TWI452158B - 用於製作圖樣之蒸鍍裝置 - Google Patents

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TWI452158B TW101107454A TW101107454A TWI452158B TW I452158 B TWI452158 B TW I452158B TW 101107454 A TW101107454 A TW 101107454A TW 101107454 A TW101107454 A TW 101107454A TW I452158 B TWI452158 B TW I452158B
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Tae Hwan Kim
Woon Seon Ryu
Sung Tae Namgoong
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Snu Precision Co Ltd
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Description

用於製作圖樣之蒸鍍裝置
本發明涉及一種用於製作圖樣之蒸鍍裝置,更為詳細地,涉及一種能夠在大面積基板上蒸鍍所需圖案的用於製作圖樣之蒸鍍裝置。
顯示裝置通過多種形式的具體製程來製造。顯示裝置的製造製程中的主要製程之一是在基板等上形成多個薄膜的製程,而蒸鍍製程被廣泛應用在這種薄膜形成製程中。
這種蒸鍍製程可分為用均勻厚度的薄膜包覆基板全面的製程和只在基板的一部分選擇性地蒸鍍而實現圖案化的製程。
圖1顯示習知蒸鍍裝置的一個示例。
參照圖1,在所述的蒸鍍製程中,只在基板的一部分選擇性地蒸鍍從而使基板上的蒸鍍物形成為規定圖案的習知製程10在腔室11內的基板20和噴嘴12之間設置與基板20的面積相同尺寸的蔭罩板13,而且從供給部14提供的源物通過形成於蔭罩板13的圖案被蒸鍍在基板上,從而在基板20上形成規定的圖案30。
但是,如上的製程需要額外地具備與基板的面積相同面積的蔭罩板13,因此習知蒸鍍系統10很難具有緊湊的結構。
而且,為了處理大面積基板,需要使用大型蔭罩板,或者採用用小型蔭罩板反復蒸鍍的方法,所以難以迅速執行蒸鍍製程。
本發明是為了解決這種習知技術中的問題而提出的,其目的是提供一種用於製作圖樣之蒸鍍裝置,該裝置能夠用規定的源物迅速蒸鍍大面積基板,從而使基板具有規定的圖案。
上述目的可通過本發明的以下技術方案來實現。本發明的用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其特徵在於進一步包括:噴嘴部,為了向所述基板側噴射源物而形成有噴射口;快門部,選擇性地開閉所述噴嘴部的噴射口,以使所述源物選擇性地噴射;以及輸送部,用於輸送所述基板或所述噴嘴部中的至少一個。
而且,可進一步包括控制部,所述控制部控制所述快門部或所述輸送部中的至少一個,以使所述源物在所述基板上形成並蒸鍍規定形狀的圖案。
而且,所述控制部可調節所述噴射口的開閉時間。
而且,所述控制部可控制所述基板或噴嘴部中的至少一個的輸送速度。
而且,所述快門部以板狀形狀安裝於所述噴嘴部的端部,並且所述快門部的端部在所述噴射口的一側滑行移動到另一側以開放或切斷所述噴射口。
而且,所述快門部形成為在端部形成有開口部的氣缸形狀,並包覆所述噴嘴部,通過旋轉運動使所述開口部移位,從而開放或切斷所述噴射口。
而且,所述輸送部通過輥輪的旋轉力輸送所述基板。
根據本發明,提供一種用於製作圖樣之蒸鍍裝置,該裝置能夠選擇性地噴射源物,從而在基板上蒸鍍使用者所希望形狀的圖案。
而且,由於在通過輸送部進行基板或噴嘴部的輸送的同時進行蒸鍍製程,所以能夠迅速處理大面積基板。
而且,控制部控制通過輸送部的基板或噴嘴部的輸送速度,所以能夠調節形成在基板上的圖案形狀。
而且,控制部控制噴射口的開放或封閉時間,所以能夠調節形成在基板上的圖案形狀。
而且,可通過形成在噴嘴部的噴射口的形狀,調節形成在基板上的圖案形狀。
在對本發明進行說明之前需要說明的是,對於多種實施例,針對具有相同結構的構件在第一實施例中使用相同的符號進行代表性的說明,並在其他實施例中說明與第一實施例不同的結構。
下面,參照附圖詳細說明本發明第一實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置100。
圖2是本發明第一實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的立體圖,圖3是用於說明圖2所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置的剖面示意圖。
參照圖2及圖3,本發明第一實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置100包含腔室部110、噴嘴部120、快門部130、供給部140、輸送部150、輸入部160和控制部170。
所述腔室部110在內部配置有後述的噴嘴部120及輸送部150,其為進行蒸鍍製程的場所,通過規定的泵浦除去腔室部的內部空氣以維持真空狀態,從而使蒸鍍製程得以執行。
在腔室部110的內部收容有基板20、後述的噴嘴部120 和輸送部150。
圖4是從下方圖示圖2所示用於製作圖樣之之蒸鍍裝置的噴嘴部的圖。
參照圖4,所述噴嘴部120是收容在所述腔室部110內,用於對基板20噴射源物的構件,其沿著與基板20通過後述的輸送部150所被輸送的方向垂直的方向較長地形成,且其剖面形成為矩形形狀。
在噴嘴部120的內部形成有供給通道121,其為從外部供給的源物移動的通道,所述噴嘴部120在與基板20相對的面上形成有噴射口122,使得從供給通道121流動的源物噴射到基板20側。
在本實施例中,多個所述噴射口122在噴嘴部120的端部沿長度方向較長地形成,並且相鄰的噴射口122彼此間隔開規定間隔而形成。而噴射口122是通過所噴射的源物決定基板上形成的圖案形狀的主要因素,所以這些噴射口122的寬度、長度、數量以及隔離間隔等可在考慮在基板20上所要形成的圖案形狀、基板或噴嘴部120的輸送速度等因素的基礎上決定。
所述快門部130是為了選擇性地開放或切斷噴射口122的構件,其為板狀。快門部130安裝於噴嘴部122的內部並可滑行移動,且通過滑行移動選擇性地將噴射口122的面開放或切斷。
圖5是說明圖2所示用於製作圖樣之之蒸鍍裝置的噴嘴部的變形例的剖面示意圖。
如上所述,本實施例的快門部130安裝在噴嘴部120的內部,但參照圖5,在本實施例的變形例中,快門部130 沒有安裝在噴嘴部120內,而位於快門部130和噴嘴部120之間並進行往返移動,從而能夠開放或切斷通過噴射口的源物的排出。
所述供給部140是連接於所述噴嘴部120,用於供給蒸鍍於基板20上的源物的構件。
所述輸送部150是為了實現直列式(in-line)製程,而將被蒸鍍物即基板20沿著規定的路徑輸送的部件,在本實施例中所述輸送部150包括多個輸送輥151。
所述輸送輥151沿著基板的直列式製程的輸送路徑而被配置,而且每個輸送輥151構成為能夠由規定的電源接收驅動力而旋轉。
所述輸入部160是接收並儲存需要在基板20上實現的形狀的圖案30,並將該圖案提供給控制部170的構件。即,輸入部160與控制部170連接,並且由使用者或操作者的操作接收需要在基板20上蒸鍍的圖案30的形狀,並把該形狀傳遞給控制部170。
所述控制部170是用於從輸入部160接收關於圖案30的形狀的資訊,並控制快門部130或輸送部150,使得用於蒸鍍基板20的源物形成與輸入部160所傳遞資訊相應的圖案的構件。控制部170控制快門部130以控制噴射口122的開閉時間或噴射口122的開放面積等,從而控制源物的噴射時間或噴射量。
而且,控制部170還可以控制輸送部150,調節基板20的輸送速度,從而控制基板20上形成的圖案30。
下面說明所述第一實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置100的操作。
圖6是用於說明圖2的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的噴嘴部的操作的圖。
首先,輸入部160通過使用者接收需要由用於蒸鍍基板20的源物所形成的圖案30的形狀。輸入部160將所輸入的圖案資訊傳遞給控制部170,控制部170使用所被傳遞的圖案資訊,計算用於控制快門部130和輸送部150的控制資訊。
此時,參照圖6的(a),由供給部140向噴嘴部120內的供給通道121提供氣化的源物,噴射口122的最初狀態是被快門部130切斷的狀態,所以氣化的源物處於在形成於噴嘴部120的端部的噴射口122待機的狀態。
控制部170根據所計算出的控制資訊控制輸送部150,並使輸送輥151旋轉,從而以規定的速度輸送基板20。
與此同時,參照圖6的(b),控制部170使快門部130滑行移動而開放噴射口122,待機狀態的源物通過所開放的噴射口122向基板20側噴射並蒸鍍到基板20上。
參照圖6的(c),控制部170根據為了將圖案30形成於基板20上而計算出的控制資訊,在經過規定時間之後使快門部130滑行移動到原位置,從而切斷噴口122以防止源物噴出。這裏,所述控制資訊是基於被輸入於輸入部160的圖案資訊來計算的。
而且,控制部170也可以不完全切斷噴射口122而是開放一部分以調節源物噴射量,從而調節基板20上形成的圖案30的厚度。
由通過反復上述過程而噴射的源物,在基板20上蒸鍍最初被輸入於輸入部160的形狀的圖案30。
接下來,說明本發明的第二實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置200。
圖7是本發明的第二實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的立體圖。
參照圖7,本發明的第二實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置200包括腔室部110和噴嘴部120、快門部130、供給部140、輸送部250、輸入部160和控制部170。
所述腔室部110、噴嘴部120、快門部130、供給部140、輸入部160和控制部170的結構與所述第一實施例的結構相同,因此不再重複說明。
而在本實施例中,所述輸送部250與在第一實施例中為了輸送基板而構成為卷對卷(roll-to-roll)形式的輸送部150不同,是一種輸送噴嘴部120的構件。
所述輸送部250包括:面板,沿著規定的路徑凹陷形成有輸送導向部251;和連接部252,收容在輸送導向部251內並從輸送導向部251向下延伸並與噴嘴部120的端部結合,而且被配置為能夠沿輸送導向部251移動。
即,本實施例的輸送部250輸送與連接部252連接的噴嘴部120,從而在基板20上噴射源物並形成圖案。其中所述連接部252沿著輸送導向部251所形成的方向而移動。
因此在本實施例中,控制部170通過控制由快門部130的動作所決定的開閉時間及由輸送部250的動作所決定的噴嘴部120的輸送速度來調節基板20上形成的圖案的形狀。
接下來,說明本發明的第三實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置。
圖8是本發明的第三實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的噴嘴部及快門部的立體圖,圖9是圖示圖8的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的噴嘴部及快門部的IX-IX'向剖面的動作的圖。
本發明的第三實施例用於製作圖樣之蒸鍍裝置的結構與第一實施例相同,因此不再重複說明。但是,本實施例中的噴嘴部320和快門部330與第一實施例中的結構不同,因此在下面對此進行說明。
參照圖8及圖9,所述噴嘴部320構成為具有圓形剖面的氣缸形狀,內部形成有供給通道321,在外表面形成有噴射源物的區域即噴射口322。
所述快門部330構成為具有圓形剖面的氣缸形狀,並且被安裝為包覆噴嘴部320的外表面且在內部收容噴嘴部320的形狀。另外,在快門部330的外表面貫穿形成有與噴射口322對應數量的開口部331。
因此,參照圖9,在本實施例中通過以下方式控制源物噴射:以可旋轉的方式設置的快門部330被操作為在噴嘴部320的外表面上旋轉規定區段,以使開口部331的位置與噴射口322一致,從而噴射源物;並且使快門部330向與在開放噴射口322時的旋轉方向相反的方向旋轉,以使開口部331恢復原位置,從而切斷噴射口322。
即,第一實施例的快門部130通過直線運動選擇性地開放或切斷噴嘴部120的噴射口122,但在第三實施例中,通過快門部330的旋轉運動選擇性地開放或切斷噴射口322。
根據習知的蒸鍍裝置,難以使用額外的蔭罩板在大面 積基板上蒸鍍連續的圖案形狀,但根據本實施例的用於製作圖樣之的蒸鍍裝置,即使不具備與基板面積相同面積的蔭罩板,也能夠使用快門部開放或切斷源物,從而對基板進行連續的蒸鍍。
通過控制用於開放或切斷噴嘴部的快門部、基板或噴嘴部的輸送速度、形成於噴嘴部而用於噴射源物的噴射口的形狀,能夠按照所要實現的圖案形狀來噴射源物而蒸鍍基板。
本發明的申請專利範圍不限於上述實施例,在所附的申請專利範圍內可實現各種形態的實施例。在不脫離申請專利範圍所要求保護的本發明精神的範圍內,本發明所屬的技術領域中具有一般知識的人均能修正的各種範圍也應屬於本發明的申請專利範圍所記載的範圍內。
10‧‧‧蒸鍍系統
11‧‧‧腔室
13‧‧‧蔭罩板
14‧‧‧供給部
20‧‧‧基板
30‧‧‧圖案
100‧‧‧蒸鍍裝置
110‧‧‧腔室部
120‧‧‧噴嘴部
121‧‧‧供給通道
122‧‧‧噴射口
130‧‧‧快門部
140‧‧‧供給部
150‧‧‧輸送部
151‧‧‧輸送輥
160‧‧‧輸入部
170‧‧‧控制部
200‧‧‧蒸鍍裝置
250‧‧‧輸送部
251‧‧‧輸送導向部
252‧‧‧連接部
320‧‧‧噴嘴部
321‧‧‧供給通道
322‧‧‧噴射口
330‧‧‧快門部
331‧‧‧開口部
圖1是顯示習知蒸鍍裝置的一例的圖。
圖2是本發明第一實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的立體圖。
圖3是用於說明圖2所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置的剖面示意圖。
圖4是從下方顯示圖2所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置噴嘴部的圖。
圖5是圖2所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置噴嘴部的變形例的剖面示意圖。
圖6是用於說明圖2所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置噴嘴部的操作的圖。
圖7是本發明第二實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置 的立體圖。
圖8是本發明第三實施例的用於製作圖樣之蒸鍍裝置的噴嘴部以及快門部的立體圖。
圖9是圖示圖8所示用於製作圖樣之蒸鍍裝置的噴嘴部以及快門部的IX-IX'向剖面的動作的圖。
20‧‧‧基板
30‧‧‧圖案
120‧‧‧噴嘴部
140‧‧‧供給部
150‧‧‧輸送部
151‧‧‧輸送輥
160‧‧‧輸入部
170‧‧‧控制部

Claims (5)

  1. 一種用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其為在基板上蒸鍍源物的裝置,其特徵在於進一步包括:噴嘴部,為了向所述基板側噴射源物而沿長度方向長長地形成有噴射口,沿與所述基板移動方向垂直的方向長長地形成;快門部,以板狀形狀安裝於所述噴嘴部的端部,且所述快門部的端部從所述噴射口的一側向另一側滑行移動,從而選擇性地開閉所述噴嘴部的噴射口,以使所述源物選擇性地噴射;輸送部,用於沿所述基板的長度方向輸送所述基板或所述噴嘴部中的至少一個;控制部,控制所述快門部或所述輸送部中的至少一個,以使所述源物在所述基板上形成並蒸鍍規定形狀的圖案;及輸入部,接收實現在所述基板上的圖案,並將所述圖案提供至控制部。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其中所述控制部調節所述噴射口的開閉時間。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其中所述控制部控制所述基板或所述噴嘴部中的至少一個的輸送速度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其中所述快門部形成為在端部形成有開口部的氣缸形狀,並且包覆所述噴嘴部,且通過旋轉運動使所述開口部移位,從而開放或切斷所述噴射口。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之用於製作圖樣之蒸鍍裝置,其 中所述輸送部通過輥輪的旋轉力輸送所述基板。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11256313A (ja) * 1998-03-12 1999-09-21 Ulvac Corp 化合物薄膜作成装置用プラズマ源
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