TWI364811B - - Google Patents

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TWI364811B
TWI364811B TW096107558A TW96107558A TWI364811B TW I364811 B TWI364811 B TW I364811B TW 096107558 A TW096107558 A TW 096107558A TW 96107558 A TW96107558 A TW 96107558A TW I364811 B TWI364811 B TW I364811B
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Takehito Wada
Shinya Sugiyama
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Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68785Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support

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Description

(2) (2)1364811 件分散而傳熱,則殘留在基板上之基板支撐構件的轉印痕 跡會較以往更爲模糊且不明顯之基板的保持裝置。 〔專利文獻1〕日本特開2003-218003號公報 〔專利文獻2〕日本特開2000-012655號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 然而,如同專利文獻1所述,具有略半圓狀、角筒狀 、及4分割四角形等之前端之聚醯亞胺樹脂製的插銷係優 於耐熱性。又,如同專利文獻2所述,使纖維爲毛氈狀或 毛球狀之部分接觸基板的下面時,則有在當該接觸部分不 會充滿熱氣的優點。但是,於兩文獻所示之構成的情況下 ,要防止與插銷或纖維之基板的接觸部分及非接觸部分之 間之溫度不均的發生是困難的。 再者,例如於其他的構成中,針對基板的交接動作, 將基板載置於載置台上面時,基板與基板支撐構件會成爲 非接觸的狀態。即,在使之下降的狀態下,基板支撐構件 之前端部係位於較載置台上面還更下方,且基板支撐構件 之上端與基板下面之間會形成貫通孔之空隙。藉由該貫通 孔而被形成之空間部分係較周圍溫度還更低,所以即使是 對應於該部分之基板上亦會產生溫度不均之情況。 有鑑於上述之點,本發明係提供:在基板被載置於基 板載置台上的狀態下,與基板背面之間不會形成空隙之構 成的基板支撐構件。 -5- (3) 1364811 〔用以解決課題之手段〕 本發明之基板支撐構件,係針對爲了在基板載置構件 上支撐基板,而可出沒在形成於基板載置構件之貫通孔的 基板支撐構件,其構成爲:基板支撐構件係爲利用基板之 本身重量而縮入。 如藉由本發明之基板支撐構件,因爲基板支撐構件之
構成係利用基板之本身重量而縮入,所以在基板被載置於 基板載置構件上的情況下,係利用基板本身重量而縮入。 如此一來,在因爲利用基板之本身重量而縮入所以基板會 被載置於基板載置構件上的狀態下,針對基板載置構件之 貫通孔,支撐構件之前端部與基板背面之間係不會形成空 隙,例如如同以往之基板支撐構件的構成,係使支撐構件 本體下降而將基板載置於載置台上之情況相比,則可抑制 上述之溫度不均之情況的發生。 針對上述之基板支撐構件,其前端部亦可由鋁或樹脂 '而成。藉由如此之構成而可提高基板支撐構_件之耐久性。_ 又,針對上述之基板支撐構件,其前端部亦可爲倒圓 錐狀。此時,與基板背面之接觸面爲圓形平面,則因爲與 基板之接觸面積變大所以溫度不均的情況會變少。更,因 爲是倒圓錐狀,例如與圓柱狀的情況比較,則因爲會形成 部分貫通孔之內壁與基板支撐構件之間之空隙爲較大的處 所,所以將基板支撐構件收入基板載置構件之貫通孔內時 之與內壁接觸的危險性會變得更少。 -6- (5) (5)1364811 貫通孔5。 如同第2圖所示,支撐插銷7係藉由調整載置台1及 夾頭(卡盤?)9之間隔而可交換地裝設於管10之下端。 桿11被插入於管10之中,而桿I1之前端部lla係爲更 細之徑的桿。然後,螺旋彈簧12被裝設於桿前端部lla 之下端部,且藉由螺旋彈簧12而可昇降的前端部8係被 安裝於桿前端部11a。 再者,在第2圖所示的狀態下,螺旋彈簧12縮入則 前端部8之下端會被鉤至管10之上端’雖然沒有圖示, 但是此顯示出基板W被載置於載置台1上之狀態。附帶 說明,基板W從載置台1上脫離則成爲螺旋彈簧12延伸 而前端部8之下端從管之上端脫離的狀態。 支撐插銷7之前端部8之直徑(與基板W背面接觸 之面的徑),係形成爲較貫通孔5之內徑還更小一些,而 面積部分,支撐插銷7之前端部表面積係較貫通孔5之前 端部表面積還更小一些。即,在不妨礙朝向支撐插銷7 之垂直方向之滑動性的範圍內,儘可能地使支撐插銷7之 徑尺寸接近貫通孔5之內徑。藉此,支撐插銷7之前端部 8的側面與載置台1之貫通孔5的側面之間所形成之空間 爲極小,而因爲成爲溫度低下之要因的空隙變小,所以可 抑制因爲溫度不均而轉印至基板的情況。 用第3圖(a) (b)說明使用如此支撐插銷7之實際 之基板W的載置動作。第3圖(a)係顯示將基板w載置 至支撐插銷7上之前的狀態;第3圖(b)係顯示載置基 -8- (7) (7)1364811 狀之情形相同、爲圓形平面的圓柱狀之情況相同的作用。 更’倒圓錐狀之情況,係例如與圓柱狀之情況比較, 針對長度方向來說,因爲不是所有的徑都爲同徑(隨著長 度方向徑會變短),部分貫通孔5之側壁(內壁)與支撐 插銷7之前端部8側面之間會形成空隙。藉此,將支撐插 銷7收入載置台1之貫通孔5內時,可減低與貫通孔5之 側壁接觸之危險性。 再者’本發明並不限定於上述之實施形態,在不脫離 本發明要旨之範圍內可取得其他種種的構成。 〔產業上的可利用性〕 隨著半導體記憶體等大型半導體的需要增加,不但價 格降低且要求也變的嚴格,當提高半導體之大型晶圓化生 產成爲課題時,藉由使用本發明之基板支撐構件,而可預 料塗佈膜不均之改善,所以即使是使用大型晶圓之情況, 亦可期待生產之改善。 【圖式簡單說明】 第1圖係表示將本發明之基板支撐構件安裝於搬送裝 置及昇降裝置的情況。 第2圖係表示基板支撐構件之一實施形態的剖面圖。 第3圖(a)係表示基板載置前之基板支撐構件之位 置的圖。(b)係表示基板載置後之基板支撐構件之位置 的圖。 -10- (8)1364811 第4圖係表示基板支撐構件之其他實施形態的剖面圖 【主要元件符號說明】 1 :載置台 2 :搬送裝置 3 :昇降裝置
4 :臂 5 :貫通孔 6:周邊部基板支撐構件 7 :基板支撐構件 8 :前端部 9 :夾頭(卡盤?) 10 :管 1 1 :桿
1 1 a :桿前端部 1 2 :螺旋彈簧 W :基板 -11 -

Claims (1)

1364811
第096107558號專利申請案中文申請專利範圍修正本
申請專利範園 民國100年12月21日修正 1·—種基板支撐構件,係針對爲了在基板載置構件 上支撐基板,而可出沒在形成於前述基板載置構件之貫通 孔的基板支撐構件,其特徵爲: - 則述基板支撑構件係由:自由升降地插入前述貫通孔 φ 的桿11、供支撐基板的背面而可升降地安裝於前述桿之細 徑前端部11a之前端部8、在前述細徑前端部lla的周圍 於前述前端部8的下端與前述細徑前端部iia下端之間安 裝的使前述前端部8往上方彈壓之螺旋彈簧12、以及被配 置於前述桿11的外側之管10所構成;前述螺旋彈簧1 2 在前述前端部8未被載置基板的場合,壓起前述前端部8 ,於前述前端部8載置基板的場合,則爲以前述前端部8 與基板的重量而沉下的彈簧常數,藉此於前述桿丨1下降 φ 而把基板載置於前述基板載置構件上時,前述前端部8與 - 前述基板載置構件上面成爲一平面而維持與基板背面之接 • 觸狀態。 2. 如申請專利範圍第1項的基板支撐構件,其中’ 前述基板支撐構件的前端係由鋁或樹脂所構成。 3. 如申請專利範圍第1項的基板支撐構件,其中’ 前述基板支撐構件的前端部係爲圓柱狀。 4 ·如申請專利範圍第1項的基板支撐構件,其中’ 前述基板支撐構件的前端部係爲倒圓錐狀
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