TWI314763B - Carrier head with flexible membrane - Google Patents

Description

1314763 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 頭 本發明係關於一種包含彈性薄膜之 ，以及相關方法。 化學機械 研磨承载 【先前技術】 典型的積體電路藉由導電層、半導電層或 序沉積而成形於基材，尤其疋砂晶圓之上，备 之後，接著進行蝕刻而產生電性特徵，由於_ 絕緣層的依 每—層沉積

連串的層疊 依序經過沉積和蝕刻，該基材的曝光面遂洳细^ %哬便件不平坦， 此一不平坦表面將於該積體電路製程的央與少μ 疋微影步驟中產生 問題，因此有需要定期將該基材平坦化。

一種眾所接受的平坦化方法是化學機械研磨（cmp)， 此平坦化方法通常要求將該基材安裝在承載器或者研磨頭 上，而該基材的曝光面則面對一活動研磨表面，譬如旋轉 研磨塾片。S亥研磨塾片可以是具備耐久粗链表面的，，標準” 研磨墊片或是於一容納媒介中内含研磨顆粒的，，固定磨料，， 研磨墊片。該承載頭對該基材施加一種可控制的負載而將 其推向該研磨塾片。研磨聚（polishing slurry)則供應至該 研磨墊片的表面，該研磨漿包含至少一種化學活性成分’ 且當使用標準研磨墊片時含有研磨顆粒。 有些承載頭包含一種彈性薄膜，該彈性薄膜具備一接 收基材的安裝表面’該彈性薄膜後面的腔室受壓導致該薄 膜向外擴張，因而施加負載於該基材。許多承載頭亦包含 5 1314763 一圍繞該基材的護圈（retaining ring)，譬如用以固定該承 載頭内的基材於該彈性薄膜下方。 【發明内容】 於一態樣中’本發明係針對一種用於化學機械研磨之 承載頭’該承載頭包含一基部以及一彈性薄膜，該彈性薄 膜延伸於該基部下方以界定一腔室，並提供一基材接受表 面。

大致而言，於一態樣中，本發明的特徵是一種用於基 材化學機械研磨之承载頭，該承載頭包含一基部、一圍繞 基材接受表面上之基材的護圈’以及—彈性薄冑，該彈性 薄膜延伸於該基部下方以界定一腔室，並提供該基材接受 表面。該彈性薄膜係建構成使施加於基材的壓力輪廊，大 致上不受護圈磨耗的影響。 ，足 例可包含下列一或數個特徵，該彈性ί 可。含’、有基材接受部的中心部，以及一具有第一两 ㈣tendWf _ ’該第一端點與該基部結合，以使^ 負載面積隨著該贊曲部的第一端點和該中心部間距離白 減而減小。

大致上於另一能接丄 L I樣中，本發明的特徵是—種用於基材 化學機械研磨之承栽_s _ , 戰頭’該承載頭包含一基部以及一彈性 薄膜。該彈性薄膜 、伸於該基部下方以界定一腔室，並提 供該基材接受表面^ 该彈性薄膜亦包含—具備基材接受部

的中心部，以及一 I 丹有第一鳊點的彎曲部，該第一端點則 6 1314763 連接該基部。 本發明的特定實施例可包含下列一或數個特徵，該彎 曲部可直接或間接連接該基部。該彈性薄膜可建構成一有 效負載面積係隨著該彎曲部的第一端點和該甲心部間距離 的縮減而減小。該彈性薄膜可包含一在該中心部邊緣處的 周邊部（perimeter portion)。該周邊部比該中心部較不受制 於變形。該周邊部可連接一内部薄膜夾持件及/或支撐元 件。 & 該彈性薄臈可進一步包含一延伸（extensi〇n)部，該延 伸部連接該周邊部和該彎曲部的第二端點。該彎曲部的第 一端點可以成輻射狀在該彎曲部的第二端點内側，同時該 延伸部可被向内拉引》 該承載頭可包含一圍繞該基材接受表面上之基材的護 圈。該延伸部可以移動而使施加於基材的壓力輪廓大致上 不受護圈磨耗的影響。該延伸部可樞轉而使施加於該周邊 部的有效負載面積減小’且使至少一部分在該薄膜之邊緣 處由護圈磨耗所引起的增加負載得以抵銷（0ffset)。 該承載頭可包含兩彎曲部，其中每一個都有一第一端 點連接該基部。該彈性薄膜可包含一連接内部薄膜炎持件 的周邊部，該内部薄棋炎持件緊鄰該兩彎曲部中的較低 者，並且建構成容許該兩彎曲部中的較低者可以自由移 動，該兩弯曲部可定義該承载頭内的兩壓力艙（chamber 〇f pressure) 0 大致上於另一態樣中，本發明的特徵是一種與基材化 7 1314763 承載頭一同使用的彈 材接受部的中心部， 一端點則連接該承載 心部施加於基材的壓 位置相對於該彎曲部 性 薄 膜 〇 該 彈 性 薄 以 及 一 具 備 第 端 頭 之 基 部 〇 該 彎 曲 力 輪 廓 > 大 致 上 不 之 第 — 端 點 相 對 垂 學機械研磨裝置之 膜可包含一具備基 點的彎曲部，該第 部係設置成使該中 受該中心部之垂直 直運動的影響。 本發明的特定實施例可包含下列一或數個特 性薄膜亦可包含一周邊部，該周邊部將該弯曲部 ft.乾

點連接該中心部。該周邊部比該中心部較不受制於變形。 該周邊部可連接一内部薄膜夾持件。 該彈性薄膜亦可包含-延伸部，該延伸部將該周邊1 連接該彎曲部之第二端點。該延伸部受到該弯曲部拉引時 可以樞轉。該資曲部可包含兩個變曲部。該彈性薄膜亦可 包含-周邊部’該周邊部連接—内部薄膜夹料，且使每 一變曲部的第二端點連接至該中心部。該内部薄膜失持件 緊鄰該兩f曲部中的較低者，並且容許該兩_曲部中的較 低者可以自由移動。

大致上於另一態樣中，本發明的特徵是一種研磨基材 的方法。該方法包含安裝基材於—化學機械研磨裝置的承 載頭上，使得該基材的一第一面鄰接該承載頭，該承載頭 包含一基.部、一護圈和一彈性薄琪，該彈性薄膜包含一中 心部以提供該基材一安装面，並且使用一研磨墊片研磨該 基材，其中該研磨墊片與該基材的一第二面接觸，而該基 材的第二面則與該基材的第一面相對。在研磨期間，該彈 8 1314763 性薄膜係移動以使施加於基材的壓力輪廓大致上不受護圈 磨耗的影響。

大致上於另一態樣中，本發明的特徵是一種操作彈性 薄膜之彎曲部的方法，該彎曲部連接於一承載頭和該彈性 薄膜的一周邊部之間。該方法包含維持一彎曲部的位置， 使其大致上平行於安裝在彈性薄膜之中心部的基材，同時 承載頭的護圈保持原來的大小，該彎曲部的第一端點連接 該承載頭；並且當研磨進行時，一延伸部朝向該護圈樞轉， 該延伸部將該彎曲部的第二端點連接至該彈性薄膜的周邊 部；以及當該護圈磨損時，將該延伸部朝向該彎曲部樞轉。

本發明可實施下列一或數個優點。一彈性薄膜係建構 成使化學機械研磨裝置的承載頭較不受護圈磨損影響。一 彈性薄膜可包含一彎曲部，該彎曲部則透過一延伸部連接 一周邊部。當該護圈磨損時，該延伸部受到該彎曲部拉引 而樞轉，導致該周邊部上有效負載面積隨著該延伸部受拉 引而減小。該彈性薄膜係建構成使有效負載面積隨著該彎 曲部的第一端點和該彈性薄膜之中心部間距離的縮減而減 小 〇 【實施方式】 如上所述，有些承載頭包含一彈性薄膜和一護圈，該 彈性薄膜具備一接收基材的安裝表面而該護圈則用以固定 該承載頭内的基材於該彈性薄膜下方，該彈性薄膜後面的 一腔室受壓導致該薄膜向外擴張，因而施加負載於該基材。 9 1314763

遺憾的是有些薄膜的設計中’該薄膜所施加的壓力分 布會隨著該護圈的磨損而改變。尤其是當該護圈受磨損 時’該薄膜和該承載頭其餘部分的接觸點（attachment point) 會移動而靠近該研磨墊片’降低的接觸點會向下壓迫該薄 膜的外緣部分’因此在該薄膜的邊緣產生額外的負載。結 果隨著該護圈的磨損，該基材週邊的研磨速率增加。倘若 該研磨速率隨著該護圈的磨損而改變，不同晶圓之間研磨 輪廓（polishing profile)將不會一致。因此，具備一不受護 圈磨耗影響之承載頭將非常有用。 參考第1圏中’ 一或數個基材10將用一包含承載頭 1 00的化學機械研磨（CMP)裝置來研磨》一適當CMP裝置 的描述可參照美國專利編號5,738,5 74之圖式和說明，其 全文以引用方式併入參考。 該承載頭100包含一基部組合（base assembly)l〇4、一 護圈110和一彈性薄膜108。該彈性薄膜1〇8連接該基部 104 JL伸展於其下而形成一可加壓室（pressurizable chamber) 106°

雖然圖式中沒有顯示，該承載頭仍可包含其他元件， 譬如可供該基部104活動式懸吊的外殼（housing)，可供該 基部104樞轉的羅盤水平機構（gimbal mechanism)(可考慮 作為該基部組件之部分），該基部1 04和該外殼之間的裝載 室（loading chamber)，該可加壓室内一或數個支揮結 構’或接觸該彈性薄膜108内面一或數個内部薄臈，用以 施於該基材補充壓力。譬如該承載頭100可如美國專利編 10 1314763 號6,183,354，或美國專利申請號09/470,820(西元1999年 12月23曰申請），或美國專利申請號09/7 12,389(西元2000 年11月13日申請）描述中所建構者，其全文以引用方式併 入本文。 參考第2A和2B圖中，該彈性薄膜1〇8由彈性材料所 製成，譬如新平橡膠（neoprene)、氣丁二烯（chloroprene)、 乙蝉丙稀橡膠（ethylene propylene rubber)或梦嗣 (silicone)，譬如該彈性薄膜1〇8可以由壓模（compression molded)砍嗣或是液體注模（liquid injection molded)梦明 製成。相較於壓模製程，該液體注模製程產生較軟的材料， 如後所述，將可增加該彈性薄膜108彎曲部128的樞轉能 力。 該彈性薄膜108應為疏水性的，财久而且對於該研磨 製程是化性安定的。該彈性薄膜108可包含一具備基材安 裝表面122的中心部120’ 一從研磨表面伸展開的周邊部 124，一彈性延伸部126以及一向内伸展的彎曲部128，其 中該彎曲部128具有一夾持該基部1〇4的内緣。 該彈性薄膜1 0 8的中心部1 2 〇可以如美國專利編號 6，210,255 所論者’包含一彈性唇部（nexible lip p〇rti〇n)， 其全部揭不以引用方式併入本文。 該周邊部1 2 4相對於該彈性薄膜1 〇 8的其他部分，比 較不受變形影響。譬如第2A和2B圖所示，該周邊部124 可以較該中心部120或彎曲部128為厚。或者是該周邊部 124可以用較該彈性薄膜丨〇8的其他部分更剛硬材料製 1314763 一 --------———J—«Μ—】 伊气月Μ日修正雛j 成，或是該周邊部1 24可以包含一種強化材料，或是可圍 著一支撐件或間隔結構（見第3 A圖）伸展以避免變形。 該延伸部126具有一基部130連接至該周邊部124， 並且具有一端點1 3 2連接至該彎曲部1 2 8。同時該延伸部 1 2 6可件構成使得該端點1 3 2可回應來自該彎曲部1 2 8的 拉引而向内樞轉。

如第2A和2B圖所示，當該護圈1 1 0受磨損時，該彎 曲部128和該基部104的接觸點（attachment point)會移動 而靠近該研磨墊片134。當該彎曲部128的受夾持端向下 移動時，該彎曲部1 2 8會將該延伸部1 2 6向内拉引。此可 減低有效負載面積1 4 0，例如涵蓋該周邊部1 2 4的負載面 積部分，同時藉此等比例降低該薄膜的邊緣所承受的負載。

此一負載的降低可以補償護圈磨損後所增加的負載。 因此該承載頭之應用可提供不同晶圓之間更均勻的研磨壓 力輪廓。因此該研磨製程，尤其是研磨速率輪廓也更穩定 而且更具重複性。此外由於該製程對於護圈磨損較不敏 感，或是說實質上不受護圈磨損影響，該護圈將可承受更 大的耗損，也因此可以使用更長時間才需替換或修補。當 然當護圈磨損到某一相當大程度時，該壓力輪廓會再次對 於護圈磨損變得敏感。 如第3 A - 3 C圖所示，在另一實施例中，彎曲部1 2 8和 3 2 8均連接該基部1 04。使用兩個彎曲部將產生兩個壓力艙 344、346。此一配置可用於美國專利申請號09/712,389(西 元2000年11月13日申請）所述之承載頭，其全部揭示以 12 引用方式併入本文。如第3 A圖所示，該彎曲部1 2 8和3 2 8 起初的配置是大致平行於該彈性薄膜的中心部 1 2 0。一環 形的内部薄膜夾持件3 4 0和一環形的支撐元件3 42共同強 化該彈性薄膜的周邊部1 2 4。 該内部薄膜夾持件3 4 0和該支撐元件3 4 2係由鋼硬材 料，如硬金屬或硬塑材所製成。譬如該内部薄膜夾持件3 4 0 可用不銹鋼製成。

如第3B圖所示，當第一與第二壓力艙344、346内壓 力增加時，延伸部1 2 6開始向外樞轉。隨著該延伸部1 2 6 逐漸向外樞轉，該有效壓力面積（例如可對該周邊部 124 施加壓力之該第一壓力鎗 344内的水平面積）也隨之增 加。此一有效壓力面積的增加導致該基材邊緣於該第一壓 力艙3 44底下所承受負載的增加。該延伸部1 2 6的向外框 轉同時將該兩彎曲部128和328向外拉引。

如第3 C圖所示，當護圈1 1 0向下磨損時，該彈性薄 膜1 08則相對於該基部1 04向上移動。該第一壓力艙344 上方的彎曲部128則將該延伸部126向内拉引，因此有助 於減低該有效壓力面積以及該邊緣負載。然而當該第一壓 力艙3 44下方的彎曲部3 2 8下降至接觸該内部薄膜夾持件 3 4 0時，則會增加該邊緣負載。該兩彎曲部1 2 8和3 2 8向 外拉引所引起的兩效應彼此制衡。審慎選擇薄膜材料或是 該内部薄膜夾持件的尖角（t a p e r a n g 1 e)，這些效應將可以在 護圈1 1 0磨損時，彼此平衡而減低或使邊緣負載變化最小 化。 13 1314763

然而該兩效應平衡的結果可能不會一致，而使最終的 邊緣負載產生許多變動。若只專注於該第一壓力艙344上 方彎曲部1 2 8的移動效應則有助於改善一致性。如第4圖 所示，該第一壓力艙3 44下方彎曲部328的移動所引起的 邊緣負載效應，可藉由減低彎曲部3 2 8和該内部薄膜夾持 件440的接觸面而減小。因此為了消除或大幅減小該第一 壓力艙344下方彎曲部328和該内部薄膜夾持件440上表 面間的接觸，必須削減該内部薄膜夾持件440。彎曲部328 和該内部薄膜夾持件440上表面間接觸的消除或減小，即 可降低護圈磨損的敏感度，因為當護圈110磨損時，彎曲 部328仍能上下自由運動，如此便不會影響該基材邊緣負 載。

雖然前述已直接針對本發明之數個實施例進行說明 之，但其它修改或進一步之實施例也可依照本發明之精神 而設計之，而這些都不脫離本發明所定義之範圍。譬如該 薄膜可固定於該承載頭上不同的位置，如夾持在該護圈和 該基部之間或是固定在該護圈本身。該彎曲部可向外而非 向内延伸。該薄膜可固定在一支撐結構，而該支撐結構可 浮動或靜止於該腔室内。與其是單件薄膜，該薄膜可分開 成數個薄膜。譬如該薄膜的彎曲部可固定在一支撐結構， 而該支撐結構再固定於該薄膜的周邊部。此外，應該了解 的是即使該薄膜的特殊形狀的確減低對護圈磨損的敏感 度，該薄膜的設計仍然非常有用。譬如該承載頭的護圈可 能沒有接觸該研磨墊片或是該承載頭根本沒有護圈。因此 14 1314763 其他實施例仍涵蓋於下述申請專利範圍定義之範圍。 【圖式簡單說明】 本發明上述一或數個實施例之細節，以及其他的特 徵、優點及目的可在參閱下列圖式之後有更詳盡之了解。 第1圖為一包含彈性薄膜的承載頭剖面圖； 第2A圖為第1圖之承載頭局部展開圖； 第2B圖為該護圈磨損後之彈性薄膜示意圖；

第 3 A- 3 C圖為具備兩個彎曲部之彈性薄膜運轉示意 圖； 第 4圖為具備兩個彎曲部之彈性薄膜以及修剪夾持 (cut back clamp)示意圖； 不同圖式中相同的參照符號表示相同的元件。 【元件代表符號簡單說明】

10 基材 100 承載頭 104 基部 106 可加壓室 108 彈性薄膜 110 護圈 120 中心部 122 基材安裝表面 124 周邊部 15

1314763 ^ >A 126 延 伸 部 128 彎 曲 部 130 基 部 132 端 點 328 彎 曲 部 340 内 部 薄 膜 夾 持 件 342 支 撐 元 件 344 第 — 壓 力 艙 346 第 二 壓 力 艙 440 内 部 薄 膜 爽 持 件 134 研 磨 墊 片 140 有 效 負 載 面 積

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Claims (1)

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月/6日修正冬 十、申請專利範圍： 1. 一種用於一基材之化學機械研磨的承載頭，該承載頭至 少包含： —基部； 一護圈，圍繞在一基材接收表面上的一基材；及 一彈性薄膜，延伸於該基部下方以界定一腔室，並 提供該基材接受表面，其中該彈性薄膜包含： 一中心部，具有一基材接受部；

一彎曲部，具有一耦合至該基部的第一端點； 以及 一延伸部，連接該中心部與該彎曲部，其中該 彈性薄膜係建構成當該彎曲部的第一端點向下拉時，該 彎曲部向内拉引該延伸部，以使一有效負載面積隨著該 彎曲部的第一端點和該中心部間的距離縮減而減小。

2.如申請專利範圍第1項所述之承載頭，其中該彈性薄膜 包含一周邊部於該中心部的一邊緣處。 3.如申請專利範圍第2項所述之承載頭，其中該彈性薄膜 包含一延伸部，該延伸部連結該周邊部和該彎曲部的一第 二端點。 4. 一種用於一基材之化學機械研磨的承載頭，該承載頭至 少包含： 17 1314763 一基部；及 一彈性薄膜，延伸於該基部下方以界定一腔室，並 提供一基材接受表面，該彈性薄膜包含： 一中心部，提供該基材接受表面的至少一部 份； 一周邊部，在該中心部的一邊緣處； 一彎曲部，具備一第一端點以及一第二端點， 其中該第一端點係連結該基部；以及

一延伸部，連接該周邊部與該彎曲部的第二端 點； 其中該彎曲部的第一端點係成輻射狀地位在該彎 曲部的第二端點内侧，且該彎曲部與該基部間的所有接 觸係成輻射狀地位在該彎曲部的第二端點内侧。 5. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該彎曲部直 接連結該基部。

6. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該彎曲部間 接連結該基部。 7.如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該彈性薄膜 係建構成當該彎曲部的第一端點向下拉時，該彎曲部向 内拉引該延伸部，以使一有效負載面積隨著該彎曲部的 第一端點和該中心部間的距離縮減而減小。 18 1314763 8. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該周邊部比 該中心部較不受制於變形。 9. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該周邊部連 結一内部薄膜夾持件。 10. 如申請專利範圍第9項所述之承載頭，其中該周邊部 連結一支撐元件。 β 11. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該延伸部 受到該彎曲部拉引時會枢轉。 12.如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該延伸部樞 轉以致施加在該周邊部上的有效負載面積隨著該延伸 部受拉引而減小。

13.如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該彎曲部 的第一端點係成輻射狀地在該彎曲部的第二端點内 侧，且該延伸部係被向内拉引。 14.如申請專利範圍第4項所述之承載頭，更包含一護 圈，圍繞該基材接收表面上的一基材。 19 1314763 1 5 .如申請專利範圍第1 4項所述之承載頭，其中該 移動以致一施加於該基材的壓力輪廓大致上不 磨耗的影響。 1 6.如申請專利範圍第1 4項所述之承載頭，其中該 柩轉以致一施加於該周邊部上的有效負載面積 且使至少一部分在該薄膜之邊緣處由護圈磨耗 增加負載得以抵銷。 17.如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該 膜包含兩彎曲部，每一彎曲部具有一連結該基部 端點。 延伸部 受護圈 延伸部 減小， 引起的 彈性薄 的第一

18. 如申請專利範圍第17項所述之承載頭，其中該 膜包含一周邊部，該周邊部連接一内部薄膜夾 該内部薄膜夾持件緊鄰該兩彎曲部中的較低者 構成容許該兩彎曲部中的較低者可以自由移動 19. 如申請專利範圍第4項所述之承載頭，其中該f 在該承載頭内定義兩壓力艙。 20. —種與一基材化學機械研磨裝置之承載頭配合 彈性薄膜，該彈性薄膜至少包含： 一中心部，包含一基材接受面； 彈性薄 持件， ，且建 彎曲部 使用的

20 1314763 一彎曲部，具有一第一端點，該第一端點連接至該 承載頭之一基部； 一延伸部，連接該中心部與該彎曲部；

其中該彈性薄膜係建構成當該彎曲部的第一端點 向下拉時，該彎曲部向内拉引該延伸部，以使一有效負 載面積隨著該彎曲部的第一端點和該中心部間的距離 縮減而減小，且以致該中心部施加於一基材的一壓力輪 廓，大致上不受該中心部之垂直位置相對於該彎曲部之 第一端點垂直運動的影響。 21.如申請專利範圍第20項所述之彈性薄膜，更包含： 一周邊部，該周邊部將該彎曲部的一第二端點連結 至該中心部。 22.如申請專利範圍第2 1項所述之彈隹薄膜，其中該周邊 部比該中心部較不受制於變形。

23 .如申請專利範圍第2 1項所述之彈性薄膜，其中該周邊 部連結一内部薄膜夾持件。 24.如申請專利範圍第2 1項所述之彈性薄膜，更包含： 一延伸部，該延伸部將該周邊部連接至該彎曲部的 第二端點。 21 ^14763 溥膜 25二請專利範圍第24項所述 部受到該彎•部拉引時會枢轉。 26·如申請專利範 薄聪、Α 乐20項所述之彈性薄膜，其中該彈性 薄膜包含兩彎曲部。 27★申請專利範圍 邊卹 弟26項所述之彈性薄膜，更包含一周 °!5，該周邊邹速 Λ ^ 逐接一内部薄膜夾持件，並且將每一彎 曲部的一第二 Μ址 點連結至該中心部’其中該内部薄膜夾 待件緊鄰該兩彎曲_ 耳曲部中的較低者，並建構成容許該兩彎 曲部中的較低者可以自由移動。 該方法至少包含： 28· 一種研磨基材的方法 安裝一基材於一化學機械研磨裝置的一承載頭 上使知該基材的一第一面鄰接該承載頭，該承載頭包 含基部、一護圈和一彈性薄膜，該彈性薄膜包含一中 u部’一彎曲部，以及一延伸部，該中心部提供該基材 安裝表面’該彎曲部具有一耦合至該基部的端點，該 延伸部介於該中心部與該彎曲部之間；以及 使用一研磨墊片研磨該基材，其中該研磨墊片與該 基材的一第二面接觸，該基材的第二面與該基材的第 一面相對，其中，在研磨期間，該彈性薄膜係移動以 使當該彎曲部的第一端點向下拉時，該變曲部向内拉引 該延伸部’以使一有效負載面積隨著該彎曲部的第一端 22 1314763 點和該中心部間的距離縮減而減小，且以致在研磨期 間，施加於該基材上的一壓力輪廓大致上不受護圈磨耗 的影響。 2 9. —種操作一彈性薄膜之一彎曲部的方法，該彎曲部連 接於一承載頭和該彈性薄膜的一周邊部之間，該方法 包含： 維持一彎曲部的位置，使其大致上平行於一安裝在 該彈性薄膜之中心部上的基材，同時該承載頭的一護 圈保持原來的大小，該彎曲部的第一端點連接該承載 頭； 當研磨進行時，將一延伸部朝向該護圈樞轉，該延 伸部將該彎曲部的一第二端點連接至該彈性薄膜的該 周邊部；及 當該護圈磨損時，將該延伸部朝向該彎曲部樞轉。 23