TWI362774B - Lighting device and method for forming the same - Google Patents

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TWI362774B TW100102331A TW100102331A TWI362774B TW I362774 B TWI362774 B TW I362774B TW 100102331 A TW100102331 A TW 100102331A TW 100102331 A TW100102331 A TW 100102331A TW I362774 B TWI362774 B TW I362774B
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、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種發光裝置及其形成方法,特別是關於一 種散熱良好之發光裝置及其形成方法。 【先前技術】
一般使用發光·一極體(led)作為光源之發光裝置,因為 LED的壽命及免度皆會隨溫度的增加而減少且led有大部分 的電能會變成熱能’必須具有良好的散熱機制。再者,在照明 的應用上’為了達到南骨度’ LED模組通常包含複數的led 晶粒且使用高功率LED晶粒’又因為光學上的要求,各LED 晶粒間通常緊密排列’以便模擬成為單一光源,如此的設計對 於散熱之需求變得更高。 因此’在發光裝置上,特別是照明裝置上,不僅是led 模組的基板需具有良好的導熱率,而且裝設LED模組之基座 (燈座)Φ需要具有散熱能力(輪射率高),此外各元件間的介 面(interface)亦需要有夠低的熱阻(介面氣孔),以降低LED結 點的溫度’如此可以使led的壽命變長及亮度提高。 然而,將LED模組裝設於燈座,構成發光裝置或照明裝 置時’燈座通常具有立體造型,燈座上用以安裝LED模組的 位置,不易使用習知的製造機台安裝LED模組,通常需要利 用人力,使用螺絲等固定構件,固定LED模組,為了減少LED 模組與燈座_触,财在其介面會錢導㈣及散熱膏 等’但不論是導熱片或散熱膏的導鮮都不高(〜3W/m-K),熱 仍無法有效傳至底下的基座(燈座),導熱的綱仍在。综合上 述,現灯發光裝置在生產上無法自動化且成本高再者,LE〇 模組與燈座間的導熱不佳。 【發明内容】 雲於上述之發明兔景,為了符合產業上之要求,本發明之 目的之-在於提供—種散織好之發絲置及其職方法。根 據本發明的發光裝置之設計,藉由使用谭料(邊rpagte)固 疋LED模組’改善了 LED模組與基座的介面熱阻且基座的 熱輛射率β ’整體發光裝置的散熱效果高,如此可降低操作時 LED、,』/jnL度(即LED $ p-n junction溫度),因而可提高led 壽命及發光亮度。 而且’本發明之目的之一在於提供一種發光裝置,可在基 座上形成導線電路,可使LED晶粒直接接合於基座上。 而且’本發明之目的之—在於提供一種發光裝置,藉由使 用陶究基座,具有<高電壓特性,承受4麵V以上電壓時可 承受4000V以上電壓的衝擊,*會使整個裝置失效(相對於 金屬基座而言,更符合國際安全規範)。 另外,本發明之目的之一在於提供一種發光裝置藉由自 動化薄膜製程,處理led模組與立體形狀的基座之接合且同 1362774 時可形成導電線路於基座上,除可減少組裝流程而降低成本, 且降低LED模_基絲介面敝喊祕絲置的散熱效 率。由於例如濺鍍、電鑛等的薄膜製程係由原子逐漸堆積而形 成-層薄膜,與-般厚膜製程(例如印刷法等)比較,雖然薄 膜製程的製造成本較高,但是密合性較高,可制更好的減少 元件間熱喊介面触,邮可更進—步提高發光裝置的散熱 效率。 着 以而,一般的薄膜製程係應用於平面基板,對於非平面基 板(例如具有立體形狀之基板)的處理,需要特殊方法及裝置。 為了達到上述目的’根據本發明一實施例提供一獅成發 絲置之方法’包括:提供—基座,其包含一第一表面,且具 有立體形狀;形成複數金屬層於該第—表面上,以形成一導電 線路層,提供-發光二極雜組,其巾該發光二滅模組包含 紐U於基板上之發光二鋪减;卩錢該發光二極 • 體模組的基板藉由表面貼裝(S_Ce_nt)法設置於該導電 線路層上,以形成該發光裝置。 、於-I施例中’該基座係由選自下列群組之—材質所構 成表面氧化處理之链、表面具有氧化層之铭、氧化紹及氮化 銘’較理想為氧化鋁。 於—實施射,該形成導電線路層之步驟,包含:形成一 第:金屬層;形成-第二金屬層;形成—具有醜之薄膜於該 第-金屬層上;同時韻刻該第—金屬層及該第二♦屬層,以圖 5 型化该第一金屬層及該第二金屬層;除去殘留的該薄膜;以及 僅在該第二金屬層的圖型上,形成一第三金屬層。上述方法, 可利用濺鍍法形成該第一金屬層,其濺鍍靶材為Ti或Tiw, 可利用電鍍法形成該第二金屬層,該第二金屬層為一銅層,而 該形成第三金屬層之方法,可藉由化學鍍法,形成一化鎳金 層,作為該第三金屬層。 於一實施例中,該表面貼裝法可藉由焊料(solder paste), 回流焊接(reflowsoldering)該基板與該導電線路層。 於一實施例中,該導電線路層可具有一配線圖案,上述焊 料為錫膏較理想。 於一實施例中,上述發光裝置之該基板與該導電線路層的 接面之熱傳導率為5〇 w/mK以上。 於一實施例中,該基座為陶瓷材料所構成,且該基座與該 發光二極體模組的基板之間,承受4〇〇〇v以上電壓時不會使 該發光裝置失效。 根據本發明另一實施例提供一種發光裝置,包括:一陶瓷 基座,其包含一第一表面;一導電線路層,形成於該第一表面 上且由複數金屬層所構成;以及一發光二極體模組,其包含一 基板及設置於基板上之至少一發光二極體晶粒,其中該發光二 極體模組的基板係以表面貼裝(Surfacemount)法設置於該導 電線路層上。於一實施例,該陶瓷基座例如為由氧化鋁或氮化 鋁等陶瓷材料所構成或表面氧化處理之鋁、表面具有氧化層之 叙所構成。 於一實施例中’該發光裝置之該基板與該導電線路層的接 面之熱傳導率為50 w/mK以上。於一實施例中,該發光二極 體模組的基板無導電線路層之間’包含觸,而且該導電線 路層係依序層合種子金屬層、鋼層、化鎳金層所構成,具有一 配線圖案。上述導電線路層之製作方法,例如先減鍍—第一金 屬層其中該苐-金屬層為鈦或鈥嫣材料所成’然後電鍍一銅 層,形成一第二金屬層;形成一具有圖案之薄膜於該第二金屬 層,藉由蝕刻而將該第一金屬層及該第二金屬層圖型化;除去 殘留的薄膜;以及進行表面處理,形成化鎳金層(Ni/Au)。 於一貫施例中,該基座為陶瓷材料所構成,且該基座與該 發光一極體模組的基板之間,可承受4〇〇〇v以上電壓的衝擊, 不會使整個裝置失效。 因此,根據本發明的發光裝置及其形成方法之設計,在生 產上可以自動化且降低成本,再者提高LED模組與燈座間的 導熱率,進而提高整體發光裝置的散熱性,降低操作時led 界面溫度,因而可提高LED壽命及發光亮度。此外,藉由使 用陶瓷基座,具有耐高電壓特性,承受4000V以上電壓時整 個裝置不會失效。 【實施方式】 有關本發明之前述及其他技術内容、特點與功效,在以下 配合參考®式之_較佳實施綱詳細說明巾,將可清楚的呈 1362774 是用來說明並非用來限制本發明。此外’「A層(或元件)設 置於B層(或το件)上」之用.語,並不限定為A層直接貼覆 接觸B層表面的祕’例如A層與B層中間尚咖其他疊層
現。以下實施例中所提到的方向用語,例如·上下左、右、 前或後等,錢參考附加圖式的方向。因此,的方向用語 亦為該用語所涵蓋細。圖示中,相同狀件係以相同的符號 表示。 圖1表示習知的發光裝置10,其包含LED模組2〇、基座 30及夾於該LED模組與該基座_導熱片4〇。該led模組 2〇包含-基板及設置於該基板上之複數咖晶粒其中該基 板可為錄板、織板、金屬核Ί純(McpcB;脱如_ printed drcuit board)、氧她、纽錄板、其侧絲板等。 LED晶粒LED晶粒,或者冑辨咖@粒。基座 30可由例如雙^^琴、皇僻呂、鋁金屬等材料構成,如 由金屬所構成,通常表面可塗佈釉料塗料,作桃緣與輕射 熱能’此外基座30的形狀,圖i中僅為例示,可依據應用的 需求成形為各種形狀,亦可附有各種散熱用鰭片,或者具有作 為散熱的功能之各種形狀。導熱片40例如為〇.5mm厚之含矽 高分子材料。但是,如此的構成,由於LED模組2〇與導熱片 40間、導熱片40與基座30間,介面存在著許多微空洞,即 使使用散熱膏來填補這些微空洞,導熱效果依舊不佳,以致於 散熱不良,致使LED模組的溫度隨操作的時間増加而辦加。 8 1362774 此外,如此的結合,無法形成導電線路於基座上。另一方面, 基座3〇制金屬材料製麟,賴塗佈釉漆形成絕緣層由 於薄絕緣^無法減冑壓,触無料過4_v冑壓測試, 即4000V的衝擊下無法通過安全測試。 因此,有鑑於上述問題,本發明提供一種發光裝置,具有 良好的散熱機制且可通過安全測試。圖2表示根據本發明一實 施例之發光裝置100 ’其包括:一基座2〇〇,其包含一第一表 面200a ; —導電線路層300,由複數金屬層所構成且形成於該 第一表面200a上;以及一發光二極體模組4〇〇,其包含一基 板410及設置於基板上之至少一發光二極體45〇,其中該發光 二極體模組的基板410係以表面貼裝(Surfacem〇unt)法設置 於該導電線路層300上。於一實施例,基座可由表面具有釉漆 或氧化層之鋁金屬所構成’或者基座可由表面陽極氧化處理過 之銘所構成。於一實施例,該基座較理想為由陶瓷材料所構 成’例如氧化鋁,發光裝置具有耐高電壓特性,可承受4〇〇〇v 以上電壓時發光裝置1〇〇不會失效。 該導電線路層300之形成方法,包含:形成一第一金屬 層;形成一第二金屬層;形成一具有圖案之薄膜於該第二金屬 層上;同時蝕刻該第一金屬層及該第二金屬層,以圖型化該第 一金屬層及該第二金屬層;除去殘留的該薄膜;以及僅在該第 一金屬層的圖型上,形成一第三金屬層。上述方法,可利用減 鍍法形成該第一金屬層’其賤鍍乾材為Ti或TiW,可利用電 9 鍍法形成該第二金屬層,該第二金屬層為一銅層,而該形成第 二金屬層之方法’可藉由化學鍍法,形成一化錄金層,作為該 第-金屬>1於-實施例’形成一具有圖案之薄膜於該第二金 屬層之方法’可藉由印刷法形成該具有圖案之薄膜或乾膜,於 另-實施例,可藉由塗佈感光光阻後進行黃光、微影、侧等 的方式形成該具有圖案之薄膜。 例如,圖4表示根據本發明一實施例之導電線路層之 形成方法之流程圖,其巾形成具有圖案之_的方法係使用乾 膜’形成圖型的方式’於圖4的右側表示發光裝置的剖面示意 圖’需注意圖4的剖面示意圖僅用於明確表示各層的形成,其 大小、厚度比例並沒有依照實體的尺寸比例。圖4中,3〇ι表 不基座’302表示種子金屬層(即第一金屬層),3〇3表示銅層 (即第二金屬層)’ 304表示薄膜,305表示化鎳金(Ni/Au) 層。步驟S310 :先濺鍍一第一金屬層,作為種子金屬層,該 種子金屬層可為鈦或鈦鎢材料所成。然後,步驟S32(^電鍍 一銅層,形成一第二金屬層。步驟S330 :形成一具有圖案之 薄膜於該第二金屬層。步驟S340 :藉由#刻而將該第一金屬 層及該第二金屬層圖型化。步驟S350 :除去殘留的薄膜。最 後’步驟S360 :進行表面處理,藉由化學鍍法(electr〇less plating) ’形成化鎳金層(Ni/Au)。 前述表面貼裝(Surfacemount)法,係指利用習知的表面 貼裝技術(SMT; Surface mount technology )’ 可以將 LED 模組 固定於該導電線路層上。例如,先將金屬線路形成於基座上, 可藉由網版印刷法塗佈銀膏於該基座的第一表面後,進行燒 結,然後以鋼板(stainless steel stencil)塗佈錫膏,再經過回 流焊接(reflow soldering) ’除去助焊劑,使錫與LED模組的 基板結合(bonding)。藉此’無需使用螺絲等的結合構件,即 可結合基座與LED模組。此外,前述製作過程可以藉由設置 定位點或者利用治具,可以容易地自動化。 於一實施例,該發光裝置之該基板與該導電線路層的接面 材料之熱料轉5G W/mK以上。上稱躲路層可為銀膏 所構成且具有-g己線圖案。於—實施例,該發光二極體模組的 基板與該導電線路層之間,可包含焊錫。 根據本發明另一實施例,揭露一種形成發光裝置之方法, 包括.提供-基座’其包含n面,且具有立體形狀;形 成複數金>1層於該第-表面上,則彡成—導躲路層;提供一 發光二極贿組,其中該發光二極體模組包含—基板及設置於 基板上之發光二極體晶粒;以及使該發光二極體模組的基板藉 由表面貼裝(Surface _nt)法設置於該導f線路層上以形 成該發光裝置。於-實施例,該基座係由選自下組之 質所構成:表面氧化處理之链、表面具有氧化層之銘、氧化銘 及氮化鋁。該基座較理想為由氧化鋁所構成。 由於發光裝置的基座通常具有立體形狀,因為一般的黃光 微影法僅是在平板狀物體上進行曝_影,然而本發明的基座 1362774 無法使用旋轉塗佈機,進行光阻的塗佈及顯影,此外曝光機通 吊亦不適用於如此具有立體形狀之基座,所以本發明利用印刷 薄膜的方法,將圖案形成於基座表面,再藉由將基座浸潰於钱 刻液的方式,而使導電線路圖型形成於基座的上表面。 於一實施例t,該形成導電線路層於該第一表面上之步 驟’例如圖4所示的方法。 於一實施例中,上述發光裝置之基座為陶瓷材料所構成
® 该基板與該導電線路層的接面材料之熱傳導率為50 W/mK 以上。 於一實施例中’該陶瓷基座與該發光二極體模組的基板之 間,承受4000V以上電墨時不會使該發光裝置失效。 圖3表示根據本發明一實施例之圖2所示的發光裝置之俯 視示意圖,其中500表示LED模組之MCPCB基板,501表示 LED晶粒’ 520表示基座,521表示基座上的貫通孔。 • 根據本發明之發光裝置’基座可為陶瓷材料所構成或表面 氧化處理之铭金屬、表面具有氧化層之紹金屬材料所構成,其 形狀例如圖5 (b)所示,圖5 (a)表示形成於該基座上面之 導電線路層,基座底部可具有螺旋式接頭,例如E26或E27 等的標準連接頭(screw-cap fittings),因此在基座尾端的表面 具有導電用連接器,與LED模組電連接,以便連接至燈座, 例如家用的燈座上。 綜上所述,根據本發明的發光裝置及其形成方法之設計, 12 1362774 藉由減少各元件間的熱組’且在生產上可以自動化而降低成 本,提高LE:D模組與燈座間的導熱率,進而提高整體發光裝 置的散熱性,降低操作時LED結點溫度,因而可提高LED壽 .命及發光亮度。此外,藉由使用陶莞基座,具有财高電壓特性, 承受4_V以上電壓時不會使發光裝置纽。此外,藉由薄 膜製程’可更進—步提高密合性’可朗更好喊少it件間熱 阻或介面熱阻,因而可更進—步提高發光裝置的散熱效率。 以上雖以特定實施例說明本發明,但並不因此限定本發明 之範圍’只料麟本發明之要旨,熟悉本技«•糖解在不脫 離本發明的意圖及翻下可進行各觀職變更。另外本發明 的任-實_或申請專利義不須達成本發明所揭露之全部 目的或優贼獅。此外’摘要部分和標舰是絲輔助專利 文件搜尋之用,並非用來限制本發明之權利範圍。 【圖式簡單說明】 圖1表示習知的發光裝置之示意圖。 圖2表示根據本發明一實施例之發光裝置之示意圖。 圖3表示根據本發明一實施例之圖2所示的發光裝置之俯視示 意圖。 、 圖4表示根據本發明一實施例之導電線路層3〇〇之形成方法之 流程圖,其中圖4的右側表示發光裝置的剖面示意圖。 圖5 (a)表示根據本發明一實施例之導電線路層之示音圖, 以及圖5 (b)表示根據本發明一實施例之發光裝置之示咅圖 13 1362774 【主要元件符號說明】 10 :發光裝置 20 : LED模組 30 :基座 40 :導熱片 100 :發光裝置 200 :基座 200a :第一表面 300 :導電線路層 400 :發光二極體模組 410 :基板 450 :發光二極體 500 :基板 501 · LED 晶粒 520 :基座 521 :貫通孔

Claims (1)

  1. 七、申請專利範圍: 1· 一種形成發光裝置之方法,包括: 提供-基座’其包含-第—表面,且具有立體形狀; 形成複數金屬層於該第-表面上,以形成一導電線路層; 提供一發光二極體模組,其中該發光二極體模組包含一基 板及設置於基板上之發光二極體晶粒;以及 使该發光二極體模組的基板藉由表面貼裝(Surface mount) 法設置於該導電線路層上,以形成該發光裝置; 其中該形成導電線路層之步驟,包含: 形成一第一金屬層; 形成一第二金屬層; 形成一具有圖案之薄膜於該第二金屬層上; 同時‘刻該第一金屬層及該第二金屬層,以圖型化該第一 金屬層及該第二金屬層; 除去殘留的該薄膜;以及 僅在該第二金屬層的圖蜇上’形成一第三金屬層。 2.如申請專利範圍第1頊所述之方法’其中該基座係由選 自下列群組之一材質所構成:表面氧化處理之鋁、表面具有氧 化層之鋁、氧化鋁及氮化鋁。 ‘如申睛專利範圍第丨項所述之方 形成該第一各^ 古,其中利用濺鍍法, 弟金屬層,其濺鍍靶材為Ti或Tiw ^ .如申凊專利範圍第1項所述之方 形成該第m 方去,其中利用電鍍法, ^第一金屬層,該第二金屬層為一鋼層。 屬/之Γ請專利範圍第1項所述之方法,其中該形成第三金 金柄方法,係藉由化學鍍法,形成—倾金層,作為該第三 〜6.如中請專利範圍第2項所述之方法,其中該表面.貼裝法 係錯由焊料(S聲Paste),回流料(她w soidering)該基 板與該導電線路層。 7. 如申晴專利範圍帛2項所述之方法,其中該導電線路層 具有一配線圖案。 8. 如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該發光裝置之 邊基板與該導電線路層的接面材料之熱傳導率為5〇 w/mK以 上0 9. 一種發光裝置,包括: 一基座,其包含一第一表面; 1362774 一導電線路層,形成於該第一表面上且由複數金屬層所構 成;以及 一發光二極體模組,其包含一基板及設置於基板上之至少 一發光二極體晶粒,其中該發光二極體模組的基板係以表面貼 裝(Surfacemount)法設置於該導電線路層上; 其中該導電線路層係依序層合種子金屬層、銅層、化鎳金 層所構成,具有一配線圖案。 10. 如申請專利範圍第9項所述之發光裝置,其中該基座 係由選自下列群組之―材質所構成:表面氧化處理之紹、表面 具有氧化層之鋁·、氧化鋁及氮化鋁。 11. 如申請專利麵第9項所述之發光裝置,其中該發光 裝置之該基板與該導紐路層的接面材料之熱傳 W/mK以上。 ’ 12. Μ請翻範_9顿狀發綠置 線路層之製作方法,包含: 一甲》玄導電 濺鍍一第-金屬層,作為種子金顧, 為鈦或鈦鎢材料所成; 種子金屬層 電鍍一铜層,形成—第二金屬層; 形成一具編W⑽,藉一使該第一 17 1362774 金屬層及該第二金屬層同時圖型化後,除去殘留的該薄膜;以 及 進行表面處理,形成化鎳金層(Ni/Au)。 13.如申請專利範圍第9項所述之發光裝置,其中該發光 二極體模組的基板與該導電線路層之間,包含焊錫。 18
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