TWI447380B - 缺陷檢測方法及裝置 - Google Patents

Description

缺陷檢測方法及裝置

本發明有關於光學式檢查膜上之缺陷之缺陷檢測方法及裝置。

近年來在擴大需要之液晶顯示器，將作為偏光板之保護膜或光學補償膜之具有光學式異向性之相位差膜黏貼在螢幕。相位差膜(以下簡稱為「膜」)利用在透明之支持體形成定向膜之步驟，和在形成有定向膜之支持體塗布液晶後形成液晶層之步驟製造(例如日本專利特開平9-73081號公報)。在各個步驟進行嚴格之品質管理，但是要完全消除由於製造中之異物之混入、附著造成之分子定向不均(定向缺陷)，液晶層之塗布厚度不均(相位差缺陷)等之缺陷會有困難。

當在該膜有缺陷時，在該處發生光之散射，所以在膜之製造步驟設置光學式之缺陷檢測裝置，檢測膜之缺陷。該缺陷檢測裝置之構成包含：光照射器，對膜照射光；受光器，接受從該膜發出之光；和處理電路，用來解析來自受光器之輸出信號。該受光器使用具有攝像裝置(線感測器或區域感測器)之視訊攝像機，輸出在膜之寬度方向線掃描之掃描信號(攝像信號)作為輸出信號。

另外，以在光照射器和受光器之間使偏光方向互相正交(正交尼科耳(crossed Nichol))之方式，配置一對偏光板。該一對偏光板在膜上沒有缺陷時，光不會進入到受光器，在膜上有缺陷時，因該缺陷而散射、彌散之光進入到 受光器，利用此種方式使缺陷之檢測容易(日本專利特開平6-148095號公報)。另外，由於藉由對來自受光器之輸出信號進行微分處理，強調缺陷部份之信號，和減小缺陷部份以外之信號之所謂雜訊信號，因此亦容易進行缺陷之檢測。

近年來由於要求更高品質之膜，所以希望有亦可以檢測至微細之缺陷之精度佳之缺陷檢測方法。缺陷之檢測精度一般利用以缺陷部份以外之信號(雜訊(noise)信號)，除來自受光器之輸出信號中之缺陷部份之信號(缺陷信號)之值(S/N)表示，該S/N越大，缺陷之精度越高。

因此，為獲得更大S/N，須使缺陷信號變大，和將雜訊信號抑制至最小限度。使缺陷信號變大之方法可以考慮使高亮度之光對膜照射，用來使在膜上之缺陷散射、彌散之光之強度變大。

但是，如同金屬鹵化物燈泡，在發出高亮度之光之光照射器存在有複數急激尖峰值之所謂亮線。在使具有此種複數亮線之光照射在如同膜之薄透明體之情況下，會在膜上產生具有光相互增強化部份之干涉條紋。因此，強光亦照射在沒有缺陷之部份，所以雜訊信號變大，結果造成S/N降低。另外，在將一對偏光板配置成正交尼科耳，同時相對於膜之遲相軸傾斜情況下，即使沒有缺陷，仍因從一對偏光板透過之光很少，所以當存在有複數亮線之光照射在膜時，雜訊會因干涉條紋之影響而變大。因此，即使是具有高亮度之光照射器，在具有複數亮線情況下，S/N反而會因干涉條紋之影響而降低。

另外，在將一對偏光板配置成正交尼科耳而檢測缺陷情況下，來自受光器之輸出信號因膜之光學特性或受光器之敏感度特性而使膜之寬度方向之中央部之亮度變高，從其中央部朝向兩端部使亮度逐漸變小。在對此種輸出信號進行微分處理情況下，缺陷信號會受到其周邊之雜訊影響。

例如，如第7(A)圖所示，在膜上存在有複數相同程度之缺陷，在各個缺陷之散射、彌散之光之亮度相同情況下，當對輸出信號進行微分處理時，如(B)所示，雜訊信號相對於膜寬度方向之斜率為負之區域的缺陷信號小於斜率為正之區域的缺陷信號。因此，如第7(B)圖所示，在將缺陷檢測用之臨限值設定在一定之亮度值Th情況下，雜訊信號之斜率為正之區域之缺陷信號檢測在Th以上，另一方面，斜率為負之區域之缺陷信號檢測為不滿Th，所以未被檢測到。由於任一缺陷均為相同程度，因此，儘管散射、彌散之光之亮度相同，仍會發生不能依照雜訊信號之斜率為正或負來檢測缺陷信號之問題。

本發明之目的是提供不會降低S/N，可進行精度佳之缺陷檢測之缺陷檢查方法及裝置。

另外，本發明之目的是提供可防止缺陷部份之檢測失誤之缺陷檢查方法及裝置。

為達成該目的和其他目的，本發明是一種缺陷檢測裝置，其在配置成正交尼科耳之第1偏光板和第2偏光板之間配置有膜之狀態下，檢測該膜上之缺陷，具備：光照射手段，使未具有或只具有一亮線之光經由該第1偏光板， 照射光在該膜；受光手段，經由該第2偏光板，接受從該膜發出之光；和缺陷檢測手段，根據來自該受光器之輸出信號，檢測該膜之缺陷。

較佳係使該膜為相位差膜，該第1和第2偏光板之偏光方向相對於該相位差膜之遲相軸朝向45°之方向。較佳係使該光照射手段為鹵素燈泡。較佳係使該第1和第2偏光板為碘素系偏光板。

本發明之缺陷檢測方法具備：使未具有或只具有一亮線之光經由該第1偏光板，照射光在該膜之步驟；經由該第2偏光板，以受光手段接受從該膜發出之光之步驟；和根據來自該受光器之輸出信號，檢測該膜之缺陷之步驟。

本發明是一種缺陷檢測裝置，用來檢測膜之缺陷，具備：受光手段，具有排列成線狀之複數像素，在該膜之寬度方向掃描，輸出時間系列之輸出信號；微分處理手段，對該輸出信號施以微分處理；極值信號檢測手段，檢測在利用該微分處理手段所獲得之微分處理信號中既定像素範圍內亮度值成為最大之極大信號，和既定像素範圍內亮度值成為最小之極小信號；差分值算出手段，求得預先設定之基準信號之亮度值和該極大信號之亮度值之差分作為第1差分值，和該基準信號之亮度值和該極小信號之亮度值之差分作為第2差分值；加算手段，求得第1差分值和第2差分值相加後之加算值；和缺陷信號指定手段，在該加算值為一定值以上情況下，指定該極值信號檢測手段所檢測到之極大信號和極小信號成為缺陷信號。

另外，較佳係具備：第1和第2偏光板，配置成偏光 方向互相正交；和光照射手段，對位於該第1偏光板和該第2偏光板之間之該膜照射光。較佳係使該膜為相位差膜，該第1和第2偏光板之偏光方向相對於該相位差膜之遲相朝向45°之方向。

本發明之缺陷檢測方法具備：利用具備排列成線狀之複數像素之受光手段，在該膜之寬度方向掃描用來獲得時間系列之輸出信號之步驟；對該輸出信號施加微分處理之步驟；檢測在該微分處理信號中既定像素範圍內亮度值成為最大之極大信號，和既定像素範圍內亮度值成為最小之極小信號之步驟；求得預先設定之基準信號之亮度值和該極大信號之亮度值之差分作為第1差分值，和求得該基準信號之亮度值和該極小信號之亮度值之差分作為第2差分值之步驟；求得第1差分值和第2差分值相加後之加算值之步驟；和在該加算值為一定值以上情況下，指定該極大信號和極小信號成為缺陷信號之步驟。

依照本發明時，因為使用亮線少之光照射手段照明該膜，所以不會降低S/N，可以進行精度佳之缺陷檢測。另外，依照本發明時，因為利用微分處理信號之最大值和最小值檢測缺陷，所以可以防止缺陷部份之檢測失誤。

如第1圖所示，相位差膜製造線10具備定向膜形成裝置11、液晶層形成裝置12、缺陷檢測裝置13及捲取裝置14。

定向膜形成裝置11對從膜捲筒18送出之透明樹脂膜15之表面塗布包含定向膜形成用樹脂之塗布液，然後進行 乾燥處理。利用此種方式，在透明樹脂膜15之表面形成樹脂層。然後，定向膜形成裝置11對樹脂層進行摩擦處理以形成定向膜。

液晶層形成裝置12對定向膜上塗布包含液晶化合物之塗布液，塗布後進行加熱乾燥以形成液晶層。然後，對液晶層照射紫外線，以使定向膜和液晶層接合。利用此種方式，獲得在透明樹脂膜15上形成有定向膜和液晶層之相位差膜16(以下簡稱為「膜」)。膜16在經過缺陷檢測裝置13之後以捲取裝置14捲取。在此處從膜捲筒18退出至捲取在捲取裝置14之膜16之搬運方向為X方向。

缺陷檢測裝置13用來檢測在膜16上發生之缺陷。該缺陷有如刮傷，厚度不均，塗布不均，分子定向不均等。另外，缺陷檢測裝置之檢查對象除了相位差膜外，亦可為防止反射膜等。

缺陷檢測裝置13具備導引滾子20，21、光照射器22、光量調整部23、受光器24。第1和第2偏光板25，26、除去光學系27和控制器28。導引滾子20，21沿著膜16之搬運路徑配置，隨著膜16之搬運進行旋轉。編碼器30連接於導引滾子21，編碼器30在膜16每搬運一定長度產生編碼脈波信號。編碼脈波信號發信到控制器28，以指定膜16之長度方向之缺陷位置。

光照射器22設在膜16之搬運路徑之下方，進行在膜16之寬度方向延伸之帶狀之照明。該光照射器22使用鹵素燈泡。如第2圖所示，該鹵素燈泡之波長在600nm和800nm之間，只具有一所謂亮線之放射強度之尖峰。由於從鹵素燈泡發出之光只有一亮線，所以在膜16上幾乎不會產生干 涉條紋。另外，即使在暫時產生干涉條紋情況下，光相互增強明亮部份之亮度只比從鹵素燈泡發出之光之亮度稍大之程度。因此，干涉條紋不會對缺陷檢測之精度造成影響。另外，只要是未具有或只具有一亮線之光照射器，亦可以使用鹵素燈泡以外者。另外，亦可以在鹵素燈泡和第1偏光板之間設置除去波長600nm以上之光之除去光學系，從鹵素燈泡所發出之光中除去亮線。

光量調整部23根據設在光照射器22附近之感測器(圖示省略)所檢測到之光量檢測信號，控制光照射器22。由於藉此可對膜16照射光量均一之光，因此，可用經常相同之敏感度進行缺陷檢測。

第1和第2偏光板25，26由碘素系偏光板構成，在光照射器22和膜16之間設置第1偏光板25，在膜16和受光器24之間設置第2偏光板26。另外，第1和第2偏光板25，26配置成使偏光方向25a，26a互相正交(正交尼科耳(crossed Nichol))。另外，雖然從性能和價格方面考慮，使第1和第2偏光板為碘素系偏光板，但是亦可以使用其他染料系偏光板，金屬偏光器，或由方解石等構成之偏光板。

藉由第1和第2偏光板25，26配置成正交尼科耳，在沒有缺陷之膜16情況下，從光照射器22發出之光以第1偏光板25偏光到偏光方向25a之後，直接透過膜16，被另外一方之第2偏光板26遮蔽。因此，透過正常部份之光幾乎不會進入到受光器24。相對於此，在有異物混入，刮傷等之定向缺陷之膜16情況下，從光照射器22發出之光以第1偏光板25偏光到偏光方向25a之後，在膜16上散射、彌散。散射、彌散之光因為偏光方向變化，所以透過另外 一方之第2偏光板26進入受光器24。

膜上之刮傷，異物混入等之定向缺陷產生散射光，所以利用第1和第2偏光板25，26兩片之正交尼科耳配置，可用只使散射光透過之受光器24檢測。但是，因為塗布厚度不均等之缺陷(相位差缺陷)不產生散射光，所以在使第1和第2偏光板25，26兩片成為正交尼科耳配置之橫構造中，不能檢測該缺陷。但是，該塗布厚度不均等之缺陷在使第1和第2偏光板25，26兩片成為正交尼科耳配置之狀態下，可藉由使膜16之遲相軸和第1偏光板之偏光方向25a交叉，予以檢測。

第4圖表示使第1偏光板之偏光方向25a相對於膜16之遲相軸之角度θ產生變化時，透過第1和第2偏光板25，26兩片之光之透射光量比。在角度θ為0°時成為消光模態，透射光量比(%)為「0.00」。角度θ為45°時成為藍模態。在該藍模態透射光量比(%)約為「0.80」。當使角度θ成為45°時，透射光量變成最大。在此處透射光量比(%)表示第2偏光板26之射出光相對於第1偏光板25之射入光之比例。

另外，如第5圖所示，即使角度θ相同，，透射光量比(%)仍因膜16之缺陷部份相對於正常部份之相位差透射光而變化。在該第5圖中，「○」是角度θ為0°，「□」是角度θ為15°，「△」是角度θ為30°，「◇」是角度θ為45°。相位差越大，透射光量變成越大。

如以上，在使第1和第2偏光板25，26兩片成為正交尼科耳配置之狀態下，第1偏光板之偏光方向25a相對於膜16之遲相軸之角度θ成為45°，可以從正常部份之透射 光量和成為塗布厚度不均之缺陷部份之透射光量之差，檢測塗布厚度不均(相位差缺陷)。

因此，在本實施形態中，如第3圖所示，第1偏光板之偏光方向25a相對於膜16之遲相軸之角度θ設定成為45°，第2偏光板之偏光方向26a相對於膜16之遲相軸之角度(90°-θ)成為45°。另外，亦可以使膜之遲相軸方向與膜搬運方向X相同。

第6圖表示正交尼科耳配置之一對之偏光板之光透過特性。當在膜上沒有缺陷時，從第1和第2偏光板25，26只發出波長不滿700nm之光，但是由於該等之偏光板之特性，因此，波長超過700nm之光會以高透射率洩漏。除去光學系27由紅外線切斷濾光器構成，配置在受光器24之前。該紅外線切斷濾光器將斜線所示區域35內之光(紅外線)切斷。因此，除去從第2偏光板26發出之光中波長在700nm以上之光(紅外線)，只有波長不滿700nm之光射入到受光器24。

受光器24由CCD攝像機構成，設置在膜16之搬運路徑之上方。CCD攝像機具有攝像裝置，配置多個受光元件，使其在膜16之寬度方向成為線狀，在膜16之寬度方向進行掃描，產生作為輸出信號之掃描信號(攝像信號)。該輸出信號如第7(A)圖所示，包含由於膜16上之缺陷所產生之缺陷信號，和從第1和第2偏光板25，26稍微洩漏之雜訊信號。另外，受光器不只一台，較佳係設置多台。另外，攝像裝置亦可以使用二次元配置受光元件之影像區域感測器

受光器24一般亦對波長超過700nm之光進行光電變 換，但是利用除去光學系27除去700nm以上之光。由於僅依照膜16上之缺陷所產生之光光電變換，所以可將雜訊信號抑制至最小限度，可獲得很大的S/N(缺陷信號/雜訊信號)。例如，在檢測到由於塗布厚度不均產生之塗布條紋情況下，於未利用除去光學系27除去700nm以上之光時，S/N為「1.5」，相對於此，在除去700nm以上之光時，S/N提高為「2.1」。

如第3圖所示，控制器28具備：缺陷信號檢測部32，從來自受光器24之輸出信號(攝像信號)中檢測缺陷信號；和缺陷位置指定部33，根據缺陷信號和來自編碼器30之編碼脈波信號，指定膜16之長度方向之缺陷之位置。缺陷信號檢測部32由微分處理部32a，極值信號檢測部32b，亮度值演算部32c，和缺陷信號指定部32d構成。

微分處理部32a對第7(A)圖所示之輸出信號40施以微分處理。利用此種方式，如第7(B)圖所示，獲得將亮度值變化大之部份強調之信號42(以下稱為「微分處理信號」)。其次，極值信號檢測部32b，如第8圖所示，從微分處理信號42之中，檢測在一定像素範圍內之亮度值成為最大之極大信號50a，51a，52a，和在一定像素範圍內之亮度值成為最小之極小信號50b，51b，52b。

亮度值演算部32c求得預先設定之基準信號55之亮度值和極大信號50a，51a，52a之亮度值之差分LA1，LB1，LC1(以下稱為「第1差分值」)，和求得基準信號55之亮度值和極小信號50b，51b，52b之亮度值之差分LA2，LB2，LC2(以下稱為「第2差分值」)。在此處，基準信號55是使雜訊信號平均化者，每次進行缺陷檢測時依序更新。然 後，亮度值演算部32c求得使第1差分值LA1，LB1，LC1和第2差分值LA2，LB2，LC2相加後之加算值LA，LB，LC。

缺陷信號指定部32d判定亮度值演算部32c所求得之加算值LA，LB，LC是否在一定值以上。判定之結果於加算值LA，LB，LC在一定值以上情況下，指定極大信號50a，51a，52a和極小信號50b，51b，52b為缺陷信號。在第8圖中，因為加算值LA，LB，LC全部在一定值以上，所以將檢測到之信號全部指定為缺陷信號。

在先前技術中，如第7(B)圖所示，對微分處理信號42設定一定之臨限值Th，由於超過該臨限值Th之信號成為缺陷信號，因此，於亮度變化大之信號為臨限值Th以下之信號(第7(B)圖中之右側之信號)情況下，不檢測為缺陷信號。相對於此，在本發明中因為以亮度值之變化量代替臨限值Th來指定缺陷信號，所以可確實檢測膜16上之缺陷。

其次說明本發明之缺陷檢測裝置之作用。經由定向膜形成裝置11和液晶層形成裝置12，將膜16送入到缺陷檢測裝置13。光照射器22對在第1偏光板25和第2偏光板26之間行走之膜16照射光。由於光照射器22使用鹵素燈泡而只有一光亮線，因此，在膜16上不會產生使雜訊變大之原因之一之干涉條紋。

來自光照射器22之光利用第1偏光板25偏光在偏光方向25a。在膜16上有異物混入等之定向缺陷情況下，來自第1偏光板25之光因在缺陷之散射、彌散變化其偏光方向，所以從第2偏光板26發出光。另外，有塗布不均等之相位差缺陷之情況亦相同。由於第1和第2偏光板25，26 之特性，波長700nm以上之光直接透過第1和第2偏光板25，26。

從第2偏光板26發出之光利用除去光學系27除去波長700nm以上之光，射入到受光器24。受光器24將射入之光變換成為電信號，依序一一讀出每一像素。該受光器24之輸出信號40發送到控制器28。

控制器28內之微分處理部32a對來自受光器24之輸出信號40施加微分處理。從施加過微分處理之微分處理信號42，利用極值信號檢測部檢測極大信號50a，51a，52a和極小信號50b，51b，52b。然後，利用亮度值演算部32c求得預先設定之基準信號55之亮度值和極大信號50a，51a，52a之亮度值之差分作為第1差分值LA1，LB1，LC1，和求得基準信號55之亮度值和極小信號50b，51b，52b之亮度值之差分作為第2差分值LA2，LB2，LC2。然後，利用亮度值演算部32c求得使第1差分值LA1，LB1，LC1和第2差分值LA2，LB2，LC2相加後之加算值LA，LB，LC。在求得之加算值LA，LB，LC為一定之值以上之情況時，缺陷信號指定部32d指定利用極值信號檢測部32b檢測到之極大信號50a，51a，52a和極小信號50b，51b，52b成為缺陷信號。然後，缺陷位置指定部33根據缺陷信號和編碼脈波信號，指定膜16上之缺陷位置。控制器28之控制結果顯示在顯示器(未圖示)。

另外，在上述實施形態中，除去光學系27是使用紅外線切斷濾光器，但是亦可以使用其他使用有介電質多層膜之帶通濾光器，單色儀，波長切斷濾光器，色玻璃濾光器，繞射格子等。另外，以除去光學系27除去之光之波長區域 不一定要限定在700nm以上，亦可以依照缺陷檢測所使用之偏光板之種類適當地變更。

其次，利用實施例1和比較例1，2來具體地說明本發明。

[實施例1]

使用第3圖所示之缺陷檢測裝置13，進行膜16上之缺陷檢測。在檢查對象之膜16之下方設置鹵素燈泡之光照射器22，在其上方設置受光器24。在光照射器22和膜16之間設置第1偏光板25，在膜16和受光器24之間設置第2偏光板26。另外，使第1偏光板25之偏光方向25a相對於膜16之遲相軸成為45°，第2偏光板26之偏光方向26a相對於X方向成為45°。第1和第2偏光板25，26使用碘素系偏光板，受光器24使用CCD線攝像機。

在受光器24之前設置由紅外線切斷濾光器構成之除去光學系27。利用除去光學系27除去來自第2偏光板26之光中波長700nm以上之光。受光器24檢測除去光學系27所發出之光，將檢測到之信號發信到控制器28。控制器28藉由對利用受光器24獲得之信號施以微分處理，獲得微分處理信號42。從微分處理信號42，利用極值信號檢測部32b檢測在一定像素範圍內成為最大之極大信號50a，51a，52a，和成為最小之極小信號50b，51b，52b。然後，求得預先設定之基準信號55之亮度值和極大信號50a，51a，52a之亮度值之差分作為第1差分值LA1，LB1，LC1，和求得基準信號55之亮度值和極小信號50b，51b，52b之亮度值之差分作為第2差分值LA2，LB2，LC2，然後，求得使第1差分值LA1，LB1，LC1和第2差分值LA2， LB2，LC2相加後之加算值LA，LB，LC。在求得之加算值LA，LB，LC為一定值以上情況下，指定利用極值信號檢測部32b所檢測到之極大信號50a，51a，52a和極小信號50b，51b，52b成為缺陷信號。

[比較例1]

代替鹵素燈泡，使用從金屬鹵化物燈泡發出之光，除此之外進行與實施例1相同之缺陷檢測。

[比較例2]

代替鹵素燈泡者，使用從螢光燈發出之光，除此之外進行與實施例1相同之缺陷檢測。

[評估]

對上述實施例1和比較例1，2所進行之缺陷檢查，評估在膜上產生何種程度之干涉條紋，S/N為何種程度，綜合評估各個實施例和比較例。另外，使用習知之分光測定器，測定各個實施例和比較例之光照射器之分光放射強度，從其測定結果檢查有多少亮線。

第9圖顯示各個實施例和比較例所測定到之分光放射強度，圖形60表示鹵素燈泡之分光放射強度，圖形61表示金屬鹵化物燈泡之分光放射強度，圖形62表示螢光燈之分光放射強度， 第10圖顯示實施例和比較例之評估結果。第10圖之光照射器表示各個實施例和比較例所使用之光照射器之種類，亮線表示從光照射器發出之光之亮線之數目。另外，干涉條紋之「O」表示在膜上未發生有干涉條紋，「X」表示在膜上發生有干涉條紋。另外，「S/N」之「O」表示S/N為2以上，「△」表示S/N為1.5以上。另外，評估 之「O」表示檢測到製品上成為問題之缺陷，「X」表示不能確實地檢測製品上成為問題之缺陷。另外，對於S/N假如為「2」以上時可以穩定地進行缺陷檢測。

在實施形態1中只有一條從鹵素燈泡發出之光之亮線，所以不會在膜上發生干涉條紋。相對於此，在比較例1和2中，因為有兩條以上之亮線，所以在膜上產生亮部份和暗部份明確之干涉條紋。由於該干涉條紋之影響使S/N降低，不能確實地進行製品上成為問題之缺陷之檢測。

10‧‧‧相位差膜製造線

11‧‧‧定向膜形成裝置

12‧‧‧液晶層形成裝置

13‧‧‧缺陷檢測裝置

14‧‧‧捲取裝置

15‧‧‧透明樹脂膜

16‧‧‧膜

18‧‧‧膜捲筒

20，21‧‧‧導引滾子

22‧‧‧光照射器

23‧‧‧光量調整部

24‧‧‧受光器

25‧‧‧第1偏光板

25a‧‧‧偏光方向

26‧‧‧第2偏光板

26a‧‧‧偏光方向

27‧‧‧除去光學系

28‧‧‧控制器

30‧‧‧編碼器

32‧‧‧缺陷信號檢測部

32a‧‧‧微分處理部

32b‧‧‧極值信號檢測部

32c‧‧‧亮度值演算測部

32d‧‧‧缺陷信號指定部

33‧‧‧缺陷位置指定部

40‧‧‧輸出信號

42‧‧‧微分處理信號

50a，51a，52a‧‧‧極大信號

50b，51b，52b‧‧‧極小信號

55‧‧‧基準信號

LA，LB，LC‧‧‧加算值

LA1，LB1，LC1‧‧‧第1差分值

LA2，LB2，LC2‧‧‧第2差分值

第1圖是相位差膜製造線之概略圖。

第2圖之圖形表示鹵素燈泡之分光放射強度。

第3圖是缺陷檢測裝置之立體圖。

第4圖之圖形表示第1偏光板之偏光方向對膜之遲相軸之角度θ，和透射光量比之關係。

第5圖之圖形表示膜之相位差和透射光量比之關係。

第6圖之圖形表示配置成為正交尼科耳之一對偏光板之分光透射率。

第7(A)圖之圖形表示輸出信號，第7(B)圖之圖形表示對輸出信號施加微分處理之微分處理信號。

第8圖是說明圖，用來說明本發明之缺陷檢測方法。

第9圖之圖形表示鹵素燈泡，金屬鹵化物燈泡，螢光燈之分光放射強度。

第10圖表示實施例1和比較例1，2之結果。

13‧‧‧缺陷檢測裝置

16‧‧‧膜

22‧‧‧鹵素燈泡

23‧‧‧光量調整部

24‧‧‧受光器

25‧‧‧第1偏光板

25a‧‧‧偏光方向

26‧‧‧第2偏光板

26a‧‧‧偏光方向

27‧‧‧除去光學系

28‧‧‧控制器

30‧‧‧編碼器

32‧‧‧缺陷信號檢測部

32a‧‧‧微分處理部

32b‧‧‧極值信號檢測部

32c‧‧‧亮度值演算部

32d‧‧‧缺陷信號指定部

33‧‧‧缺陷位置指定部

Claims (5)

1. 一種缺陷檢測裝置，用來檢測膜之缺陷，具備：受光手段，具有排列成線狀之複數個像素，在該膜之寬度方向進行掃描並輸出時間系列之輸出信號；微分處理手段，對該輸出信號施以微分處理；極值信號檢測手段，係在利用該微分處理手段所獲得之微分處理信號中，檢測在既定像素範圍內亮度值成為最大之極大信號和在既定像素範圍內亮度值成為最小之極小信號；差分值算出手段，求得預先設定且每次進行缺陷檢測時依序更新之基準信號之亮度值和該極大信號之亮度值之差分作為第1差分值，並求得該基準信號之亮度值和該極小信號之亮度值之差分作為第2差分值；加算手段，求得將第1差分值和第2差分值相加所得之加算值；和缺陷信號指定手段，在該加算值為一定值以上的情況下，指定由該極值信號檢測手段所檢測到之極大信號和極小信號作為缺陷信號。
2. 如申請專利範圍第1項之缺陷檢測裝置，其中更具備：第1和第2偏光板，配置成彼此的偏光方向互相正交；和光照射手段，對位於該第1偏光板和該第2偏光板之間之該膜照射光。
3. 如申請專利範圍第1或2項之缺陷檢測裝置，其中該膜 為相位差膜，該第1和第2偏光板之偏光方向相對於該相位差膜之遲相軸朝向45°之方向。
4. 如申請專利範圍第2項之缺陷檢測裝置，其中更具備除去光學系，該除去光學系是除去從該第2偏光板發出的光中之波長為700nm以上的光，且該受光手段接收來自該除去光學系的光。
5. 一種缺陷檢測方法，其係用來檢測膜之缺陷，具備以下步驟：利用具備排列成線狀之複數個像素之受光手段，在該膜之寬度方向進行掃描並獲得時間系列之輸出信號；對該輸出信號施以微分處理；在該微分處理信號中，檢測在既定像素範圍內亮度值成為最大之極大信號和在既定像素範圍內亮度值成為最小之極小信號；求得預先設定且每次進行缺陷檢測時依序更新之基準信號之亮度值和該極大信號之亮度值之差分作為第1差分值，並求得該基準信號之亮度值和該極小信號之亮度值之差分作為第2差分值；求得將第1差分值和第2差分值相加所得之加算值；和在該加算值為一定值以上情況下，指定該極大信號和極小信號作為缺陷信號。