TWI407268B - 工作台 - Google Patents

Description

工作台

本發明是有關於一種工作台，且特別是有關於一種用氣流來驅動支撐件的工作台。

圖1是習知一種曝光設備之工作台的示意圖。請參照圖1，習知曝光設備的工作台100包括平台110及金屬蓋板120。平台110具有承載面112，而金屬蓋板120設置於平台110的承載面112上。

上述之金屬蓋板120用以承載待曝光的基板，且金屬蓋板120的厚度約數釐米。金屬蓋板120上設有保護塗層(圖未示)，以防止基板因摩擦金屬蓋板120而受損。此外，金屬蓋板120的尺寸是配合基板的尺寸。換言之，當基板的尺寸更換時，金屬蓋板120亦需更換。另外，當保護塗層磨損時，亦需更換新的金屬蓋板120，以防止基板磨損。

在更換金屬蓋板120時，需施力(如推力F)於金屬蓋板120，以將金屬蓋板120推離平台110的承載面112。然而，由於金屬蓋板120是整面接觸承載面112，所以金屬蓋板120與承載面112的接觸面積較大，導致金屬蓋板120與承載面112之間的摩擦力較大。而且，因金屬蓋板120的厚度較薄，導致施力不易。因此，習知曝光設備的工作台100具有金屬蓋板120不易更換的缺點。此外，由於金屬蓋板120不易更換，所以在更換金屬蓋板120時容易造成金屬蓋板120與平台110彼此刮傷，且金屬蓋板120也容易因施力不當而變形。

本發明提供一種工作台，以使工作台上的板材較容易移動。

為達上述優點，本發明提出一種工作台，其包括平台、多個支撐件及氣流導引單元。平台具有相對的承載面與背面以及從承載面貫穿至背面的多個容置孔。支撐件分別設置於容置孔內，而氣流導引單元從平台的背面連接至容置孔。此外，每一支撐件包括殼體及滾動件，其中殼體具有容置槽，而滾動件設置於容置槽內，且滾動件局部凸出至容置槽外。

在本發明之一實施例中，上述之每一支撐件更包括套筒，而殼體設置於套筒內。

在本發明之一實施例中，上述之套筒的底部設有凸緣，每一容置孔包括相連通的第一容置空間與第二容置空間，第一容置空間通至承載面，而第二容置空間設置於第一容置空間與背面之間。第一容置空間的內徑小於第二容置空間的內徑，且第一容置空間與第二容置空間的連接處設有擋壁。此擋壁係提供凸緣一限位高度。

在本發明之一實施例中，上述之每一支撐件更包括密封環，環繞設置於凸緣之外側。

在本發明之一實施例中，上述之凸緣設有環形槽，而密封環固定於環形槽內，且部分密封環凸出於環形槽外。

在本發明之一實施例中，上述之滾動件為萬向滾珠或滾柱。

在本發明之一實施例中，上述之工作台更包括多個連接墊，分別設置於容置孔內，且鄰接背面。氣流導引單元包括多個支管，分別連接至連接墊。而且，每一連接墊具有一連接孔。

在本發明之一實施例中，上述之工作台更包括蓋板，配置於平台之承載面，以遮蓋容置孔。

在本發明之一實施例中，上述之工作台更包括基座，以承載平台。

在本發明之一實施例中，上述之工作台更包括導熱板，配置於基座與平台之間，其中導熱板內設有液體流道單元。

在本發明之一實施例中，上述之平台內更設有多個支撐銷，且支撐銷適於伸出平台的承載面外。

在本發明之一實施例中，上述之每一容置孔內設有限位部，係提供對應之殼體一限位高度。

本發明之工作台在更換承載面上的板材時，因可藉由氣流推動支撐件，使支撐件的滾動件局部凸出於承載面以支撐板材，因此能有效減少推動板材時的摩擦力，進而使板材容易移動或更換。

為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

圖2是本發明一實施例之一種工作台的示意圖，而圖3是圖2之支撐件及連接墊的立體分解圖。請參照圖2與圖3，本實施例之工作台200包括平台210、多個支撐件220及氣流導引單元230。平台210具有相對的承載面212與背面214以及從承載面212貫穿至背面214的多個容置孔216。支撐件220分別設置於容置孔216內，而氣流導引單元230從平台210的背面214連接至容置孔216。此氣流導引單元230可連接至氣體供應裝置(圖未式)。此外，每一支撐件220包括殼體222及滾動件224，其中殼體222具有容置槽223，而滾動件224設置於容置槽223內，且滾動件224局部凸出至容置槽223外。

上述之每一支撐件220例如更包括套筒226，而殼體223設置於套筒226內，且套筒226的底部例如設有凸緣227。每一支撐件220的滾動件224例如為萬向滾珠。此外，每一容置孔216例如包括相連通的第一容置空間217與第二容置空間218。第一容置空間217通至承載面212，而第二容置空間218設置於第一容置空間217與背面214之間。第一容置空間217的內徑D1例如是小於第二容置空間218的內徑D2，且第一容置空間217與第二容置空間218的連接處設有擋壁219。此擋壁219係提供凸緣227一限位高度。另外，本實施例之工作台200可更包括多個連接墊240，分別設置於容置孔216內，且鄰接平台210的背面214。氣流導引單元230包括多個支管232，而這些支管232分別連接至連接墊240。具體而言，每一連接墊240具有一連接孔242，而支管232分別連接至這些連接孔242。連接墊240除了供支管232連接外，還可將容置孔216的第二容置空間218的底部密封。

圖4A是圖2之工作台用於承載板材時的示意圖，而圖4B是施力推動圖2之工作台上之板材的示意圖。請先參照圖4A，在未通入氣流至氣流導引單元230時，支撐件220因重力的關係而處於容置孔216的底部，且滾動件224並未凸出於平台210的承載面212。此時，板材300可放置於平台210的承載面212，以進行作業。

請參照圖4B，當欲移動板材300或將板材300搬離平台210時，可藉由氣體供應裝置提供氣流A至氣流導引單元230中。氣流A可經由氣流導引單元230的支管232通入容置孔216內，以推動支撐件220，使滾動件224局部凸出於平台210的承載面212。如此，可藉由支撐件220來支撐板材300，以使板材300與平台210的承載面212分離。此外，由於第一容置空間217與第二容置空間218的連接處設有擋壁219，所以當套筒226之凸緣227被氣流A推動至擋壁219時，擋壁219會抵住凸緣227。因此，擋壁219能提供凸緣227一限位高度，以防止支撐件220被氣流A推出容置槽216外。

承上述，有別於習知技術之面接觸方式，本實施例在移動板材300時，係藉由支撐件220的滾動件224來支撐板材300，所以能大幅減少板材300與工作台200的接觸面積，以降低移動板材300時的摩擦力。而且，在移動板材300時，由於滾動件224係可滾動，所以可大幅降低板材300與滾動件224之間的摩擦力，使板材300更易於被移動。因此，本實施例之工作台200具有易於移動板材300及更換板材300的優點。

此外，由於本實施例之滾動件224為萬向滾珠，所以可從不同的方向施力推動板材300。在圖5所示的另一實施例中，支撐件220’的滾動件224’亦可為滾柱。滾柱亦具有使板材易於被推動的優點，但由於滾柱的滾動方向固定，所以可用來限制板材的移動方向。本發明之滾動件可視需求而選用滾柱或萬向滾珠，但本發明之滾動件不以此兩者為限。

另外，如圖6與圖7所示，為了防止漏氣，每一支撐件220”可更包括密封環228，其環繞設置於套筒226”的凸緣227”之外側。更詳細地說，凸緣227”設有環形槽221，而密封環228固定於環形槽221內，且部分密封環228凸出於環形槽221外，並抵靠於第二容置空間218的側壁。如此，可提供密封的效果，以進一步防止漏氣。

圖8是本發明另一實施例之工作台的示意圖。請參照圖8，本實施例之工作台200a與上述之工作台200相似，差別處在於工作台200a更包括蓋板250，配置於平台210之承載面212，以遮蓋容置孔216。當工作台200a應用於曝光設備時，待曝光的基板是設置於蓋板250上。本實施例因藉由蓋板250遮蓋容置孔216，所以可防止曝光製程受到容置孔216的影響而產生缺陷。

上述之蓋板250例如是金屬板，但不以此為限。蓋板250的尺寸例如配合待曝光之基板的尺寸。當需更換不同尺寸的蓋板250板時，可藉由氣流導引單元230導引氣流來推動支撐件220，以藉由支撐件220來支撐蓋板250，使蓋板250易於更換。如此，能防止蓋板250與平台210彼此刮傷，並避免蓋板250因施力不當而變形。

本實施例之工作台200a例如更包括用以承載平台210的基座260。此外，工作台200a可更包括導熱板270，配置於基座260與平台210之間。當此工作台200a用於曝光製程時，導熱板270可與蓋板250的進行熱交換，以避免蓋板250及設置於蓋板250上的基板過熱。另外，導熱板270內可設有液體流道單元(圖未示)，以供通入冷卻液，進而提升導熱板270的散熱效率。

圖9是本發明另一實施例之工作台的示意圖。請參照圖9，本實施例之工作台200b與上述之工作台200相似，差別處在於工作台200b的平台210b內更設有多個支撐銷211。這些支撐銷211適於伸出平台210b的承載面212外。更詳細地說，當要將板材置於平台210b的承載面212時，可使容置於容置孔213內的支撐銷211伸出平台210b的承載面212外，以承接板材。接著，將支撐銷211收回平台210b的容置孔213內，以使板材被放置於平台210b的承載面212上。

圖10是本發明另一實施例之工作台的示意圖。請參照圖10，本實施例之工作台200c與上述之工作台200的結構與優點相似，以下僅針對其結構的主要差異處進行說明。本實施例之工作台200c的平台210c的每一容置孔216c內設有限位部215，而支撐件220c例如包括殼體222及滾動件224。限位部215例如是從容置孔216c的孔壁向內延伸而出的銷體，以提供支撐件220c之殼體222的限位高度。亦即，當通入氣流A至氣流導引單元230以推動支撐件220c時，支撐件220c之殼體222的頂面225會被限位部215抵住，以防止支撐件220c被推出容置孔216c外。

綜上所述，在本發明之工作台中，由於氣流導引單元從平台的背面連接至容置孔，所以當要移動位於承載面之板材時，氣流可經由氣流導引單元通入容置孔內，以推動支撐件，使滾動件局部凸出於承載面，進而支撐板材。如此，在移動板材時，由於板材與滾動件之間的摩擦力較小，所以較容易移動板材或更換板材。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100．．．工作台

110．．．平台

112．．．承載面

120．．．金屬蓋板

200、200a、200b、200c．．．工作台

210、210b、210c．．．平台

211．．．支撐銷

212．．．承載面

213、216、216c．．．容置孔

214．．．背面

217．．．第一容置空間

218．．．第二容置空間

219．．．擋壁

220、220’、220”、220c．．．支撐件

221．．．環形槽

222．．．殼體

223．．．容置槽

224、224’．．．滾動件

225．．．頂面

226．．．套筒

227、227”．．．凸緣

228．．．密封環

230．．．氣流導引單元

232．．．支管

240．．．連接墊

242．．．連接孔

250．．．蓋板

260．．．基座

270．．．導熱板

300．．．板材

A．．．氣流

D1、D2．．．內徑

F．．．推力

P．．．限位處

圖1是習知一種曝光設備之工作台的示意圖。

圖2是本發明一實施例之一種工作台的示意圖。

圖3是圖2之支撐件及連接墊的立體分解圖。

圖4A是圖2之工作台用於承載板材時的示意圖。

圖4B是施力推動圖2之工作台上之板材的示意圖。

圖5是本發明另一實施例之滾動件的示意圖。

圖6是本發明另一實施例之工作台的示意圖。

圖7是本發明另一實施例之工作台的示意圖。

圖8是圖7之支撐件的立體分解圖。

圖9是本發明另一實施例之工作台的示意圖。

圖10是本發明另一實施例之工作台的示意圖。

200．．．工作台

210．．．平台

212．．．承載面

214．．．背面

216．．．容置孔

217．．．第一容置空間

218．．．第二容置空間

219．．．擋壁

220．．．支撐件

224．．．滾動件

226．．．套筒

227．．．凸緣

230．．．氣流導引單元

232．．．支管

240．．．連接墊

D1、D2．．．內徑

Claims (12)

1. 一種工作台，包括：一平台，具有相對的一承載面與一背面以及從該承載面貫穿至該背面的多個容置孔；多個支撐件，分別設置於該些容置孔內，每一支撐件包括：一殼體，具有一容置槽；一滾動件，設置於該容置槽內，且該滾動件局部凸出至該容置槽外；以及一氣流導引單元，從該平台的該背面連接至該些容置孔，用以導引氣流，使得氣流推動該些支撐件。
2. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，其中每一支撐件更包括一套筒，而該殼體設置於該套筒內。
3. 如申請專利範圍第2項所述之工作台，其中該套筒的一底部設有一凸緣，每一容置孔包括相連通的一第一容置空間與一第二容置空間，該第一容置空間通至該承載面，該第二容置空間設置於該第一容置空間與該背面之間，該第一容置空間的內徑小於該第二容置空間的內徑，且該第一容置空間與該第二容置空間的連接處設有一擋壁，係提供該凸緣一限位高度。
4. 如申請專利範圍第3項所述之工作台，其中每一支撐件更包括一密封環，環繞設置於該凸緣之外側。
5. 如申請專利範圍第4項所述之工作台，其中該凸緣設有一環形槽，而該密封環固定於該環形槽內，且部分該密封環凸出於該環形槽外。
6. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，其中該些滾動件為萬向滾珠或滾柱。
7. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，更包括多個連接 墊，分別設置於該些容置孔內，且鄰接該背面，而該氣流導引單元包括多個支管，分別連接至該些連接墊，每一連接墊具有一連接孔。
8. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，更包括一蓋板，配置於該平台之該承載面，以遮蓋該些容置孔。
9. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，更包括一基座，以承載該平台。
10. 如申請專利範圍第9項所述之工作台，更包括一導熱板，配置於該基座與該平台之間，其中該導熱板內設有一液體流道單元。
11. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，其中該平台內更設有多個支撐銷，且該些支撐銷適於伸出該平台的該承載面外。
12. 如申請專利範圍第1項所述之工作台，其中每一容置孔內設有一限位部，係提供對應之該殼體一限位高度。