TWI377190B - Preparation of alkylation feed - Google Patents
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Description
1377190 六、發明說明: 本發明係有關於石蠟碳氫化合物進料(paraffinic hydrocarbon feedstocks)之烷基化,且特別是有關於一 種製備含烯烴進料之及將其燒基化之製程。 【先前技術】 烷基化為一種石蠟烴(paraffins),通常為異石蠟烴, 與烯烴在強酸下產生石蠟烴之反應(例如,相較於起始材 料較南枝辛烷值且沸點約為在汽油的範圍中)。在石油精 煉中,燒基化反應通常為Ca至Cs之稀烴與異丁烧之反應。 在燒基化精煉中’普遍使用氫氟酸或硫酸觸媒。對於 由硫酸催化之烷基化製程,較佳使用冷酸或低溫製程,以 使副反應機率發生最小化。在通常的製程中,反應為在反 應槽中進行’其中碳氫化合物為散佈在連續的酸相中。 例如,美國專利2, 762, 853揭示了一種包含進斜異石 蝶煙(例如異丁烷或異戊烷)及C2_C5之單烯烴 (monoolefin)至烷基化反應槽之製程。烷基化反應係由 88%以上的硫酸,較佳為96%以上的硫酸所催化。烷基化 產物接著分離成石油範圍内的分離物及更重的院基化產 物。 在另一例子中,美國專利2, 859, 260揭示了一種包含 在硫酸觸媒下使異石蠟烴與烯烴反應之製程。接著分離此 反應的產物以回收富含碳氫化合物的相及富含酸的相。接 著在其他下游的操作中,進一步對富含碳氫化合物的相進 1377190 打處理以從碳氫化合物的相中移除觸媒酯類。另一習知烷 基化製程係揭示於美國專利31〇3 〇92。 烷基化進料,例如液體催化裂噼(Fcc )之〇餾出物 可包含眾多的分離物,包含正丁烷、異丁烷、正丁烯及異 丁烯。在烷基化進料中非想要的分離物可包含含氧化物 (oxygenates)(例如水及氧化的碳氫化合物,例如醚類 或醇類)烴(例如丁二稀)、含氮化合物(例如膀 類及胺類)及含硫化合物(例如甲硫醇及乙硫醇)。當這 些非想要的分離物存在時,可能會造成烷基化單元所消耗 的氫氟酸及硫酸的量皆為增加。 因此,業界所需要的是一種改善烷基化單元效能的製 程,包含減少酸的消耗量。 【發明内容】 本發明在此揭示一種係-關於處理烷基化進料之製程, 其中此烷基化進料包含烯烴、正烷烴、異烷烴及含丁二 烯、含氧化物、含氮化合物或含硫化合物至少其一的雜質, 此製程包括:將一含含氧化物及含氮化合物至少其一之烷 基化進料與水接觸以產生一碳氫分離物(fracti〇n)及一 水✓谷液分離物,其中此碳氫分離物含有至少—濃度減量之 含氧化物或含氮化合物,此水溶液分離物含有至少一部分 之至少-含氧化物或含氮化合物;自此含至少_濃度減量 之含氧化物、含氮化合物之碳氫化合物將水分離以產生 一具有水含量減量之碳氫分離物;在一第一寡聚合條件 5 1377190 下’在一第一寡聚合反應區域中將此水含量減量之碳氫分 離物與一寡聚合觸媒(olig〇merizati〇n ca1:alyst)相接 觸’以與至少一部分之烯烴進行反應,形成一含烯烴募聚 物之反應槽排出物;以及進料至少一部分之此含有此烯烴 寡聚物之反應槽排出物至一烷基化單元。 本發明在此揭示另一種係關於一種處理统基化進料之 製程’其中此院基化進料包含稀烴、正烧烴、異烧煙及 含丁二烯、含氧化物、含氮化合物及含硫化合物至少其一 的雜質,此製程包括:將一含含氧化物及含氮化合物至少 其一之烧基化進料與水接觸以產生一碳氫分離物及一水溶 液分離物’其中此碳氫化合杨含有至少一濃度減量之含氧 化物或含氮化合物’此水溶液分離物含有至少一部分之至 少一含氧化物或含氮化合物;進料氫氣及此濃度減量之碳 氫分離物至一含至少一反應區域之催化蒸餾反應槽系統 中,其中此反應區域包含一由氫化觸媒所形成之蒸餾結 構,同時於此催化蒸館反應槽系統中進行:(丨)將氫氣及 二烯烴與此氫化觸媒接觸而催化氫氣與至少一部份之二締 烴進行反應,以產生烯烴;及(ii)自水中蒸餾出此得到 之碳氫化合物;回收水及未反應之氫氣作為一頂部分離 物;回收一水濃度及二烯烴含量減量之碳氫分離物作為— 底部分離物;在一第一寡聚合條件下,在一第一寡聚合反 應區域中將此二烯烴含量減量之碳氫分離物與一寡聚合觸 媒相接觸,以與至少一部分之烯烴進行反應形成含有烯烴 寡聚物之反應槽排出物;以及進料至少一部分之此含有此 1377190 烤煙券聚物之反應槽排出物至一烧基化單元。 本發明在此更揭示一種係關於處理烷基化進料之製 程,其中此烷基化進料包含烯烴、正烷烴、異烷烴、及含 丁一烯、含氧化物、含氮化合物及含硫化合物的雜質至少 其一,此製程包括:將一含含氧化物及含氮化合物至少其 一之烷基化進料與水接觸以產生一碳氫分離物及一水溶液 分離物’其中此碳氫化合物含有至少—濃度減量之含氧化 物或含氮化合物,此水溶液分離物含有至少一部分之至少 一含氧化物或含氮化合物;進料氫氣及此已作濃度減量之 碳氫分離物至-含至少-反應區域之催化蒸德反應槽系統 中’其中此反應區域包含.-由一觸媒所形成之蒸館結構; 同時於此蒸館反應㈣、統中進行:⑴將氫氣及此二稀煙 相接觸與此觸媒相接觸而催化氫氣與至少一部份之二烯烴 進仃反應,以產生烯烴;(i i)將硫醇及二烯烴與此觸媒 相接觸而催化硫醇與至少-部份之二稀烴進行反應,以產 生重硫化物,及(1U)自水中蒸餾出此得到之碳氫化合物; 回收水及未反應之氫氣作為一頂部分離物;回收一含重硫 化物及其他含疏化合物之碳氫分離物作為一底部分離物; 回收一含Ο烯烴之碳氫分離物作為側取物;在一寡聚合之 條件下,在第一第一寡聚合反應區域將此側取物與一寡聚 合觸媒相接觸’ 至少—部A之稀烴反應形成一含稀烴 募聚物之反應槽排出物;以及進料至少一部份之此反應槽 排出物至一烧基化單元。 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 7 1377190 顯易It ’下文特舉出較佳實施例,並配合所附圖式,作詳 細說明如下: 【實施方式】 本發明在此所述之實施例中,係關於碳氫化合物進料 之烷基化,且特別是有關於一種製備含烯烴進料之及將其 烧基化之製程。在此所述之實施例係特別關於可在烧基化 製程中減少酸消耗量之製程。 在本發明之應用範疇中’ “催化蒸餾反應槽系統 (catalytic distillation reactor system),’ 表示為一 種至少可部分地同時進行催化反應及分離產物的裝置。此 裝置可包含傳統催化蒸餾塔反應槽(catalytic di st i 1 lat ion column reactor ),在此反應槽中,於沸點 同時進行反應及蒸德;或結'合至少一個侧反應槽的蒸館 塔,其中側反應槽可作為在液態反應槽或沸點反應槽。上 述催化蒸餾反應槽系統優於傳統液相反應後再進行分離, 此時’催化蒸餾塔反應槽可具有下列優點:減少件數(piece count )、降低成本·、糟加每磅觸媒的生產性、有效率的熱 移除(反應產生的熱可被欲蒸發的混合物吸收)及改變反 應平衡的潛力(potentialfo.r shifting equilibrium)。 在此所述之“内隔板蒸儀塔(divided-wall distillation columns)中”’至少一個區域含有催化蒸餾結構,且可在 此被使用’並視為 催化蒸德反應槽系統”。 在此所述實施例中,所使用的烷基化進料可包含各種 1377190 稀烴及石增士H人& 墙煙,其包:。例如’烧基化進料可包含CA的石 ' Q正烷烴、異院.烴及^匕的 正烯烴(直Maak-、 · 邱I 了包含 ▲ m 異稀烴(有分枝的缔烴)及其混 ° /、些貫施例中,烷基化進料可包含 輕油⑽)餘出物。 4的輕裂解 在某些貫施例中,石墙烴可包令 石輥/工』匕含C4烷烴(正丁烷及異 在心(正錢、.新錢、異戊⑺及其混合物。
貝施例t’烯烴可包含乙烯、丙稀、。烯煙(例如 丁烯、異丁稀或其混合物)、C5_(例如卜 戊烯2戊烯、異戊烯及其混合物)及其混合物。 烧基化進料’例如C4_C6輕裂解輕油館出物,也可包含 含氧化物,例如水及.醇類、硫醇及其他含硫化合物、含氛 化合物(例如腈類及胺類)及二烯烴(例如丁二烯當 進料至酸院基化單元(aeid alkylMiQn⑽⑴時,上述: 些物質皆會消耗酸(例如氫氟酸或硫酸)。依照在此所述 之實施例,對院基化進料進行處理,可避免會消耗酸的分 離物的進入至燒基化單元中。 在某些實施例中,希望能夠在燒基化之前先寡聚合 (oligomerize) —部份的烷基化進料。例如,美國專利 6,774’275、6’858,770 及6,995,296 (可合併為參考資料) 揭示了進料Ο烯烴募聚物(二聚物及三聚物)至烷基化單 π對於減少烷基化單元中之冷卻設備所造成的影響。含氮 化合物、含硫化合物、二烯烴 '含氧化物及其他烷基化進 料中的分離物也會對於寡聚合製程具有不良的影響,毒化 9 1377190 烷基化觸媒及/或導致非想要的聚合反應。依照在此所述實 施例’對烧基化進料進行處理可額外增加寡聚合觸媒的效 能。 對碳氫化合物進料進行處理可包含各種由烷基化進料 中移除非想要之化合物之步驟。例如,在某些實施例中, 含氧化物及/或含氮化合物可經由將碳氳化合物進料與水 接觸來移除’例如水洗(water-washing)。在經水洗的碳 氫分離物中,具有濃度減.量之含氧化物及/或含氮化合物, 所夹帶的水(entrained water)並可接著被例如由蒸餾或 吸附的方式移除。在某些實施例中,例如水是經由蒸德移 除時’此蒸餾結構可包含用以催化(a)氫氣與二烯烴形成 烯烴之反應;(b )硫醇與二烯烴形成重硫化物之反應;(c ) (a)及(b)的組合。處理後的造料具有減量的腈類、含氧 化物、二烯烴及/或硫含量,隨後可進料至寡聚合單元以寡 聚合至少一部份的烯烴,且所得到之寡聚物單元排出物可 接著與硫酸或氫氟酸反應以產生烷基化產物。 依照在此所述實施例,對烷基化進料進行處理所得到 之用以進料給烷基化單元之進料中,可.有效地減少或消除 含氧化物、含氮化合物、二烯烴及含硫化合物至少其一。 在某些實施例中,在此所述之經回收得到處理後之進料可 包含〇· 1%或更少的二烯烴,在其他實施例中為500 或更少、在更其他實施例中為100 或更少(皆以重量 為基準)^在某些實施例+,在此所述之經回收得到處理 後之進料可包含500 PPm或更少的含氮化合物、在其他實 1377190 施例中為250 ppm或更少、在其他實施例中為1〇〇卯瓜或 更少、在其他實施例中為50議或更少、在更其他實施例 中為25 PPm或更少(皆以重量為基準)。在某些實施例中, 在此所述之經回收得到處理後之進料可包含5〇1)卯或更少 的腈類,在其他實施例中為25卿或更少、.在其他實施例 中為10 PPm或更少、在其他實施例中為5卩卿或更少在 更其他實施例中為2. 5 ppm或更少(皆以重量為基準)。 在某些實施例中,在此所述之經回收得到處理後之進料可 包含〇_ 1%或更少的硫,在其他實施例中為5〇〇 ppm或更 少、在其他實施例中為250 PPm或更少、在其.他實施例中 為100 ppm或更少、在其他實施例中為5〇 ppm或更少、在 其他實施例中為25pPffl或更少、在其他實施例冲為1〇ppm 或更少、在更其他實施例中為5 ρριη .或更少(皆以重量為 基準)在某些實施例中,在此所、述之經回收得到處理後 之進料可包含0.1%或更少的含氧化物,在其他實施例中 為500 ppm或更少、在其他實施例中為25〇卯阳或更少、 在其他實施例中為100議或更少、在其他實施例中為.5〇 PPm或更少 '在其他實施例中為25 ppm或更少、在其他實 施例中為10 _或更少、在更其他實施例中為5_或更 少(皆以重量為基準)。在某些實施、例中,在此所述之經 回收得到處理後之進料可包纟01%或更少的水,在其他 實施例中4 5GG ppm或更少、在其他實施例中為25〇 _ 或更乂、在其他實施例中為丨〇 〇 ppm或更少、在其他實施 例中為50ppra或更少、在其他實施例中為託卯阳或更少、 1377190 在其他實施例中為1 〇 ppiD或更少、在更其他實施例中為5 PPm或更少(皆以重量為基準)。在其他實施例中,在經 處理後的院基化進料中在於彳貞測極限(detection limit) 内不含含氮化合物、含氧化物、二烯烴及/或含硫化合物。 現在參見第1圖,其顯示為依照在.此所述實施例之處 理提基化進料之製程之流程圖。在此實施例中,礙氫化合 物蒸氣由蒸氣管路10進料,並包含烯烴、正烷烴、異烷烴 及含丁二烯、含氧化物、含氮化合物或含硫化合物至少其 一的雜質’可在水洗塔14中與經由蒸氣管路1 2進料的水 相接觸。水溶液分離物-,包含圭少一部份的含氮化合物及/ 或含氧化物’可自水洗塔14經由管路16回收。含氧化物 及/或氮含量減量之烷基化進料可自水洗塔14經由管路18 回收。 含氧化物及/或氮含量減量之院基化進料可包含夾帶 或溶解於其中的水,其可由將含氧化物及/或氮減量之烷基 化進料與適當的吸附劑相接觸而分離。例如,烷基化進料 可經由管路18進料至保護床(guai:d bed),保護床(莒⑽以 bed)包含沸石或其他適當吸附劑以移除水。在保護床2〇 中的吸附劑或串連含其他吸附劑的保護床也可移除炔類、 二烯烴及其他會導致下游觸媒被毒化或在觸媒纟面形成聚 ^材料之非想要之分離物。在某些實施例中,二或多個保 護床可配置為相互平行或置於頭尾的結構,使得一保護床 此於持續進行垸基化/寡聚合進料處料作替換或再生。如 必要的話,在烧基化進料至進料吸收器pn·14· * 种及收益Ζ 0刖,含氧化物及 12 1377190 22中經由間接 /或氮含量減量之烷基化進料可在熱 的熱交換作冷卻/加熱。 ' 由保護床20排出之排出物可由營踗 田^路23回收並進料至 含募聚合觸媒26之寡聚合反應槽 在养聚合反應槽 甲’至少一部份的烯烴可與寡聚 盥 來β碉嫖26接觸而催化烯煙 -其自身反應’以形成烯烴寡聚合物。例如,異丁烯可在
募聚合反應槽24中進行反應,以形成異丁歸二聚物及三聚 物0 至少-部份由寡聚物反應、槽24排出之排出物,包含烯 烴寡聚合物,可經由管路28進料至烷基化單元3〇。在烷 基化早元30中,烯烴寡聚合物及異石蠟烴,例如包含在烷 基化進料中或分別進料,可經由•管路32與硫酸或氫氟酸接 觸’使募聚物與異石蠟烴相接觸以形成烷基化產物。使用 過的酸可經由管路34自烷基化單元3〇回收◦烷基化產物 可由管路36回收並造料至下游的製程38中,例如汽油摻 雜、分館或其他製程。 現在參見第2圖’其顯示為依照在此所述實施例之處 理烧基化進料之製程之流程圖’其中相同的數字代表相似 的元件。在此實施例中,接著使烷基化進料於水洗塔14中 作接觸’以移除含氧化物及含氮化合物,院基化進料可由 管路18進料至催化蒸餾反應槽系統40。氫氣也可經由管 路42進料至催化蒸餾反應槽系統40。 催化蒸餾反應槽系統40可包含至少一個包含氫化觸 媒之反應區域44。在催化蒸餾反應槽系統中,同時進行(i ) 13 1377190 可將烷基化進料中的氫氣及二烯烴與氫化觸媒接觸,以選 擇性氫化至少一部份的二稀烴成為婦烴,及(ii)碳氫化 合物可自未反應之氫氣及任何由管路18進料之烧基化進 料所夹帶或溶於其中的水分餾出來。 水及未反應的氫氣可經由管路··46自催化蒸餾反應槽 系統40回收,作為頂部分離物。水及輕碳氫化合物可被濃 縮及從氫氣中分離出來,其中氫氣可經由管路48回收,水 溶液分離物可經由管路5〇回收及碳氫分離物可經由管路 52回收’上述至少—部份可用於塔迴流(c〇lumn reflux)。 一稀及氣/含氧化物含量減量孓碳氫分離物可經由 管路54自催化蒸餾反應槽系統回收,作為底部分離物。 至少一部分的底部分離物可接著經由管路23進料至寡聚 合反應槽24並進行如前述之製程。 現在參見第3圖,’其顯示為依照在此所述實施例之處 理院基化進料之製程之流程圖,其中相同的數字代表相似 的疋件°在此實施例,中,接著使烷基化進料於水洗塔14中 作接觸’以移除含氧化物及含氮化合物,烷基化進料可由 官路18進料至催化蒸餾反應槽系統60。氫氣也可經由管 路62進料至催化蒸餾反應槽系統60。 催化蒸飽反應槽系統60可包含至少一個反應區域 64 ’反應區域64含觸嫖氫化觸·媒於其上部部分。在催化蒸 德反應槽系統中’同時進行(i)可將烷基化進料中的氫氣 及一稀經與氫化觸媒接觸,以選擇性氫化至少一部份的二 稀煙成為稀煙’及(ii)碳氫化合物可自未反應之氫氣及 14 1377190 任何由管路18進料之烷基化進料所央帶或溶於其中的水 分餾出來。 水及未反應的氫氣可經由管路66自催化蒸餾反應槽 系統60回收,作為頂部分離物。水及輕碳氫化合物可被濃 縮及從氫氣中分離出來,其中氫氣可經由管路68回收水 溶液分離物可經由管路7〇回收及'碳氫分離物可經由管路 72回收,上述至少一部份可用於塔迴流(c〇lumn丨⑽)。 包含重硫化物及其他沸點範圍於Cs+至c? +之化合物之 碳氫分離物可經由管路74自催化蒸餾反應槽系統中回 收。二烯烴及氮/含氧化物含量減量之碳氫化合物可經由管 路76回收作為侧取物。至少一部份的側取物接下來可經由 管路76進料至募聚合反應槽24並作所如前述之製程。側 取物於各種實施例中可包含,例如主要餾出物、〇至& 餾出物、C4至C6餾出物。 在某些實施例中,置於催化蒸餾反應槽系統4〇中之反 應區域44或第二反應區域(圖中未顯示〇令之觸媒可包含 硫醚化Uhioetherification)功能。在、這些實施例中, 除了丁二烯氫化之外(或是用’來替代丁二烯氫化),二烯 烴及硫醇可與硫醚化觸媒接觸,.以使至少一部份的二=烴 與硫醇反應以形成重硫化物,其可由所需的側取物分離: 中分離出來並沿著底部經由管路74回收。 前述之寡聚合反應可於酸陽離子樹脂觸媒(MW cation resin cataiyst)所存在之部分液相中進行,無論 是以直接通過之反應形式.(例如美國專利4, 313, 、 15 1377190 4’540,839、5, 003, 124 及 6, 335,473 所揭示),或是於同 時具氣相及液相和同時反應(c〇ncurrent .react i o.n )/分 鶴之催化蒸餾反應中進行。接著進行寡聚合之異烯烴可包 含異丁稀、異戊稀(iS〇amyleneS)或前述之組合,其較正 稀烴更具有反應性’且可選擇性地進行寡聚。 主要的寡聚合產物為異烯烴之二聚物及三聚物。例 如’異丁烯可募聚合以形成C8或C12之三級烯烴(tertiary olefin)、異戊烯可寡聚合形成Cl。'或c15之三級烯烴及異 丁烯及異戊烯的混合物可選擇性地反應形成Cg、Cl3& c14 三級烴。在隨後進行.烷基化期間,這些寡聚物與異烷烴反 應形成烧基化產物,例如異辛烷、異壬烷、異癸烷等。除 了預期之寡聚物與異烷烴之間的反應之外,寡聚物會裂解 成其本身之烯烴分離物,也就是說,反應形成寡聚物之烯 烴是以等莫耳比例(〇n a mo 1 ar bas i s)與異炫烴反應。 因此’所生成的產物與烷基化單烯烴相同,其可帶來額外 的優點’例如對於總體的烷基化反應來說可放出較少的 熱,因此需要較少的冷凍設備及較低的能源成本來進行烷 基化。 在此所述實施例之製程中,可提供較低的能量消耗、 分離含氮化合物、含氧化物、二烯烴及含硫化合物,及寡 聚合一部份的烯烴以作烷基化進料之預處理。有益的是, 在此所述之實施例可將會毒化寡聚物觸媒之毒物及會消耗 酸之化合物自烷基化進料中分離(降低濃度或移除)。 有益的是’本發明在此所揭示之某些實施例係由減少 16 1377190 惰性成分的量來使貌基化軍元效率增加。此效率增加可使 現有烧基化早元之反應槽生產量增加。此效率増加也使新 建單元可使用較小的烷基化反應槽。 此外,在此所述之某些實施例中,可使用已存在或外 接(stranded )的設備。例如,在此所述之實施例中可 輕易將原本非使用中的曱基第三丁基醚(MTBE)產生塔轉 換為可使用於對進料作處理。 雖然本發明已以數個較佳實施例揭露如上,然其並非 用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者, 在不脫離本發明之精神和範圍内,當可作任意之更動與潤 飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界 定者為準。 【圖式簡單說明] 第1圖顯示為依照本發明一實施例之處理烷基化進料 之製程之流程圖。 第2圖顯不為依照本發明另一實施例之處理烷基化進 料之製程之流程圖。 第3圖顯不為依照本發明更一實施例之處理烷基化進 料之製程之流程圖。 12〜管路 1 6〜管路 【主要元件符號說明 1 0〜管路 14 ~水洗塔 17 1377190 40〜催化蒸餾反應槽系統 4 4〜反應區域 4 8〜管路 5.2~管路 60~催化蒸餾反應槽系統 18〜管路 22~熱交換器 24〜寡聚合反應槽 2 8〜管路 32〜管路 3 6〜管路 6 4〜反應區域 6 8〜管路 72〜管路 76~管路 20〜保護床 23~管路 26〜寡聚合觸媒 30~烷基化單元 34〜管路 38〜下游製程 42〜管路 46〜管路 50~管路 54〜管路 62〜管路 6 6〜管路 70~管路 74~管路
18
Claims (1)
1377190 P告本 七、申請專利範圍: 1. 一種處理烷基化進料之製程,其中該烷基化進料包 含烯烴、正烷烴、異烷烴、及含丁二烯、含氧化物、含氮 化合物或含硫化合物至少其一的雜質,該製程包括: 將一含含氧化.物及含氮化合物至少其一之烧基化進料 與水接觸以產生一竣氫分離物(fraction)及一水溶液分 離物’其中該碳氫分離物含有至少一濃度減量之含氧化物 φ 或含氮化合物,該水溶液分離物含有至少一部分之至少一 含氧化物或含氮化合物; 自該含至少一濃度減量之含氧化物、含氮化合物之碳 氫化合物將水分離,以產生一具有水含量減量之碳氲分離 物; 在一第一寡聚合條件下,在一第一寡聚合反應區域中 將該水含量減量之碳氫分離物與一寡聚合觸媒 (oligoinerization catalyst)相接觸,以與至少一部分 φ 之烯烴進行反應,形成一含烯烴寡聚物之反應槽排出物; 以及 進料至少一部分之該含有該烯烴寡聚物之反應槽排出 物至一烧基化單元。 2. 如申請專利範圍第1項所述之處理烷基化進料之製 程,該製程更包含由蒸餾將該寡聚物自含未反應之異烯 烴、烯烴、正烷烴及異烷烴中分離出來。 3. 如申請專利範圍第2、項所述之處理烷基化進料之製 程,更包含將該已分離之寡聚物作為至少一部份之反應槽 19 1377190 排出物’進料至該烷基化反應槽β 4. 如申請專利範圍第2項所述之處理烷基化進料之製 程’其中該用以形成寡聚物之接觸及該寡聚物之分離係為 在一催化蒸德反應槽系統中同時進行。 5. 如申請專利範圍第1項所述之處理烷基化進料之製 程’其中該烷基化進料包含至少一部份之一 C4輕裂解輕油 (naphtha)顧分物、一 C4-C5輕裂解輕油顧分物及一 C4-C6 輕裂解輕油餾分物。 6. 如申請專利範圍第1項所述之處理烷基化進料之製 程’其中該稀煙寡聚物包含一異烤烴之二聚物及三聚物。 7. 如申請專利範圍第1項所述之處理烧基化進料之製 程’其中該分離包含將一氮濃度減量之碳氩分離物與一吸 收劑相接觸。 8. 如申請專利範圍第7項所述之處理烷基化進料之製 程,其中該吸收劑包含沸石。 9. 如申請專利範圍第1項所述之處理烷基化進料之製 輕’其中該氣濃度減量之碳氫分離物更包含二烯烴, 其中該分離包含: 進料氫氣及該濃度減量之碳氫分離物至一含至少 一反應區域之催化蒸餾反應槽系統中,其中該反 應區域包含一氫化觸媒所形成之蒸餾結構; 同時於該催化蒸餾反應槽系統中進行: (i)將氫氣及二稀烴與該氫化觸媒相接觸 而催化氫氣與至少一部份之二稀烴進行反 20 1377190 應,以產生稀烴;及 (11)自水中热餾出該得到之碳氫化合物 回故水及未反應之氫氣作為一頂部分離物; 回H漠度及二稀烴含量減量之碳氫分離物 作為一底部分離物; 該製程更包含: 以該底部分離物作為水濃度減量之碳氫分離 • 物’進料至該於第—寡聚物反應區域中進行之接 觸0 10.如申請專利範圍第9項所述之處理烷基化進料之 製程,其中氫氣進料至該位於至少一反應區域下方之催化 蒸餾反應槽系統中,且其中該氮濃度減量之碳氫分離物進 料至該位於至少一反應區域上方之催化蒸餾反應槽系統 中0 11 ·如申請專利範圍第1項所述之處理烷基化進料之 φ 製程’其中該氮濃度減量之碳氫分離物更包含二烯煙、硫 醇(mercaptans)及其他含硫化合物, 其中該分離包含: 進料氫氣及該已作濃度減量之碳氫分離物至一 含至少一反應區域之催化蒸餾反應槽系統中,其 中該反應區域包含一由氫化觸媒所形成之蒸餾結 構; 同時(concurrently )於該催化蒸餾反應槽系統 中進行: 21 丄 (i) 將氳氣及二稀烴與該氫化觸媒相接觸 而催化氫氣與至少一部份之二烯烴進行反 應’以產生稀烴;及 (ii) 自水中洛鶴出該得到之碳氫化合物 回收水及未反應之氫氣作為一頂部分離物; 回收包含烯烴之分離物作為一側取物(s丨de draw); 該製程更包含: 以該作為侧取物作為水含量減量之碳氫分離物進 料至該於一第一寡聚物反應區域中進行之接觸。 12.如申請專利範圍第u項所述之處理烷基化進料之 裝程,更包含回收該至少一部份之含硫化合物之碳氫分離 物作為一底部分離物。 1 3.如申請專利範圍第11項所述之處理烷基化進料之 製程’其中氫氣與該濃度減量之碳氫分離物進料至該位於 至少一反應區域下方之催化蒸餾反應槽系統中。 14·如申請專利範圍第11項所述之處理烷基化進料之 製程,其中該同時(concurrent ly )進行之製程中,更包 含將硫醇及·一細經·與一硫鱗化(thioetherification)觸 媒接觸而催化硫醇與至少一部份之二烯烴進行反應,以形 成重硫化物。 15.如申請專利範圍第14項所述之處理烧基化進料之 製程,其中該底部分離物更包含該重疏化物。 • 16.—種處理烷基化進料之製程,其中該烷基化進料包 1377190 含烯烴、正烷烴、異烷烴、及含丁二烯、含氧化物、含氮 . 化合物及含硫化合物至少其一的雜質,該製程包括: . 將一含含氧化物及含氮化合物至少其一之烷基化進料 與水接觸以產生一碳氫分離物及一水溶液分離物,其中該 碳氫化合物含有至少一濃度減量之含氧化物或含氮化合 物,該水溶液分離物含有至少一部分之至少一含氧化物或 含氮化合物; ^ 進料氫氣及該濃度減量之碳氫分離物至一含至少一反 應區域之催化蒸餾反應槽系統中,其中該反應區域包含一 由氫化觸媒所形成之蒸餾結構; 同時於該催化蒸餾反應槽系統中進行; (i) 將氫氣及二烯烴與該氫化觸媒接觸而催化氫 氣輿至少一部份之二烯烴進行反應,以產生烯 烴;及 (ii) 自水中蒸餾出該得到之碳氫化合物; # 回收水及未反應之氫氣作為一頂部分離物; 回收一水濃度及二烯烴含量減量之碳氫分離物作為一 底部分離物; 在一第一寡聚合條件下,在一第一寡聚合反應區域中 將該二烯烴含量減量之碳氩分離物與一募聚合觸媒相接 觸’以與至少一部分之烯烴進行反應形成含有烯烴寡聚物 之反應槽排出物;以及 進料至少一部分之該含有該烯烴寡聚物之反應槽排出 物至一院基化單元。 23 1377190 m處理燒基化進料之製程’其中該絲化進料包 含烯烴、正烷烴、異烷烴、及含丁二烯、含氧化物、含氮 化合物及含硫化合物的雜質至少其一,該製程包括: , 將一含含氧化物及含氮化合物至少#一之炫基化進料· 與水接觸以產生-碳氫分離物及一水溶液分離物,其中該 碳&化合物含有至少-濃度減量之含氧化物或含氮化合 物,該水溶液分離物含有至少一部分之至少一含氧化物或 含氮化合物; 進料氩氣及該已作濃度減量之碳氣分離物至一含至少、· -反應區域之催化蒸館反應槽系統中,其中該反應區域包 含一由一觸媒所形成之蒸餾結構; 同時於該蒸餾反應槽系統中進行: (I) 將氫氣及該二烯烴相接觸與該觸媒相接觸 而催化氫氣與至少一部份之二烯烴進行反應,以 產生烯烴; (II) 將硫醇及二烯烴毳該觸媒相接觸而催化硫籲 醇與至少一部份之二烯烴進行反應,以產生重硫 化物;及 (1 1 1 )自水中蒸餾出該得到之碳氫化合物; 回收水及未反應之氫氣作為一頂部分離物; 回收一含重硫化物及其他含硫化合物之碳氫分離物作 為一底部分離物; 回收一含C4烯烴之碳氫分離物作為側取物; 在一寡聚合之條件下’在第一第一募聚合反應區域將 24 1377190
該側取物與一寡聚合觸媒相接觸,以與至少一部分之烯烴 反應形成一含烯烴寡聚物之反應槽排出物;以及 進料至少一部份之該反應槽排出物至一烷基化單元。 25
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