TWI410669B - 防眩性薄膜 - Google Patents
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Description
本發明係關於CRT((陰極射線管))、液晶螢幕等之顯示器所使用之防眩性薄膜、使用其之防反射薄膜及影像顯示裝置。
液晶螢幕等之顯示器係具備有防眩性薄膜或防反射薄膜等而成者,此等係利用為擔任調整由光源所發出的光之任務。關於此等薄膜的形成,係以賦予保護薄膜本身,尤其以賦予耐摩擦性為目的,使用熱硬化性樹脂,尤其丙烯酸系樹脂。另外,於特開平10-20103號(專利文獻1)中提出,以提昇硬被覆層之機械強度為目的,照射電離放射線於電離放射性硬化型樹脂等,使交聯硬化,形成硬被覆膜。然而,由許多的丙烯酸系樹脂中,尚末發現提昇所需強度及耐摩擦性之組合二種以上之樹脂。
另一方面,近年來,行動電話及小型筆記型電腦等所使用之顯示器,逐漸要求其超薄化。對於此要求,本發明者係以傳統厚度(100至70μm)之一半之透明基材上,塗佈含防眩性劑所成之電離放射性硬化型樹脂等,照射電離放射線,使交聯硬化而形成防眩性層時,可知防眩性層發生捲曲。因此,現在熱切地希望開發抑制基材上所形成之防眩層之捲曲化,而且提昇耐摩擦性之防眩性薄膜及使用其之防反射薄膜。
本發明者等係由利用組合現今一般之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯與其他之多官能性丙烯酸樹脂者,發現可得到抑制防目眩層發生捲曲,而且具有耐擦傷性之防眩性薄膜。本發明係依據相關發現者。
因此,本發明係以提供抑制防目眩層發生捲曲,而且具有耐擦傷性優異之防眩性薄膜為目的。
因此,本發明之防眩性薄膜係具備基材與於該基材上所形成之防眩層者,上述之防眩層係含微粒子與二種以上之多官能性丙烯酸樹脂所成,上述之二種以上之多官能性丙烯酸樹脂中至少一種係下述一般式(I):
所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯者。
依據本發明之其他型態係提供防反射薄膜,此防反射薄膜係由基材及防眩層以及低折射率層所構成者,上述之低折射率層係具有折射率比上述之防眩層更低
者,而且,形成於上述之防眩層上而成者。
上述基材與上述防眩層係構成先前本發明之防眩性薄膜者。
防眩性薄膜
使用圖1說明本發明之防眩性薄膜之一種型態。圖1係表示由本發明之防眩性薄膜1之斷面圖。於基材9之上面形成防眩層。防眩層5係塗佈含微粒子、及作為上述之多官能性丙烯酸樹酯之上述一般式(I)所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯、及其他之多官能性丙烯酸樹酯之季戊四醇三丙烯酸酯所成之組成物於基材9之上面,照射紫外線而形成者。
本發明之防眩性薄膜係有效地防止形成於基材表面之防眩層發生捲曲,並且,耐摩擦性優異者。因此,關於本發明,防眩層5之邊緣部份4及中心部份3之厚度7雖以0μm最好,但就技術上而言,厚度7為1.0μm以下,以0.5μm以下為宜,以0.3μm以下尤佳。
(1)多官能性丙烯酸樹酯
本發明中之防眩層係利用二種以上之多官能性丙烯酸樹酯而成。關於本發明,至少一種多官能性丙烯酸樹酯係使用上述一般式(I)所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二
丙烯酸酯。作為上述一般式(I)所表示以外之官能性丙烯酸樹酯之具體例,可舉例如聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯(HDDA)、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(TPGDA)、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DEGDA)、季戊四醇〔三(甲基)〕丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA)及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯(NPGDA)等,以上述之PETA、DPHA及HPDA為宜,以季戊四醇三丙烯酸酯[(CH2
=CHCOCOH2
)3
CCH2
OH]尤佳。
上述一般式(I)所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯之添加量係相對於多官能性丙烯酸樹酯之總重量為10以上,45重量%以下,以上限40重量%以下,下限20重量%以上尤佳。
依據本發明之最佳型態係以組合上述一般式(I)所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯使用尤佳。
關於本發明係使用二種以上之多官能性丙烯酸樹酯以形成防眩層而成,但亦可添加其他基本材料,例如UV硬化型化合物等之電離放射性硬化組成物。另外,形成防眩層時,可使用光聚合引發劑,作為其具體例,可舉例如1-羥基環己基苯基酮。此化合物可由市場取得,可舉例如商品名Irgacure(Ciba Speciality Chemicals社製)。
(2)防眩性劑
作為防眩性劑之具體例,可舉例如微粒子,以塑膠珠粒為宜,以具有透明性者尤佳。塑膠珠粒之具體例,可舉例如苯乙烯珠粒(折射率1.59)、三聚氰胺珠粒(折射率1.57)、丙烯酸珠粒(折射率1.49)、丙烯酸-苯乙烯珠粒(折射率1.54)、聚碳酸酯珠粒及聚乙烯珠粒等,以苯乙烯珠粒為宜。
塑膠珠粒之粒徑係0.5μm以上,15μm以下,以下限3μm以上,上限6μm以下為宜。粒徑範圍於上述範圍內時,光擴散之效果高,可充份賦予防眩性,增加內部霧度,可充份地改善影像之閃耀刺眼。
塑膠珠粒之添加量係對於總重量之防眩層,為3重量%以上,30重量%以下,以下限5重量%以上,上限20重量%以下為宜,以下限8重量%以上,上限15重量%以下尤佳。添加量於上述範圍時,光擴散之效果高,透過影像之鮮明度增加,可抑制影像之閃耀刺眼。
添加塑膠珠粒時,亦可添加二氧化矽等之無機填料。添加無機填料係可抑制形成防眩層之樹脂成份中所添加的塑膠珠粒之沈澱。
無機填料之粒徑係以0.5μm以上,5μm以下者為宜。無機填料之添加量係對於總重量之防眩層,為3重量%以上,30重量%以下,以上限15重量%以下為宜。依據無機填料之粒徑或添加量於上述之範圍內時,可有效地防止塑膠珠粒沈澱,並且可確保防眩層之透明性。
添加塑膠珠粒或無機填料時,與構成防眩層之樹脂成
份充份地混合而均勻地分散後,塗佈於透明基材為宜。
依據本發明之最佳型態,本發明之防眩性薄膜含有後述之防靜電層時,防眩層以再含有導電性微粒子為宜。由此,賦予導電性於防靜電層及防眩層之最表面層之間。
在此,作為導電性微粒子之具體例,可與後述之防靜電層相同。
(3)基材
基材係以具備透明性、平滑性、耐熱性,機械性強度優異者為宜。作為形成基材之材料之具體例,可舉例如聚酯、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或聚胺基甲酸乙酯等之熱可塑性樹脂,以聚酯及三乙酸纖維素為宜。
關於本發明中,雖使用此等之熱可塑性樹脂作為富有薄膜柔軟性之薄膜狀物,但因應要求硬化性之使用型態時,亦可使用此等熱可塑性樹脂板或玻璃板之板狀物者。
基材之厚度為20μm以上,300μm以下,以上限1000μm以下,下限30μm以上為宜。基材為板狀物時,超過此等厚度亦可。基材係形成防眩層於其上時,為提昇黏合性,可預先進行電暈放電處理、氧化處理等之物理性處理之外,亦可預先進行塗佈固定劑或稱為底漆(primer)之塗料。
(4)防眩層之形成
防眩層係可混合上述二種以上之多官能性丙烯酸樹脂與適當之溶劑,例如甲苯、二甲苯、環己烷、醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸丙酯、MEK(甲基乙基酮)及MIBK(甲基異丁酮)所得之液體組成物,塗佈於基材而形成。
依據本發明之適合型態,於上述之液體組成物中,添加氟系或聚矽氧烷系等之塗平劑為宜。添加塗平劑之液體組成物係於塗佈或乾燥時,有效地防止因氧對於塗膜表面之抑制硬化,而且,可賦予耐摩擦性之效果。塗平劑係適合使用於要求耐熱性之薄膜狀透明基材(例如三乙酸纖維素)。
作為塗佈液體組成物之方法,可舉例如滾輪塗佈法、棒塗佈法、雕輪式(gravure)塗佈法等之塗佈方法。塗佈液體組成物後,進行乾燥與紫外線硬化。作為紫外線源之具體例,可舉例如超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、紫外光燈(black light)及金屬鹵素燈之光源。紫外線之波長係可使用190至380nm之波長範圍。作為電子束源之具體例,可舉例如cockcroftwalt型、bandyfraft型、共振變壓器型、絕緣核變壓器型、或直線型、底納米(Dynamitron)型及高周波型等之各種電子束加速器。
防眩層厚度係0.5μm以上,10μm以下,以下限1μm以上,上限7μm以下為宜。
防靜電層(導電層)
依據本發明之最佳型態,防眩性薄膜係防靜電層(導電層)形成於基材與防眩層之間為宜。
防靜電層(導電性層)係以形成於防眩層之上面為宜。作為形成防靜電層之具體例,可舉例如由蒸著或濺射導電性金屬或導電性金屬氧化物等於防眩層之上面,形成蒸著膜之方法,或塗佈樹脂中分散導電性微粒子之樹脂組成物而形成塗膜之方法。關於形成防靜電層,以形成防靜電層之表面電阻值於5×107 Ω/□以下為宜。
(1)防靜電劑
以蒸著膜形成防靜電層時,作為防靜電劑之導電性金屬或導電性金屬氧化物,可舉例如銻化銦錫(以下稱為「ATO」)及氧化銦錫(以下稱為「ITO」)。防靜電劑之蒸著膜厚度係10nm以上,200nm以下,以上限100nm以下,下限50nm以下為宜。
防靜電層係可由含防靜電劑之導電性微粒子之塗液所形成。作為導電性微粒子之具體例,可舉例如金屬或金屬氧化物或有機化合物所形成之導電性微粒子,可舉例如銻化銦錫(以下稱為「ATO」)、氧化銦錫(以下稱為「ITO」)以及以金及/或鎳表面處理之有機化合物微粒子等。
導電性微粒子之添加量係對於防靜電層之總重量,為
5重量%以上,70重量%以下,以上限60重量%以下,下限15重量%以上為宜。塗膜之厚度為0.05μm以上,2μm以下,以下限0.1μm以上,上限1μm以下為宜。
(2)硬化型樹脂
關於本發明中,使用導電性微粒子塗膜時,以使用硬化型樹脂為宜。作為硬化型樹脂係以透明性者為宜,作為其具體例,可舉例如由紫外線或電子束硬化之樹脂之電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂與溶劑乾燥型樹脂之混合物、或熱硬化型樹脂之三種,舉例如電離放射線硬化型樹脂為宜。
(a)電離放射線硬化型樹脂
作為電離放射線硬化型樹脂之具體例,可與先前所述之多官能性丙烯酸樹脂相同。
使用電離放射線硬化型樹脂為紫外線硬化型樹脂時,以使用光聚合引發劑為宜。作為光聚合引發劑之具體例,可舉例如乙醯苯類、二苯甲酮類、米烯勒苯醯苯甲酸酯、α-酯化澱粉、一硫化四甲基秋蘭姆(Tetramethy Thiuram Monosulfide)及噻噸酮類。另外,以混合光增敏劑使用為宜,作為其具體例,可舉例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
(b)溶劑乾燥型樹脂
作為混合於電離放射線硬化型樹脂所使用之溶劑乾燥型樹脂,主要可舉例如熱可塑性樹脂。熱可塑性樹脂係使用一般所舉例者。由添加溶劑乾燥型樹脂,可有效地防止塗佈面之塗膜缺陷。
依據本發明之最佳型態,基材之材料為TAC(三醋酸纖維)等之纖維素系樹脂時,熱可塑性樹脂之適合的具體例為纖維素系樹脂,可舉例如硝化纖維素、乙酸纖維素、乙酸纖維素丙酸酯及乙基羥乙基纖維素等。由使用纖維素系樹脂,可提昇基材與防靜電層之密合性與透明性。
(c)熱硬化性樹脂
作為熱硬化性樹脂之具體例,可舉例如酚醛樹脂、尿素樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙基酯樹脂、黑色素樹脂、鳥糞胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸乙酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-尿素共縮合樹脂、矽氧樹脂及聚矽氧烷樹脂等。使用熱硬化性樹脂時,因應需要,可再添加交聯劑、聚合引發劑等之硬化劑、聚合促進劑、溶劑及黏度調整劑等使用。
形成防靜電層
形成塗膜為防靜電層係將含導電性微粒子於硬化型樹脂之塗液,由滾輪塗佈法、棒塗佈法、雕輪式(gravure)塗佈法等之塗佈方法塗佈。其次,塗佈此塗液後,進行乾燥與紫外線硬化。
作為電離放射線硬化型樹脂組成物之硬化方法,由照射電子束或紫外線而硬化。電子束硬化時,使用具有100KeV至300KeV能量之電子束等。紫外線硬化時,使用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈及金屬鹵素燈等之光線所發出之紫外線等。
防反射薄膜
依據本發明之其他型態,可提供防反射薄膜,該薄膜係於上述本發明之防眩性薄膜之防眩層上形成低折射率層而形成者。
低折射率層
低折射率層係形成於防眩層的表面,以最表面為宜,低折射率層係與防眩性層之折射率相異者,以該折射率比防眩性層低者為宜。依據本發明之適合型態,防眩性層之折射率為1.5以上,低折射率層之折射率為1.5未滿,以1.45以下構成而成者為宜。
低折射率層之厚度係20nm以上,800nm以下,以上限400nm以下,下限50nm以上為宜。
作為本發明之防反射薄膜之適合一例,可舉例如基材與防靜電層(此等之折射率係比防眩性層之折射率為低者)及防眩層(折射率為1.5以上)以及低折射率層(折射率為1.5未滿)所構成而成者。因為此防反射薄膜與空氣層接觸(折射率為1.0),所以可有效地進行防止反射。
尤其,由層合折射率比防眩性層低之低折射率層,將可更提昇防止反射效果。
(1)低折射率層劑
作為低折射率層劑之具體例,可舉例如含二氧化矽之偏氟乙烯共聚物,作為該例,可舉例如100重量份之共聚合含30至90重量%之偏氟乙烯及5至50重量%之六氟丙烯之單體組成物而成之含氟比率為60至70重量%之含氟共聚物,以及80至150重量份之具有乙烯性不飽和基之聚合性化合物所成之樹脂組成物。
此含氟共聚物係可舉例由共聚合含偏氟乙烯及六氟丙烯之單體組成物所得之共聚物。此單體組成物中之各成份比率係30至90重量%之偏氟乙烯,以40至80重量%為宜,以40至70重量%尤佳,或5至50重量%之六氟丙烯,以10至50重量%為宜,以15至45重量%尤佳。此單體組成物係可再含有0至40重量%之四氟乙烯,以0至35重量%為宜,以10至30重量%尤佳者。
為得此含氟共聚物之單體組成物係因應需要,可含有其他共聚物成份,例如20重量%以下,以10重量%以下之範圍為宜者。作為此共聚物之具體例,可舉例如氟化乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、1,2-二氯-1,2二氟乙烯、2-溴-3,3,3-三氟乙烯、3-溴-3,3-二氟丙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯及α-三氟甲基丙烯酸等之具有氟原子之聚合性單體。
由如此之單體組成物所得之含氟共聚物之含氟比率係以60至70重量%為宜,以62至70重量%尤佳,以64至68重量%更好。添加比率於如此範圍時,對於後述之溶劑具有良好之溶解性。或由含有含氟共聚物為成份時,將可形成具有優異密合性及高透明性及低折射率,以及具有優異的機械強度之薄膜。
含氟共聚物係該分子量以聚苯乙烯換算數量平均分子量為5000至200000,以10000至100000為宜。由使用具有如此大的分子量之含氟共聚物,所得之氟系樹脂組成物之黏度將成適當的大小,因此,可成為具有確實且適當塗佈性之氟系樹脂組成物。
含氟共聚物本身之折射率為1.45以下,以1.42以下為宜,以1.40以下尤佳。折射率於此範圍時,所形成薄膜之防反射效果為適合者。
(2)形成低折射率層
本發明之防反射薄膜係由基材、防眩層及低折射率層所構成而成者,關於形成基材及防眩層以及因應需要之防靜電層之各層,與先前本發明之防眩性薄膜所說明者相同即可。低折射率層之形成係如下述進行。
將含氟共聚物與樹脂,因應需要,於光聚合引發劑之存在下,由照射活性能量射線,或於熱聚合引發劑之存在下,由加熱聚合而可形成塗膜。所使用之樹脂係可與防靜電層所說明者相同。此等樹脂中,可舉例適合之二季戊四
醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及己內酯變性季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
所使用之樹脂為1個分子中含有3個以上之乙烯性不飽和基者時,所得之氟系樹脂組成物係可作為形成尤其對於基材之密合性及基材表面之耐傷性等之機械特性極為良好之薄膜者。
樹脂之添加量係對於100重量份之含氟共聚物之30至150重量份,以35至100重量份為宜,以40至70重量份尤佳。另外,含有含氟共聚物及樹脂之聚合物成份之合計量中之含氟比率為30至55重量%,以35至50重量%為宜。
添加量或含氟比率於上述範圍內時,低折射率層對於基材之密合性良好,另外,可得到折射率高,良好的防止反射效果。
關於形成低折射率層,因應需要,可使用適當的溶劑,為得到適合之塗佈性,樹脂組成物之黏度範圍為0.5至5cps(25℃),以0.7至3cps(25℃)者為宜。可實現可見光之優異的防反射膜,而且可形成均勻且無塗佈不均之薄膜,而且可形成對於基材之密合性尤其優異之低折射率層。
樹脂之硬化手段係可與防靜電層項目中所說明者相同。為硬化處理而利用加熱手段時,係以添加由加熱而例如發生自由基而引發聚合性化合物聚合之熱聚合引發劑於氟
系樹脂組成物為宜。
低折射率層之形成方法亦可為其他一般薄膜成形手段,例如真空蒸著法、濺射法、反應性濺射法、離子鍍法及電鍍法等之適當手段,可為例如上述以外之防反射塗料之塗膜、膜厚度為0.1μm程度之MgF2
等之極薄膜或金屬蒸著膜、或由SiOx或MgF2
之蒸著膜所形成。
偏光板與影像顯示裝置
依據本發明之其他型態,可提供由偏光元件及防反射薄膜所構成之偏光板,該偏光板係於偏光元件之表面,形成本發明之防反射薄膜而成者。另外,再依據本發明之其他型態,可提供影像顯示裝置,此影像顯示裝置係具備透視性顯示體與由背面照射上述透視性顯示體之光源裝置而成,於此透視性顯示體之表面,形成本發明之防眩性薄膜、本發明之防反射薄膜、或本發明之偏光板而成者。
(1)偏光板
依據本發明,提出由層合本發明之防反射薄膜於偏光元件時,改善防反射性之偏光板。偏光元件係可使用例如由碘或染料染色、延伸而成之聚乙烯醇薄膜、聚乙烯醇縮甲醛薄膜、聚乙烯基縮醛薄膜及乙烯-乙酸乙烯共聚物系皂化薄膜等。關於層合處理,為增加黏合性或為防靜電,對於防反射薄膜之基材(以三乙酸纖維素薄膜為宜)進行皂化處理為宜。
本發明之偏光板係可由背光側,依偏光元件與本發明之防反射薄膜之順序形成。並且,依據其他例時,可為於偏光元件之兩面上形成本發明之防反射薄膜之偏光板。
(2)影像顯示裝置
本發明之影像顯示裝置係基本上可以光源裝置(背光)及顯示元件以及本發明之防眩性薄膜所構成,以光源裝置及顯示元件以及本發明之防反射薄膜(以本發明之偏光板為宜)所構成為宜。另外,作為本發明之影像顯示裝置之一例係由背光側,形成光源裝置、偏光元件、基材、影像顯示元件、基材、偏光板(以本發明之物為宜)及防反射薄膜(以本發明之物為宜)而成。
本發明之影像顯示裝置係液晶顯示裝置時,光源裝置之光源係由防反射薄膜下方照射。另外,STN型(超扭轉向列型)之液晶顯示裝置,液晶顯示元件與偏光板之間,可插入位相差板。此影像顯示裝置之各層間,因應需要,亦可設置黏合劑層。
用途
本發明之防眩性薄膜、防反射薄膜、偏光板、影像顯示裝置係使用於透視型顯示裝置。尤其電視、電腦及文字處理器等之顯示器。尤其使用於CRT(陰極射線管顯示器)及液晶螢幕等之高精密影像用顯示器之表面。
由下述實施例詳細地說明本發明之內容,但本發明之內容並不局限於實施例所解釋者。
充份地混合調製下述組成表所表示之組成物,以孔徑為30μm之聚丙烯製過濾器過濾成塗佈液1。將80μm厚度之三乙酸纖維素薄膜(TAC;TD80U:富士照片底片社製),捲取成捲筒型態,將預先調製之防眩層塗佈液1,塗佈成乾燥膜厚度為7μm,以110度加熱1分鐘後,再於氮氣淸掃下(Nitrogen Purge)(氧氣濃度為200ppm以下),照射55mJ之紫外線,使光硬化,形成防眩層,而成防眩性薄膜。
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA;日本化學藥社製)55質量份上述一般式(I)所表示之三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯(東亞合成社製;M-215)45質量份丙烯酸系聚合物(三菱人造纖維社製;mw=75,000)10質量份光硬化引發劑(Cibageigy社製;Irgacure184)
5質量份丙烯酸-苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μm,n=1.55)3質量份苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μm,n=1.60)12質量份矽氧烷系塗平劑(10-28;大日本精化社製)0.05質量份甲苯140質量份環己酮60質量份
除了使用下述組成表所示之組成物,調製塗佈液2以外,與實施例1同樣地進行,得到防眩性薄膜。
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA;日本化學藥社製)95質量份二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇六丙烯酸酯之混合物(DPHA;日本化學藥社製)5質量份丙烯酸系聚合物(三菱人造纖維社製;mw=75,000)10質量份光硬化引發劑(Cibageigy社製;Irgacure184)5質量份丙烯酸-苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μ
m,n=1.55)3質量份苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μm,n=1.60)12質量份矽氧烷系塗平劑(10-28;大日本精化社製)0.05質量份甲苯140質量份環己酮60質量份
除了使用下述組成表所示之組成物,調製塗佈液3以外,與實施例1同樣地進行,得到防眩性薄膜。
季戊四醇三丙烯酸酯(PETA;日本化學藥社製)95質量份1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA;日本化學藥社製)5質量份丙烯酸系聚合物(三菱人造纖維社製;mw=75,000)10質量份光硬化引發劑(Cibageigy社製;Irgacure184)5質量份丙烯酸-苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μm,n=1.55)3質量份苯乙烯珠粒(綜研化學社製;粒徑為3.5μm,n=1.60)
12質量份矽氧烷系塗平劑(10-28;大日本精化社製)0.05質量份甲苯140質量份環己酮60質量份
對於實施例1、比較例1及2所調製之防眩性薄膜,進行下述之評估試驗。其結果係如下述表1所記載。
測定防眩性薄膜切成10cm×10cm時之最大捲曲幅度(沿著圖1)。測定係防眩性薄膜於溫度為25度,濕度為55%之環境下進行。
使用切刀將僅防眩性薄膜中之防眩層面,形成縱10×橫10=100格之棋盤格。其次,重覆5次急速地黏著撕開棋盤格膠帶(Nichiban社製:膠帶)之2.5cm×2.5cm之試驗片,100格中之殘留格數為「m」,以m/100表示塗膜密合度。
將防眩性薄膜,由反射.透過率計HR-100(村上色
彩技術研究所)測定。
將防眩性薄膜,由9.8N荷重加壓鉛筆,以鉛筆高度評估強度。
將防眩性薄膜,使用摩耗輪CS-10F(Taber Industriels社製),以4.9N×2之荷重,測定100次旋轉後之曇度變化。
1‧‧‧防眩性薄膜
2‧‧‧防眩層中心點
4‧‧‧防眩層邊緣部份
5‧‧‧防眩層
9‧‧‧透明基材
圖1係表示本發明之防眩性薄膜之一種型態之概略圖。
1‧‧‧防眩性薄膜
3‧‧‧中心部份
4‧‧‧防眩層邊緣部份
5‧‧‧防眩層
7‧‧‧厚度
9‧‧‧透明基材
Claims (7)
- 一種防眩性薄膜,其係具備基材與形成於該基材上而成之防眩層所成之防眩性薄膜,其特徵為,該基材之厚度為30μm以上、80μm以下,該防眩層係含微粒子與二種以上之多官能性丙烯酸樹脂所成,該二種以上之多官能性丙烯酸樹脂中至少一種係以下述一般式(I):
- 如申請專利範圍第1項之防眩性薄膜,其中該三聚異氰酸乙氧基變性二丙烯酸酯之添加量相對於該多官能性丙烯酸樹酯之總重量為10重量%以上,45重量%以下。
- 如申請專利範圍第1項之防眩性薄膜,其中該基 材與該防眩層之間,形成防靜電層,該防靜電層係含有硬化型樹脂與導電性材料所成者。
- 如申請專利範圍第3項之防眩性薄膜,其中該防眩層係更含導電性微粒子而成,由此,賦予導電性於該防眩層之最表面層與該防靜電層之間而成。
- 一種防反射薄膜,其係以具備基材及防眩層以及低折射率層之此等順序而成之防反射薄膜,其特徵為,該低折射率層係具有比該防眩層低之折射率者,該基材與該防眩層係構成如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之防眩性薄膜者。
- 一種偏光板,其係具備偏光元件與防反射薄膜而成之偏光板,其特徵為,該偏光板之表面上形成如申請專利範圍第5項之防反射薄膜而成。
- 一種影像顯示裝置,其係具備透視性顯示體與由背面照射該透視性顯示體之光源裝置所成之影像顯示裝置,其特徵為,於該透視性顯示體之表面,形成如申請專利範圍第1項至第4項中任一項之防眩性薄膜、如申請專利範圍第5項之防反射薄膜、或如申請專利範圍第6項之偏光板而成。
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