TWI393207B - 驅動設備，曝光設備及裝置製造方法 - Google Patents

Description

驅動設備，曝光設備及裝置製造方法

本發明係關於驅動設備、包含該驅動設備之曝光設備、及使用該曝光設備製造裝置之裝置製造方法。

曝光設備係使用於微影處理，尤其是曝光處理，以製造諸如半導體裝置之裝置。該曝光設備係配置成藉由使用投影光學系統將由掩膜載台所固持的掩膜上之圖案投影至由晶圓載台所固持之晶圓，且使該晶圓曝光。

載台設備係使用來固持且定位晶圓及掩膜。載台設備包含設有固持晶圓及掩膜的夾具之載台、及驅動該載台之驅動機構。例如，驅動機構可包括與載台一起移動之可移動體、支撐或導引可移動體之導件、諸如產生驅動力的線性馬達之致動器、及類似物。可移動體可在相對於導件形成幾乎恆定間隙時藉由空氣墊所產生的飄浮力及由高壓密封磁鐵所產生之吸引力。

習知，導件係由鑄鐵製成，且其表面鍍有鎳及磷以防止表面氧化且增加硬度及表面準確性。

於空氣導引機構，空氣可在載台移動時而關閉。然後，空氣墊可能與導件接觸而損壞該導件。如果載台隨著存在空氣墊及導件間的微塵或類似物而移動，導件亦可能受損。當上述之金屬材料係使用作為導件的材料時，如果導引表面受損，金屬材料的表面可能不合意地鼓起。於此狀態，當載台或類似物沿著各別導件的表面而移動時，導件的鼓起可能對著空氣墊而磨擦。

因此，空氣導引機構的運動的幾何準確性可能會受損，或空氣導引機構的動態特性可能起伏而相當地減弱移動載台上之控制性能。如果空氣導引機構的長時間連續地於此狀態，空氣澱可能逐漸磨損直到變成臨界。於極端例子中，空氣墊對著導件相撞而使載台無法操作。因此，空氣導引機構具有關於長期穩定性之缺點。

日本專利先行公開申請案第9-5463號揭示載台基座係由鋁土陶瓷材料製成之實例。因為鋁土陶瓷材料係非磁體且不能被磁性加壓，其係藉由真空墊而加壓。於使用高壓密封磁鐵作為真空墊之配置，為產生等於高壓密封磁鐵的吸引力之吸引力，加壓墊必須具有大於高壓密封磁鐵的面積之墊面積。而且，必須形成真空空氣管路以及壓力空氣線。這使形成該墊之微動載台的下表面上之配件以及整個載台設備的管路配件複雜化。而且，為獲得等於高壓密封磁鐵的吸引力之吸引力，需要高真空空氣。因此，必須將高真空空氣管線連接至曝光設備。

日本專利先行公開申請案第2000-260691號揭示將陶瓷材料濺鍍至載台基座上之實例。當使用高壓密封磁鐵時，必須形成薄陶瓷層。如果薄的噴塗陶瓷層被形成，然而，空氣墊滑動表面的剛性不可能被保持。如果磁鐵加壓表面及空氣墊滑動表面的厚度將被改變，必須增加處理陶瓷層的步驟數，其導致準確度下降且增加成本。

本發明致能提供一種驅動設備及曝光設備，其改善導件的剛性及耐久性同時保持可移動體的移動性能，例如，改善導件的結構及裝置製造方法。

依據本發明的第一形態，提供一種驅動設備，其包括：可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，及該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵。

依據本發明的第二形態，提供一種曝光設備，其使用投影光學系統將由原片載台所固持之原片的圖案投影至由基板載台所固持之基板且使該基板曝光，該曝光設備包含：驅動設備，其包括：可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵，及該驅動設備係配置成驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。

依據本發明的第三形態，提供一種裝置製造方法，包含以下步驟：使用包括原片載台及基板載台之曝光設備使基板曝光，及實施用於所曝光基板之顯影處理，其中該曝光設備包括驅動設備，其包括：可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，其中該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，其中該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵，及其中該驅動設備係配置成驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。

依據本發明的第四形態，提供一種驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括：支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，及該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方。

依據本發明的第五形態，提供一種曝光設備，其使用投影光學系統將由原片載台所固持之原片的圖案投影至由基板載台所固持之基板且使該基板曝光，該曝光設備包含：驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括：支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方，及該驅動設備係配置成驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。

依據本發明的第六形態，提供一種裝置製造方法，包含以下步驟：使用包括原片載台及基板載台之曝光設備使基板曝光，及實施用於所曝光基板之顯影處理，其中該曝光設備包括驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括：支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，其中該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方，及其中該驅動設備係配置成驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。

自例示性實施例的以下說明並參照附圖之本發明的其它特徵將係清楚的。

現將參照附圖詳細說明本發明的較佳實施例。應注意到，除非是特別說明，組件的相對配置、這些實施例中所述之數值表示及數值不會受限於本發明的範圍。

此實施例將例示依據本發明的載台設備應用於曝光設備中的基板載台設備(晶圓載台設備17)之例子。

圖1係顯示依據實施例之曝光設備15的簡要配置的實例之示意圖。

曝光設備15具有將形成在掩膜M的圖案投影至塗有光敏劑之晶圓P上以使該圖案轉移至晶圓P上之光敏劑。曝光設備15包含：光源14、照明光學系統13、掩膜載台設備12、投影光學系統16、晶圓載台設備17及類似物。Z軸係設定於平行於投影光學系統16的光軸之方向。在垂直於投影光學系統16的光軸之平面內，Y軸係設定於垂直於圖1的圖片的表面之方向。在垂直至投影光學系統16的光軸之平面內，X軸係設定於垂直於圖1的圖片的表面之方向。

掩膜載台(同樣稱為原片載台)設備12用來固持掩膜(同樣稱為原片)M。光源14產生用來使晶圓P曝光之光束L。作為光源14，例如，準分子雷射係適合的。光源14所射出之光束L係藉由鏡18而反射且提供給照明光學系統13。照明光學系統13照亮掩膜M。來自所照亮的掩膜M之光束L經由投影光學系統16將影像形成在晶圓(同樣稱為基板)P上。掩膜M的圖案影像係形成在晶圓P的表面。當驅動晶圓載台(同樣稱為基板載台)8時，晶圓P係二維步進的。晶圓P的各別拍攝區係係在使晶圓P步進時按序地曝光，因此將掩膜M的圖案一個接一個地轉移至晶圓P的各別拍攝區。

晶圓載台8用來固持晶圓P，且被驅動於垂直方向(X、Y及Z三維方向)。移動鏡17a係固定在晶圓載台8上。移動鏡17a係使用來藉由雷射干涉計(未顯示)而檢測晶圓載台8(亦即，晶圓P)的位置。

圖2係顯示晶圓載台設備17的立體外觀的實例之示意圖。晶圓載台設備17包含：阻尼裝置1、基座2、Y導件3、Y驅動線性馬達4、X導件5、X驅動線性馬達6、晶圓夾具7及類似物。圖1所示之移動鏡17a包含：Y-移動鏡及X-移動鏡。晶圓載台8的X及Y方向位置係藉由使用Y及X移動鏡而分別檢測。

阻尼裝置1係配置在基座2及工廠地板之間，在該處曝光設備15被安裝。阻尼裝置1具有氣動阻尼器、線性馬達或類似物，使作用在基座2上之振動衰減，且控制當晶圓載台8移動時所造成之曝光設備15的姿勢之變化。

圖3係顯示Y導件3的放大部位的實例之示意圖。

Y導件3係構成包括如脆性材料的陶瓷層3a及磁性吸鐵層3b。

磁性吸鐵層3b係由具有磁性吸引特性之磁性材料(例如，金屬材料)所製成，且構成Y導件3的支承。磁性吸鐵層3b係由例如，具有低熱膨脹係數之鑄型材料所製成，且具有足夠剛性。磁性吸鐵層3b可利用板作用結構。磁性吸鐵層3b在可移動體(亦即，此實施例中的X導件5)在被Y導件3支撐時移動之側具有不平坦形狀。

磁性吸鐵層3b在其支撐或導引X導件5之導引表面側具有不平坦度。陶瓷層3a係形成在磁性吸鐵層3b上以覆蓋磁性吸鐵層3b。陶瓷層3a的表面供作支撐或導引X導件5之導引表面。陶瓷層3a係由例如，噴塗的陶瓷材料所製成。

空氣導引機構(未顯示)使X導件5飄浮在Y導件3上方之預定高度，且Y驅動線性馬達4自由地移動X導件5於Y方向。空氣導引機構(未顯示)使晶圓載台8飄浮在X導件5上方之預定高度。X驅動線性馬達6的定子係固定至X導件5，且X驅動線性馬達6的可移動元件係固定至晶圓載台8。此種X驅動線性馬達6自由地移動晶圓載台8於X方向。尤其，該二線性馬達4及6移動X導件5及Y導件3，且晶圓載台8在移動之時被驅動。

現將參照圖4至7說明製造具有上述配置之晶圓載台設備17中的Y導件3的程序的實例。

首先，Y導件3的磁性吸鐵層3b被形成。如圖4所示，具有包括至少一組高位準及低位準(以下稱為級差)的表面之不平坦形狀係形成在磁性吸鐵層3b上。例如，20μm至2000μm範圍內之級差。依照設備配置，級差可以是例如，在50μm至2000μm範圍內、或100μm至2000μm範圍內。不平坦形狀係形成使高壓密封磁鐵及空氣墊相對，其細節將後述。如果級差係大，相對空氣墊之陶瓷層3a可藉由噴塗而變厚。因此，可改善陶瓷層3a的剛性及耐久性。

於形成在吸鐵層3b上之不平坦形狀，凹部23a、23b或23c相對X導件5的空氣墊20a、20b或20c，如圖5所示。再者，於此不平坦形狀，凸部22a或22b相對X導件5的高壓密封磁鐵21a或21b。此配置係按順序利用以減小陶瓷層3a在相對高壓密封磁鐵21a或21b之位置的厚度，增大磁性吸鐵層3b在相對空氣墊20a、20b或20c之位置的厚度，藉此改善剛性同時減小磁鐵的吸力。

例如，不平坦形狀的凸部22a或22b與凹部23a、23b或23c的每一者具有矩形形狀，且其縱向沿著X導件5的移動方向而延伸。此配置係按順序利用以保持空氣墊的飄浮力及高壓密封磁鐵的吸力，藉此穩定地移動X導件5。

接著，陶瓷層3a係藉由噴塗形成在磁性吸鐵層3b以覆蓋不平坦形狀。如圖6所示，陶瓷層3a係由噴塗而形成在磁性吸鐵層3b上達例如，200μm或更高。在此噴塗後，陶瓷層3a的孔被密封，且陶瓷層3a的表面被拋光以形成平坦表面。如圖7所示，表面拋光係實施使得磁性吸鐵層3b的凸部上之陶瓷層3a的厚度係約例如，50μm。當支撐X導件5的側之導引表面以此方式形成平坦表面時，可縮短工時及可壓低成本。且，可改善平坦度準確性。這理的表面具有不會損害作為導件的功能之平坦度且不需是具有完美平坦度之表面。

依據此實施例，磁性吸鐵層3b的凸部及凹部係與陶瓷層3a覆蓋一起。如果作為導件之功能未受損，陶瓷層3a可能僅覆蓋凹部。

陶瓷於此實施例中係使用來形成脆性材料層，而如果該材料具有足以用於實際用途之某一硬度值(7或更大的硬度為較佳)，不能使用諸如玻璃、鑽石、複合碳材料或石頭的材料來取代陶瓷。

在金屬層的表面上使用脆性材料層的目的係用來防止與金屬層或空氣墊之方向接觸，以及防止金屬與空氣墊或類似物的接觸所造成之膨脹。不能使用作為脆性材料層之材料未受限於以上實施例中所述之材料而不離開本發明的範圍。

X導件5的配置及製作程序係相同於參照圖3、4至7所述之Y導件3的配置及製作程序，其說明不再重複。

雖然參照圖4至7所說明之Y導件3的製作程序，其僅為一實例。例如，雖然以上實例中之凸部係形成在二部份，凸部可自然地形成在一部份，在三部份的每一者，或更多部份的每一者。

於上述中，說明晶圓載台設備17中之X導件5及Y導件3的配置及製作程序。亦可將晶圓載台設備17中之X導件5及Y導件3的配置應用於上述之掩膜載台設備12。更者，此配置不需一直應用於晶圓載台設備17，而可僅應用於掩膜載台設備12。更特別地，可將上述之配置應用於晶圓載台設備17及掩膜載台設備12的至少一者。自然地，可將此配置應用於具有相似於晶圓載台設備17或類似物的類型的類型之任何設備。

裝置製造係藉由，使用曝光設備15使塗有光阻(光敏劑)之基板(晶圓、玻璃板或類似物)曝光的步驟、使所曝光基板顯影的步驟、及其它已知步驟。

如以上所述，依據上述之實施例，例如，如果使用陶瓷材料作為脆性材料，因為陶瓷層係藉由噴塗而形成，提出限制在普通陶瓷材料的使用上之尺寸限制被消除。因此，亦可適當地涉及未來將進一步增加尺寸之曝光設備。因為陶瓷材料係使用在例如僅需要部份，可大大地降低材料成本。

因為導引表面係由脆性材料(例如，陶瓷層)所形成，甚至當導引表面受損時，其將不會鼓起。甚至當灰塵陷於空氣導引機構時，由於工作硬化之鼓起不會形成在導引表面上。因此，無摩擦發生在導引表面及空氣導引機構之間。因此，空氣導引機構不會受損，且可長時間保持其性能。如果使用陶瓷材料作為脆性材料，因為在藉由噴塗而形成陶瓷層之前所實施之不平坦加工，可依據所要目的來改變陶瓷層的厚度。

本發明可廣泛地應用於用於製造液晶顯示裝置或半導體、薄膜磁頭、影像感知元件(CCD)之曝光設備、用於製造使用於投影曝光設備的掩膜之曝光設備、及類似物。

除了以上設備外，本發明被應用於諸如移動工件的長度量測單元之設備，如工件移動機構及工件定位機構。

依據本發明，藉由改善導件的結構同時保持可移動體的移動性能來改善導件的剛性及耐久性。

雖然已參照例示性實施例而說明本發明，將瞭解到，本發明未受限所揭示例示性實施例。以下請求項將符合最寬詮釋以含蓋所有此種修改以及等效結構與功能。

15．．．曝光設備

17．．．晶圓載台設備

3．．．Y導件

M．．．掩膜

P．．．晶圓

14．．．光源

L．．．光束

12．．．掩膜載台設備

13．．．照明光學系統

16．．．投影光學系統

18．．．鏡

8．．．晶圓載台

17a．．．移動鏡

1．．．阻尼裝置

2．．．基座

4．．．Y驅動線性馬達

5．．．X導件

6．．．X驅動線性馬達

7．．．晶圓夾具

3a．．．陶瓷層

3b．．．磁性吸鐵層

23a：凹部

23b：凹部

23c．．．凹部

21a．．．高壓密封磁鐵

21b．．．高壓密封磁鐵

20a．．．空氣墊

20b．．．空氣墊

20c．．．空氣墊

22a．．．凸部

22b．．．凸部

CCD．．．影像感知元件

圖1係顯示依據實施例之曝光設備15的簡要配置的實例之示意圖；

圖2係顯示圖1所示之晶圓載台設備17的立體外觀的實例之示意圖；

圖3係顯示圖2所示的Y導件3的放大部位的實例之示意圖；

圖4係顯示製作圖2所示的Y導件3的程序的實例之第一示意圖；

圖5係顯示製作圖2所示的Y導件3的程序的實例之第二示意圖；

圖6係顯示製作圖2所示的Y導件3的程序的實例之第三示意圖；

圖7係顯示製作圖2所示的Y導件3的程序的實例之第四示意圖。

3．．．Y導件

3a．．．陶瓷層

3b．．．磁性吸鐵層

22a、22b．．．凸部

23a、23b、23c．．．凹部

Claims (16)

1. 一種驅動設備，其包括可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，及該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵。
2. 如申請專利範圍第1項之驅動設備，其中該支座的該凹部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該空氣墊。
3. 如申請專利範圍第1項之驅動設備，其中該脆性材料層覆蓋該支座的該凹部及該凸部。
4. 如申請專利範圍第1項之驅動設備，其中該脆性材料層係陶瓷材料。
5. 如申請專利範圍第1項之驅動設備，其中供作該導引表面之該脆性材料層的表面係平坦的。
6. 如申請專利範圍第1項之驅動設備，其中該凹部及該凸部間之高度差係不小於20μm。
7. 一種曝光設備，其使用投影光學系統將由原片載台所固持之原片的圖案投影至由基板載台所固持之基板上且使該基板曝光，該曝光設備包含：驅動設備，其包括可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵，及該驅動設備係配置來驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。
8. 一種裝置製造方法，包含以下步驟：使用包括原片載台及基板載台之曝光設備使基板曝光，及實施用於所曝光基板之顯影處理，其中該曝光設備包括驅動設備，其包括可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該脆 性材料層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，其中該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，其中該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵，及其中該驅動設備係配置來驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。
9. 一種驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，及該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方。
10. 如申請專利範圍第9項之驅動設備，其中該不平坦度包含矩形凹部及矩形凸部，及該凹部及該凸部係形成使得其每一者的縱向沿著該可移動體的移動方向而延伸。
11. 如申請專利範圍第10項之驅動設備，其中該凹部係配置成相對該可移動體中之該空氣墊，以及該凸部係配置成相對該可移動體中之該高壓密封磁鐵。
12. 如申請專利範圍第9項之驅動設備，其中供作該 導引表面之該脆性材料層的表面係平坦的。
13. 如申請專利範圍第9項之驅動設備，其中該不平坦度包括凹部及凸部，及該凹部及該凸部間之高度差係不小於20μm。
14. 一種曝光設備，其使用投影光學系統將由原片載台所固持之原片的圖案投影至由基板載台所固持之基板上且使該基板曝光，該曝光設備包含：驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方，及該驅動設備係配置來驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。
15. 一種裝置製造方法，包含以下步驟：使用包括原片載台及基板載台之曝光設備使基板曝光，及實施用於所曝光基板之顯影處理，其中該曝光設備包括驅動設備，其驅動由導件所支撐之可移動體，其中該導件包括支座及脆性材料層，該支座係由磁性材料製成且在導引該可移動體的側包括不平坦度，以及該 脆性材料層覆蓋該支座的該不平坦度且形成導引該可移動體之導引表面，其中該可移動體包括空氣墊及高壓密封磁鐵使得該可移動體飄浮在該導引表面上方，及其中該驅動設備係配置成驅動該原片載台及該基板載台的至少一者以回應該驅動設備的該可移動體的移動。
16. 一種驅動設備，其包括可移動體、導引且支撐該可移動體之導件、及驅動該可移動體的驅動單元，其中該導件包括支座及一層，該支座含有磁性材料且在導引該可移動體的側包括凹部及凸部，以及該層覆蓋至少該支座的該凹部且包括導引該可移動體之導引表面，該可移動體包括用於使該可移動體自該導引表面飄浮之空氣墊、及用於獲得相對於該支座的吸力之磁鐵，該支座的該凸部係沿著由該驅動單元所驅動之該可移動體的驅動方向而形成，且配置成相對該磁鐵，及該層包含陶瓷、玻璃、鑽石、複合碳材料及石頭的一者。