TWI412412B - 用於冷卻金屬帶的冷卻裝置 - Google Patents
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Description
本發明係關於用於在冷軋機台中形成金屬帶後,冷卻金屬帶之冷卻裝置。
此種裝置大部分已知於舉例來說:日本公開案JP 11129017 A1之習知技藝中。其中所揭示之冷卻裝置包含有複數個噴嘴,該等噴嘴配置在要被冷卻之金屬帶下方,每個噴嘴從共同槽以直角噴灑冷卻劑至金屬帶下側邊上。在垂直地衝擊於下側邊上後,冷卻劑首先從金屬帶下側邊在徑向方向中轉向或以軸向方式在下側邊上位移,直到其從金屬帶下側邊滴回入距噴嘴一些距離之槽處。在徑向位移之情況下,已噴灑冷卻媒介之個別顆粒與在金屬帶運行方向中之移動分量一起位移,同時,其他顆粒則與相對金屬帶運行方向之分量一起位移。最後所述之顆粒曝露在運行於相對剪力之方向上的金屬帶接觸區域處,而導致在這些顆粒中產生紊流,因此,增加在金屬帶與冷卻劑媒介間之熱傳遞。在金屬帶運行方向中位移的那些顆粒,由於未出現紊流,故較相對該運行方向位移之顆粒,可促成可觀低程度之熱散逸。此外,冷卻媒介之個別顆粒首先於金屬帶下側邊上之衝擊下減速至速度V垂直
=0,以隨後在徑向方向中再度加速;在此方式中,習知技藝損失大量能量。因此,相當程度限制用於顆粒徑向加速度的可用能量,亦
導致相對金屬帶運行方向之冷卻媒介的徑向位移僅發生在受限長度或區域上。因此,這依序導致對應冷卻區域亦是小的。在此態樣中,習知技藝之冷卻裝置為無效率與無效能。
背離此習知技藝,本發明係根據在熱散逸變得更加有效與效率之方式下改善已知冷卻裝置、用於冷卻裝置之已知使用與用於操作已知冷卻之方法的目標。
此目標可藉由申請專利範圍第1項之標的而解決。特別的是,解決方案包含提供平面平板,該平板配置成在平行於冷軋機台運出中之金屬帶表面的操作位置中;以及配置成用於以銳角噴灑角度於相對金屬帶運行方向之噴灑方向中噴灑冷卻媒介入在金屬帶表面與相對平板間之凹穴中的噴嘴。
有利的是,藉由所主張之全部冷卻媒介在相對金屬帶運行方向處以銳角噴灑角度α噴灑之作用,而較佳的是,可達成全部已噴灑冷卻媒介數量係暴露於由運行在相對方向中之金屬帶所造成之剪力,並且促成由在金屬帶表面與相對平板間之平坦凹穴中的剪力所造成之冷卻媒介紊流場的產生。與習知技藝不同,由於不僅是冷卻媒介之一部位而是整體噴灑數量促成紊流場的產生,故有利的是,本發明造成相同數量冷卻媒介可允許可觀地較高熱傳遞,亦即:相較於習知技藝,可能的較高熱量散逸;在此態樣中,
本發明標的較可比較之習知技藝更有效率。
與習知技藝不同,藉由在金屬帶表面上之所主張冷卻媒介銳角衝擊之作用,本發明確保冷卻媒介,在離開噴嘴之後,立即與相對金屬帶運行方向之運動分量一起移動。在此,以銳角α所發生反射損失可觀地低於垂直撞擊,以及因此在金屬帶表面上,相對運行方向之冷卻劑膨脹,亦即:有效冷卻長度,係可觀地高於習知技藝。因此,根據本發明在相對運行方向之凹穴中所形成之紊流場亦可觀地形成為較習知技藝更長/更深,藉以可達成可觀地較佳熱傳遞與可從金屬帶散逸更多熱量。在此態樣中,所主張裝置較習知技藝之已知裝置更加有效。
最後,提及根據本發明方法之另一重要優點。由於本發明冷卻媒介以銳角在相對條帶之運行方向中對著金屬帶表面流動的緣故,故,有利的是金屬帶表面可完整地或至少部分免除預先施加之滾軋乳狀液。因此,在結合擠壓滾輪單元與一個或多個用於噴灑,舉例來說:去礦物質水之噴嘴樑的使用,則可產生例如:在具有不同乳狀液應用與條帶清潔之機台間媒介分離的可能。需要此種單元以用於產生特定表面狀態與清潔。特別有利的是,根據本發明之冷卻裝置可使用於機台運出中,在機台之進給中僅在條帶上施加最小潤滑劑數量以用於調整在滾軋間隔中之摩擦係數。在此情況下,在滾軋期間於進給側邊處所施加之滾軋乳狀液大部分用於滾軋間隔。在運出滾軋後,在金屬帶表面上所餘下之乳狀液殘餘物為最小,以及類似一副作用的
是:可藉由根據本發明裝置之作用而在無任何問題的情況下移除該乳狀液。可藉由條帶清潔與媒介分離之作用,而以最佳方式利用用於摩擦係數選擇調整之最小量潤滑劑單元的使用。
根據第一示範性實施例,根據本發明之冷卻裝置包含有複數個噴嘴,較佳的是,該等噴嘴配置成在橫向於金屬帶運行方向之至少一噴嘴樑中。藉由複數個噴嘴之此配置的作用,有利的是,可達成亦橫向於條帶運行方向之紊流場的較大平面膨脹;因此進一步改善其冷卻效率。選擇性地,噴嘴可合併在平板中。
有利的是,根據本發明之冷卻裝置包含有控制或調節裝置,以藉由適當地個別改變冷卻媒介噴灑進入凹穴之數量的壓力及/或流動速度或噴灑方向而用於控制或調節冷卻裝置之冷卻能力;冷卻媒介藉由該壓力及/或流動速度離開個別噴嘴。在此方式下,所主張控制或調節裝置允許在滾軋製程期間,在任何時間下,金屬帶之最佳化溫度控制。有利的是,可藉由製程模式而維持該控制或調節。
有利的是,冷卻媒介噴灑方向之三維設定不僅允許在垂直於金屬帶平面之平面中銳角噴灑角度α之可變設定,而且亦允許在平行金屬帶平面之平面中方位角β之調整。特別有利的是,方位角β之可變設定可用於在金屬帶周圍中之噴嘴,這是由於接著可藉由設定噴嘴具有略微朝向金屬帶中間傾斜之噴灑方向而達成該可變設定而較少冷卻劑從金屬帶之區域位移以及多少有些未使用流出的緣故。
然而,重要的是:對於每個噴灑角度α或方位角β之設定而言,噴灑方向仍具有相對金屬帶運行方向之分量,這是因為僅在此方式下可確保負責高冷卻效率之紊流場形成的緣故。
選擇性地,該裝置包含定位裝置,該裝置用於在運行條帶外側之操作位置或保養位置中之平板的可變定位。如已指示之名稱般,特別是如果噴嘴亦合併在平板中的話,則保養位置較操作位置更加合宜用於保養目的。較佳的是,在故障之情況下或在完成滾軋操作後,自動地接近保養或空轉位置。特別是如果已出現條帶破壞的話,則存在滾軋問題之故障,而可例如以一訊號而發訊該故障以用於降低條帶張力。接著,需要將運行條帶拉出平板以移除條帶廢料。
相對金屬帶上側邊以及相對金屬帶下側邊處可提供噴嘴與平板。
選擇性地,平板略寬於金屬帶,而在其邊界處之平板包含有平行金屬帶運行方向突出之邊緣,而該邊界以盡可能小之間隙包圍金屬帶邊界。在平板處之這些邊緣亦抵消上述問題,該問題為在周圍中之冷卻媒介太快流出,以及,因此不具有高冷卻效果。邊緣可阻擋水側向流出,因此,促成改善冷卻裝置之冷卻能力。如果面向金屬帶上側邊之平板邊緣與面向金屬帶下側邊之平板邊緣彼此在金屬帶周圍中重疊的話,以及,特別是如果在這些邊緣間呈現一密封的話,則可特別有效避免冷卻媒介之側邊流出。接著,
有利的是,可完整地避免冷卻媒介之側邊流出,而且冷卻媒介僅可在滾軋方向中或相對滾軋方向而流出。因此,冷卻效率特別地高。
有利的是,特別是如果該滾軋機使用成與反轉機台共同-操作,或作為在滾軋線之二個鄰接滾軋機台間之中間機台冷卻的話,則根據本發明之冷卻裝置造成(冷)滾軋機效率幅度之延伸。特別是用於這些應用的情況下,由於上述功能之原理,故,根據本發明之冷卻裝置允許非常有效冷卻,亦即:在一時間單元下之強烈冷卻。此強烈冷卻避免條帶變得過熱,以及,有利的是在此方式下,分別較習知技藝允許增加滾軋速度與較高及/或更快後續通過縮減。藉此,可觀地增加冷滾軋機之效率。
此外,藉由根據本發明用於操作冷卻裝置之方法的作用,則可解決上述提及目標。這些優點對應參考冷卻裝置之上述優點。
更有利的是,冷卻裝置之發展與用於操作根據本發明冷卻裝置之方法為附屬項標的。
以下,參考為示範性實施例形態的所提及圖式而詳細描述本發明。
圖1顯示具有運出至左側之金屬帶200的冷軋機台300的運出。在金屬帶下方,配置有為傳送台形態之平板500。在距冷軋機台之距離Kmin
中,橫向於金屬帶運行方向上,
包含複數個個別噴嘴112之噴嘴樑110配置在傳送台中。
圖2分別顯示在傳送台500中之噴嘴112與噴嘴樑110之配置。具體可見的是:噴嘴定向在傳送台中,在此方式下該等噴嘴以銳角噴灑角度α對著金屬帶而相對其運行方向L噴灑冷卻媒介400。藉由與運行在相對方向L中之金屬帶200接觸之作用,剪力係作用在冷卻媒介之所涉顆粒上,其中,這些剪力造成在冷卻媒介中紊流場的產生。紊流場形成在金屬帶200之下側邊與傳送台500之上側邊間之平坦凹穴H中。一方面,此平坦凹穴N之間隔高度S不可選擇太小,以避免金屬帶200與傳送台500之直接接觸。另一方面,間隔高度S亦可不選擇成太大,這是由於較大間隔高度,則需要較高數量之冷卻媒介以能夠實現所欲冷卻能力的緣故。
可藉由控制或調節裝置120之作用而個別控制或調節根據本發明之冷卻裝置的冷卻能力,藉以在每個個別噴嘴112處,可適當地設定或改變冷卻媒介數量之相對壓力或流動速度及/或冷卻媒介之三維噴灑方向R;冷卻媒介400藉由該壓力與流動速度而離開個別噴嘴。冷卻裝置在10∘至20∘之噴灑角度α下特別有效運轉。
可進一步改善根據本發明之冷卻裝置的效能與效率,其中,在噴嘴112-n處之方位角β可設定為零,但在靠近金屬帶邊界之噴嘴112-1,112-N處則設定成不等於零。具體地,可建議靠近金屬帶邊界之噴嘴可設定成使得:冷卻劑媒介在每個情況下略微朝向金屬帶中間而噴灑在其下側
邊上。藉由朝向金屬帶中間之噴嘴定向的作用,有利的是可在無促成冷卻的情況下,達成:於顯示於圖1之橫向於箭頭V方向之金屬帶運行方向L上,從這些噴嘴噴灑之冷卻劑媒介亦可盡可能有效地涉及紊流部位之產生,以及從這些噴嘴噴灑之冷卻劑媒介可盡可能少量在金屬帶邊緣上流出。
根據本發明之冷卻劑裝置允許最高至30,000 W/m2
K之冷卻能力。
圖3顯示根據本發明之平板500,每個平板具有噴嘴樑110;此配置在下文中亦代表為冷卻盒匣。圖3顯示用於金屬帶200上側邊之冷卻盒匣,該盒匣以該元件符號加入字尾I指示,以及用於金屬帶下側邊之冷卻盒匣,該盒匣以該元件符號加入字尾II指示。元件符號510-I與510-II指示在平板邊界處之邊緣。更可見於圖3中的是:連結至冷卻盒匣之定位裝置600-I與600-II,而該定位裝置允許從顯示於圖3之保養或空轉位置中旋轉冷卻盒匣進入顯示於圖4中操作位置,並且回復。更可見於圖3的是:心軸700,該心軸允許從冷卻盒匣距條帶表面距離的細微設定。如在起始所說明般,間隔高度強烈影響紊流場之形成,以及因此影響冷卻效果之效率。間隔高度決定紊流場之流動剖面;因此,較佳的是,視在條帶速度與條帶震動而定,進行個別設定。
圖4顯示冷卻盒匣500-I,500-II之已經提及操作位置,其中,冷卻盒匣與平板分別定位成平行已滾軋金屬帶200
之下側邊及/或上側邊。
圖5顯示通過在操作位置中之冷卻盒匣剖面。可見的是:上與下部冷卻盒匣之側邊邊緣510-I,510-II在其邊界處包圍金屬帶200。在此方式下,冷卻水之側邊流出變得困難,藉以改善冷卻裝置整體之冷卻效率。藉由在上冷卻盒匣500-I與下部冷卻盒匣500-II邊緣間之密封520的作用,甚至可完整地避免冷卻媒介之側邊流出,藉以最大化冷卻效率。接著,冷卻水僅從由冷卻盒匣所形成之機架而在滾軋方向或相對滾軋方向而流出。
圖6顯示在相似於圖3之保養或空轉位置中的上冷卻盒匣500-I與下部冷卻盒匣,然而,卻形成不同觀點。
100‧‧‧冷卻裝置
110‧‧‧噴嘴樑
112-1‧‧‧噴嘴
112-n‧‧‧噴嘴
112-N‧‧‧噴嘴
112‧‧‧複數個個別噴嘴
120‧‧‧控制或調節裝置
200‧‧‧金屬帶
300‧‧‧冷軋機台
400‧‧‧冷卻媒介
500‧‧‧平板
500-I‧‧‧上冷卻盒匣
500-II‧‧‧下部冷卻盒匣
510-I‧‧‧側邊邊緣
510-II‧‧‧側邊邊緣
520‧‧‧密封
600‧‧‧定位裝置
600-I‧‧‧定位裝置
600-II‧‧‧定位裝置
700‧‧‧心軸
對於描述而言係附有六張圖式,其中,圖1顯示具有金屬帶運出與配置成在金屬帶下方之傳送台的冷滾軋機之運出;圖2顯示併入在傳送台中之噴嘴;圖3顯示根據本發明具有用於下部側邊與金屬帶上側邊之為冷卻盒匣形態之噴嘴樑的平板;圖4顯示在操作位置中之冷卻盒匣;圖5顯示通過在操作位置中之具有側向重疊邊緣之冷卻盒匣的剖面;以及圖6顯示在保養位置中旋轉出運行條帶之冷卻盒匣。
100‧‧‧冷卻裝置
110‧‧‧噴嘴樑
112-1‧‧‧噴嘴
112-n‧‧‧噴嘴
112-N‧‧‧噴嘴
112‧‧‧複數個個別噴嘴
120‧‧‧控制或調節裝置
Claims (18)
- 一種在一冷軋機台(300)中形成金屬帶後,用於一金屬帶(200)冷卻之冷卻裝置(100),包含有:一平板(500),該平板在一操作位置中係配置成平行於該冷軋機台(300)運出中之該金屬帶(200)之一表面,並且形成位於金屬帶(200)表面與該平板(500)之間的一凹穴(H);至少一噴嘴(112),該噴嘴用於噴灑一冷卻媒介(400)至該金屬帶(200)上;其中在操作位置中的每個噴嘴配置成用於以銳角噴灑角度(α)於相對該金屬帶(200)運行方向(L)之一噴灑方向(R)上噴灑該冷卻媒介(400)入該凹穴(H)中,其中:100 ≦α≦200 ;以及一控制或調節裝置(120),其根據金屬帶(200)的測量速度,藉由適當地個別改變下列至少其中之一而控制或調節該冷卻裝置(100)冷卻能力:該冷卻劑(400)離開該等個別噴嘴(112)所使用的壓力或流動速度、噴灑入凹穴(H)和噴灑方向(R)中之冷卻媒介的數量。
- 如申請專利範圍第1項所述之冷卻裝置(100),其中,每個噴嘴係配置在該平板(500)中。
- 如申請專利範圍第2項所述之冷卻裝置(100),其中,每個噴嘴以橫向於該金屬帶(200)之該運行方向(L)的至少一噴嘴樑(110)形態配置在該平板中。
- 如申請專利範圍第3項所述之冷卻裝置(110),其中,在該操作位置中之至少一個噴嘴樑(110)配置成與該冷軋機 台間隔至少一距離Kmin 。
- 如申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之冷卻裝置(100),其特徵在於:每個噴嘴(112)的噴灑方向(R)可在朝向金屬帶的寬度中間的方向上調整。
- 如申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之冷卻裝置(100),進一步包含一定位裝置(600)係用於在該運行條帶外側之該操作位置或一保養位置中之該平板(500)的可變定位。
- 如申請專利範圍第6項所述之冷卻裝置(100),其中,在該操作位置中,視特定製程參數而定,該定位裝置可形成以可變方式設定在該金屬帶表面與該平板之該相對表面間的該距離(S)。
- 如申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之冷卻裝置(100),其中,在該平板之至少一側邊上突出一邊緣(510),該邊緣可形成為平行該滾軋方向(L)並且在該操作位置中,於一預定距離處包圍該金屬帶(200)之該等邊界至少一特定程度。
- 如申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之冷卻裝置(100),其中,可提供一第一平板(500-I),該平板可定位在相對該金屬帶(200)上側邊之該操作位置中,以及可提供一第二平板(500-II),該平板可定位在相對該金屬帶下側邊之該操作位置中。
- 如申請專利範圍第9項所述之冷卻裝置,其中,在該操作位置中,至少在該金屬帶(200)之一側邊上,藉由一 密封(520)之作用,該第一與該第二平板之該等相對邊緣(510-I,510-II)對著彼此而密封。
- 如申請專利範圍第9項所述之冷卻裝置(100),其中,該第二平板為用於該金屬帶之一傳送台。
- 如申請專利範圍第1項至第4項其中任一項所述之冷卻裝置(100),其中,該冷軋機台(300)為一反轉機台或一單向冷軋機台或一定徑機台。
- 一種使用如申請專利範圍第1項至第9項其中任一項所述之冷卻裝置(100)的方法,該冷卻裝置(100)可使用為在一滾軋線之二個鄰接冷軋機台間的一中間機台冷卻。
- 一種用於操作在一冷軋機台(300)中形成金屬帶後,用於一金屬帶(200)冷卻之一冷卻裝置(100)的方法,包含有下列步驟:提供一平板,該平板在一操作位置中係配置成平行於該金屬帶之一表面,並且形成位於金屬帶(200)表面與該平板(500)之間的一凹穴;提供至少一噴嘴,每個噴嘴用於噴灑一冷卻媒介至該金屬帶上;使用各噴嘴在相對該金屬帶(200)之該運行方向(L)上噴灑該冷卻媒介(400)進入凹穴中並且以一銳角噴灑角度(α)噴灑該金屬帶表面上,其中:100 ≦α≦200 ;根據金屬帶(200)的測量速度,藉由適當地個別改變下列至少其中之一而控制或調節該冷卻裝置(100)冷卻能力:該冷卻劑(400)離開該等個別噴嘴(112)所使用的壓力或流動 速度、噴灑入凹穴(H)之冷卻媒介的數量,以及噴灑角度α。
- 如申請專利範圍第14項所述之方法,進一步包含:視量測或計算製程參數而定,藉由一製程模式而預定壓力或該流動速度。
- 如申請專利範圍第14項或第15項所述之方法,進一步包含:調整每個噴嘴的噴灑方向以噴灑冷卻媒介朝向該金屬帶的寬度中間。
- 如申請專利範圍第14項或第15項所述之方法,其中,該冷卻媒介(400)可噴灑在該金屬帶之該上側邊和該下側邊的至少其中之一上,其中,可彼此獨立設定或控制用於該上側邊與該下部側邊之該冷卻能力。
- 如申請專利範圍第14項或第15項所述之方法,其中,在一條帶破壞之情況下,該平板與該噴嘴一起自動地被拉出該運行條帶。
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