TWI309581B - Self-mixing tank - Google Patents

Description

1309581 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於漿料處理之一般領域，且更特別關於對槽 中流體提供非機械授拌。 【先前技術】 一些工業液體因流變或處理原因需要經常攪拌。此流體 在性質上一般為膨脹性或觸變性。 此外，為保持固體不沈降，由懸浮於液態媒介物中的小 固體顆粒組成之漿料需要-定水平攪拌。在工業方法中經 常將漿料在具有機械攪拌器(如’螺旋樂)之槽中儲存及: 合。循環泵然後錢料自槽通過分配管道回路移m 用回=褒料輸送到以返回到儲存或日用槽的未使用聚料利 本發明消除對很多工業方法中槽中機械搜拌琴之需要 4除機械攪拌器減少資本設備、操作 ' 攪拌器故障及污毕产$ $ ^ >成本以及機械 |早^木机體之可能性。此外，_ 敏感性，並可能由機械授拌破壞。 體為剪切 機械設備旋轉（如，機械攪拌器 降磨損副產物的相當。/為產生連續大量下 藥和半導體工筆中產生'、亏，大$下降的顆粒特別在醫 呆r座生巧染跡象。 其他利用起泡通過襞料槽的高 拌器之途徑。氣泡授拌有其缺陷，勺^作為消除機械攪 處理所消耗的氣體、漿料 ：括円純度氣體耗費、 塞以及在保持所有但緩慢沈降固二氣：嗔霧器/隔膜阻 u媸心子_能量降效及無 90959.doc 1309581 效 口此，仍需要在槽入 a 較低剪切裝置。 中此D業机肢的可靠、潔淨及相對 【發明内容】 本發明提供Μ # & 合。夢“：形狀槽在無需機械㈣器下引起昆 错由適當控制槽的入口及 保證充分攪拌，、w °聋，和緩混合流展示 ^ 以保持流體運動及漿料懸浮。 本發明由具有入, 誘導提供和緩、有/出底部槽組成’這些—起 、有放混合槽内容物之決定性循環模型。 在一較佳具體實施例中，太旅日日务 圓形底部區域、…： 為—種包括上部區域、 及出口之槽。上部區域包括前壁、相 對的後壁及兩個相 β _ 互相對的側壁，各壁界定具有側-側寬度 及前-後寬度之矩形措哉而你a &〜 才買截面，使别_後見度小於側·側寬度。 包括最低點的圓形底邱 ^ &域具有自取低點延伸到上部區域 至少一個侧壁的 — ， 、 乂 一個脊曲壁。入口位於處在圓形底一 區域最低點的槽之mΑ 个曰（0形底部上《自入口延伸到槽之内側為 包含將流體引向前-後寬度壁的至少兩個孔洞。出口在高於 及接近入口的槽之内側。 ' 【實施方式】 在以下實施方式，參考附圖，此等附圖形成其部分，且 其中圖解顯示其中能夠實施本發明的具體實施例。此等具 體實施例經充分描述，以使熟諳此藝者能夠實施本發明， 且應懂得’可利用纟他具體實施W，並可在丨脫離本發明 之主旨和範圍下做出結構變化。 90959.doc 1309581 圖1 A顯示發明性槽11之部分展開正視圖。槽丨丨具有上部 區域1 3及底部區域1 5 ’這在此圖中拆開顯示。上部區域1 3 永久或可拆結合到底部區域1 5。為便於構造，上部區域i 3 可由亞區域17組成。此外’上部區域1 3具有基本矩形正視 剖面19。"基本矩形”用於表示剖面具有一般總體矩形形 狀，但可略微偏離矩形形狀，只要偏離不顯著阻礙循環單 位形成（如下所述）。此偏離包括（但不限於）矩形邊之圓形角 或錐形。 底部區域15具有圓形正視剖面21，由此界定彎曲側壁 之。圓形剖面21具有單個最低點23並形成自最低點23到過 渡點24(上部和底部區域在此相互結合）延伸的至少一個凹 面彎曲側壁25，可將任何此類圓形剖面2丨用於本發明之 槽。在一較佳具體實施例中，該圓形剖面21經設計，以近 似兩個並列循環單位之幾何形，亦稱為渦旋形。在此具體 實施例中，，應設計圓形剖面21，以使圓形底部寬度％對遠 形底部深度28之比為約2比1(2:1)。人口27在最低㈣結合 到正視剖面21。在一較佳具體實施例中，入口 ”包括在前 或後壁上自隔板跨槽延伸的管或其他類似裝置。 如圖2中所示，在一較佳具體實施例中，入口 ”具有相對 仃孔洞或狹縫50，較佳每側至少一個孔洞或狹縫，在前和 後壁間位於中點的27中的一對開口不如多對開口表現良 好。相對行孔洞或狹縫50加工成指向彎曲側壁25的入口 口 27中的開口產生射流。開 節。對於黏性或剪切敏感性 2 7。在流體通過其泵輸時，入 口參數可以流體性質為基礎調 90959.doc 1309581 "u_ it ϋ應相對較A。對於對剪切不敏感的快速沈降流 體開口之參數應相對較小，以增加射流的流體之速度。 ，出口 29位於咼於入口 27的槽"上。出口 29包括管或其他 類似政置在車又佳具體實施例中，出口 2 9在前或後壁上 自隔板跨槽延伸。“ 29具有至少一個孔洞或狹缝。出口 2 9 -般在面向垂直向上的管或類似裝置上具有單行孔洞或 狹縫52°此等孔洞或狹縫52之數量和大小經設計，以使槽 中的循環模型最大化。 圖1B為顯示矩形側視剖面31之上部區域13之側視圖。 圖1C為顯不矩形橫截面剖面33之上部區域丨3之俯視圖。 、圖1D顯不用於底部區域15之選擇性正視剖面η。底部區 域1 5之選擇性剖面2 i為半圓的一半。入口 27同樣位於最低 點23 ’且出口 29尚於入口 27。入口 27具有至少一個指向圖 1D中所不圓形底部之彎曲部分3 〇之孔或狹缝。在此具體實 例中，一般沒有指向圓形底部立直部分3丨的相對孔洞滅 狹縫。出口 29如上所述構造，且具有朝向槽頂部的至少一 個孔洞或狹縫（如圖2中所示）。 圖1 E顯不具有拋物線型正視剖面21之底部區域15的另一 替代。入口27位於拋物線型正視剖面21之最低點23。同樣， 出口 29直接位於入口 27之上。 在本發明一較佳具體實施例中，入口27位於底部區域15 的最低點23，以用最高速度產生循環單位。當槽高度由圖1 中所不的圓形底部之深度D之因數增加時，將如圖2所示形 成另一行循環單位。因此，當槽高度為2〇時，將有兩組循 90959.doc !3〇9581 環單位34A，34B和35A，35B。當槽高度增加時，各額外組 循環單位比較低行具有更小速度。出口 29直接位於入口 η 之上並接近入口 27。該入口 27和出口 29之定位提供位於由 流體射流形成的循環模型自然返回點之低壓抽吸區域。入 口 27中的各開口 50形成實質平面循環單位。使用多個開口 50由此產生-系列平行的實質平面循環單&。因此，槽在 二維槽中提供：維流動模型。因&，前和後壁間之距離不 關鍵。 參考圖3，在形成多對循環單位（4〇A和4〇B，4丨八和b，‘Μ 和B等)時，各單獨單位應以相反方向旋轉到以流體力學理 論為基礎的任何相鄰循環單位，如圖”所緣箭頭方向顯 示。該相鄰單位相反旋轉方向係由導致流體在各相鄰單位 邊界以相同方向流動的相鄰.單位間之黏性相互作用所致。 但，在本發明的自我混合槽中，已觀察到在槽34A、35A、 36A和34B、:35B及36B相同側上的所有循環單位意外地以^ · 同方向旋轉’由圖2中所繪箭頭方向所示。可以相信，相鄰 單位的意外旋轉模型係由於本發明。首先，圓形底部區域 15之曲率產生由以一般平行於上部區域13側壁之内表面的 路徑指向上面的入口 27形成的相對較強射流。以觀察和試 驗為基礎，-些射流沿側壁持續，由此對那側上的各單位 強加類似流動模型。此外’佈置出㈣應使在槽中心產生 低壓區域’這在槽的中部產生總體向下流。該向下流勝過 自中心到側壁流動的循環單位。 圖4顯示用於再循提盔 衣系、，充1 0 1以儲存和分配流體1 〇3(如， 90959.doc -10- 1309581 漿料）之本發明槽丨丨之示意圖。在此例中，槽丨丨具有具最低 點23之元全半徑圓形底部。入口 27位於最低點23，且為伸 入槽之官。入口 27中的開口（未顯示）提供指向彎曲側壁 之流體射流。開口較佳由至少一對相對的狹縫或孔洞組 成，由此形成流體射流。已發現，入口 27中單組孔洞或狹 縫比多對開π低效。㈣人口 27的流體射流形成循環單位 i〇5，循環單位105向上沿槽丨丨之側部繼續向前，展現所需 的循環單位。循環單位1G5自然返回到接近其起源點之: (I3入口 27)。佈置出口 29應使在槽中心產生低壓區域，這 在槽的中部產生總體向下流。如上解釋，該向下流勝過自 中心到側壁流動的循環單位。出口29對出口管1〇7供料，這 與再循HH)9有流體聯繫。再循環泵⑽為漿料處理系統 所用的標準設備，因為衆料必須通過㈣再循環·分配回路 保持恒定運動。再循環泵1G9通過再循環·分配回路111泵輸 流體103 ’再循環-分配回路1Π最終對入口 27供料，並由/匕 形成射流。 圖5顯示用於系統151以提供混合及儲存混合之利。槽 11具有具最低點23之彎曲底部區域15(在此顯示為完全半 徑半圓）。入口27在最低點23位於槽11側。入口27具有至少 一組至少兩個相對開口，以產生指向彎曲側壁25之流體射 流。流體射流產生循環單位1〇5 ,循環單位1〇5圍繞變曲側 壁25向上流㈣過槽之上部區域13，直到其相到接近入 口 27起源點之點 此產生低壓區域 出口 29接近循環單位J 〇5之自然終點，由 以促進循環單位1 〇5形成。出口 29由出口 90959.doc !3〇9581 g線1 07連接到再循環泵} 〇9。同樣連接到再循環泵⑽入口 側者為補充流體153之源，如絲子水，該源通過f道系统 155與泵1()9有流體聯繫。如果泵為空氣驅動，泵亦可由輸 送管線159連接到空氣源157。再循環泵iQ9將流體1〇3輸送 通過可為漿料分配回路之管道系統16卜隨後可使自管道系 統161的流體分開。-部分流動通過由計量閥165控制速率 的混合回路163。通過控制閥165的流體流在達到第二控制 閥1 6 9之前通過較大直徑的管道系統丨6 7。欲經混合的物料 (如染料注射）自源171引入注射管道系統16h通過控制閥 169的流體重新進入再循環系統161並流到槽丨丨之入口巧。 流體103的主要路徑為通過再循環系統161達到管道系統 163，然後達到槽U之入口 27。自管道系統163的物流亦可 通過閥173流到排放口 175或分配回路177。 本發明之槽可與需要有效混合或需要恒定循環的最工業 流體使用^如上解釋，可以液體性質為基礎調節開口之^ 徑。對於黏性或剪切敏感性液體，直徑應相對較大。對於 對剪切不敏感的快速沈降液體，開口之參數應相對較小， 以增加射流中液體之速度。因此，本發明槽充分適用於漿 料處理系統。本發明之槽能夠處理在數分至數小時範圍$ 有沈降時間之漿料。本發明之槽可能不能夠保持在數秒/内 沈降出的漿料之懸浮，例如，粗沙和水。 雖然本發明之槽適用於大多數應用及工業， ’一彔些if：點 度、敏感性液體可能不適用於與該槽使用。例如， 马形成 循環單位’高黏性流體需要增加由入口產生的哈 J畀哭射流給 9〇959.d〇l 1309581 予之能量。但’此高能量或剪切可能損害流體。 通過槽的周轉率依賴流體或漿料特性。在11〇升槽中每分 5-1 0升之周轉率一般令人滿意。這提供約6至約2〇分間之周 轉時間。當然，可適當將較高或較低周轉時間用於流體。° 以下實例說明槽取得混合及保持顆粒懸浮之能力。典型 槽具有如圖2令所示的寬度2D和高度3d。在試驗期間，'在 槽頂放置聚光燈，以幫助視覺觀察。槽具有完全半徑底部， 如此使半徑或深度為D。應在1D、2〇和3〇形成一組循環單 位。槽的有效體積為100升。對於以下實例，長寬比為液體 高度對圓形底部區域深度（即，D)之比。 實例1-去離子水和染料試驗 在實例1中，去離子（DI)水通過槽循環。為確定一般流動 模型，將綠色染料注入進入槽的DI水流。視覺觀察顯示， 在槽中產生射流’且混合快速取得。射流的_般流動模型 與圖2類似用定量方法決定取得均化所需的時間。記錄余 -綠色射流達到水表面的時間。由此綠色染料的射流向槽 側並向上流動。染料在槽中達到的高度依賴流速。 9 在具有1.4加侖/分（5.3升/分）平均流速的m高度，1次周轉 所需的時間經計算紅98分1料達到液體表面所需的時 間為12秒，且均化為丨分1〇秒。因此’顏色在卜欠周轉前： 化°在作為流速之函數標繪混合時間產 (參考圖 6)。 利用填到3D高度且在3.8加侖/分⑴⑽升/分）最大流速 之槽’染料達到液體表面僅需18秒。表i顯示在實例丄中於 90959.doc 1309581 DI和染料試驗期間收集的數據。 表1 : DI和染料試驗之數據收集表 南度 液體 體積 DI流速 (加余/分） 泵壓力 (碎/平方英寸） 入口壓力 (磅/平方英寸） 染料達到 液體頂部 所需的時間 均化 時間 1D 37.03 1-1.8 12 0-1 12秒 1:10 分 1D 37.03 1-2 15 0-2 8 50秒 1D 37.03 1.25-2.25 20 0-2 9 57秒 1D 37.03 2.4-2.6 26 0-2 6 32秒 1D 37.03 2D 78.52 2D 78.52 2D 78.52 2D 78.52 3D 99.27 3.8 18 3D 99.27 ^ 3D 99.27 3D 99.27 3D 99.27 實例2-鹽水溶液加入DI水 染料試驗結果由鹽水溶液及染料注入DI水流確定。檢測 此等樣品的電導率。將槽填充到為99.27升之第4級，並使内 容物以0.9加侖/分之平均流速再循環。將具有144.6 mS電導率 之鹽水溶液和濃染料加入進入槽之物流。電導率測量經時 間在槽中對在4個點獲得的樣品進行。此四個點為：第1級， 90959.doc -14- 1309581 入口，第2級’ 1D高度；第3級，2D高度；第4級，在扣高 的"丨L體頂部。電導率檢測結果列於表2中，且在圖7中以 圖解形式代表。經發現’在接近2G分内，第卜2和3級均化， 在1小時後第4級開始均化。在第4級取得混合的延遲時間原 因係由於鹽水溶液和DI水間之密度差。鹽水溶液之密度為 i·078克/毫升’而以水之密度為0.999克/毫升。由於此等密 度差’射流在0.9加侖/分之流速沒有達到第4級的足夠能量。 實例2所用的處理條件 流速=0.9加舍/分=3.41升/分 初始鹽水溶液之電導率=144.6 mS 在泵的壓力=17碎/平方英寸 在入口的壓力==2-2.5磅/平方英寸 通過程式化打開丨5 ns和關閉20 ns的AOV加入8注染料。 90959.doc -15 - 1309581 表2 :在0.9 GPM流速的電導率結果 時間 (分鐘） 電導率 (MS) 第1級 時間 (分鐘） 電導率 (MS) 第2級 時間 (分鐘） 電導率 (μS) 第3級 時間 (分鐘） 電導率 〇xS) 第4級 0.05 14.44 0.20 9.47 0.36 9.36 0.50 9.55 1.06 4073.00 1.19 41.33 1.33 22.18 1.46 9.33 2.05 2535.00 2.20 30.82 2.36 23.06 2.52 20.69 3.08 2043.00 3.26 58.88 3.41 24.40 4.00 20.10 4.18 1635.00 4.36 667.00 4.56 20.91 5.18 21.38 5.38 1337.00 5.54 914.50 6.08 39.29 6.23 23.14 6.43 1180.00 7.03 891.50 7.20 22.36 7.39 24.82 8.00 1054.00 8.14 978.70 8.34 29.84 8.52 19.44 9.18 992.80 9.34 921.20 9.52 28.45 10.09 21.62 12.37 867.50 12.53 926.30 13.13 24.10 17.00 21.84 16.07 802.50 16.27 782.30 16.42 22.75 20.37 22.23 19.35 756.00 19.53 742.10 20.14 59.24 24.53 23.29 23.50 714.40 24.10 713.00 24.30 685.30 34.20 25.23 33.12 6&8.50 33.39 682.60 33.59 684.30 45.28 26.12 44.18 670.50 44.40 667.20 45.28 666.90 65.43 44.96 64.10 651.60 64.40 649.70 65.04 651.60 116.46 162.40 115.20 608.30 115.45 606.20 116.20 608.00 以較高流速重複實例2，以便能夠觀察混合達到第4級。 用1.6加侖/分之平均流速使槽内容物再循環。再次將具有濃 染料的鹽水溶液注入進入槽的物流。自槽中第4級獲得樣 品，如實例2中所述求得電導率值。結果列於表3中並於圖8 中顯示。在1.6加命/分之流速操作時，在不到3分鐘内在所 有各級取得混合。 90959.doc -16- 1309581 流速= 1.6加命/分=6.06升/分

初始鹽水溶液之電導率=146.8 mS 在系·的壓力=17碎/平方央寸 在入口的壓力=2.5-4磅/平方英寸 加入8注染料。程式化AOV打開15 ns和關閉20 ns。 表3 :在1.6 GPM流速的電導率結果 時間 (分鐘） 電導率 (MS) 第1級 時間 (分鐘） 電導率 〇uS) 第2級 時間 (分鐘） 電導率 (MS) 第3級 時間 (分鐘） 電導率 (MS) 第4級 0.12 15.88 0.24 120.80 0.43 245.30 0.56 4.38 1.15 136.20 1.29 139.30 1.47 141.90 2.01 104.10 2.19 134.90 2.34 130.90 2.51 134.00 3.08 128.30 3.27 128.40 3.46 127.40 4.03 126.10 4.22 127.60 4.47 125.90 5.03 126.10 5.18 126.10 5.37 126.20 6.00 126.00 6.14 126.00 6.29 126.10 6.55 126.00 7.24 126.90 7.36 125.80 7.52 125.90 8.10 126.00 實例3 :漿料摻合試驗 用快速沈降氧化鈽漿料試驗該槽，並分析樣品的固體百 分比。將自日立（Hitachi)購得的HS-DLS用於此試驗。已知 HS-DLS沈降極快。將九（9)升漿料加入空槽，隨後加入9升 DI水。加水期間，使槽内容物以1.7加余/分之平均流速再循 環。在加入DI水期間取樣。在槽中達到第4級或99.27升經 稀釋的衆料後，關閉DI水閥，且使系統以1.7加命/分流速繼 續循環。3小時後，使再循環流速降低到1.47加侖/分之平均 流速，且在另外3小時後使其流速降低到0.9加侖/分。在試 驗期間，如實例2中所述自槽中第4級獲得樣品。對樣品進 90959.doc -17- 1309581 行固體百分比分析。έ士果石丨丨认包

啊、，'口果列於表4中並於圖9中顯示。自表S ㉙而易見’只要液體平面達到第4級，即可取得混合。 、-氧化鈽顆粒以③流速懸浮，氧㈣顆粒在較低流速 仍然懸浮。一旦在槽中取得類似於圖2的流動模型，則即使 在較低流速’射流仍繼續保持装料充分混合，並保持顆粒 懸浮。 表4:氧化鈽漿料之固體百分比結果 再循環~ 流速 (加余/分） 在泵的壓力 (磅/平方英 寸） 時間 固體 百分比 第1級 時間 固體 百分fcfc 第2級 時間 固體 百分比 楚lia 時間 固體 百分比 1.6-1.8 18 0:03:07 1.64 0:05:24 1.12 0· 14.00 Λ < 1 弟4級 (同時加入DI) \j.j i ΌΑ1 1.6-I.S 20 0:29:40 0.43 0:30:28 0.43 0*31*17 0 42 Π·^?·ΠΛ Λ ΛΊ (加入DI後） 1:01:39 0.41 1:02:50 0.41 1:03:00 0.42 1 04*50 η 47 2:01:16 0.41 2:02:45 0.41 2:03:00 0.42 2:0400 0 42 3:03:13 0.42 3:03:48 0.43 3:04:00 0.44 3:05:02 0 44' 1.35-1.5 20 3:11:50 (加入Di後) 4:03:50 0.46 4:04:25 0.42 4:05:03 0.41 4:05:42 0.41 4:57:21 0.40 4:57:57 0.41 4:58:44 0.42 4:59:25 0.43 0.85-1 20 5:02:00 (加入DI後） 6:02:46 0.42 6:03:22 0.42 6:04:02 0.42 6:05:27 0.42 6:59:24 0.41 7:00:11 0.42 7:00:56 0.42 7:02:04 0.42 7:59:46 0.43 8:00:00 0.41 8:00:50 0.42 8:01:28 0.40 實例4:漿料再懸浮試驗 如果在半導體製造廠停工，日用槽中的漿料經時間沈 降。為類似此類事件，將自實例3的漿料在槽放置沈降24 -18- 90959.doc Ϊ309581 小時以上。用0.9加侖/分之再循環流速使漿料掺合物再懸 浮。 栗一開動即取樣’然後在試驗期間定期取樣。分析樣品 的固體百分比，結果在表5和圖1 〇中提供。 表5 :自氧化鈽漿料再懸浮試驗之固體百分比結果

以上實说顯示，本發明的自我混合槽可在不使用機械混 5器下取彳于混合並保持顆粒懸浮。槽和入口噴嘴之形狀能 夠使在短時間内取得混合。如上所示，當再循環速率為〇·9 加侖/分且流體間之密度差不顯著時，肖中的所有級在不到 1分鐘内取得混合。t密度差影響混合時，可用較高流速使 槽中的流體均化。 雖然前述說明及附圖代表本發明之較佳具體實施例，但 對熟諳此藝者顯而易見，可在不脫離本發明之真實主旨和 範圍内做出各種變化和改進。 曰 【圖式簡單說明】 90959.doc -19- 1309581 以下關於附圖描述本發明之較佳具體實施例，此等附圖 僅用於說明目的。在全部以下視圖中，參考數字用於附圖， 且在全部數張視圖及說明中使用相同參考數字，以表示相 同或類似元件。 圖1A-C顯示可用於本發明之槽。 圖1A為槽之部分展開正視圖。 圖1B為槽上部之側視圖。 圖1C為槽之俯視圖。 圖叫1£分別顯示槽底部區域之選擇性具體實施例。 圖 圖2為顯示人0和出σ之具體實施例之示意正視及側視 圖3為顯示比較性反向旋轉循 圖4為顯示用槽作為自我攪拌存儲槽之示意圖 圖5顯示用作組合存儲及混合槽之本發明槽。 圖6為顯示混合時間作為流速函數之標緣圖。 圖7為顯示在0.9加命/分鐘之流速電導率 標繪圖。 丁间函凄 圖8為顯示社6加余/分鐘之流速電導率-時間合 圖9為顯示漿料摻合試驗結果之標繪圖^ n 1

圖10為顯示在衆料再懸浮期間聚料濃度作 之標繪圖β τ间之S 【主要元件符號說明】 11 13 槽 上部區域 90959.doc -20 - 1309581 15 底部區域 17 亞區域 19 正視剖面 21 正視剖面 23 最低點 24 過渡點 25 凹面彎曲側壁 26 圓形底部寬度 27 入口 28 圓形底部深度 29 出口 30 圓形底部之彎曲部分 31 矩形側視剖面 33 矩形橫截面剖面 34A, 34B, 35A, 環單位 35B, 36A, 36B 40A, 40B, 41A, 41B, 42A, 42B 50 相對行孔洞或狹缝 52 單行孔洞或狹縫 103 流體 105 循環單位 107 出口管 109 再循環泵 90959.doc 再循環-分配回路 系統 補充流體源 管道系統 空氣源 輸送管線 管道系統 混合回路 計量閥 管道系統 第二控制閥 源 閥 排放口 分配回路 rip 見度

Claims (1)

1309581 十、申請專利範圍： 1- 一種包括槽之自我混合槽，該槽包括： 上β區域’其包括剛壁、相對於前壁之後壁及兩個相 對的側壁，前後及二個側壁界定具有側_側寬度及前-後寬 度之矩形橫截面，使前·後寬度小於側.側寬度； 圓开/底$區域’其包括單個最低點及自最低點延伸到 上部區域的至少一個側壁之至少一個彎曲壁； 位於槽内側最低點處的入口；及 位於槽内側高於且接近入口處之出口。 2.根據申請專利範圍第丄項之槽，其中該入口包括至少兩個 指向彎曲壁的開口。 根據申5月專利範圍第2項之槽，其中該入口開口為孔洞。 4.根據申請專利範圍第2項之槽，其中該入口開口為狹縫。 根據申6月專利範圍第（項之槽，其中該上部區域具有矩形 正視剖面-。 .根據申3月專利範圍第5項之槽，其中該矩形剖面為正方

8. 根據申請專利範圍 根據申請專利範圍 彎曲壁的開口。 第1項之槽，其中該彎曲壁為半圓。 第7項之槽，其中該入口包括兩組指向 9. 根據申請專利範圍第!項之槽，其中該彎曲壁 圓。 刀之 10. 根據申請專利範圍 彎曲壁的開口。 第9項之槽，其中該入口包括—組指向 90959.doc !3〇9581 !3〇9581 π. 12. 13. 14, 15. 16. 17. 18. 根據申請專利範圍第·| 固弟i項之槽’其中該彎曲壁為拋物 形。 根據申請專利範圍第丨丨 * U項之槽，其中該入口包括一組指 向彎曲壁的開口。 根據申請專利範圍第1頊 , 啤示ί項之槽’其中該出口係與入口接 一種自我混合槽，其包括： 槽’其包括結合於底部區域之上部區域，其中： ⑴上部區域包括具有第一寬度之矩形正視剖面及 具有小於第-寬度之第二寬度之矩形側視剖面； ⑺底部區域包括具有至少一個圓形部分之正視剖 面及單個最低點，圓《域包括在最低點和上部區 域及底部區域間之結合點之間延伸的至少—個凹面 曲面，其中該底部區域進一步包括具有曲率之至少 個側或底壁，5亥曲率由圓形區域剖面之曲面界定' 在圓形底部區域之最低點位於槽内側之入口，該入口 包括至少兩個水平指向彎曲側壁或底壁之開口，及 呵於且接近入口位於槽内側之出口。 根據申請專利範圍第14項之槽，其中該人口開口為狹縫。 根據申請專利_第14項之槽，其中該人^口為多個 孔洞。 根據申明專利範圍第丨4項之槽，其中該上部區域具有正 方形剖面。 根據申請專利範圍第14項之槽，其中該底部區域具有半 90959.doc 1309581 圓形正視剖面。 19. 20. 21. 22. 23. 根據申請專利範圍第1項之槽，其中該入口係連接到含泵 的再循環回路之排卸端。 根據申請專利範圍第1項之槽’其中該出口係連接到再循 環回路之進料端。 根據申請專利範圍第1項之槽’纟中該第-寬度和第二寬 度相同。 一種保持流體恒運動之系統，該系統包括： 槽’其包括： 上。卩區域’其包括前壁、相對於前壁之後壁及兩個相 對的側壁，前後及二個側壁界定具有側-側寬度及前-後寬 度之矩形橫載面’使前-後寬度小於側-側寬度； 圓形底部區域，其包括單個最低點及自最低點延伸到 上°卩區域的至少一個側壁之至少一個彎曲壁； 位於槽内側最低點處的入口； τ 位於槽内側高於且接近入口處之出口； 與出口有流體聯繫之泵；及 在果和入口間提供流體聯繫之再循環回路。 一種混合系統’該系統包括： 槽，其包括： 上部區域’其包括前壁、相對於前壁之後壁及兩個相 對的側，則後及二個側壁界定具有側_側寬度及前-後寬 度之矩形橫載面，使前-後寬度小於側-側寬度； 圓形底部區域，其包括單個最低點及自最低點延伸到 90959.doc 1309581 上部區域的至少一個側壁之至少一個彎曲壁； 位於槽内侧最低點處的入口； 位於槽内側高於且接近入口處之出口； 與出口有流體聯繫之泵； 在泵和入口間提供流體聯繫之再循環回路；及 旁通回路，其包括與再循環回路有流體聯繫之入口 端；及 與再循環回路有流體聯繫之出口端，其中該旁通回路 適於注入欲經混合之物料。 90959.doc