將該等空間分別區劃成螺旋 狀之引導葉片之構成。

即，根據本請求項，引導葉片不僅將作為螺旋輸送機與外側殼體之間之空間之第1通路內，亦將作為外側殼體與熱風筒之間之空間之第2通路內分別區劃成螺旋狀。因此，對流動於該等之間之氣體產生旋流，可更有效地傳遞氣體之熱。利用該氣體均一地加熱，可進而確實謀求螺旋輸送機內及密封構件周邊之溫度均一化。

以下說明請求項14之迴轉式加熱處理裝置之作用。

本請求項之迴轉式加熱處理裝置發揮與請求項12及請求項13相同之作用。但本請求項中，具有於熱風筒之外周側存在有由複數之密封材封鎖之封鎖空間，且於熱風筒端部設有使通過第2通路後之氣體放出至封鎖空間內之放出口之構成。

即，根據本請求項，將通過第2通路後之氣體放出之放出口設於熱風筒之端部，從放出口將氣體放出至由存在於熱風筒外周側之密封材所封鎖之封鎖空間內。其結果，該封鎖空間利用氣體加壓，從而比爐內壓高，不僅可防止爐內氣體、粉塵及柏油成份向該封鎖空間內侵入，於密封部分黏著柏油等之憂慮亦進而減少。

如上所示根據本發明，可提供一種可防止內部氣體之溫度下降而有機物等黏著於密封部分或螺旋輸送機等上之迴轉式加熱處理裝置。

以下，一面參照附圖說明本發明之迴轉式加熱處理裝置之第1實施形態。

圖1係顯示本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1之模式圖。該迴轉式加熱處理裝置1係用以加熱處理被處理物者，兩端開口且迴轉之圓筒之加熱處理被處理物之筒形加熱爐10係爐本體。以在分別固定設置於該筒形加熱爐10兩端側之固定殼體(將被處理物供給於爐內之入口側殼體12及將被處理物從爐內排出之出口側殼體13)上嵌著之方式設置該筒形加熱爐10。另，於入口側殼體12及出口側殼體13與筒形加熱爐10之連接部分，設有一對密封機構14。

由上，該迴轉式加熱處理裝置1主要由該等筒形加熱爐10、入口側殼體12、出口側殼體13及一對密封機構14構成。並且，於筒形加熱爐10之外周壁分別環設有一對輪帶15，以分別與該等輪帶15接觸之方式於該等一對輪帶15下側設有一對滾筒16。

因此，筒形加熱爐10可以軸方向為迴轉軸迴轉，輪帶15利用未圖示之馬達等驅動源，隨著筒形加熱爐10迴轉而迴轉，藉此，一對滾筒16沿著筒形加熱爐10之軸心方向迴轉。

如圖1所示，於筒形加熱爐10之外周側，設有用以從外部加熱該筒形加熱爐10之外筒11，利用對加熱爐10與外筒11之間之空間供給之未圖示之加熱媒介(例如高溫氣體、水蒸氣等)而加熱筒形加熱爐10，伴隨與此，收納於筒形加熱爐10內部之被處理物被加熱處理。

另一方面，入口側殼體12具備與筒形加熱爐10之一端連通之被處理物之供給口(未圖示)，出口側殼體13具備與筒形加熱爐10之另一端連通之被處理物之排出口(未圖示)。因此，被處理物由供給口供給於入口側殼體12內，於筒形加熱爐10內加熱處理，向出口側殼體13內移送，最終從排出口排出。

另，本實施例中，以使內部氣體相對被處理物之搬送方向成逆流之方式成拉出結構，內部氣體由出口側殼體13供給，從入口殼體12排出。又，爐內氣體流動不限於逆流，亦可為與被處理物之搬送方向相同之並流。

如圖2至圖5所示，於加熱處理該被處理物之爐本體之筒形加熱爐10之一端部，形成有用以將被處理物供給於筒形加熱爐10內之螺旋輸送機20，金屬製之形成圓筒形之外側殼體22覆蓋螺旋輸送機20。

如圖2及圖5所示，於外側殼體22之外周側中央部分，捲繞有用以加熱該外側殼體22之電熱線42。又，於該電熱線42之外周側捲繞有絕熱構件44。於該絕熱構件44相鄰之部分，經由形成凸緣狀之隔板46，配置有伸縮接頭48，靠近該伸縮接頭48之筒形加熱爐10側，配置有形成環狀之連結板50。

於該連結板50之筒形加熱爐10側，設有從筒形加熱爐10之端部向外周側突出而設之凸緣板52。在該連結板50與凸緣板52之對向面上，設有金屬製或碳材之環狀密封材50A。另，在該凸緣板52與連結板50之對向面上，設有金屬製之環狀密封材52A。

另一方面，在入口側殼體12與連結板50之間，複數個氣壓缸54配置成環狀，藉由該等複數之氣壓缸54之力，連結板50按壓於凸緣板52側，從而密封材50A按壓於密封材52A。藉由該等相互強力連接，而謀求該等部分之機械密封。又，亦可取代氣壓缸54而使用電動壓缸，或油壓缸、彈簧。

然後，於筒形加熱爐10之端部，用以阻塞該筒形加熱爐10之內周面與外側殼體22之外周面之間之間隙之唇密封(lip seal)或環56之基端側環繞該等之面之間一周而安裝。因此，形成於外側殼體22之外周側之封鎖空間H利用包含密封材50A及密封材52A之第1密封材、及包含唇密封56等之第2密封材而密封，伴隨與此，該等構成入口側殼體12之密封機構14。

螺旋輸送機20由剖面成U字形，形成直線狀之金屬製螺旋殼體24、及螺旋軸26構成，圖6(B)所示之橫剖面上，該螺旋殼體24之兩側上端部分別利用熔接等而固定於外側殼體22之內面側。又，該螺旋殼體24之中央部分成為與外側殼體22之內面側抵接之形。由此，以該螺旋殼體24相對外側殼體22平行延伸之方式，於外側殼體22之內周側固定且配置有螺旋殼體24。

另一方面，螺旋軸26係於外周面具有螺旋狀搬送用之凸部26A之軸狀，配置於螺旋殼體24內。該螺旋軸26利用未圖示之驅動源馬達等而迴轉，從而一面迴轉被處理物一面搬送至筒形加熱爐10側。此處，螺旋軸亦可採用只包含帶狀螺旋且不具有軸之結構者。

另一方面，在靠近外側殼體22之基端側且靠近橫剖面上之下部之左右對稱部位，分別連結有一對氣體供給管28A、28B之一端，從而靠近外側殼體22左右下部之部分上連接有一對氣體供給管28A、28B。然後，從該等一對氣體供給管28A、28B對外側殼體22與內側殼體24之間之間隙之圖4所示之空間S，供給經加熱之氣體。具體言之，該等一對氣體供給管28A、28B分別相對水平線L於左右下側以一定角度(例如22.5度)α傾斜之狀態下，相對外側殼體22設置。

由於成如此結構，隨著積極加熱螺旋輸送機20之底面，而可促進送至爐本體之筒形加熱爐10之前之被處理物之預備加熱。又，運轉停止時供給之氣體中之水分凝縮時，可從空間S排出。再者，供給管不限於一對，亦可對應氣體供給量等為1支或一對以上。另，氣體供給管之設置位置亦不限於向下方傾斜之狀態。

另，作為此時之一對氣體供給管28A、28B所供給之氣體種類，可根據被處理物之性狀而適當選擇，但例如為氮或水蒸氣等惰性氣體較佳。另，該惰性氣體之溫度比螺旋殼體24內之溫度或筒形加熱爐10內之溫度高地設定，例如爐內溫度為350℃左右時成400℃~450℃之溫度。

此處，作為惰性氣體，可利用將從筒形加熱爐10內排出之內部氣體進行加熱者。作為一例，如圖1所示，於筒形加熱爐10內，內部氣體向箭頭方向A流動時，可成經由用以燃燒處理之再燃爐19A、及用以除去內部氣體中之粉塵等之排煙處理塔19B，從煙囪19C排出內部氣體之結構，但此時可考慮對利用該入口側殼體12之內部氣體之徑路中途上連接配管，利用送風機17而引誘該內部氣體。

然後，利用燃燒器等加熱裝置18，使於引誘之排煙處理塔19B中除去氣體中之粉塵等之內部氣體燃燒，供給於氣體供給管28A、28B。尤其內部氣體為可燃性氣體時，使加熱裝置18為燃燒器等燃燒裝置，從而可將內部氣體作為加熱燃料且惰性氣體有效利用。又，內部氣體並流流動時，亦可利用從出口側殼體13排出之內部氣體。

又，加熱爐為外熱式窯時，亦可利用加熱裝置18將加熱加熱爐後之加熱氣體進行再加熱。即，再利用排熱而可不設置新設備地確保熱源。另，不使用加熱裝置之熱源或內部氣體時，亦可接受自分開放置之儲存槽罐等之氣體之供給，並適當加熱利用。

另一方面，靠近成外側殼體22之惰性氣體流動方向下游側部分之外側殼體22之筒形加熱爐10之左右部分，形成有用以將自該氣體供給管28A、28B供給之惰性氣體從外側殼體22與螺旋殼體24之間之空間S排出之氣體排出口30A、30B。即，以惰性氣體之流動與從筒形加熱爐10側流動之氣體流動成逆流之方式，該惰性氣體供給於空間S內，該等2處氣體排出口30A、30B為排出惰性氣體，而如圖6所示分別存在於外側殼體22之左右部位。

具體言之，圖6(B)中左側之氣體排出口30A在外側殼體22之中心線X處至下端部約90度之範圍內，且成特定寬度之長方形形狀。另，圖6(B)中右側之氣體排出口30B從外側殼體22之中心線X處向上側切割，且稱特定寬度之長方形形狀。

接著，以下說明本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1之作用。

本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1中，於加熱處理被處理物之筒形加熱爐10之一端部配置外側殼體22。又，為將從未圖示之入口側殼體投入之被處理物送至筒形加熱爐10內，搬送該被處理物之螺旋輸送機20一面經由空間S配置於外側殼體22之內周側。即，螺旋軸26與外側殼體22之間存在可通過氣體之空間S。

又，靠近外側殼體22下部之部位所連接之複數支氣體供給管28A、28B對空間S供給比經加熱之內側殼體24內之溫度高之惰性氣體。伴隨與此，惰性氣體流動於空間S內。此處，作為惰性氣體，使用氮、水蒸氣等較佳。又，氣體供給管不限於複數支，亦可為1支。另，氣體排出口30A、30B從外側殼體22與螺旋軸20之間之空間，對由密封材封鎖之外側殼體22外之空間H內排出該惰性氣體。

因此，將經加熱之惰性氣體從氣體供給管28A、28B供給於外側殼體22與螺旋輸送機20之螺旋殼體24之間之空間S，從而內側殼體24內之溫度或該螺旋輸送機20所連接之筒形加熱爐10內之溫度不易下降。伴隨與此，加熱爐10及螺旋殼體24內被處理物被加熱，有機物等從該被處理物內氣體化時，由於以經加熱之惰性氣體之熱維持氣體化狀態，因此可防止氣體化成份之液化。

另，將經加熱之惰性氣體經由氣體排出口30A、30B而供給於由密封材封鎖之外側殼體22外之封鎖空間H內，從而柏油等黏著於密封部分之憂慮變少。又，該封鎖空間H利用惰性氣體而保持比爐內壓力高之壓力，從而亦可防止爐內氣體、粉塵及柏油成份向該空間內侵入。

其結果，根據本實施形態之迴轉式加熱處理裝置，由於氣體化之有機成份等不冷卻，因此無氣體化之有機成份等黏著於外側殼體22外周側之密封部分，或螺旋殼體24等之憂慮。伴隨與此，亦可利用該惰性氣體，將送至筒形加熱爐10之前之被處理物於螺旋殼體24內進行預備加熱。

另一方面，根據本實施形態，藉由以筒形加熱爐10內之熱而加熱之螺旋輸送機20內之溫度，隨著該惰性氣體之溫度升高，確實無氣體化之有機成份等黏著之憂慮。

又，根據本實施形態，從靠近外側殼體22之下部處所設之複數之2支氣體供給管28A、28B，分別發送經加熱之惰性氣體，從而經加熱之惰性氣體分散供給於外側殼體22與螺旋殼體24之間之空間S。其結果，可更均一地加熱由螺旋軸26搬送之被處理物。另，從靠近外側殼體22之下部處發送惰性氣體，隨著積極加熱螺旋殼體24之底面，可促進送至筒形加熱爐10之前之被處理物之預備加熱。

另一方面，本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1中，將從氣體供給管28A、28B供給之惰性氣體從外側殼體22與螺旋殼體24之間之空間S向外側殼體22外排出之氣體排出口30A、30B，形成於作為惰性氣體之流動方向下游側之外側殼體22之部分。

由此，通過外側殼體22與螺旋殼體24之間之空間S之惰性氣體從該等2個氣體排出口30A、30B向外側殼體22外之封鎖空間H內放出。其結果，隨著利用流動之惰性氣體可均等地加熱螺旋殼體24內，而可促進螺旋殼體24內之被處理物之預備加熱。

接著，以下基於圖7至圖9，說明本發明之迴轉式加熱處理裝置之第2實施形態。又，對第1實施形態中說明之構件附加同一符號，省略重複說明。

本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1成與第1實施形態大致相同之結構，同樣具有密封機構14、外側殼體22、螺旋軸26及氣體供給管28A、28B。

但，根據本實施形態，如圖7至圖9所示，存在於該外側殼體22之內周側之螺旋輸送機20之螺旋殼體32，與剖面成U字形、形成直線狀之第1實施形態之螺旋殼體24不同，係形成金屬製之圓筒形。又，於該外側殼體22之外周側，成配置有比外側殼體22大徑，且與外側殼體22配置成同軸狀之熱風筒34之結構。但，本實施形態之外側殼體22上不存在氣體排出口30A、30B。

另，如圖9所示，該等螺旋殼體32與外側殼體22之間、以及外側殼體22與熱風筒34之間，分別形成有形成螺旋狀之引導葉片36A、36B。又，引導葉片36A、36B將存在於該等之間之圓筒狀空間分別區劃成螺旋狀。

然後，該等內之螺旋殼體32與熱風筒34之筒形加熱爐10側末端部分，以蓋材38連接該等之間之方式封鎖。另，外側殼體22之筒形加熱爐10側末端部分比該等稍短地形成，蓋材38與外側殼體22之筒形加熱爐10側末端部分之間設有連通用間隙RS。

另，螺旋殼體32及外側殼體22之圖9中左端部分互相到達同一位置上，但熱風筒34比該等短，將通過通路後之惰性氣體向密封空間H內放出之放出口40設於該熱風筒34之端部，從而外側殼體22與熱風筒34之間之空間向封鎖空間H內開放。

由上，內周側之圓筒狀空間由引導葉片36A區劃成螺旋狀，形成第1通路PA1，另，外周側之圓筒狀空間以引導葉片36B區劃成螺旋狀，形成第2通路PA2。然後，該等第1通路PA1與第2通路PA2由連通用間隙RS連接，該等通路PA1、PA2最終與封鎖空間H連接。

因此，根據本實施形態，從一對氣體供給管28A、28B供給之惰性氣體供給於第1通路PA1內。惰性氣體於該第1通路PA1內流動成螺旋狀後折回，於第2通路PA2內流動成螺旋狀，最終對封鎖空間H內放出惰性氣體。

接著，以下說明本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1之作用。

本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1中，於加熱處理被處理物之筒形加熱爐10之一端部，存在使從未圖示之入口側殼體投入之被處理物通過，用以送至筒形加熱爐10內之導入部。並且，以構成該導入部之形於該一端部配置有螺旋輸送機20。又，迴轉並搬送被處理物之螺旋軸26以配置於螺旋殼體32內之形，構成螺旋輸送機20後，該螺旋輸送機20搬送被處理物。

另，經由作為空間之第1通路PA1且配置於螺旋輸送機20外周側之筒狀之外側殼體22延伸至螺旋輸送機20之筒形加熱爐10側端部。又，經由作為空間之第2通路PA2且配置於外側殼體22外周側之筒狀之熱風筒34延伸至螺旋輸送機20之筒形加熱爐10側端部。

然後，引導葉片36A將該螺線殼體32與該外側殼體22之間之空間區劃成螺旋狀，形成該惰性氣體通過之第1通路PA1。於該外側殼體22之外周側亦配置有熱風筒34，引導葉片36B將外側殼體22與熱風筒34相互間之空間區劃成螺旋狀，形成第2通路PA2。

又，不僅於外側殼體22上連接氣體供給管28A、28B，亦與該外側殼體22之一端部之間具有間隙，且將螺旋輸送機20之筒形加熱爐10側端部與熱風筒34之一端部之間以蓋材38連接之方式阻塞，使第1通路PA1與第2通路PA2之間連通。另，根據本實施形態，由密封材封鎖之封鎖空間H存在於熱風筒34之外周側，伴隨與此，將通過第2通路PA2後之惰性氣體向封鎖空間H內放出之放出口40設於熱風筒34之端部。

因此，根據本實施形態，除發揮與第1實施形態相同之作用外，經加熱之惰性氣體沿著通路PA1、PA2流動成螺旋狀，從而利用經加熱之惰性氣體之熱，使螺旋輸送機20內之溫度或與螺旋輸送機20所連接之筒形加熱爐10內之溫度不易下降。

伴隨於此，於螺旋輸送機20內加熱被處理物，來自該被處理物內之有機物被氣體化時，隨著利用經加熱之惰性氣體之熱不使該有機物等冷卻，可防止氣體化成份之液化。

另一方面，惰性氣體不僅流動於螺旋輸送機20與外側殼體之間22之間之第1通路PA1內，亦沿著外側殼體22之外周，流動於與以覆蓋外側殼體22外周之方式配置之熱風筒34之間之第2通路PA2內。因此，位於熱風筒34外側之密封部分利用該惰性氣體加熱，而使柏油等附著於該密封部分之憂慮減少。

然後，筒狀熱風筒34以覆蓋外側殼體22外周之方式配置，因此隨著惰性氣體流動至外側殼體22之前端，可使外側殼體22之表面成為碳化溫度以上。由此，亦防止柏油向外側殼體22之前端部附著，可實現迴轉式加熱處理裝置1之穩定運轉。

其結果，根據本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1，由於氣體化成份等不冷卻，因此並無柏油等黏著於熱風筒34外周側之密封部分或螺旋輸送機20附近之憂慮。伴隨於此，亦可利用惰性氣體將送至筒形加熱爐10之前之被處理物於螺旋輸送機20內進行預備加熱，又，根據本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1，不僅柏油等之黏著，對於氣體中水分或腐蝕性物質凝縮、密封部腐蝕之情況，都可防止該等現象。

另一方面，根據本實施形態，將通過通路後之惰性氣體放出之放出口40設於位於最外側之熱風筒34之端部，從該放出口40將惰性氣體放出至由存在於熱風筒34外周側之密封材所封鎖之封鎖空間H內。

因此，藉由利用惰性氣體加壓該封鎖空間H，從而不僅可防止爐內氣體、粉塵及柏油成份向該封鎖空間H內侵入，柏油等黏著於密封部分之憂慮亦進一步減少。

作為以上結果，根據本實施形態之迴轉式加熱處理裝置1，隨著惰性氣體產生迴流，利用該惰性氣體均一加熱，而謀求螺旋輸送機20內及密封構件周邊之溫度均一化，柏油成份等不會不慎冷卻。因此，無柏油等黏著於熱風筒34外周側之密封部分或螺旋輸送機20附近之憂慮。伴隨與此，亦可利用該惰性氣體將送至筒形加熱爐10之前之被處理物於螺旋輸送機20內進行預備加熱。

以上說明了本發明之實施形態，但本發明不限於該實施形態，在不脫離本發明主旨之範圍內可實施各種變形。例如惰性氣體以氮為最佳，但根據處理物不同亦可為加熱蒸汽或二氧化碳、燃燒排氣等其他惰性氣體。另，供給惰性氣體時，亦可以供給量與爐內壓力控制惰性氣體之供給量。

[產業上之可利用性]

本發明可作為以樹脂、食品、有機物等之乾燥為主之木質生質或有機廢氣物等之乾燥、氣體化等為目的之加熱處理裝置應用，此外亦可應用於其他產業用機械中。

1．．．迴轉式加熱處理裝置

10．．．筒形加熱爐(爐本體)

11．．．外筒

12．．．入口側殼體

13．．．出口側殼體

14．．．密封機構

15．．．輪帶

16．．．滾筒

17．．．送風機

18．．．加熱裝置

19A．．．再燃爐

19B．．．排煙處理塔

19C．．．煙囪

20．．．螺旋輸送機

22．．．外側殼體

24．．．螺旋殼體

26．．．螺旋軸

26A．．．凸部

28A、28B．．．氣體供給管

30A、30B．．．氣體排出口

32．．．螺旋殼體

34．．．熱風筒

36A．．．引導葉片

36B．．．引導葉片

38．．．蓋材

40．．．放出口

42．．．電熱線

44．．．絕熱構件

46．．．隔板

48．．．伸縮接頭

50．．．連結板

50A．．．環狀密封材

52．．．凸緣板

52A．．．環狀密封材

54．．．氣壓缸

56．．．環

H．．．封鎖空間

L．．．水平線

PA1．．．第1通路

PA2．．．第2通路

RS．．．間隙

S．．．空間

圖1係本發明之第1實施形態之迴轉式加熱處理裝置之模式圖。

圖2係顯示本發明之第1實施形態之迴轉式加熱處理裝置之導入部周邊之剖面圖。

圖3係顯示本發明之第1實施形態之迴轉式加熱處理裝置之導入部周邊之側視圖。

圖4係圖2之A-A箭視剖面圖。

圖5係本發明之第1實施形態之迴轉式加熱處理裝置之要部放大剖面圖。

圖6係顯示本發明之第1實施形態之迴轉式加熱處理裝置所適用之外側殼體與內側殼體之關係之放大圖，(A)係側視圖，(B)係B-B箭視線剖面圖。

圖7係顯示本發明之第2實施形態之迴轉式加熱處理裝置之導入部周邊之剖面圖。

圖8係圖7之C-C箭視線剖面圖。

圖9係本發明之第2實施形態之迴轉式加熱處理裝置之要部放大剖面圖。

1．．．迴轉式加熱處理裝置

10．．．筒形加熱爐(爐本體)

20．．．螺旋輸送機

22．．．外側殼體

24．．．螺旋殼體

26．．．螺旋軸

26A．．．凸部

28A．．．氣體供給管

44．．．絕熱構件

48．．．伸縮接頭

50．．．連結板

52．．．凸緣板

54．．．氣壓缸

H．．．封鎖空間

Claims (14)

1. 一種迴轉式加熱處理裝置，其特徵在於具備：外側殼體，其一部分嵌著於加熱處理被處理物之爐本體之一端部；螺旋輸送機，其包含螺旋軸與螺旋殼體且配置於上述外側殼體之內周側，搬送被處理物；氣體供給管，其與上述外側殼體連接且對上述外側殼體與上述螺旋殼體之間之空間供給經加熱之氣體；及氣體排出口，其將從上述氣體供給管供給之氣體從上述外側殼體與螺旋殼體之間之空間，向由爐本體、配置於爐本體之一端部之固定殼體、及設於爐本體與固定殼體之間之密封材所包圍之外側殼體外之空間內排出。
2. 如請求項1之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體供給管所供給之氣體溫度比爐內部或螺旋輸送機內之溫度高。
3. 如請求項1之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體為惰性氣體。
4. 如請求項2之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體為惰性氣體。
5. 如請求項1至4中任一項之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體供給管於外側殼體上配置複數支。
6. 如請求項1至4中任一項之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體排出口形成於作為於上述外側殼體與上述螺旋殼體之間之空間流動之氣體的流動方向下游側之外側殼體 之部分。
7. 如請求項5之迴轉式加熱處理裝置，其中前述氣體排出口形成於作為於上述外側殼體與上述螺旋殼體之間之空間流動之氣體的流動方向下游側之外側殼體之部分。
8. 如請求項1至4中任一項之迴轉式加熱處理裝置，其中具有從前述氣體排出口將爐內部側之前述爐本體與前述外側殼體之間之空間密封之第2密封材。
9. 如請求項5之迴轉式加熱處理裝置，其中具有從前述氣體排出口將爐內部側之前述爐本體與前述外側殼體之間之空間密封之第2密封材。
10. 如請求項6之迴轉式加熱處理裝置，其中具有從前述氣體排出口將爐內部側之前述爐本體與前述外側殼體之間之空間密封之第2密封材。
11. 如請求項7之迴轉式加熱處理裝置，其中具有從前述氣體排出口將爐內部側之前述爐本體與前述外側殼體之間之空間密封之第2密封材。
12. 一種迴轉式加熱處理裝置，其特徵在於具備：螺旋輸送機，其包含螺旋軸與螺旋殼體且配置於加熱處理被處理物之爐本體之一端部，搬送被處理物；筒狀之外側殼體，其配置為包覆上述螺旋殼體之外面，且延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部；加熱氣體第1通路，其使上述螺旋殼體與上述外側殼體之間形成有空間，且加熱氣體得以流過；筒狀之熱風筒，其配置為包覆上述外側殼體之外面且 延伸至螺旋輸送機之爐本體側端部；加熱氣體的第2通路，其使上述外側殼體與上述熱風筒之間形成有空間，且加熱氣體得以流過；蓋材，其以將上述螺旋殼體之爐本體側端部與上述熱風筒之爐本體側端部之間予以連接之方式進行阻塞；間隙，其設置於上述外側殼體之爐本體側端部與上述蓋材之間，且連接上述第1通路與第2通路；及氣體供給管，其連接於上述外側殼體且對上述第1通路內供給加熱氣體。
13. 如請求項12之迴轉式加熱處理裝置，其中在作為螺旋輸送機與外側殼體之間之空間之第1通路內、及作為外側殼體與熱風筒之間之空間之第2通路內，形成有將該等空間分別區劃成螺旋狀之引導葉片。
14. 如請求項12或請求項13之迴轉式加熱處理裝置，其中於熱風筒之外周側存在有由複數之密封材封鎖之封鎖空間，於熱風筒之端部設有將通過第2通路後之氣體向封鎖空間內放出之放出口。