九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種檢測裝置與機台，尤指適用於檢測基板上之 標示的檢測裝置與機台。 【先前技術】 近年來，近乎光學等級的玻璃基板已被廣泛的應用，如應用於平 面顯示器、生物晶片、微機電及光通訊元件等領域中，為了使玻璃基 板所製成之產品生產更快速及自動化製成’則必須仰賴機械視覺系統 才能達成目標。 一般在製成時’會先在基板上打上十字定位記號或是二維條碼等 標示。在傳送過程中’機械視覺透過插取這些標示以判讀基板的位置 及相關資訊。而在打印過程中偶爾會發異常，造成二維條碼顏色產生 差異或模掏。異常的二維條碼會發生機械視覺讀取異常無法判讀等問 題，造成製造生產過程受阻，甚至生產線停擺等，需額外透過人工處 理才月b解決，而經由人工處理的基板容易造成損傷或破裂等不必要的 疏失。 為解決這問題，可透過安裝背光源來增加對比，使機械視覺判讀 旎較精準。但由於基板為反向流入，如要安裝背光源則需拆除2支至3 支傳送轴才可對應不同尺寸的基板，這將會導致基板傳送跌片，因此， 一般背光源無法直接裝設。 另外亦可以使用蚊傾置，賴·覺無法_的基板透過後 定位裝置處理，雖然可以免去人工處理的步驟，也不會導致傳送跌片； 5 但需大幅更改硬體及軟體，並花費链額改造費用，實不經濟。 因此’如何改良機械視覺判讀良率，使機械視覺不受二維條碼顏 色產生差異或模糊限制’而不需更改原有機台之設計，確為此相關研 發領域所需迫切面臨之課題。 【發明内容】 有鑑於此’本發明提出一種檢測裴置，適用於檢測基板上之標 示，包含：反射元件，係配置於基板下方；發光元件，係配置於基 板上方’且以傾斜角投射光源至反射元件，利用反射元件反射光源 穿透基板之標示處；及取像元件，設置於反射元件之上方，接收穿 透基板之光源而擷取標示。 本發明亦提出一種檢測機台，適用於檢測基板上之標示，包含： 輸送設備，用以輸送基板；反射元件，位於輸送設備上；發光元件， 以傾斜角投射光源至反射元件；及取像元件，設置於反射元件之上 方，接收穿透基板之光源而擷取標示。 本發明經由發光元件以傾斜角投射光源至反射元件，再經由反射 元件反射光源穿透基板所製成之檢測基板上之標示的檢測裝置與機 台，可達到背光源之效果。並利用滾輪及傳動軸的架構特性，將反射 元件所製成之背光板固定在基板與傳動轴之間，避免因要裝設背光源 而拆除傳動轴，造成跌片的困擾。且將發光元件固定於取像元件之側 邊’具傾斜角之光源將跟隨著取像元件移動，如此可以不用改裝後定 位機構，在硬體及軟體上皆不用修改。此外，光源及背光板為分別獨 立安裝，可更有效的安裝在不同機型的機台上，亦不會有電源線路干 1324254 涉之問題，有效降低取像元件讀取異常之狀況，大幅提昇產能。 有關本發明的較佳實施例及其功效，茲配合圖式說明如後。 【實施方式】 請參照第1圖及第2圖為本發明第一實施例，第i圖為立體圖， 第2圖為反射原理示意圖，並請參照第3A圖及第3B圖，第3A圖為 改善前標示顯示狀態圖，第3B圖為改善後標示顯示狀態圖。 本發明之適用於檢測基板上之標示的檢測裝置，在本實施例中包 含：反射元件10、發光元件20、取像元件30。 反射元件10在本實施例中例如是一個靜電板，且其包含有霧面12 及反光面14 ’霧面12用以均化光源’反光面μ用以反射光源。其中， 霧面12位於靜電板之表面，反光面14位於靜電板之另一表面。 發光元件20，以傾斜角投射光源至反射元件丨〇，使反射元件⑴ 反射光源穿透包含標示42之基板40。其巾，標示42可料字定位記 號、一維條碼或二維條碼等，且標示42設置於基板4〇之表面，在本 實施例中，以二維條碼為例，但非以此為限。 取像元件30 ’叹置於反射元件之上方，並垂直於標示42，接 收穿透基板40之光源而揭取標示42，其中，取像元件3〇可為電輕合 器(CCD)，亦可為互補式金屬氧化半導體(CMOS)。 前述所說明之發光元件2〇設置在取像元件3〇之侧邊，用以投射 具傾斜角之絲至反射元件1G，使具傾斜肖之絲賴取像元件％移 動。 本發明之適用於檢測基板上之標示的檢測裝置更包含墊片兄， 7 1324254 貼附於反光面14之表面(於第2圖中係為說明折射光線的變化，故繪製 時放大了墊片50與反射元件10之間隙(gap》，用以反覆折射光源，將 發光元件20所投射具傾斜角之光源帶開，避免光源集中。 發光元件20以傾斜角投射光源至反射元件10，使光源於反光面 14及墊片50之間反覆折射而帶開光源，透過霧面12使光源均化，避 免光源照射後’反光集中而造成影像模糊。當標示42位於反射元件10 之上方時’光源穿透基板40，取像元件30接收穿透基板40之光源而 擷取標示42，以判讀標示42之資訊繼續後續處理。 當未使用本發明之檢測裝置時，取像元件30所擷取之標示42模 糊不清(如第3A圖），造成讀取異常之狀況。當使用本發明之檢測裝置 後，取像元件30所擷取之標示42清晰可見(如第3B圖），有效降低取 像元件30讀取異常之狀況，大幅增加取像元件3〇之辨識力。 請參照第4圖為本發明第二實施例之立體圖。 本發明之適用於檢測基板上之標示的檢測機台，在本實施例中包 含：輸送設備60、反射元件10、發光元件2〇、取像元件3〇。 輸送設備60包含複數傳動桿62及複數滾輪64，用以輸送包含標 不42之基板40。其中，標示42設置於基板4〇之表面，且標示42可 為十字定位記號、一維條碼或二維條碼等，但非以此為限。前述所說 之滾輪64設置於傳動桿62上，並藉由傳動馬達66帶動傳動桿62轉 動。 反射元件10在本實施例中例如是一個靜電板，且其包含有霧面12 8 1324254 及反光面14,霧面12用以均化光源，反光面14用以反射光源。其中， 反射元件10為薄板，霧面12位於反射元件1〇之表面，反光面14位 於反射元件10之另一表面。 發光元件20，以傾斜角投射光源至反射元件10，使反射元件1〇 反射光源穿透基板40 » 取像元件30，設置於反射元件1〇之上方，並垂直於標示42，接 收穿透基板40之光源而擷取標示42，其中，取像元件30可為電耦合 器(CCD) ’亦可為互補式金屬氧化半導體(CM〇s)。 前述所說明之發光元件20設置在取像元件30之側邊，用以投射 具傾斜角之光源至反射元件1()，使具傾斜角之光源跟隨取像元件3〇移 動’並可讓反射元件1〇提供如背光板的作用，以提供背光源的效果。 本發明之適用於檢測基板上之標示的檢測機台，更包含：感測單 元90、支撐架80。 感測單元90，設置於輸送設備60之側邊，用以感測基板40之位 置。在本實施例中，以紅外線感測器為例，但非以此為限。 支樓架80 ’ 一端固定於輸送設備60之側邊，用以支撐反射元件 1〇 ’利用傳動桿62及滾輪64之間具有5mm至10mm寬之架構特性， 使厚度lmm至2mm之反射元件10設置於薄板製成的支樓架80上後， 能固定於傳動桿62及滾輪64之間。此外，於反光面14之表面可貼附 厚度1mm至2mm之塾片50，用以反覆折射光源。在此，傳動桿62 及滾輪64之間的寬度與反射元件1〇和墊片50之厚度僅是舉例，但本 9 發明不限Μ ’亦可依實際絲付触。在本實施射，支樓架80 以鈑金為例，但非以此為限。 當輸运設備60運作時，傳動馬達66帶動傳動桿62轉動，使基板 4〇月|J進’當感測單元9〇感測基板4〇至取像位置時，停止傳動馬達66 轉動，使基板40停止於取像位置，經由發光元件2〇投射具傾斜角之 光源至反射兀件10，使光源於反光面14及墊片5〇之間反覆折射而帶 開光源’透過霧面12使光源均化，避免光源照射後，反光集中而造成 影像模糊。 當光源穿透基板4〇 ’取像元件3〇接收穿透基板4〇之光源而擷取 標示42，並判讀標示42之資訊繼續後續處理。當取像元件3〇擷取標 不42後’傳動馬達66帶動傳動桿62轉動，使已經掘取標示42之基 板40繼續前進離開取像位置，而未擷取標示42之基板4〇能經由上述 動作，停止至取像位置上繼續動作，使基板4〇取像更快速，大幅提昇 產能。 請參照第5圖為本發明第三實施例之立體圖。 本發明之適用於檢測基板上之標示的檢測機台，更包含擋止部 70，用以使基板40停止於取像位置，並可藉由汽紅72等機構帶動擋 止部70升降’其中’汽缸72可為氣壓缸，亦可為油壓虹，但非以此 為限。 當輸送設備60運作時，傳動馬達66帶動傳動桿纪轉動，使基板 40前進，當感測單元90感測基板4〇至取像位置時，汽缸π帶動擋止 部70升起，使基板40更精確的停止在取像位置上，經由發光元件2〇 投射具傾斜角之絲至反射元件1G，使光源於反光面14及塾片5〇之 間反覆折射而帶開絲’透過霧e 12使絲均化，避免光源照射後， 反光集中而造成影像模糊。 當光源穿透基板40 ’取像元件3〇接收穿透基板4〇之光源而擷取 標示42，並判讀標示42之資訊繼續後續處理。當取像元件3〇擷取標 示42後，汽红72帶動擋止部70下降，傳動馬達66帶動傳動桿62轉 動，使已經擷取標示42之基板40繼續前進離開取像位置，而未擷取 標示42之基板40能經由上述動作，停止至取像位置上繼續動作，使 基板40取像更快速，大幅提昇產能。 在本實施例之檢測裝置與機台中，藉由發光元件以傾斜角投射光 源至反射元件，再經由反射元件反射光源穿透基板上之標示，可達到 背光源之效果，並利用滾輪及傳動軸的架構特性，將反射元件所製成 之背光板固定在基板與傳動轴之間，避免因要裝設背光源而拆除傳動 轴，造成跌片的困擾，且將發光元件固定於取像元件之側邊，具傾斜 角之光源將跟隨著取像元件移動，如此可以不用改造後定位機構，在 硬體及軟體上皆不用修改，此外，光源及背光板為分別獨立安裝，可 更有效的安裝在不同機型的機台上，亦不會有電源線路干涉之問題， 有效降低取像元件讀取異常之狀況，大幅提昇產能。 雖然本發明的技術内容已經以較佳實施例揭露如上，然其並非用 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神所作些許 1324254 之更動與潤飾，皆應涵蓋於本發明的範疇内，因此本發明之保護範圍 當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
12 1324254 【圖式簡單說明】 第1圖為本發明第一實施例之立體圖。 第2圖為本發明第一實施例之反射原理示意圖。 第3A圖為改善前標示顯示狀態圖。 第3B圖為改善後標示顯示狀態圖。 第4圖為本發明第二實施例之立體圖。 第5圖為本發明第三實施例之立體圖。 【主要元件符號說明】 10..............反射元件 12..............霧面 14..............反光面 20..............發光元件 30..............取像元件 40..............基板 42..............標示 50..............墊片 60..............輸送設備 62..............傳動桿 64..............滾輪 66..............傳動馬達 70..............擋止部 72..............汽缸 13 1324254 so..............支撐架 90..............感測單元