TWI402450B - 軌道式承載機構及承載系統 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種用來承載機台之承載機構,尤指一種利用線性滑軌以承載機台之軌道式承載機構及承載系統。
為了承載體積龐大的機台,例如伺服器與冷卻機,傳統的承載機構係使用滾輪式結構作為帶動機台移動的滑行機制,以使得機台可於一有限範圍內水平移動,便於操作人員控制或維修位於機台不同側面之操作面板。傳統的滾輪式承載機構容易因長久承載機台所導致的壓力造成滾輪變形,進而易引起噪音與震動,使得承載機構之穩定度與精確度下降。因此,如何設計出一種不會因負荷重物而造成結構損毀之承載機構即為機構產業亟需努力之重要課題。
本發明之目的在於提供一種利用線性滑軌承載機台之軌道式承載機構,以解決上述之問題。
本發明之另一目的在於提供一種承載系統,其具有利用線性滑軌承載機台之軌道式承載機構。
為了達成上述之目的,本發明之軌道式承載機構包含一基座;至少一線性滑軌,其係設置於該基座上;至少一滑塊,其係可滑動地設置於該至少一線性滑軌上;以及至少一承載平台,其係設置於該至少一滑塊上。該承載平台係用來承載該至少一機台,藉由該至少一線性滑軌與該至少一滑塊相對,以使該至少一承載平台相對於該基座滑動。
根據本發明之其中一實施方式,該基座包含有一止擋件,且該承載平台包含有兩限位部,該止擋件係用來止擋該兩限位部,藉以限制該承載平台於該兩限位部間相對於該基座滑動。
根據本發明之其中一實施方式,該承載機構另包含有至少一容置槽,其係設置於該基座上,以及一底板,其係以可卸除方式安裝於該容置槽內,該底板之一高度係低於該承載平台之一高度。
根據本發明之其中一實施方式,該承載機構另包含有至少一凹部,其係設置於該底板上,以及一定位結構,其係設置於該承載平台鄰近該底板之一側。該定位結構包含有一主體,一定位凸柱,其係以可活動方式設置於該主體,該定位凸柱係用來卡合於該凹部,藉以限制該承載平台相對該底板之滑動。
根據本發明之其中一實施方式,該承載機構另包含有至少一凹部,其係設置於該基座上,以及一定位結構,其係設置於該承載平台鄰近該基座之一側。該定位結構包含有一主體,一定位凸柱,其係以可活動方式設置於該主體,該定位凸柱係用來卡合於該凹部,藉以限制該承載平台相對該基座之滑動。
為了達成上述之另一目的,本發明之承載系統包含至少一機台,以及複數承載機構,其係用來承載該至少一機台。各該複數承載機構包含有一基座;至少一線性滑軌,其係設置於該基座上;至少一滑塊,其係可滑動地設置於該至少一線性滑軌上;以及至少一承載平台,其係設置於該至少一滑塊上,該承載平台係用來承載該至少一機台,藉由該至少一線性滑軌與該至少一滑塊,以使該至少一承載平台相對於該基座滑動。
根據本發明之其中之一實施方式,該承載系統另包含有一配線槽,其係設置於該承載機構之一側。
根據本發明之其中之一實施方式,該承載系統另包含有一鍊狀理線結構,其兩端係分別連結於該承載平台與該配線槽,該鍊狀理線結構係用來包覆一電纜線。
本發明之承載系統可承受高負載的機台重量,且藉由具有線性滑軌之承載機構,操作人員可輕易地推動機台相對於基座滑動,故可提高承載系統之操作便利性。此外,承載系統另可利用緩衝墊提供吸震功能,以及利用定位結構提供鎖定承載平台滑動之功能,因此本發明之承載系統係可有效地適用於行動式貨櫃型承載系統。
請參閱第1圖,第1圖為本發明之承載系統之其中之一實施例之外觀示意圖。承載系統10包含有複數機台12,以及複數承載機構14,複數承載機構14係用來承載複數機台12。於本實施例中,承載系統10係可為一種行動式貨櫃型伺服器系統,複數個機台12係可分別為伺服器與冷卻機,且伺服器與冷卻機係交替設置於複數承載機構14上,以使冷卻機可用來散逸相鄰伺服器運轉時所產生之熱量。
如第1圖所示於本實施例中,承載系統10包括九個承載機構14,每個承載機構14係相鄰排列。於本實施例中,機台12係為伺服器,機台12a係為冷卻機。惟須注意的是,承載系統10中承載機構14之數量,以及機台之配置方式並不限於上述。
機台12與承載機構14係可容置於一行動式貨櫃內,承載機構14之平坦部分可作為行動式貨櫃內之地板,而複數個機台12(例如伺服器與冷卻機)可依序交替設置於承載機構14上且位於行動式貨櫃內之兩側(如第1圖所示)。於本實施例中,承載系統10係為行動式貨櫃型伺服器之承載系統。
請參閱第2圖與第3圖,第2圖為本發明承載機構之實施例之分解圖,第3圖為本發明併排九個承載機構之實施例之組立圖。承載機構14包含有基座16、至少一線性滑軌20、至少一滑塊22,以及至少一承載平台24。於本實施例中,承載機構14之線性滑軌20之數量為二個,滑塊22之數量為四個,承載平台24之數量為一個。惟須注意的是,線性滑軌20、滑塊22與承載平台24之數目並不限於上述,其數目端視實際需求而定。
線性滑軌20係穩定地設置於基座16上。關於線性滑軌20固定於基座16之方式,舉例來說,線性滑軌20可藉由固定座18安裝於基座16上。惟須注意的是,若線性滑軌20可直接安裝於基座16上,則不需要固定座18。
滑塊22係以可滑動方式設置於線性滑軌20上。於本實施例中,四滑塊22係於二線性滑軌20上滑動。
承載平台24係設置於滑塊22上。於本實施例中,一個承載平台24可搭配四個滑塊22(如第2圖所示),其中四個滑塊22係可分別設置於鄰近於承載平台24之四個邊角,以達到穩定支撐之功效。承載平台24係用來承載機台12,藉由線性滑軌20與滑塊22之間的相對滑動,而達到承載平台24相對基座16滑動之目的。
如第3圖所示,承載機構14之各承載平台24係分別用來承載一機台12,且兩機台12於承載機構14上係共用同二個線性滑軌20。為了使機台12可順利地於線性滑軌20上移動,二個線性滑軌20間係採取相互平行之設置。於本實施例中,承載機構14包含有支撐結構26,其係設置於基座16之一側,支撐結構26係連接呈平行排列之兩基座16,藉以使二基座16保持相互平行之設置。
須注意的是,承載機構14之各內部元件之尺寸係可依其所承載機台12之尺寸而調整。舉例來說,由於伺服器之體積與重量皆大於冷卻機,故用以承載伺服器之承載機構14之尺寸與荷重強度係可大於用以承載冷卻機之承載機構14a之尺寸與荷重強度。
接著請一併參考第1圖至第5圖所示。第4圖為本發明承載機構之實施例於第3圖之A-A切截面之剖視圖,第5圖為本發明之承載機構之鍊狀理線結構實施例之示意圖。於本實施例中,承載系統10另包含有配線槽28與鍊狀理線結構30。配線槽28係設置於承載機構14之基座16之一側,鍊狀理線結構30之兩端係分別連結於承載平台24與配線槽28。承載機構14之複數個機台12可分別藉由通過配線槽28之電纜線而電連接至外部電子裝置,而鍊狀理線結構30係用來包覆電纜線,藉以於機台12相對承載機構14之基座16滑動時保護電纜線避免受擠壓、摩擦等破壞。
請參閱第5圖,鍊狀理線結構30內部形成有一容置空間301,用以容納電纜線,鍊狀理線結構30係可包含複數個可拆卸式之連接片303,藉以限制電纜線於容置空間301之內。惟須注意的是,鍊狀理線結構30之型式並不限於本實施例中所述,端視實際使用需求而定。
承載機構14另可包含有一緩衝墊32(如第4圖所示),其係設置於線性滑軌20之一端。緩衝墊32係用來於承載平台24滑動至線性滑軌20之末端時吸收撞擊力量,以提供緩衝功能。
請一併參考第2圖、第3圖與第6圖。第6圖為本發明承載機構之實施例於另一視角之示意圖。於本實施例中,承載機構14另可包含兩容置槽34與複數個底板36。其中,兩容置槽34係設置於基座16上,複數個底板36係以可卸除方式安裝於兩容置槽34上。承載機構14之底板36可為一保護地板,其係用以覆蓋於基座16上方,藉以保護承載機構14之內部元件。此外,為了便於維修,承載機構14之底板36係另可用來提供操作人員可行走踩踏之平面,以便於其操作或維修機台12。因此底板36不但可用來覆蓋且保護承載機構14之內部元件外,還可用來供操作人員步行於承載機構14上。
值得一提的是,底板36之一高度係低於承載平台24之一高度,且當底板36固定於容置槽34時不會產生位移,如此一來當承載平台24藉由線性滑軌20與滑塊22相對基座16滑動時,承載平台24係自底板36上方通過而不會產生干涉。
其中底板36可依實際需求設計為複數種尺寸的可拆式底板,舉例來說,大尺寸的底板36可設置於基座16之中間區段,用以提供操作人員行走,而小尺寸的底板36a可設置於基座16之兩端,用以保護承載機構14之其他元件,且用來於承載平台24移至基座16之中間區段時提供操作人員行走或站立。
請參閱第7圖,第7圖為本發明承載機構之定位結構之實施例之示意圖。如第6圖與第7圖所示,承載機構14另包含有兩凹部38與定位結構40。其中,兩凹部38係可分別設置於基座16(圖未示)與底板36(如第6圖所示)上。惟須注意的是,凹部38亦可僅設於基座16。
定位結構40係設置於承載平台24上。定位結構40包
含有一主體401,以及一定位凸柱403,定位凸柱403係以可活動方式設置於主體401。當承載平台24相對底板36滑動至一預設位置時,定位凸柱403之位置對應凹部38之位置。當作動定位結構40時,凸柱403凸出以卡合於凹部38內,藉以限制承載平台24相對或底板36之滑動或防止晃動。於本實施例中,當凸柱403凸出時,凸柱403其係可同時卡固於基座16上的凹部38與底板36上的凹部38。
定位結構40另包含把手405,其係連接於主體401。當定位凸柱403未卡合於凹部38時,使用者可藉由拉動把手405以帶動承載平台24相對基座16(或底板36)滑動,藉以調整機台12於線性滑軌20上之相對位置。
請參閱第8圖,第8圖為本發明承載機構14之承載平台24之實施例於另一視角之示意圖。如第6圖至第8圖所示,於本實施例中,基座16包含至少一止擋件161,承載平台24包含兩限位部241。舉例來說,止擋件161表面可包覆一層彈性材質,例如橡膠,用以吸收限位部241撞擊之力道。當承載平台24藉由線性滑軌20與滑塊22相對基座16滑動時,止擋件161可用來止擋兩限位部241,藉以限制承載平台24於兩限位部241間相對於基座16滑動。兩限位部241之間距係可預設為承載平台24自線性滑軌20之一端至線性滑軌20之中間區段的距離,意即相對於承載平台24可滑動之行程,藉以輔助定位結構40限制承載平台24之滑動。
綜上所述,本發明之承載系統10係利用具有線性滑軌
20之承載機構14、14a分別來承載機台12、12a,由於線性滑軌20具有低摩擦係數、低噪音、高荷重等優點,因此承載機構14、14a可穩定且持續地承受機台12、12a之重量而不會導致其結構損壞。此外,承載系統10之緩衝墊32可用來吸收機台12、12a滑行至基座16之端部所產生之衝擊力,藉以避免機台12、12a震盪。再者,承載系統10可利用基座16之止擋件161與承載平台24之限位部241以輔助定位結構40限制承載平台24相對基座16之滑動。
相較於先前技術,本發明之承載系統可承受高負載的機台重量,且藉由具有線性滑軌之承載機構,操作人員可輕易地推動機台相對於基座滑動,故可提高承載系統之操作便利性。此外,承載系統另可利用緩衝墊提供吸震功能,以及利用定位結構提供鎖定承載平台滑動之功能。本發明之承載系統係可有效地適用於行動式貨櫃型承載系統。
以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。
10‧‧‧承載系統
12‧‧‧機台
12a‧‧‧機台
14‧‧‧承載機構
14a‧‧‧承載機構
16‧‧‧基座
161‧‧‧止擋件
18‧‧‧固定座
20‧‧‧線性滑軌
22‧‧‧滑塊
24‧‧‧承載平台
241‧‧‧限位部
26‧‧‧支撐結構
28‧‧‧配線槽
30‧‧‧鍊狀理線結構
301‧‧‧容置空間
303‧‧‧連接片
32‧‧‧緩衝墊
34‧‧‧容置槽
36‧‧‧底板
36a‧‧‧底板
38‧‧‧凹部
40‧‧‧定位結構
401‧‧‧主體
403‧‧‧定位凸柱
405‧‧‧把手
第1圖為本發明實施例承載系統之外觀示意圖。
第2圖為本發明實施例承載機構之分解圖。
第3圖為本發明併排九個承載機構之實施例之組立圖。
第4圖為本發明承載機構之實施例之於第3圖之A-A切截面之剖視圖。
第5圖為本發明之承載機構之鍊狀理線結構實施例之示意
圖。
第6圖為本發明承載機構之實施例於另一視角之示意圖。
第7圖為本發明承載機構之定位結構之實施例示意圖。
第8圖為本發明承載機構之承載平台之實施例於另一視角之
示意圖。
10...承載系統
12...機台
12a...機台
14...承載機構
Claims (18)
- 一種軌道式承載機構,其係用來承載至少一機台,該軌道式承載機構包含有:一基座;至少一線性滑軌,其係設置於該基座上;至少一滑塊,其係可滑動地設置於該至少一線性滑軌上;以及至少一承載平台,其係設置於該至少一滑塊上,該承載平台係用來承載該至少一機台,藉由該至少一線性滑軌與該至少一滑塊,以使該至少一承載平台相對於該基座滑動;至少一容置槽,其係設置於該基座上;以及複數底板,其係以可卸除方式安裝於該至少一容置槽,其中該複數底板之高度係低於該至少一承載平台之高度。
- 如請求項1所述之承載機構,其另包含有:至少一凹部,其係設置於該複數底板上;以及一定位結構,其係設置於該至少一承載平台,該定位結構包含有:一主體;以及一定位凸柱,其係以可活動方式設置於該主體,該定位凸柱係用來卡合於該凹部,藉以限制該至 少一承載平台相對該複數底板之滑動。
- 如請求項2所述之承載機構,其中該定位結構另包含有一把手,其係連接於該主體。
- 如請求項1所述之承載機構,其另包含有:至少一凹部,其係設置於該基座上;以及一定位結構,其係設置於該至少一承載平台,該定位結構包含有:一主體;以及一定位凸柱,其係以可活動方式設置於該主體,該定位凸柱係用來卡合於該凹部,藉以限制該至少一承載平台相對該基座之滑動。
- 如請求項4所述之承載機構,其中該定位結構另包含有一把手,其係連接於該主體。
- 如請求項1或2或4所述之承載機構,其中該基座包含一止擋件,且該承載平台包含兩限位部,該止擋件係止擋於該兩限位部。
- 如請求項6所述之承載機構,其另包含有:一緩衝墊,其係設置於該線性滑軌之一端,該緩衝墊係用來提供該承載平台緩衝功能。
- 如請求項7所述之承載機構,其另包含有:一支撐結構,其係設置於該基座之一側,該支撐結構係用來支撐固定該基座。
- 如請求項8所述之承載機構,其另包含有: 一固定座,其係設置於該線性滑軌與該基座之間,該固定座係用來固定該線性滑軌。
- 一種承載系統,其包含有:至少一機台;以及複數承載機構,其係用來承載該至少一機台,各該複數承載機構包含有:一基座;至少一線性滑軌,其係設置於該基座上;至少一滑塊,其係可滑動地設置於該至少一線性滑軌上;以及至少一承載平台,其係設置於該至少一滑塊上,該承載平台係用來承載該至少一機台,藉由該至少一線性滑軌與該至少一滑塊,以使該至少一承載平台相對於該基座滑動;至少一容置槽,其係設置於該基座;以及複數底板,其係以可卸除方式安裝於該至少一容置槽上,其中該複數底板之高度係低於該至少一承載平台之高度。
- 如請求項10所述之承載系統,其中該承載機構另包含有:至少一凹部,其係設置於該複數底板上;以及一定位結構,其係設置於該至少一承載平台,該定位結構包含有:一主體;以及 一定位凸柱,其係以可活動方式設置於該主體,該定位凸柱係用來卡合於該凹部,藉以限制該至少一承載平台相對該複數底板之滑動。
- 如請求項11所述之承載系統,其中該定位結構另包含有一把手,其係連接於該主體。
- 如請求項10或11所述之承載系統,其中該基座包含有一止擋件,且該承載平台包含有兩限位部,該止擋件係止擋該兩限位部。
- 如請求項10或11所述之承載系統,其另包含有:一配線槽,其係設置於該承載機構之一側。
- 如請求項14所述之承載系統,其另包含有:一鍊狀理線結構,其兩端係分別連結於該承載平台與該配線槽,該鍊狀理線結構係形成一容置空間。
- 如請求項10或11所述之承載系統,其中該承載機構另包含有:一緩衝墊,其係設置於該線性滑軌之一端,該緩衝墊係用來提供該承載平台緩衝功能。
- 如請求項10所述之承載系統,其中該承載機構另包含有:一支撐結構,其係設置於該基座之一側,該支撐結構係用來支撐固定該基座;以及一固定座,其係設置於該線性滑軌與該基座之間,該固定座係用來固定該線性滑軌。
- 如請求項10或11所述之承載系統,其中該至少一機台係為一伺服器或一冷卻機。
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