TWI412664B - 流體輸送裝置 - Google Patents

Description

流體輸送裝置

本案係關於一種流體輸送裝置，尤指一種可增加流速並減少瞬間逆向流之流體輸送裝置。

目前於各領域中無論是醫藥、電腦科技、列印、能源等工業，產品均朝精緻化及微小化方向發展，其中微幫浦、噴霧器、噴墨頭、工業列印裝置等產品所包含之流體輸送結構為其關鍵技術，是以，如何藉創新結構突破其技術瓶頸，為發展之重要內容。

請參閱第一圖A及第一圖B，第一圖A係為習知流體輸送裝置之正面分解結構示意圖，第一圖B則為第一圖A之反面分解結構示意圖。習知流體輸送裝置1係由閥體座10、閥體薄膜11、閥體蓋體12、致動裝置13及蓋體14所組成。如第一圖A所示，習知流體輸送裝置1之組裝方式係將閥體薄膜11設置於閥體座10及閥體蓋體12之間，並使閥體薄膜11與閥體座10及閥體蓋體12相互堆疊結合，且在閥體蓋體12上之相對應位置更設置有致動裝置13。致動裝置13係由一振動薄膜131以及一致動器132組裝而成，用以驅動微流體輸送裝置1之作動。最後，再將蓋體14設置於致動裝置13之上方，以完成習知流體輸送裝置1之組裝。

如第一圖A所示，閥體座10具有一個入口通道101以及一個出口通道102，流體係經由入口通道101傳送至閥體座10上表面之一開口103。以及，在閥體薄膜11及閥體座10之間具有出口暫存腔104，用以暫時儲存流體，並使該流體由出口暫存腔104經由一開口105而自出口通道102排出。至於，閥體薄膜11上則具有入口閥門結構111及出口閥門結構112，其係分別與開口103及開口105相對應。

閥體蓋體12具有入口閥門通道122及出口閥門通道123，其係分別對應於入口閥門結構111及出口閥門結構112，且在閥體薄膜11及閥體蓋體12之間具有入口暫存腔124(如第一圖B所示)。以及，在閥體蓋體12之上表面具有與致動裝置13之致動器132相對應設置之壓力腔室126，且壓力腔室126係經由入口閥門通道122連通於入口暫存腔124，並同時與出口閥門通道123相連通。

請參閱第一圖B並配合第一圖C、D、E，習知流體輸送裝置1之閥體蓋體12的下表面121之出口閥門通道123的邊緣具有微凸結構125，用以與出口閥門結構112相抵頂，俾可施一預力於出口閥門結構112。當入口閥門結構111開啟而使流體流入閥體蓋體12內部時，如第一圖D所示，在閥體薄膜11受到壓力腔室126體積增加而產生之吸力作用下，由於設置於閥體蓋體12之微凸結構125已提供出口閥門結構112一預力(Preforce)，因而可產生預蓋緊效果，以防止逆流。且因壓力腔室126之負壓而使入口閥門結構111產生位移，則流體可經由入口閥門結構111由閥體座10流至閥體蓋體12之入口暫存腔124，並經由入口暫存腔124及入口閥門通道122傳送至壓力腔室126內，以使入口閥門結構111即可因應壓力腔室126產生之正負壓力差而迅速的開啟或關閉，以控制流體之進出，並使流體不會回流至閥體座10上。

至於出口閥門結構112相抵頂之微凸結構125設置方向係跟與入口閥門結構111相抵頂之微凸結構106反向設置，因而當壓力腔室126壓縮而產生一推力時，如第一圖E所示，設置於閥體座10上表面之微凸結構106將提供入口閥門結構111一預力，以產生預蓋緊效果，並防止逆流，當因壓力腔室126之正壓而使出口閥門結構112產生位移，此時，流體則可經由壓力腔室126經閥體蓋體12而流至閥體座10之出口暫存腔104內，並可經由開口105而自出口通道102排出，如此一來，則可經由出口閥門結構112開啟之機制，將流體自壓力腔室126洩出，以達到流體輸送之功能。

在習知的流體輸送裝置1中，主要是透過致動裝置13的驅動，而使壓力腔室126膨脹或收縮以產生壓力差，進而趨動流體自入口閥門結構111流入壓力腔室126內，或是由出口閥門結構112流出壓力腔室126之外。然而，這樣的作動方式容易使得入口閥門結構111及出口閥門結構112會產生作動不穩定的情況，尤其當入口閥門結構111於高頻反覆的作動下，輔以流體的不規則紊流，更易造成入口閥門結構111的規則性運動被擾亂。

另外，單純的透過壓力腔室126膨脹或收縮而趨動流體流動，亦會使得流體的流動效率較差，如第一圖D所示，當流體自入口閥門結構111流入入口閥門通道122中時，其流動路徑係可朝向壓力腔室126之不同方向，故部分流體會朝向具離出口方向較遠的地方流動，並產生滯留的情況，進而導致習知的流體輸送裝置1的效能較差。

有鑑於此，如何發展一種閥門結構作動較穩定、流動效率較高之流體輸送裝置，以解決習知技術之缺失，實為相關技術領域者目前所迫切需要解決之問題。

本案之目的在於提供一種流體輸送裝置，其係藉由抵頂結構抵頂於入口閥門結構，以限制入口閥門結構之開啟方向及開度，並使入口閥門結構於作動時更穩定，再透過傾斜結構所形成之單向漸斜深度壓力腔室以及圓錐狀之出口閥門通道，以導引流體大量、迅速地、且集中地朝向出口閥門結構流動，俾解決習知流體輸送裝置之閥門作動不穩定、流動效率較低、效能較差等缺失。

為達上述目的，本案之一較廣義實施態樣為提供一種 流體輸送裝置，用以傳送流體，其係包含：閥體座，其係具有出口通道及入口通道；閥體蓋體，其係設置於閥體座上，並具有傾斜結構；閥體薄膜，設置於閥體座及閥體蓋體之間，並具有入口閥門結構及出口閥門結構；以及致動裝置，其週邊係固設於閥體蓋體下，且具有振動薄膜及致動片，於未作動狀態時，振動薄膜係與閥體蓋體分離，以定義形成單向漸斜深度之壓力腔室；其中，當致動片受電壓驅動而造成彎曲變形時，與致動片連接之振動薄膜將連動而使壓力腔室體積改變，進而產生壓力差推動流體，由入口通道流經入口閥門結構，進入壓力腔室，並藉由閥體蓋體之傾斜結構導引流體自單向漸斜深度之壓力腔室流向出口閥門結構，再由出口通道流出。

為達上述目的，本案之另一較廣義實施態樣為提供 一種流體輸送裝置，用以傳送流體，其係包含：閥體座，其係具有出口通道及入口通道；閥體蓋體，其係設置於閥體座上，並具有傾斜結構以及抵頂結構；閥體薄膜，設置於閥體座及閥體蓋體之間，並具有入口閥門結構及出口閥門結構，其中入口閥門結構之一側係與抵頂結構相抵頂；以及致動裝置，其週邊係固設於閥體蓋體下，且具有振動薄膜及致動片，於未作動狀態時，振動薄膜係與閥體蓋體分離，以定義形成單向漸斜深度之壓力腔室；其中，當致動片受電壓驅動而造成彎曲變形時，與致動片連接之振動薄膜將連動而使壓力腔室體積改變，進而產生壓力差推動流體，由入口通道流經入口閥門結構，透過抵頂結構抵頂於入口閥門結構之一側，俾使流體朝出口方向流入壓力腔室，並藉由閥體蓋體之傾斜結構導引流體自單向漸斜深度之壓力腔室流向出口閥門結構，再由出口通道流出。

體現本案特徵與優點的一些典型實施例將在後段的說明中詳細敘述。應理解的是本案能夠在不同的態樣上具有各種的變化，其皆不脫離本案的範圍，且其中的說明及圖式在本質上係當作說明之用，而非用以限制本案。

請參閱第二圖A，其係為本案第一較佳實施例之流體輸送裝置之反面分解結構示意圖。如圖所示，流體輸送裝置2係由閥體座20、閥體薄膜21、閥體蓋體22、致動裝置23及蓋體24所組成。且其組裝方式係將閥體薄膜21設置於閥體座20及閥體蓋體22之間，並使閥體薄膜21與閥體座20及閥體蓋體22相互堆疊結合，且在閥體蓋體22上之相對應位置更設置有致動裝置23。致動裝置23係由一振動薄膜231以及一致動器232組裝而成，用以驅動微流體輸送裝置2之作動，以及，於未作動狀態下，振動薄膜231係與閥體蓋體22分離，以定義形成單向漸斜深度之壓力腔室226(如第三圖A所示)。最後，再將蓋體24與致動裝置23、閥體蓋體22以及閥體座20對應組合，以完成流體輸送裝置2之組裝。

其中，閥體座20具有一個入口通道201以及一個出口通道202，流體即經由入口通道201傳送至閥體座20上之開口203(如第三圖B所示)。以及，在閥體薄膜21及閥體座20之間具有出口暫存腔204(如第三圖A所示)，用以暫時儲存流體，並使該流體自開口205流經出口暫存腔204，再由閥體座20之出口通道202排出。

閥體薄膜21主要係為一厚度實質上相同之薄片結構，其上係具有複數個鏤空閥開關，包含第一閥開關以及第二閥開關，於本實施例中，第一閥開關係為入口閥門結構211，而第二閥開關係為出口閥門結構212，其中，入口閥門結構211係具有入口閥片211a以及複數個環繞入口閥片211a週邊而設置之鏤空孔洞211b，另外，在孔洞211b之間更具有與入口閥片211a相連接之延伸部211c。同樣地，出口閥門結構212同樣具有出口閥片212a、環繞出口 閥片212a週邊而設置之鏤空孔洞212b以及與出口閥片212a相連接之延伸部212c等結構。

閥體蓋體22具有入口閥門通道222及出口閥門通道223，其係分別對應於入口閥門結構211及出口閥門結構212，且在閥體薄膜21及閥體蓋體22之間具有入口暫存腔224。在出口閥門通道223的邊緣具有微凸結構225，用以與出口閥門結構212之出口閥片212a相抵頂，俾可施一預力予出口閥片212a(如第三圖A所示)。以及，在閥體蓋體22之一表面具有與致動裝置23之致動器232相對應設置之壓力腔室226(如第三圖A所示)，該壓力腔室226係經由入口閥門通道222連通於入口暫存腔224，並同時與出口閥門通道223相連通。

另外，如第二圖A所示，在閥體座20上更具有複數個凹槽結構(未圖示)，用以供密封環207設置於其上，藉由設置於凹槽內之密封環207以使閥體座20與閥體薄膜21之間緊密的貼合，以防止流體外洩。同樣地，在閥體蓋體22上亦具有複數個凹槽結構，以本實施例為例，在閥體蓋體22之表面221上具有環繞設置於入口暫存腔224之凹槽224a、環繞設置於出口閥門通道223之凹槽223a，以供密封環229a置於其中，並可藉由設置於凹槽223a及224a內之密封環229a使閥體蓋體22與閥體薄膜21之間緊密的貼合，以防止流體外洩。當然，在閥體蓋體22之另一側亦具有環繞於壓力腔室226而設置之凹槽(未圖示)，且其亦可對應設置密封環229b，俾使致動裝置23之致動薄膜231與閥體蓋體22之間可緊密貼合，以防止流體外洩。

請同時參閱第二圖B、第二圖C，其中第二圖B係為第二圖A所示之流體輸送裝置之上視結構示意圖，第二圖C則為第二圖A所示之閥體蓋體之上視結構示意圖。如第二圖B所示，於本實施例中，入口通道201以及一個出口通道202係設置於閥體座20之同一側面上，且入口通道201係與入口閥門結構211相連通，出口通道202係與出口閥門結構212相連通，其中，當致動裝置23之致動片232受電壓驅動而造成彎曲變形時，與致動片232連接之振動薄膜231將連動而使壓力腔室226的體積改變，進而產生壓力差推動流體，由入口通道201流經入口閥門結構211，進入壓力腔室226，並由出口閥門結構212流至出口通道202，進而達到流體輸送之目的。

以及，於本實施例中，壓力腔室226之空間係為一單向漸斜深度之設計，即如第二圖B及第二圖C所示之圓弧形壓力腔室226，其於入口閥門通道222端的深度較淺，且於出口閥門通道223處的深度較深，且此單向漸斜深度之腔室空間設計主要係透過設置於入口閥門通道222端以及出口閥門通道223之間的傾斜結構228(如第三圖A所示)，進而可使壓力腔室226於入口閥門通道222端及出口閥門通道223處的深度不一，俾可導引壓力腔室226中的流體自入口閥門通道222順沿傾斜結構228而流至出口閥門通道223。

請同時參閱第三圖A、B、C，其係分別為第二圖B所示之AA剖面結構示意圖、流體流入第三圖A所示之入口閥門結構時之剖面結構示意圖以及流體流出第三圖A所示之出口閥門結構時之剖面結構示意圖。如第三圖A所示，於本實施例中，另一輔助流體流動之結構係為抵頂結構227，其係設置於閥體蓋體22之入口閥門通道222之一側，當流體經由入口閥門結構211由閥體座20流至閥體蓋體22之入口暫存腔224時，則如第三圖B所示，抵頂結構227會抵頂於入口閥片211a之一側，因而使入口閥片211a朝向未被抵頂與阻擋之一側傾斜，藉此以使流體可自該未被阻擋之入口閥片211a側邊的孔洞211b而流出。如此一來，透過抵頂結構227之抵頂，使入口閥片211a傾斜而具有不同之開度，進而可導引流體朝向該未被抵頂之一側流動，即流體可朝向距離出口閥門結構212較短之路徑流動。與習知技術之流體輸送裝置1相較，本案之流體輸送裝置2的入口閥門結構211係藉由抵頂結構227之抵頂，使得入口閥門結構211於開啟時僅具有一側開啟，且其開啟之開度較大、並朝向出口閥門結構212之方向開啟，進而可導引流體多量、迅速地自入口閥門結構211流入壓力腔室226中，並朝向路徑較短的方向流至出口閥門結構212。且由於本案之流體輸送裝置2的入口閥門結構211僅朝向出口閥門結構212的方向開啟，因此不會像習知流體輸送裝置1而產生滯流的情況。除此之外，本案之流體輸送裝置2的抵頂結構227更可確保入口閥門結構211於高頻反覆作動下的移動路徑，不會因流體之不規則紊流而擾亂入口閥門結構211之規則性運動。

於一些實施例中，出口閥門通道223係可為圓錐狀之設計，如第三圖A、B、C所示，該出口閥門通道223呈現像漏斗般下寬上窄的圓錐狀形態，進而可將壓力腔室226內部的大量流體集中、吸納、並導引至較窄處的出口閥門結構212，以更進一步地引導流體流出於出口閥門結構212，俾增加流體輸送裝置2之流動速率。

請繼續參閱第三圖B、C，如第三圖B所示，當以一電壓驅動致動器232時，致動裝置23會向下產生彎曲變形，使得壓力腔室226之體積增加，因而產生一吸力，並使已具有一預力之入口閥門結構211之入口閥片211a迅速開啟，並朝向出口側傾斜，使流體可大量地經由閥體座20上之入口通道201被吸取進來，並流經閥體薄膜21上之入口閥門結構211一側之孔洞211b、閥體蓋體22上之入口暫存腔224、入口閥門通道222而流入單向漸斜深度之壓力腔室226之內。且當閥體薄膜21受到壓力腔室226體積增加而產生之吸力作用下，由於設置於閥體蓋體22之微凸結構225已提供出口閥門結構212一預力，因而可產生預蓋緊效果，以防止逆流。

當致動裝置23因電場方向改變而如第三圖C所示向上彎曲變形時，則會壓縮單向漸斜深度之壓力腔室226的體積，使得壓力腔室226對內部之流體產生一推力，並使閥體薄膜21之入口閥門結構211、出口閥門結構212承受一推力，此時，設置於微凸結構225上之出口閥門結構212的出口閥片211a係可迅速開啟，使液體瞬間大量宣洩。同時，藉由單向漸斜深度之壓力腔室226之引導，使得流體可朝向出口閥門通道223、閥體薄膜21上之出口閥門結構212之孔洞212b、閥體座20上之出口暫存腔204而經由出口通道202排出，同樣地，此時由於入口閥門結構211係承受該推力，入口閥門結構211係整個平貼於閥體座20之上，此時入口閥片211a會緊貼於閥體座20上之微凸結構206，而密封住閥體座20上之開口203，且其外圍的鏤空孔洞211b及延伸部211c則順勢浮貼於閥體座20之上，故因此入口閥門結構211之關閉作用，使流體無法流出。藉此，透過致動裝置23之作動，使單向漸斜深度之壓力腔室226因膨脹或收縮，進而趨動流體自一端傾斜之入口閥門結構211而大量流入壓力腔室226內，再藉由壓力腔室226之單向漸斜深度設計將流體導引至出口閥門結構212處，並自出口閥門結構212流出閥體蓋體22之外。如此一來，由於在流體輸送裝置2的每一暫存腔室之間皆具有密封環207、227、228等結構，因此可有效防止流體洩漏，再者，透過壓力腔室226中的抵頂結構227、傾斜結構228可使入口閥門結構111之作動更為穩定、具規則性，更可有效導引流體朝向距離出口方向的較短路徑流動，並減少瞬間逆向流，不僅可使流體輸送裝置2之作動更為穩定，同時更能增加流體輸送裝置2之效能。

請參閱第四圖A，其係為本案第二較佳實施例之流體輸送裝置之反面分解結構示意圖。如圖所示，流體輸送裝置3係由閥體座30、閥體薄膜31、閥體蓋體32、致動裝置33及蓋體34所組成，其中，閥體座30上具有入口通道301及出口通道302、閥體薄膜31具有入口閥門結構311及出口閥門結構312，且其係分別具有入/出口閥片311a、312a、孔洞311b、312b、延伸部311c、312c等結構、閥體蓋體32具有表面321、入口閥門通道322、出口閥門通道323、入口暫存腔324、微凸結構325、壓力腔室326(如第四圖B所示)、抵頂結構327、傾斜結構328(如第五圖A所示)等結構以及致動裝置33具有致動薄膜331及致動器332。以及，在閥體座30、閥體薄膜31、閥體蓋體32的暫存腔室之間具有複數個凹槽，例如：入口暫存腔324周圍的凹槽324a以及出口閥門通道323周圍的凹槽323a，用以與對應的密封環329a對應組接，至於其他的凹槽結構，則可與相對應的密封環307及329b等對應組接，俾使該複數個暫存腔室的周圍均可達到密封效果。

於本實施例中，閥體座30、閥體薄膜31、閥體蓋體32、致動裝置33及蓋體34等結構及組裝方式均與前述實施例相仿，故於此不再贅述。惟於本實施例中，如第四圖A及B所示，在閥體座30上的入口通道301及出口通道302係設置於不同側面上，且入口通道301係與出口通道302相對應設置。以及，入口通道301係與入口閥門結構311相連通，出口通道302則與出口閥門結構312相連通，當流體自入口通道301透過入口閥門結構311而流入壓力腔室326中，係藉由致動裝置33之作動，而驅使流體進行流動，並自出口閥門結構312流至出口通道302，進而達到流體輸送之目的。

請同時參閱第四圖B及第五圖A、B、C。同樣地，於本實施例中，壓力腔室326亦為一單向漸斜深度之設計，即如第四圖B所示之圓弧形壓力腔室326，其於入口閥門通道322端的深度較淺(如第五圖A所示)，且於出口閥門通道323處的深度較深，且此單向漸斜深度之空間設計主要透過設置於入口閥門通道322以及出口閥門通道323之間的傾斜結構328，進而使壓力腔室326於入口閥門通道322端及出口閥門通道323處的深度不一，俾可導引壓力腔室326中的流體自入口閥門通道322順沿傾斜結構328而流至出口閥門通道323。

此外，於本實施例中，閥體蓋體32亦具有抵頂結構327，其係設置於閥體蓋體32之入口閥門通道322之一側，當流體經由入口閥門結構311由閥體座30流至閥體蓋體32之入口暫存腔324時，則如第五圖B所示，抵頂結構327會抵頂於入口閥片311a之一側，因而使入口閥片311a朝向未被抵頂與阻擋之一側傾斜，藉此以使流體可自該未被阻擋之入口閥片311a側邊的孔洞311b而流出。如此一來，透過抵頂結構327之抵頂，使入口閥片311a傾斜而具有不同之開度，且因其朝向出口閥門結構312之方向開啟的開度較大，進而可導引流體多量、迅速地自入口閥門結構311流入壓力腔室326中，並朝向路徑較短的方向流至出口閥門結構312，藉此，可可確保入口閥門結構311於高頻反覆作動下的移動路徑，不會因流體之不規則紊流而擾亂入口閥門結構311之規則性運動，此外，因入口閥門結構311僅朝向出口閥門結構312的方向開啟，因此流體不會有往遠處流動而產生滯流的情況。

同樣地，出口閥門通道323亦可為圓錐狀之設計，如第五圖A、B、C所示，該出口閥門通道323呈現像漏斗般下寬上窄的圓錐狀形態，進而可將壓力腔室326內部的大量流體集中、吸納、並導引至較窄處的出口閥門結構312，以更進一步地引導流體流出於出口閥門結構312，俾增加流體輸送裝置2之流動速率。

請續參閱第五圖B、C，與前述實施例相仿，當以電壓驅動致動器332時，致動裝置23會向下產生彎曲變形，如第五圖B所示，使得壓力腔室326之體積增加，並產生吸力，以使具有一預力之入口閥門結構311迅速開啟，並朝向出口側傾斜，使流體可大量地經由入口通道301被吸取進來，並流經入口閥門結構311、入口暫存腔324、入口閥門通道322而流入單向漸斜深度之壓力腔室326之內。至於在出口閥門結構312處，由於閥體薄膜31受到壓力腔室326體積增加而產生之吸力作用，輔以閥體蓋體32上的微凸結構325提供給出口閥門結構312之預力，因而可產生預蓋緊效果，以防止逆流。

當致動裝置33因電場方向改變而向上彎曲變形時，如第五圖C所示，則會壓縮單向漸斜深度之壓力腔室326的體積，使得壓力腔室326對內部之流體產生一推力，並使閥體薄膜31之入口閥門結構311、出口閥門結構312承受一推力，此時，設置於微凸結構325上之出口閥門結構312的出口閥片311a係可迅速開啟，使液體瞬間大量宣洩。同時，藉由單向漸斜深度之壓力腔室326之引導，使得流體可朝向出口閥門通道323、出口閥門結構312、出口暫存腔304而由出口通道302排出，同樣地，此時由於入口閥門結構311係承受該推力，而平貼於閥體座30之上，且入口閥片211a會緊貼於微凸結構306而進行關閉，使流體無法流出。

請參閱第六圖，其係為本案第二較佳實施例之流體輸送裝置與習知流體輸送裝置之流速比較示意圖。如圖所示，可明顯看出本案之流體輸送裝置3係透過壓力腔室326中的抵頂結構327、傾斜結構328可使入口閥門結構311之作動更為穩定、具規則性，更可有效導引流體朝向距離出口方向的較短路徑流動，同時，藉由圓錐狀之出口閥門通道323，可將流體大量導出於出口閥門結構312，並減少瞬間逆向流，進而可使流體輸送裝置3之流速增快。與習知流體輸送裝置相較，本案之流體輸送裝置3不僅流速快，可增加流體輸送裝置3之效能，同時更可使流體輸送裝置3之作動更為穩定。

綜上所述，本案之流體輸送裝置主要係透過壓力腔室中的抵頂結構以限制入口閥門結構開啟的方向與開度，進而導引流體朝向距離出口路徑較短的方向流動，且因其可限制入口閥門結構之移動路徑，因此更可維持入口閥門結構於作動時的穩定性；同時，再透過壓力腔室之傾斜結構，使壓力腔室具有朝向出口方向之單向漸斜深度設計、以及圓錐狀之出口閥門通道，使得流體可以最短路徑迅速地、大量地被導引至出口閥門結構處而排出，俾可有效增快流速、減少瞬間逆向流，且有效提升流體輸送裝置之效能。由於上述優點係為習知技術所不及者，故本案之流體輸送裝置極具產業價值，爰依法提出申請。

本案得由熟習此技術之人士任施匠思而為諸般修飾，然皆不脫如附申請專利範圍所欲保護者。

1、2、3‧‧‧流體輸送裝置
10、20、30‧‧‧閥體座
101、201、301‧‧‧入口通道
102、202、302‧‧‧出口通道
103、105、203、205‧‧‧開口
104、204‧‧‧出口暫存腔
106、125、206、225、325‧‧‧微凸結構
11、21、31‧‧‧閥體薄膜
111、211、311‧‧‧入口閥門結構
112、212、312‧‧‧出口閥門結構
12、22、32‧‧‧閥體蓋體
122、222、322‧‧‧入口閥門通道
123、223、323‧‧‧出口閥門通道
124、224、324‧‧‧入口暫存腔
126、226、326‧‧‧壓力腔室
13、23、33‧‧‧致動裝置
131、231、331‧‧‧振動薄膜
132、232、332‧‧‧致動器
14、24、34‧‧‧蓋體
211a、311a‧‧‧入口閥片
211b、212b、311b、312b‧‧‧孔洞
211c、212c、311c、312c‧‧‧延伸部
212a、312a‧‧‧出口閥片
207、229a、229b、307、329a、329b‧‧‧密封環
221、321‧‧‧表面
223a、224a、323a、324a‧‧‧凹槽
227、327‧‧‧抵頂結構
228、328‧‧‧傾斜結構

第一圖A：其係為習知流體輸送裝置之正面分解結構示意圖。

第一圖B：其係為第一圖A之反面分解結構示意圖。

第一圖C：其係為第一圖B所示之流體輸送裝置之剖面結構示意圖。

第一圖D：其係為流體流入第一圖C所示之入口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第一圖E：其係為流體流出第一圖C所示之出口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第二圖A：其係為本案第一較佳實施例之流體輸送裝置之反面分解結構示意圖。

第二圖B：其係為第二圖A所示之流體輸送裝置之上視結構示意圖。

第二圖C：其係為第二圖A所示之閥體蓋體之上視結構示意圖。

第三圖A：其係為第二圖B所示之AA剖面結構示意圖。

第三圖B：其係為流體流入第三圖A所示之入口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第三圖C：其係為流體流出第三圖A所示之出口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第四圖A：其係為本案第二較佳實施例之流體輸送裝置之反面分解結構示意圖。

第四圖B：其係為第二圖A所示之流體輸送裝置之上視結構示意圖。

第五圖A：其係為第四圖B所示之DD剖面結構示意圖。

第五圖B：其係為流體流入第五圖A所示之入口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第五圖C：其係為流體流出第五圖A所示之出口閥門結構時之剖面結構示意圖。

第六圖：其係為本案第二較佳實施例之流體輸送裝置與習知流體輸送裝置之流速比較示意圖。

2‧‧‧流體輸送裝置

20‧‧‧閥體座

203‧‧‧開口

204‧‧‧出口暫存腔

206、225‧‧‧微凸結構

21‧‧‧閥體薄膜

211‧‧‧入口閥門結構

212‧‧‧出口閥門結構

211a‧‧‧入口閥片

212a‧‧‧出口閥片

22‧‧‧閥體蓋體

222‧‧‧入口閥門通道

223‧‧‧出口閥門通道

224‧‧‧入口暫存腔

226‧‧‧壓力腔室

227‧‧‧抵頂結構

228‧‧‧傾斜結構

23‧‧‧致動裝置

231‧‧‧振動薄膜

232‧‧‧致動器

Claims (9)

1. 一種流體輸送裝置，用以傳送一流體，其係包含：
     一閥體座，其係具有一出口通道及一入口通道；
     一閥體蓋體，其係設置於該閥體座上，並具有一傾斜結構；
     一閥體薄膜，設置於該閥體座及該閥體蓋體之間，並具有一入口閥門結構及一出口閥門結構；以及
     一致動裝置，其週邊係固設於該閥體蓋體下，且具有一振動薄膜及一致動片，於未作動狀態時，該振動薄膜係與該閥體蓋體分離，以定義形成一單向漸斜深度之壓力腔室；
     其中，當該致動片受一電壓驅動而造成彎曲變形時，與該致動片連接之該振動薄膜將連動而使該壓力腔室體積改變，進而產生壓力差推動該流體，由該入口通道流經該入口閥門結構，進入該壓力腔室，並藉由該閥體蓋體之該傾斜結構導引流體自該壓力腔室流向該出口閥門結構，再由該出口通道流出。
2. 如申請專利第1項所述之流體輸送裝置，其中該閥體蓋體更包含一抵頂結構，其係抵頂於該入口閥門結構之一側，俾限制該入口閥門結構開啟之方向。
3. 如申請專利第2項所述之流體輸送裝置，其中當該入口閥門結構開啟時，透過該抵頂結構抵頂於該入口閥門結構之一側，俾使該入口閥門結構傾斜，並使該入口閥門結構朝向出口之方向具有較大之開度。
4. 如申請專利第1項所述之流體輸送裝置，其中該閥體蓋體更包含一入口閥門通道及一出口閥門通道，分別與該 入口閥門結構及該出口閥門結構相對應 。
5. 如申請專利第3項所述之流體輸送裝置，其中該傾斜結構係設置於該入口閥門通道及該出口閥門通道之間，以使該壓力腔室於鄰近該入口閥門通道處之深度較淺，而鄰近於該出口閥門通道處之深度較深，俾形成單向漸斜深度之壓力腔室。
6. 如申請專利第1項所述之流體輸送裝置，其中該流體輸送裝置更包含複數個密封環，其係分別設置於該閥體座及該閥體蓋體之複數個凹槽內，且該密封環係部份突出於該凹槽，用以施一預力於該閥體薄膜。
7. 一種流體輸送裝置，用以傳送一流體，其係包含：
     一閥體座，其係具有一出口通道及一入口通道；
     一閥體蓋體，其係設置於該閥體座上，並具有一傾斜結構以及一抵頂結構，以及包含一入口閥門通道及一出口閥門通道，且該出口閥門通道係為一圓錐形之通道，供以輔助流體自該出口閥門通道流向該出口閥門結構排出；
     一閥體薄膜，設置於該閥體座及該閥體蓋體之間，並具有一入口閥門結構及一出口閥門結構分別與該入口閥門通道及該出口閥門通道相對應，其中該入口閥門結構之一側係與該抵頂結構相抵頂；以及
     一致動裝置，其週邊係固設於該閥體蓋體下，且具有一振動薄膜及一致動片，於未作動狀態時，該振動薄膜係與該閥體蓋體分離，以定義形成一單向漸斜深度之壓力腔室；
     其中，當該致動片受一電壓驅動而造成彎曲變形時，與該致動片連接之該振動薄膜將連動而使該壓力腔室體積改變，進而產生壓力差推動該流體，由該入口通道流經該入口閥門結構，透過該抵頂結構抵頂於該入口閥門結構之一側，俾使該流體朝出口方向流入該壓力腔室，並藉由該閥體蓋體之該傾斜結構導引流體自該壓力腔室流向該出口閥門結構，再由該出口通道流出。
8. 如申請專利第7項所述之流體輸送裝置，其中該傾斜結構係設置於該入口閥門通道及該出口閥門通道之間，以使該壓力腔室於鄰近該入口閥門通道處之深度較淺，而鄰近於該出口閥門通道處之深度較深，俾形成單向漸斜深度之壓力腔室。
9. 如申請專利第7項所述之流體輸送裝置，其中該流體輸送裝置更包含複數個密封環，其係分別設置於該閥體座及該閥體蓋體之複數個凹槽內，且該密封環係部份突出於該凹槽，用以施一預力於該閥體薄膜。