TWI377236B - - Google Patents

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1377236 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種防反射用層合物及其製造方法，以 及硬化性組成物》 【先前技術】 近年來’液晶顯示裝置被使用作爲電視或個人電腦等 φ 之顯示裝置。該液晶顯示裝置中，爲了防止外光映入提高 畫質’故而提案使用含有低折射率層之防反射膜。 過去之液晶顯示裝置所使用之防反射膜係藉由多層塗 佈低折射率層與硬質塗層而具備低折射率性及耐刮傷性。 • 該種具有多層構造之防反射膜雖可降低低折射率層之反射 率，但由於成爲多層構造而有生產性或成本差之問題。另 外，藉由層合低折射率層與硬質塗層而製造之防反射膜會 有低折射率層與硬質塗層之界面處容易造成剝離之問題。 • 爲解決該問題，而提出以氟矽烷修飾二氧化矽粒子， 且藉由表面能使液體中之二氧化矽粒子局部化後形成硬化 膜之防反射膜之製造方法（參照例如專利文獻1 ) ° [先前技術文獻] [專利文獻1]日本國特開2001-316604號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] 然而，專利文獻1所述之方法會有二氧化矽粒子局部 -5- 1377236 性不穩定之問題。 因此，本發明之該若干樣態爲提供解決上述課題，可 以一次塗佈步驟形成低折射率性及耐刮傷性優異之硬化膜 之硬化性組成物，以及具有該硬化膜之防反射用層合物以 及其製造方法者》 [用以解決課題之手段] 本發明係爲了解決上述課題之至少一部份而完成者， 可藉下述樣態或適用例而實現。 [適用例1] 本發明之防反射用層合物之一樣態之特徵爲： 於基材上具有硬化膜，該硬化膜含有具有選自羥基、 羧基、磷酸酯基及磺基之一種以上極性基之基質，與折射 率1.4以下之粒子，且lg之前述基質中之羥基濃度、羧基 濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上 1 5mmol/g以下， 且前述粒子在前述硬化膜中係局部存在於與前述基材 接觸之面爲相反之面側。 依據該防反射用層合物，於與基材接觸之面爲相反之 面側具有高密度存在有折射率爲1.40以下之粒子之層，且 於與基材接觸之面側具有實質上不存在折射率1.4〇以下之 粒子之層，故可兼具耐刮傷性及低折射率性二者。

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[適用例2 J 適用例1之防反射用層合物中，lg之前述基質中之羥 基濃度爲2.0mmol/g以上15mmol/g以下。 [適用例31 適用例1之防反射用層合物中，lg之前述基質中之羧 基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲0.5mm〇l/g以 上1 Ommol/g以下》 [適用例4] 適用例1之防反射用層合物中，lg之前述基質中之羧 基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以 上5mmol/g以下 〇 [適用例5]

適用例1之防反射用層合物中，前述粒子爲中空二氧 化矽粒子。 [適用例6] 本發明之防反射用層合物之一樣態，其特徵爲 於基材上具有硬化性組成物之硬化膜，該硬化性組成 物含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以上 極性基之聚合性化合物及折射率1.40以下之粒子，且lg之 全部聚合性化合物中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃 1377236 度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上15mmol/g以下， 且前述粒子在前述硬化膜中係局部存在於與前述基材 接觸之面爲相反之面側。 依據該防反射用層合物，於與基材接觸之面爲相反之 面側具有高密度存在有折射率爲1.40以下之粒子之層，且 於與基材接觸之面側具有實質上不存在折射率1· 40以下之 粒子之層，故可兼具耐刮傷性及低折射率性二者。 [適用例7] 適用例6之防反射用層合物中，lg之前述全部聚合性 化合物中之經基濃度爲2.0mmol/g以上15mmol/g以下。 [適用例8] 適用例6之防反射用層合物中，lg之前述全部聚合性 化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲 0.5mmol/g以上 1 〇mmol/g以下。 癱 [適用例9] 適用例6之防反射用層合物中，lg之前述全部聚合性 化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲 0.5mmol/g以上 5mmol/g以下。 [適用例1〇] 適用例6之防反射用層合物中，前述粒子爲中空二氧 £ -8 - 1377236 化矽粒子。 [適用例1 1] 適用例1至適用例10之任一例中，前述基材爲三乙醯 基纖維素樹脂薄膜或聚對苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜。 [適用例12] φ 本發明之防反射用層合物之製造方法之一樣態，其特 徵爲 包含將硬化性組成物塗佈於基材上後經硬化之步驟， . 其中該硬化性組成物含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基 及磺基之一種以上之極性基之聚合性化合物及折射率爲 1.40以下之粒子，且lg之全部聚合性化合物中之羥基濃度 、羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲 0.5mmol/g 以上 15mol/g 以下。 • 依據該防反射用層合物之製造方法，藉由將滿足前述 條件之硬化性組成物一次塗佈於基材上並經硬化，可於與 基材接觸之面爲相反面側上形成以高密度存在有折射率爲 1.40以下之粒子之層，於與基材接觸之面上形成實質上不 存在折射率爲1.40以下之粒子之層。據此，可製造兼具耐 刮傷性及低折射率性二者之防反射用層合物。 [適用例13] 適用例12之防反射用層合物之製造方法中’前述硬化 1377236 性組成物之全部聚合性化合物ig中之羥基濃度爲 2.0mmol/g 以上 15mmol/g 以下。 [適用例14] 適用例12之防反射用層合物之製造方法中，前述硬化 性組成物之全部聚合性化合物lg中之羧基濃度、磷酸酯基 濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上10mm〇l/g以下》 [適用例15] 適用例12之防反射用層合物之製造方法中，前述硬化 性組成物之全部聚合性化合物lg中之羧基濃度、磷酸酯基 濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上5mmol/g以下。 [適用例16] 適用例12之防反射用層合物之製造方法中，前述粒子 爲中空二氧化矽粒子。 β [適用例17] 適用例12至適用例16任一例之防反射用層合物之製造 方法中，前述基材爲三乙醯基纖維素樹脂薄膜或聚對苯二 甲酸乙二酯樹脂薄膜。 [適用例18] 本發明之硬化性組成物之一樣態其特徵爲， -10- 1377236 含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以 上之極性基之聚合性化合物及折射率爲1.40以下之粒子， 且lg之全部聚合性化合物中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸 酯基濃度及磺基濃度之合計爲0_5mmol/g以上15mol/g以下 [適用例19]

適用例18之硬化性組成物中，lg之前述全部聚合性化 合物中之經基濃度爲2.〇mmol/g以上15mmol/g以下。 [適用例20] 適用例18之硬化性組成物中，含有（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯作爲前述聚合性化合物。 [適用例21] 適用例18之硬化性組成物中，lg之前述全部聚合性化 合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲 0.5mmol/g以上 l〇mmol/g以下。 [適用例22] 適用例1 8之硬化性組成物中，1 g之前述全部聚合性化 合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲 〇.5mmol/g以上 5mmol/g以下。 -11 - 1377236 [適用例23] 適用例18至適用例22任一例之硬化性組成物中，前述 粒子爲中空二氧化矽粒子。 [發明效果] 依據本發明之防反射用層合物之製造方法，可將特定 之硬化性組成物一次塗佈於基材上並經硬化，在與基材接 觸之面爲相反面側上形成以高密度存在折射率爲1.40以下 之粒子之層，且在與基材接觸之面側上形成實質上不存在 1.40以下之粒子之層。據此，可製造兼具耐刮傷性及低折 射率性二者之防反射用層合物。 【實施方式】 以下針對本發明之較佳實施形態加以詳細說明。又， 本發明並不受限於下述之實施形態，亦包含不改變本發明 主旨之範圍內進行之各種變形例。 1.硬化性組成物 本實施形態之硬化性組成物含有（A1)具有選自羥基 、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以上極性基之聚合性化合 物，與（B)折射率爲1.4以下之粒子。以下，針對本實施 形態之硬化性組成物之各成分加以詳細說明。又，以下敘 述中之（A)至（D)之各材料分別簡化描述成（A)成分 至（D)成分。 -12- 1377236 1·1· (a)聚合性化合物 本實施形態之硬化性組成物含有（A)聚合性化合物 。（A)聚合性化合物爲具有聚合性官能基之化合物，較 好爲具有（甲基）丙烯醯基、乙烯基或環氧基之化合物。 另外，（A)聚合性化合物爲包含（A1)具有選自羥基、 殘基、憐酸醋基及擴基之一種以上極性基之聚合性化合物 φ 。本實施形態之硬化性組成物較好含有前述（A1)具有極 性基之聚合性化合物，亦可含有該等以外之不具有極性基 之聚合性化合物（以下亦稱爲（A2)成分）。前述（A1 )具有極性基之聚合性化合物之功能之一列舉爲形成硬化 膜時引起後述（B )成分局部化，提高硬化性組成物之成 膜性。 至於（A1)成分只要是具有選自羥基、羧基、磷酸酯 基及磺基之一種以上之極性基即無特別限制，但較好爲（ # 甲基）丙烯酸酯類。 具有羥基之聚合性化合物列舉爲例如（甲基）丙烯酸 2-羥基乙酯、（甲基）丙烯酸羥基丙酯、季戊四醇三（甲 基）丙烯酸酯' 二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、新戊二 醇二（甲基）丙烯酸酯、六氫苯二甲酸環氧丙烯酸酯、甘 油環氧丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸2,3-二羥基丙酯、2-羥 基乙基乙烯基醚等。 具有羧基之聚合性化合物列舉爲例如丙烯酸、丙烯酸 二聚物、琥珀酸改質之二季戊四醇五丙烯酸酯、2,2,2 -三 -13- 1377236 丙烯醯氧基甲基乙基琥珀酸、ίο-甲基丙烯醯氧基十伸甲 基丙二酸、4·甲基丙烯氧基胺基水楊酸、4-甲基丙烯醯氧 基乙基氧基羰基苯二甲酸、4-甲基丙烯醯氧基乙基氧基羰 基苯二甲酸酐、N-甲基丙烯醯基-Ν’，N’-二羧基甲基-1，4-二胺基苯、N-2-羥基-3-甲基丙烯醯氧基丙基-N-苯基甘胺 酸、4-乙烯基苯甲酸、3，4,3’，4’-聯苯四羧酸酐與2-羥基乙 基甲基丙烯酸酯之1: 2加成物、均苯四酸酐與甲基丙烯酸 2-羥基乙酯之1 : 2加成物等。 具有磷酸酯基之聚合性化合物列舉爲例如磷酸三丙烯 酸酯、2_甲基丙烯醯氧基乙基磷酸、2-甲基丙烯醯氧基乙 基苯基磷酸、10-甲基丙烯醯氧基十伸甲基磷酸、4-乙烯基 苄基磷酸、五丙烯醯氧基二季戊四醇磷酸等。 具有磺基之聚合性化合物列舉爲例如2-丙烯醯胺-2-甲 基丙烷磺酸等。 (A1)成分，於前述例示之成分中，較好爲含有季戊 四醇三（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯、 丙烯酸、丙烯酸二聚物、琥珀酸改質之二季戊四醇五丙烯 酸酯、2，2,2-三丙烯醯氧基甲基乙基琥珀酸、磷酸三丙烯 酸酯、2-丙烯醯胺-2-乙基丙烷磺酸等者》 藉由含有（A1)成分，可容易地在與基材接觸之面爲 相反側之面上形成使（B)成分局部化之硬化膜。 該等之（A1)具有極性基之聚合性化合物可單獨使用 一種或兩種以上混合使用，亦可與如前述之（A2)不具有 極性基之聚合性化合物倂用。 £ -14- 1377236 (A2)不具有極性基之聚合性化合物使用之目的係爲 提高硬化性組成物之成膜性。至於（A2)不具有極性基之 聚合性化合物可列舉爲例如多官能基之（甲基）丙烯酸酯 化合物、多官能基之乙烯基化合物、多官能基之環氧化合 物、烷氧基甲基胺化合物，較好爲（甲基）丙烯酸酯化合 物。多官能基之（甲基）丙烯酸酯列舉爲三羥甲基丙烷三 (甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季 φ 戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、甘油三（甲基）丙烯酸酯、 參（2 -羥基乙基）異氰尿酸酯三（甲基）丙烯酸酯、乙二 醇二（甲基）丙烯酸酯、1,3-丁二醇二（甲基）丙烯酸酯 . 、1，4 -丁二醇二（甲基）丙烯酸酯、1，6 -己二醇二（甲基 )丙烯酸酯、二乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三乙二醇二 (甲基）丙烯酸酯、二丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、雙（ 2-羥基乙基）異氰尿酸酯二（甲基）丙烯酸酯等。多官能 基乙烯基化合物列舉爲二乙烯基苯、乙二醇二乙烯基醚、 # 二乙二醇二乙烯基醚、三乙二醇二乙烯基醚等。多官能基 之環氧化合物列舉爲1，4-丁二醇二縮水甘油醚、1，6-己二 醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷 三縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油 醚等。烷氧基甲基胺化合物列舉爲六甲氧基甲基化三聚氰 胺、六丁氧基甲基化三聚氰胺、四甲氧基甲基化甘脲、四 丁氧基甲基化甘脲等。 又，本實施形態之硬化性組成物中，1 g之全部聚合性 化合物中之極性基濃度有必要在羥基濃度、羧基濃度、磷 -15- 1377236 酸醋基濃度及擴基濃度之合計爲0.5mmol/g以上15mmol/g 以下之範圍內。 本實施形態之硬化性組成物中，lg之全部聚合性化合 物中之羥基濃度較好爲2.0mmol/g以上i5mmol/g以下》又 ，lg之全部聚合性化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及 磺基濃度之合計較好爲〇.5mmol/g以上l〇mm〇i/g以下，更 好爲0.5mmol/g以上5mmol/g以下。 藉由使lg之全部聚合性化合物中之極性基濃度滿足上 述範圍，將本實施形態之硬化性組成物塗佈於基材上時， 藉由（A1)成分之極性基與基材之相互作用使（A1)成 分朝與基材接觸之面方向移行。認爲藉由其作用，使後述 之（B)成分於與基材接觸之面爲相反側之面局部化。藉 由以該狀態使硬化性組成物硬化，可在與基材接觸之面相 反側之面上形成（B)成分局部化之硬化膜。該種硬化膜 由於（B)成分局部化於硬化膜之表面上，故成爲防反射 功能優異者。lg之全部聚合性化合物中之極性基濃度未滿 足上述範圍時，（B)成分無法局部化於硬化膜之表面上 ，會損及硬化膜之防反射功能。又，羧基濃度、磷酸酯基 濃度及磺基濃度超過上述範圍時’有對（D)溶劑之溶解 性下降，使塗佈性變差之虞。 本實施形態之硬化性組成物中之（A)成分之含量’ 以去除溶劑之成分之合計作爲100質量％時’爲60〜99.5質 量％之範圍內，較好爲7〇〜99質量％之範圍內’更好爲 8 0〜98質量％之範圍內。藉由以上述範圍調配（A)成分’ 1377236 不僅可獲得具有高硬度之硬化膜，且可使（B)成分容易 地於與基材接觸之面相反側之面上局部化。 1.2. ( B )粒子 本實施形態之硬化性組成物含有（B )折射率爲1.40 以下之粒子。該粒子藉由於硬化膜之表面局部化而形成低 折射率層，可賦予硬化膜作爲防反射膜之功能。又，藉由 φ 使該粒子在硬化膜表面上局部化，可提高硬化膜表面之硬 度，亦期待有縮小捲曲之效果。 粒子只要是折射率在1.40以下者即無特別限制，列舉 爲例如中空二氧化矽粒子.、氟化金屬粒子等。該等中，較 好爲以二氧化矽作爲主要成分之中空二氧化矽粒子。中空 二氧化矽粒子由於其內部具有空洞’故相較於實心粒子可 更低折射率化。 粒子之折射率爲1.40以下’較好爲I.35以下’更好爲 φ 1 . 3 0以下。使折射率成爲1.4 〇以下之理由爲即使添加折射 率超過1.40之粒子，仍無法獲得防反射性優異之硬化膜之 故。又，防反射性能雖以折射率i·00爲下限愈低愈好’但 使用中空粒子時，由於折射率低使粒子之強度下降’故亦 使硬化膜之硬度或耐刮傷性下降。因此’折射率之下限較 好成爲1 . 2 0。 本說明書中之「折射率」係指於25 °C之Na-D線（波長 5 8 9nm )之折射率。本說明書中之「粒子之折射率J意.指 在同一基質中，使固體成分中之粒子含量成爲1質量％、w -17- 1377236 質量％、20質量％之組成物成膜，依循】IS K7105 ( IS0489 )，在25°C下以Na-D測定折射率，以檢量線法計算之粒子 含量100質量％之値。 以透過型電子顯微鏡測定之粒子之數平均粒徑較好爲 l~100nm，更好爲5~60nm。粒子之形狀並不限於球狀，亦 可爲不定形之形狀。 中空二氧化矽粒子之市售品列舉爲例如曰揮觸媒化成 股份有限公司製造之「JX1008SIV」（以透過型電子顯微 鏡求得之數平均粒徑50nm，折射率1.29，固體成分20質量 %，異丙醇溶劑）、「JX1 009SIV」（以透過型電子顯微 鏡求得之數平均粒徑50nm，折射率1.29，固體成分20質量 %，甲基異丁基酮溶劑）等。 本實施形態所使用之中空二氧化矽粒子亦可爲以粒子 改質劑改質者。粒子改質劑列舉爲具有聚合性不飽和基及 水解性矽烷基之化合物（以下亦稱爲「聚合性粒子改質劑 」）。聚合性粒子改質劑之聚合性不飽和基列舉爲乙烯基 、（甲基）丙烯醯基。又，水解性矽烷基意指與水反應生 成矽烷醇基（Si-OH )者，例如，矽上鍵結一個以上之甲 氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基等烷氧基 、芳基氧基、乙醯氧基、胺基、鹵素原子者。 本實施形態所使用之聚合性粒子改質劑亦可使用甲基 丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷等市售品，例如可使用國際 公開公報W097/1 2942號公報中所述之化合物。 另外，作爲粒子改質劑亦可使用具有含氟之水解性矽 -18- 1377236 烷基之化合物（以下亦稱爲「含氟粒子改質劑」）。 含氟粒子改質劑時，可使中空二氧化矽粒子效率良好 部化。本實施形態所使用之含氟粒子改質劑可使用十 辛基三甲氧基矽烷等市售品。 再者，具有烷基之粒子改質劑或具有矽酮之粒子 劑與含氟粒子改質劑同樣亦可使用。 上述各種粒子改質劑可單獨使用一種，亦可組合 φ 種使用。 爲了將本實施形態所使用之中空二氧化矽粒子改 宜混合中空二氧化矽粒子與粒子改質劑，藉由水解使 . 結合。所得反應性中空二氧化矽粒子中之有機聚合物 - ，亦即水解性矽烷之水解物與縮合物之比例通常爲使 粉體在空氣中完全燃燒時之重量減少％之恆量値，例 可在空氣中藉由自室溫至通常8 00°C之熱重量分析求得 粒子改質劑對反應性中空二氧化矽粒子之結合量 • 改質後之中空二氧化矽粒子作爲1 〇〇質量％，較： 0_01〜40質量％，更好爲0.1〜30質量％，最好爲1〜20質 。與中空二氧化矽粒子反應之粒子改質劑之量在上述 時，可提高組成物中中空二氧化矽粒子之分散性，亦 待提高所得硬化物之透明性或耐刮傷性之效果。 本實施形態之硬化性組成物中，（B )成分之含 依據形成之硬化膜之膜厚適當調整，但以去除（D) 之成分之合計作爲100質量％時，較好爲0.2~5質量％ 好爲0.3〜3質量％。例如，硬化膜之膜厚爲ΙΟμιη時， 使用 地局 三氟 改質 複數 質， 二者 成分 乾燥 如， 〇 ，以 好爲 量％ 範圍 可期 量可 溶劑 ，更 以去 -19- 1377236 除溶劑之成分之合計作爲iOO質量％時，較好爲0·4~1·2質 量％，更好爲0.5〜1質量％之範圍內。例如，硬化膜之膜厚 爲7μιη時，較好爲0.6~1.8質量％，更好爲0.7〜1.5質量％， 硬化膜之膜厚爲3μιη時，較好爲1.2〜4質量％，更好爲1.5~3 質量％之範圍內。（Β)成分之含量未達上述範圍時，有 無法形成展現防反射性之（Β)成分以高密度存在之層（ 低折射率層）之情況。另一方面，（Β)成分之含量超過 上述範圍時，展現防反射性之（Β)成分以高密度存在之 層（低折射率層）之厚度太大，而有無法展現反射率減低 效果之情況。 1.3. ( C )聚合起始劑 本實施形態之硬化性組成物亦可含有（C)聚合起始 劑。該種（c )聚合.起始劑在例如含有（甲基）丙烯酸酯 化合物及/或乙烯基化合物作爲（Α)成分之情況下，舉例 有藉由熱產生活性自由種之化合物（熱自由基聚合起始劑 )及利用轄射線（光）照射產生活性自由種之化合物（輻 射線（光）自由基聚合起始劑）等泛用品。該等中，以輻 射線（光）自由基聚合起始劑較佳。 輻射線（光）聚合起始劑只要是利用光照射分解產生 自由基而起始聚合者即無特別限制，列舉爲例如苯乙酮、 苯乙酮苄基縮酮、1-羥基環己基苯基酮、2,2 -二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、咕噸酮、荛酮、苯甲醛、荛、蒽醌 '三苯基胺、咔唑' 3-甲基苯乙酮、4-氯苯乙酮、4，4，-二 Ε -20- 1377236 甲氧基二苯甲酮、4,4’-二胺基二苯甲酮、苯偶因丙基醚、 苯偶因乙基醚、苯偶因二甲基縮酮、1-(4-異丙基苯基）-2-羥基-2·甲基丙-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、噻 噸酮、二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-甲基- l-[4-(甲硫基）苯基]-2-嗎啉基-丙-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基）-丁酮-1，4-(2-羥基乙氧基 )苯基-(2-羥基-2-丙基）酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯 φ 基膦氧化物、雙- (2,6-二甲氧基苯甲醯基）-2，4,4-三甲基 戊基膦氧化物、寡聚（2-羥基-2-甲基-1-(4-(1-甲基乙烯 基）苯基）丙酮）等。 . 輻射線（光）自由基聚合起始劑之市售品列舉爲例如 日本汽巴股份有限公司製造之IRGACURE 184、369、651 、5 00、819、907、784、2959、CGI1 700、CGI 1 750、 CGI 1 850、CG24-61、DAROCURE 1116、1173、BASF 公司 製造之 LUCIRIN TPO、8 893UCB 公司製造之 UBECRYL P36 φ 、LAMBERTI公司製造之 EZACURE KIP150、KIP65LT、 KIP100F、KT37、KT55、KT046、KIP75/B等。 熱自由基聚合起始劑只要是藉由加熱分解產生自由基 而起始聚合者即無特別限制，可列舉爲例如過氧化物、偶 氮化合物’具體而言列舉爲苯偶因過氧化物、第三丁基過 氧基苯甲酸酯、偶氮雙異丁腈等。 又’ （c)聚合起始劑含有環氧化合物及/或烷氧基甲 基胺化合物作爲（A)成分時，列舉爲酸性化合物或藉由 幅射線（光）照射產生酸之化合物（輻射線（光）酸產生 -21 - 1377236 劑）等泛用品。 輻射線（光）酸產生劑可使用三芳基锍鹽類' 1芳1基 碘鑰鹽類等之化合物。輻射線（光）酸產生劑之市售品列 舉爲San-Apro公司製造之CPI-100P、101A等。 本實施形態之硬化性組成物中，視需要使用之（c ) 聚合起始劑之含量，以去除溶劑之成分之合計作爲1 〇〇質 量％時，較好爲〇.〇1~20質量％，更好爲0_1~10質量％之範 圍內。未達〇.〇1質量％時，會有作爲硬化物時之硬度不足 之虞，超過20質量％時，會有損及塗膜硬度之虞。 1.4 . ( D )溶劑

本實施形態之硬化性組成物爲了調節塗膜之厚度，可 以（D )溶劑稀釋使用。例如，使用本實施形態之硬化性 組成物作爲防反射膜或被覆材時之黏度通常爲 0. l~50,000mPa · fj? /25〇C，較好爲 0.5 〜10,000m Pa ·秒 / 25 〇C ο 至於（D)溶劑列舉爲例如甲醇、乙醇、異丙醇、丁 醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環 己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯 、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯等酯類 :乙二醇單甲基釀、二乙二醇單丁基醚等醚類；苯、甲苯 、二甲苯等芳香族烴類；二甲基亞颯、二甲基乙醯胺、Ν-甲基吡咯烷酮等醯胺類等。 本實施形態之硬化性組成物中，視需要使用之（D ) -22- 1377236 溶劑之含量，以去除（D)溶劑之成分之合計作爲100質量 份時，較好在5 0-10，000質量份之範圍內。溶劑之含量可 考量塗佈膜厚、硬化性組成物之黏度等適宜決定。 1 . 5 ·其他添加劑 本實施形態之硬化性組成物可視需要含有粒子分散劑 、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、矽烷偶合劑、抗 φ 老化劑、熱聚合抑制劑、著色劑、平流劑、界面活性劑' 保存安定劑、可塑劑、滑劑、無機系塡充材、有機系塡充 材、塡料、潤濕性改良劑、塗面改良劑等。又，使用含氟 . 之化合物及/或具有矽氧烷鏈之化合物作爲前述例示之粒 子分散劑時，可促進中空二氧化矽粒子之局部化，可降低 塗膜之折射率》 1.6.硬化性組成物之製造方法 • 本實施形態之硬化性組成物可藉由分別添加（A )聚 合性化合物、（B)粒子、視需要之（c )聚合起始劑、（ D )溶劑、其他添加劑，在室溫或加熱條件下混合而調製 。具體而言’可使用混練機、捏合機、球磨機、三軸輥等 混合機調製。但，在加熱條件下混合時，較好在視需要添 加之熱聚合起始劑之分解溫度以下進行。 2.防反射用層合物及其製造方法 2.1.防反射用層合物之製造方法 -23- 1377236 本實施形態之防反射用層合物之製造方法包含（a) 製備含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以 上之極性基之聚合性化合物及折射率爲1.40以下之粒子， 且lg之全部聚合性化合物中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸 酯基濃度及磺基濃度之合計滿足0.5mmol/g以上15mol/g以 下之關係之硬化性組成物之步驟（以下亦稱爲「步驟（a )」），及（b)將前述硬化性組成物塗佈於基材上之後 ，經硬化之步驟（以下亦稱爲「步驟（b )」）。 依據該防反射用層合物之製造方法，可將滿足前述條 件之硬化性組成物一次塗佈於基材上並經硬化，形成與基 材接觸之面爲相反面側上以高密度存在有折射率爲1.40以 下之粒子之層。據此，可製造兼具耐刮傷性及低折射率性 二者之防反射用層合物。以下說明每步驟。 2.1 · 1 .步驟（a ) 步驟（a)爲製備前述硬化性組成物之步驟。該硬化 性組成物之構成及製造方法等由於如前述，故省略詳細說 明。 2.1 .2.步驟（b ) 步驟（b)爲將步驟（a)製備之硬化性組成物塗佈於 基材上之後經硬化之步驟。 將步驟（a)製備之硬化性組成物塗佈於基材上之方 法並無特別限制，可使用例如塗佈棒塗佈、空氣刀塗佈、 -24- 1377236 凹版塗佈、凹板逆輥塗佈、逆輥塗佈、模唇塗佈、模嘴塗 佈、浸漬塗佈、平版印刷、軟版印刷、網版印刷等習知方 法。 硬化組成物之硬化條件並無特別限制，但可爲將前述 硬化性組成物塗佈於各種基材，例如三乙醯基纖維素樹脂 基材、聚對苯二甲酸乙二酯基材等並使硬化者。具體而言 ，可塗佈前述硬化性組成物，較好在0〜200°C下使揮發成 φ 分乾燥後，進行輻射線及/或熱硬化處理形成防反射用層 合物。熱硬化時之較佳條件爲在20~150°C於10秒〜24小時 之範圍進行。以輻射線硬化時，較好使用紫外線或電子束 。紫外線之照光量較好爲0.01〜lOJ/cm2，更好爲 0.1〜2J/cm2。又，電子束之照射條件爲加壓電壓10~300kV ，電子密度〇.'〇2~0.3〇11^/〇1112，電子束照射量1~101^3(1。 2.2.防反射用層合物 φ 本實施形態之防反射用層合物爲以前述防反射用層合 物之製造方法製造者。圖1爲模式性顯示本實施形態之防 反射用層合物之剖面圖。如圖1所示，本實施形態之防反 射用層合物1 00爲使前述硬化性組成物於基材1 0上硬化形 成硬化膜20，前述硬化膜20中，於與基材10接觸之面側形 成實質上不存在粒子22之硬質層24，於與基材10接觸之面 爲相反之面側形成以高密度存在有粒子22之低折射率層26 。硬化膜20中，粒子以外之部份（以下亦稱爲「基質」） 係以使前述硬化性組成物之（B )成分以外硬化獲得，1 g -25- 1377236 之基質中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃 度之合計較好爲〇_5mmol/g以上l5mmol/g以下。以下針對 本實施形態之防反射用層合物之各層加以說明。 2.2.1. 基材 本實施形態之防反射用層合物所用之基材10之種類並 無特別限制，列舉爲例如三乙醯基纖維素樹脂、聚對苯二 甲酸乙二酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、丙烯酸系樹 脂、玻璃等。該等中，以由三乙醯基纖維素樹脂或聚對苯 二甲酸乙二酯樹脂構成之基材較佳。藉由成爲包含該等基 材之防反射用層合物，可容易地使前述硬化性組成物中所 含之（A1)成分拉到基材附近。尤其是基材爲三乙醯基纖 維素樹脂，且含有（甲基）丙烯酸2-羥基乙酯作爲（A1 ) 成分時，該作用效果顯著展現。據此，可在與基材接觸之 面成相反之面側上形成以高密度存在有粒子22之低折射率 層2 6。 又，藉由成爲含有該等基材之防反射用層合物，可在 相機之鏡片部、電視（CRT )之畫面顯示部、或液晶顯示 裝置中之彩色滬光片等廣範圍之硬質塗層及/或防反射膜 之利用領域中獲得優異之耐刮傷性及防反射效果。 2.2.2. 硬質塗層 硬質塗層24係於使前述硬化性組成物硬化所得之具有 兩層構造之硬化膜20中，由實質上不存在粒子22之層所構

S -26- 1377236 成。 硬質塗層24之厚度並無特別限制，較好爲ι~50μηι，更 好爲1〜10μιη’其原因爲硬質塗層24之厚度未達Ιμπι時，有 無法提高對基材10之密著力之情況，另一方面，超過50 μηι 時，有難以形成均勻膜之情況。 2.2.3.低折射率層 低折射率層26係如使前述硬化性組成物硬化獲得之具 有兩層構造之硬化膜20中，由以高密度存在有粒子22之層 所構成。 低折射率層26之厚度並無特別限制，較好爲50〜200nm ，更好爲60~15 0nm，最好爲80〜120nm。其理由爲低折射 率層26之厚度未達50nm時，有無法獲得充分防反射效果之 情況，另一方面，超過200nm時，有防反射效果降低之情 況。 本實施形態之防反射用層合物1〇〇中之硬質塗層24與 低折射率層26之折射率差較好成爲0.05以上之値。其理由 爲硬質塗層24與低折射率層26之折射率差未達0.05之値時 ，無法獲得該等防反射膜之相乘效果，且有防反射效果降 低之情況。 3.實施例 以下利用實施例更詳細說明本發明，但本發明並不受 該等實施例之任何限制。 -27- 1377236 3 . 1 .實施例1 3.1.1. 硬化性組成物之製造 於遮蔽紫外線之容器中，適量添加中空二氧化矽粒子 (商品名「JX-1009SIV」，20質量％甲基異丁基酮溶膠， 日揮觸媒化成股份有限公司製造）5質量份（以固體成分 計爲1質量份）、甘油環氧丙烯酸酯（商品名「DENACOL D A3 1 4 j ，Nagasechemtex股份有限公司製造）96質量份、 2-甲基-1 [4-(甲硫基）苯基]-2-嗎啉基丙-1 -酮（商品名「 IRGACURE (註冊商標）907」，日本汽巴股份有限公司 製造）3質量份、SILAPLANE FM0725 ( CHISSO股份有限 公司製造）0.1質量份、以及甲基異丁基酮（表中，使用 「MIBK」之簡寫），在室溫攪拌2小時，藉此獲得均勻溶 液。稱量2g之該溶液於鋁製皿中之後，在175 °C之加熱板 上乾燥30分鐘，稱量求得固體成分含量爲5 0質量％。 3.1.2. 硬化模樣品之製備 使用棒塗佈器將前述「3.1.1.硬化性組成物之製備」 中獲得之溶液以整體之硬化膜厚成爲約7 μπι之方式塗佈於 三乙醯基纖維素（TAC)膜（商品名「TDY-8 0UL」，富 士薄膜股份有限公司製造）上，在80°C乾燥2分鐘後，於 氮氣流下使用高壓水銀燈（300mJ/cm2)使之硬化。又， 塗佈係在捲成輥狀之薄膜內側之面上形成塗膜之方式進行 -28- 1377236 3.2.實施例2〜23、比較例1~4 除了以表2至表4之組成調配表2〜表4所示之成分以外 ，餘與實施例1同樣製造硬化性組成物，獲得硬化膜樣品 。又，聚合性化合物之種類、商品名、極性基之種類、極 性基之濃度彙整列於表1。

[表1] 聚合性化合物麵 商品名 極性基 極性基濃度 (mmol/g) 甘油環氧丙烯酸酯 DENACOL DA314 羥基 6.0 六氫苯二甲酸環氧丙烯酸酯 DENACOL DA722 羥基 4.7 季戊四醇三丙烯酸酯 KYALITE PET-30 羥基 1.9 丙烯酸羥乙酯 LIGHT ESTER HOA 羥基 8.6 甲基丙烯酸羥乙酯 LIGHT ESTER HO-MS 羥基 7.7 琥珀酸改質之二季戊四醇五丙烯酸酯 ARONIX M-520 羧基 1.7 2,2,2-三丙烯醯氧基甲基乙基琥珀酸 NK ESTER CBX-0 羧基 2.6 磷酸三丙烯酸酯 BISCOTE 3PA 磷酸酯基 3.3 2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸 ATBS 磺基 4.8 丙烯酸二聚物 ARONIX M-5600 羧基 4.6 丙烯酸 _ 羧基 13.9 二甲胺基丙烯酸酯 DMA 胺基 7.0 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 ARONIX M-309 钲 0 又，實施例13及實施例23中使用之粒子「B-1」係如 下列合成。使中空二氧化矽粒子（商品名「JX- 1 009SIV」 ，甲基異丁基酮溶膠，日揮觸媒化成股份有限公司製造） 90.9質量份（固體成分濃度：20質量份）、十三氟辛基三 甲氧基矽烷（GE東芝矽酮股份有限公司製造）1質量份、

異丙醇0.1質量份及離子交換水〇.〇5質量份之混合液於80°C -29- 1377236 攪拌3小時後，添加原甲酸甲酯0.7質量份，接著以相同溫 度加熱攪拌1小時，獲得無色透明之粒子分散液B-1。秤量 2g之B-1於鋁製皿中之後，於120°C之加熱板上乾燥1小時 ，秤量求得固成分含量爲22.5質量％。 3.3.評價試驗 針對下述項目評價實施例及比較例中獲得之硬化性組 成物及硬化膜之特性。其結果合倂列於表2至表4» 3.3 . 1 .反射率 以黑色噴霧塗裝所得硬化膜之背面，利用分光反射率 測定裝置（裝設大型試料式積分球附屬裝置1 50-09090之 自記分光光度計U-3410，日立製作所股份有限公司製造） ，自基材側測定波長340~7〇〇nm之範圍之反射率並經評價 。具體而言，以鋁之蒸鍍膜之反射率作爲基準（1 00% )， 測定各波長之防反射用層合物（防反射膜）之反射率，該 等波長5 5 0nm之光之反射率合倂示於表2至表4。若反射率 未達3.0 %則可判斷具有低反射性。 3.3.2.耐刮傷性（鋼毛耐性試驗） 將鋼毛（BONSTAR No. 0000，日本 STEEL WOOL 股 份有限公司製造）安裝於學振型摩擦堅牢度試驗機（AB-301，Tester產業股份有限公司製造），以於所得硬化膜表 面荷重200g之條件重複擦過10次，以下列基準目視確認該 1377236 硬化膜表面有無產生刮傷。評價基準如下。 AA :硬化膜未出現刮傷。 確認硬 A:幾乎無法確認硬化膜之剝離或刮傷， 化膜上有少許刮傷。 B:確認硬化膜之整面上有條狀刮傷。 C :硬化膜產生剝離。 φ 3.3.3 .鉛筆硬度 K5600- 將所得硬化膜固定於玻璃基板上，依據「JIS 5-4」（ISO/DIS 15184)加以評價。

-31 - 1377236 [表2]

η m 握 m S <〇 - Γϊ 5 1 100.1 I MIBK s S r-· < 5 i 握 S <〇 - rt 5 I too.i | g S C-i < 5 實施例11 S to 严 η 5 丨 100.1 I MIBK S 0 01 < δ I實施例10 S (Ο - η Ο 1 100.1 I MIBK s S in oi < 5 JE施例9 (Ο οι o - t*> 〇 MIBK 5 S < 5 _例8丨 (Ο esi o η o MIBK I CO oi S < δ 寅施例7| <〇 CM o 严 c? Ο I 100.1 I MIBK I 2 s GO < X 寊施例6丨 〇 (Ο CM - r> o MIBK in ci s < δ «施例5| 〇 (D CM - ο 5 1 100.1 I MIBK S s r-· < 5 寅施例4| 〇 (Ο CM ο o MIBK g r·； < S 窗施例3 S (Ο * η ο 1 100.1 I MIBK I S g CO < 5 實施例2 CO σ> η d 1 100.1 I MIBK r- 七 s CM N < X 實施例1 CO Ο) - r> 5 1 100.1 | MIBK I S s OJ Csl < 5 甘油環氧丙烯酸酯 I 六ffi苯二甲酸環氧丙烯酸酯 | 季戊四醇三丙烯酸酯 I i丙烯酸羥乙酯 I I甲基丙烯酸羥乙酯 I 趙 招 1 Ν) 糊 田· 饀 S Ε η! ci 塍 涟 发 κ m 趙 落 趙 m sg κ m s- C>) m m « E cs 1三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 1 II 苷 Τ Ι ffl 1 IGACURE 907 | 1 SALIPLANE FM0725 | i m <Π (D)溶劑 I 聚合性化合物1 g中極性$濃度 （mmol/g) 固歷成分濃度（％) 1反射率(％) 耐鋼毛性 鉛班硬度 (Α1)成分 1 (A2>成分1 ⑻粒子 1 (C)聚合起始剤 1 1其他添加劑 i 評價項目 (Α)聚* 、’化合物 I -32- 1377236 表

®施例23 CD CO g - c〇 100.1 MIBK C0 d s «ο < 5 S施例22 〇 S - CO ο 100 MIBK s eg < 5 實施例21 CO S - η 5 100.1 MIBK CO o s in csi < 5 贲施例20 〇 S - CJ 5 100.1 I甲醇| in s tA 04 < 5 寅施例19 φ S - CO Ο 100.1 M旧K s tf> oi < 實施例18 to Csl 〇 - CO 5 I 100.1 MIBK σι s < 5 鶴例17 <〇 σ) - CO 5 I loo MIBK ci ri s CO Csi < 5 實施例16 to CO g - CO 5 I 100.1 I MIBK CO s < 5 實施例15 <〇 Ο) CO 5 I 100.1 I MIBK <〇 oi s CM csi < 5 實施例14 (Ο σ> CO Ο I 100.1 I MIBK P-; s CO evi < 5 琥珀酸改質二季戊四醇五丙烯酸酯 2,2,2-三丙烯醯氧基甲基乙基號珀酸 磷酸三丙烯酸酯 1 2-丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸 1丙烯酸二聚物 1 I丙烯酸 I 1三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 | 中空二氧化矽粒子 1T- I CD IGACURE 907 SALIPLANE FM0725 I合計(質S份） I (D)溶劑 聚合性化合物lg中極性基濃度 （mmol/e) I 固體成分濃度（％) ; 反射率（％) 耐鋼毛性 鉛筆硬度 CA1)成分 | (A2)成分1 ⑻粒子 (C)聚合起始劑 其他添加劑 I 評價項目 (Α)聚合性化合物 -33- 1377236 [表4] 比較例4 I <〇 CO 〇 100.1 ΜΙΒΚ 〇 S ΙΛ < 5 比較例3 CD S CO 〇 100.1 ΜΙΒΚ CO d g to < 5 比較例2 〇 CD 00 C0 〇 100.1 ΜΙΒΚ CO s to — < 比較例1 CO S ΓΟ 〇 100.1 ΜΙΒΚ 寸 〇 s ir> < 5 2,2,2-三丙烯醢氧基甲基乙基琥珀酸 说酸三丙烯酸酯 琥珀酸改質二季戊四醇五丙烯酸酯 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 二甲胺基丙烯酸酯 中空二氧化矽粒子 IGACURE 907 SALIPLANE FM0725 合計(質*份） (D)溶劑 聚合性化合物lg中極性基濃度（mmol/g) 固®成分《度（％) 反射率（％) 耐钢毛性 鱗硬度 (A1)成分 (A2)成分 (Β)粒子 (C)聚合起始劑 其他添加劑 評價項目 (A)聚合性化合物

-34- 1377236 3.4.評價結果 由表2及表3之結果可知，使全部聚合性化合物中之極 性基濃度滿足前述條件之實施例1~23之硬化性組成物硬化 而成之硬化膜，確認具有反射率成爲未達3 %之防反射性。 又由耐鋼毛性之結果可知耐刮傷性亦優異。 相對於此，由表4之結果可知，使全部聚合性化合物 中之極性基濃度未滿足前述條件之比較例1~4之硬化性組 成物硬化而成之硬化膜中，耐刮傷性雖優異，但反射率超 過3%而爲反射率差者。 以透過型電子顯微鏡觀察實施例1〜23及比較例1〜4之 層合物之剖面後’實施例1〜2 3之層合物確認粒子局部存在 於硬化膜表面，但比較例1〜4中無法確認粒子局部存在。 本發明並不受限於上述之實施形態者，各種變形均爲 可能。例如，本發明包含與實施形態中說明之構成實質上 相同之構成（例如，功能、方法及結果爲相同之構成，或 者目的及效果相同之構成）。又，本發明包含替代實施形 態中說明之構成之非本質部份而成之構成。又，本發明包 含達到與實施形態中說明之構成相同作用之構成或可達成 相同目的之構成。又，本發明包含於實施形態中說明之構 成附加習知技術而成之構成。 【圖式簡單說明】 圖1爲模式性顯示本實施形態之防反射用層合物之剖 面圖。 -35-

Claims (1)

1377236 七、申請專利範圍： 1. 一種防反射用層合物，其特徵爲於基材上具有硬 化膜，該硬化膜含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基及磺 基之一種以上極性基之基質，與折射率1.4以下之粒子， 且lg之前述基質中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度 及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上15mmol/g以下， 且前述粒子在前述硬化膜中係局部存在於與前述基材 φ 接觸之面爲相反之面側。 2. 如申請專利範圍第1項之防反射用層合物，其中lg 之前述基質中之羥基濃度爲2.0mmol/g以上15mmol/g以下 〇 - 3 ·如申請專利範圍第1項之防反射用層合物，其中1 g 之前述基質中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合 計爲0.5mmol/g以上10mmol/g以下。 4. 如申請專利範圍第1項之防反射用層合物，其中lg φ 之前述基質中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合 計爲〇.5mmol/g以上5mmol/g以下。 5. 如申請專利範圍第1項之防反射用層合物，其中前 述粒子爲中空二氧化矽粒子。 6. —種防反射用層合物，其特徵爲於基材上具有硬 化性組成物之硬化膜，該硬化性組成物含有具有選自羥基 、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以上極性基之聚合性化合 物及折射率1.4以下之粒子，且lg之全部聚合性化合物中 之羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計 -37- 1377236 爲 0.5mmol/g 以上 15mmol/g 以下， 且前述粒子在前述硬化膜中係局部存在於與前述基材 接觸之面爲相反之面側。 7. 如申請專利範圍第6項之防反射用層合物，其中lg 之前述全部聚合性化合物中之羥基濃度爲2. Ommol/g以上 15mmol/g以下。 8. 如申請專利範圍第6項之防反射用層合物，其中1 g 之前述全部聚合性化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及 擴基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上10mmol/g以下。 9. 如申請專利範圍第6項之防反射用層合物，其中lg 之前述全部聚合性化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及 磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上5mmol/g以下。 10. 如申請專利範圍第6項之防反射用層合物，其中 前述粒子爲中空二氧化矽粒子。 1 1.如申請專利範圍第1至1 0項中任一項之防反射用 層合物，其中前述基材爲三乙醯基纖維素樹脂薄膜或聚對 苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜。 12. —種防反射用層合物之製造方法，其特徵爲包含 將硬化性組成物塗佈於基材上後經硬化之步驟，其中該硬 化性組成物含有具有選自羥基、羧基、磷酸酯基及磺基之 —種以上之極性基之聚合性化合物及折射率爲1.40以下之 粒子，且lg之全部聚合性化合物中之羥基濃度、羧基濃度 、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲0. 5mmol/g 以上 1 5mol/g以下。 1377236 13. 如申請專利範圍第12項之防反射用層合物之製造 方法，其中前述硬化性組成物之全部聚合性化合物lg中之 經基濃度爲2.0mmol/g以上15mmol/g以下。 14. 如申請專利範圍第12項之防反射用層合物之製造 方法，其中前述硬化性組成物之全部聚合性化合物lg中之 羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g 以上10mmol/g以下。 φ 15.如申請專利範圍第12項之防反射用層合物之製造 方法，其中前述硬化性組成物之全部聚合性化合物lg中之 羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之合計爲〇.5mmol/g . 以上5mmol/g以下〇 - 16.如申請專利範圍第12項之防反射用層合物之製造 方法，其中前述粒子爲中空二氧化矽粒子。 17. 如申請專利範圍第12至16項中任一項之防反射用 層合物之製造方法，其中前述基材爲三乙醯基纖維素樹脂 • 薄膜或聚對苯二甲酸乙二酯樹脂薄膜。 18. —種硬化性組成物，其特徵爲含有具有選自羥基 、羧基、磷酸酯基及磺基之一種以上之極性基之聚合性化 合物及折射率爲1.40以下之粒子，且lg之全部聚合性化合 物中之羥基濃度、羧基濃度、磷酸酯基濃度及磺基濃度之 合g十爲0.5mmol/g以上15mol/g以下。 1 9 ·如申請專利範圍第〗8項之硬化性組成物，其中i g 之前述全部聚合性化合物中之羥基濃度爲2. Ommol/g以上 1 5mmol/g以下。 39 - 1377236 2 0.如申請專利範圍第18項之硬化性組成物，其含有 (甲基）丙烯酸2-羥基乙酯作爲前述聚合性化合物。 21.如申請專利範圍第18項之硬化性組成物，其中lg 之前述全部聚合性化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及 擴基濃度之合計爲0.5mmol/g以上10mmol/g以下。 22·如申請專利範圍第18項之硬化性組成物，其中lg 之前述全部聚合性化合物中之羧基濃度、磷酸酯基濃度及 擴基濃度之合計爲〇.5mmol/g以上5mmol/g以下。 2 3 ·如申請專利範圍第1 8至2 2項中任一項之硬化性組 成物’其中前述粒子爲中空二氧化矽粒子。

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