TWI304241B - Vacuum processing apparatus - Google Patents

Description

i3〇4241 疚、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種真空處理設備，其可以在其内建 ;真空大氣後對基材執行所希望的製程。特別地’本發明 是有關於一種真空處理設備，其内/真空腔室係被分割為 〆胜室本體與一上蓋罩，藉此上蓋罩可以容易地自腔室本 艘打開且關閉至腔室本體。

【先前技術】 真空處理設備主要是被用於半導體製造設備與平面顯 系器（flat-panel display，FPD )製造設備中。半導體或FPD 製造設備係被設計以饋入一基材且藉由使用電漿等等而對 纂材執行一所希望的製程（例如蝕刻製程）°在此FPD之 範例包括有LCD、PDP、OLED等等。請參閱第1圖，一 習知的真空處理設備大致上包含三種真空腔室’包括有負 載腔室R、饋入腔室T與製程腔室P。 負載腔室R係被用以由一外部站接收將在設備内被處 理之一基材而載入該基材’或送出在設備中完全處理之一 基材而卸載該基材。饋入腔室Τ具有一機械手臂以在各自 腔室之間饋入基材，從而其自負載腔室傳輸欲處理之基材 至製程腔室，或其自製程腔室傳輸已完全處理之基材至負 載腔室。製程腔室p係被用以在真空大氣下藉由使用電聚 或熱能而對基材執行一所希望的製程（例如薄膜沈積製程 或蝕刻製程）。有鑑於此，製程腔室p包含：一支撐構件 6 1304241 以支撐腔室中之一基材、一製程氣體供應系統以供應一 程氣體至製程腔室p内、與一排氣系統以淨空腔室且在 室内建立一真空。 製程腔室係被用以藉由使用多種製程氣體或電漿而 複地執行許多製程，因此製程腔室内之設備傾向於容易 損壞或污染，而需要週期性地更換或修復。請參閱第2圖 一習知製程腔室（元件代表符號為1 )係被分割為一腔 本體10與一上蓋罩20,因此上蓋罩20可以自腔室本體 打開以用於維護與修復製程腔室1之内部。 在對於開啟與關閉上蓋罩2 0之一傳統解決方式中， 裝設一起重機至包含有該製程腔室1之清潔室頂部，藉 使用起重機則上蓋罩2 0可以自腔室本體1 0被抬升且被 啟。在另一傳統的開啟/關閉解決方式中，製程腔室可以 離地被安裝有開啟/關閉元件以開啟且關閉上蓋罩。 請參閱第3圖，其繪示了用於上蓋罩20之傳統的開 /關閉元件之一範例，上蓋罩2 0開啟/關閉元件（元件代 符號為5 0 )係設置在製程腔室1之一外表面以開啟與關 上蓋罩2 0。開啟/關閉元件5 0包括有：一垂直驅動單元 垂直地抬升上蓋罩2 0、一水平驅動單元以水平地移動上 罩2 0、與一旋轉單元以旋轉上蓋罩2 0。此外，開啟/關 元件5 0具有一水平移動導引部60，以提供水平驅動單 之移動路徑。 以下，將解釋藉由具有前述結構的開啟/關閉元件 所實施的上蓋罩2 0開啟/關閉程序。首先，藉由使用包 製 腔 重 被 室 10 係 由 開 分 啟 表 閉 以 蓋 閉 元 50 含

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1304241 在開啟/關閉元件5 0内的垂直驅動單元，上蓋罩20係 直地抬升一預定高度。接續地，被抬升之上蓋罩20係 水平移動導引部6 0被水平地移動。在完成這樣的水平 後，上蓋罩2 0則藉由使用旋轉單元而被旋轉1 8 0。。舞 製程腔室1之腔室本體10與上蓋罩20兩者都被開啟 因此可以進行腔室本體1内各自設備之更換與修復。 近來，欲被FPD製造設備處理之基材尺寸已經指 尤其，包含在FPD内的真空腔室之尺寸係迅速的增加 如，就目前可以購得之真空腔室而言，腔室之上蓋罩 3x4公尺之大尺寸，且超過3至4公噸之重量。因此 了垂直地抬升真空腔室之大尺寸沈重的上蓋罩，提供 極高容量汽缸之垂直驅動單元是有必要的。由於此原 當龐大的腔室之上蓋罩被垂直抬升時，其呈現了增加 定性缺乏，並且對於真空腔室内部之維護與修復具有 效應。 【發明内容】 因此，本發明是用以解決前述問題，本發明之目 於提供一大面積真空處理設備，其可以確保上蓋罩之 的開啟與關閉操作。 根據本發明第一態樣，前述與其他目的可以藉由 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上而 被垂 沿著 移動 果， 了， 加。 0例 具有 ，為 具有 因， 的穩 不利 的在 輕易 提供 腔室 與卸 在其 8 1304241 之間具有一間隙，該真空處理設備更包含：一水平驅動元 件，用以水平地移動該上蓋罩於面對該閘閥排列方向之方 向；一内壁結構，係插入該上蓋罩之側壁，且適用以經由 其垂直移動以關閉與開啟介於該腔室本體與該上蓋罩之間 之該間隙；以及一内壁結構抬升元件，係位於該上蓋罩上 方，且適用以垂直地移動該内壁結構。

根據本發明第二態樣，前述與其他目的可以藉由提供 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一腔室 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上而在其 之間具有一間隙，該真空處理設備更包含：一水平驅動元 件，係耦接至該上蓋罩之外部且適用以水平地移動該上蓋 罩於垂直於該閘閥排列方向之方向；一内壁結構，係插入 該上蓋罩之側壁，且適用以經由其垂直移動以關閉與開啟 介於該腔室本體與該上蓋罩之間之該間隙；以及一内壁結 構抬升元件，係位於該上蓋罩上方，且耦接至該内壁結構 以垂直地移動該内壁結構。 根據本發明第三態樣，前述與其他目的可以藉由提供 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一腔室 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上而在其 之間具有一間隙，該真空處理設備更包含：一水平驅動元 件，係耦接至該上蓋罩之外部且適用以水平地移動該上蓋 罩於垂直於該閘閥排列方向之方向；以及一密封元件，其 9

1304241 係選擇性地密封住該腔室本體與該上蓋罩兩者之邊緣 域，且可以分離開該腔室本體與該上蓋罩兩者。 根據本發明第四態樣，前述與其他目的可以藉由提 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一腔 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該 空處理設備更包含：一腔室本體抬升元件，係裝設在該 室本體之一下表面，且適用以垂直地移動該腔室本體； 及一水平驅動元件，係裝設在該上蓋罩之一外表面，以 平地移動該上蓋罩於垂直於該閘閥排列方向之方向。 根據本發明第五態樣，前述與其他目的可以藉由提 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一腔 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘闊以用於載入與 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該 空處理設備更包含：一腔室本體抬升元件，係裝設在該 室本體之一下表面，且適用以垂直地移動該腔室本體； 及一水平驅動元件，係裝設在該上蓋罩之一外表面，以 平地移動該上蓋罩於垂直於該閘閥排列方向之方向。 根據本發明第六態樣，前述與其他目的可以藉由提 一真空處理設備來達到，該真空處理設備至少包含一腔 本體與一上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與 載一基材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該 空處理設備更包含··一或多個水平驅動單元，係支撐該 蓋罩以水平地移動該上蓋罩於面對該閘閥排列方向之 區 供 室 卸 真 腔 以 水 供 室 卸 真 腔 以 水 供 室 卸 真 上 方 10 1304241 向；一對上蓋罩移動框架，係以一垂直可移動之方式而位 於該上蓋罩之相對側，且適用以提供該些水平驅動單元之 一水平移動路徑；以及複數個垂直驅動單元，係相互隔開 一預定距離而耦接至該些上蓋罩移動框架之每一者之下表 面，該些垂直驅動單元係用以垂直地移動該些上蓋罩移動 框架與該上蓋罩。

根據本發明第七態樣，前述與其他目的可以藉由提供 一處理設備來達到，該處理設備至少包含一腔室本體與一 上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基 材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該處理設備 更包含：一上蓋罩抬升元件，係分離地設置在該上蓋罩上， 以垂直地移動該上蓋罩；以及一水平驅動元件，係設置在 該上蓋罩之相對側，且適用以在該上蓋罩被該上蓋罩抬升 元件抬升之後，可以水平地移動該上蓋罩。 根據本發明第八態樣，前述與其他目的可以藉由提供 一處理設備來達到，該處理設備至少包含一腔室本體與一 上蓋罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基 材，該上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該處理設備 更包含一傳送舉升型架系統，且該傳送舉升型架系統包 括：一主體，係具有一多邊柱體形狀而具有一適當厚度， 該主體係在中心地被提供有一連接環圈；以及複數個連接 環圈，係被提供在該主體之下表面之各自角落，而以一對 角線方向朝向該主體之中心移動，該些連接環圈可以同時 地向内或向外移動以改變位置。 11 1304241 【實施方式】 請參閱隨附圖式，現將詳細解釋根據本發明之一真 處理設備的實施例。 第一實施例 根據本發明實施例之真空處理設備至少包含：一負 腔室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室，以下將針對 製程腔室以便於解釋。請參閱第4圖，根據本發明之真 處理設備100包括有：一腔室本體110、一上蓋罩120、 水平驅動元件1 40、一内壁結構1 5 0、與一内壁結構抬升 件 160。 在根據本發明實施例之真空處理設備1 〇 〇中，腔室 體110大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩120係分離 設置在腔室本體110上，以構成一真空腔室。真空腔室 以處理一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯示 材具有矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形基 之一矩形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（未 示），以在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在 室内建立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行 期望的製程。 腔室本體110形成有一基材入口’其做為用以接收 自一外部站之基材的通道以載入基材，並且送出基材以 載基材。一般而言，基材是以平躺狀態而水平移動地被 入與卸載，因此基材入口係穿透腔室本體11 0之一側壁 空

載 空 元 本 地 用 基 材 顯 腔 來 卸 載 12 1304241 為了開啟與關閉基材入口 ，腔室本體u〇具有_ 材入口在載入與卸載基材期間是維持開啟的，但 完全載入時必須關閉’使得針對基材之一期望製 行於腔室之關閉狀態。是以，間閥係垂直地移動 關閉基材入口。 内壁結構150係插入於上蓋罩12〇之側壁内 當其垂直移動時能建立與釋放腔室内的一真空。 5圖，該實施例之内壁結構15〇包括有：一密^ 4 複數個連接桿154、與一輔助密封構件156。密去 插入於一插入溝槽122内（其中該溝槽122是沿 120之側壁的下表面内凹），且用以密封介於上蓋 腔室本體之間的一間隙。詳言之，當上罢罩 支樓而隔開腔室本體110_預定距離時：密：構 入於上蓋I 120之側壁内。密封構# 152用來當 :時，建立與釋放在腔室内之-真空。在該實施 :構件152大致上具有-矩形的環狀，並且當其 ^盖罩120之下端時耗接至上蓋罩12〇。該複 和1 54係垂直地穿透上蓋 审私祕 早1 2 0之側壁的特定位 、冓件152連接至内壁結構 15 傳楛升兀件160。該 使其下端處輕接至密封構件152之上表面的 使侍密封構件152之垂直 施例之六u 蜜直移動是穩定的。同 表面緊^構件152具有—階梯狀，從而使階梯 ΓΓ地接觸於腔室本體u°之-表面，且階 面緊密地接觸於輔助密封構件156’藉以 閘閥。基 是在基材 矛呈是被執 以開啟與 ’且用於 請參閱第 ‘件 1 52、 構件1 5 2 著上蓋罩 罩120與 120係被 件152插 其垂直移 例中，密 向上移動 數個連接 置，以將 些連接桿 複數個位 時，該實 部份之一 梯部份之 在腔室内 13 1304241 建立一真空。 是以，輔助密封構件1 5 6為該實施例之一重要構成要 件。輔助密封構件156在高於腔室本體110 —上表面的位 置處接觸於密封構件 1 5 2，以維持腔室内部於一氣密狀 態。特別地，如第5圖所示，密封構件15 2具有一階梯下 部份，該階梯下部份定義了兩水平接觸表面（即第一接觸 表面與第二接觸表面）。第一接觸表面接觸於腔室本體110 之側壁的上表面，而第二接觸表面接觸於輔助密封構件

内壁結構抬升元件160係位於上蓋罩120上方，且耦 接至内壁結構1 5 0，其中該内壁結構抬升元件1 60係穿透 上蓋罩1 2 0之側壁以垂直地抬升内壁結構1 5 0。在該實施 例中，如第5圖所示，内壁結構抬升元件1 60較佳是包括 一導引板162與驅動馬達164，其中該導引板162是位於 上蓋罩120上方且耦接至該複數個連接桿154之上端，該 導引板162係用以導引該些連接桿154之同時移動，該些 驅動馬達1 64係固定地裝設在導引板1 62上以垂直地移動 該導引板162。因為該複數個連接桿154必須同時地移動， 導引板1 62用以將所有連接桿1 5 4之抬升移動予以同步化。 水平驅動元件1 40用以水平地移動上蓋罩於面對閘閥 排列方向之方向。亦即，水平驅動元件1 40耦接至上蓋罩 120而以一水平可移動的方式支撐上蓋罩120。當腔室本體 11 0根據腔室本體抬升元件（未顯示）之操作而向下移動 一期望距離且因而分離開上蓋罩120時，水平驅動元件140 14 1304241 係水平地移動上蓋罩，而直到上蓋罩1 2 0到逵 如玫λα # J受一期望的旋 轉半徑為止。 在該實施例中，水平驅動元件1 40包括有—對導引執 道142，該對導引執道142係被水平地安排成相互平行而 使上蓋罩120設置於其之間。導引軌道142用以導引上| • 罩120於一水平方向，且因而提供上蓋罩ι2〇 ^水十移動 1 路徑。請參閱第6圖，導引轨道142之每一者係被分割為 • 第一部份142a與第二部份142b’其中該第—部份“以係 面對上蓋罩120，該第二部份142b係水平地延伸超過上蓋 罩120。較佳者，第二部份142b是可以朝向上蓋罩12〇側 壁（其是垂直於該第一部份142 a)而可折疊的，從而使其 不使用時可被折疊以將真空處理設備佔據之面積最小化。 根據該實施例之真空處理設備1 0 0可以更包含一支# 框架170，該支撐框架17〇係設置在腔室本體11〇旁邊且 適用以當上蓋罩1 2 0沿著導引軌道1 4 2水平移動時能接收 上蓋罩120。提供分離的支撐框架170具有一優點，即一 ► 單一支撐框架可被用於真空處理設備中的辑數個真空腔 至。也就是’不需要對該複數個腔室各自地提供支撐框架， 單一可移動的支撐框架可被共用於該複數個真空腔室。 • 清參閱第7圖，在該實施例中，支撐框架1 7 0包括有·· ， 一矩形的水平框架部件1 72、垂直框架部件1 74與間隙填 充部件176 °水平框架部件172具有相同於導引執道i42 之阿度’且延伸於相同於導引執道142之方向以導引上蓋 罩 Ί Ο 0之水平移動。垂直框架部件1 7 4用以支撐水平框架 15 1304241 部件U2於相同於導引軌道142之高度。較佳者，垂直框 架部件i74係適用以調節水平框架部件172之高度，以肖 除水平框架部件172與導引轨道142之間的高度差里。/ 間隙填充部件i76係位於水平框架部件172之L端 其中該端係面對腔室。當支擇…7〇接近導引轨道M2 時’間隙填充部件176係' 適用以填充介於水平框架部件in 與導引軌道142之間之間隙。如同所知悉者，由於有許多 =同構件位於腔室周圍與導因於支撐框架之本身結構，水 平框木牛172難以緊密接觸於導引軌道，因此，如第7 圖所示，必須提供間隙填充部件176以填充介於水平框年 =72與導引軌道142之間之間隙。在該實施例中，間 =充料176係以-樞紐可旋轉的方式而鼓鏈於水平框 牛1 72使传在傳送期間間隙填充部件丄％是被折疊， 八在使用時是被樞紐地旋轉以填充介於水平框架部件 U2與導引轨道142之間之間隙。 I Μ隙填充部件1 76之每-者可以被提供有-元以確保其垂直移動。較佳者，根據該實施例 # 170更包括有輪件178以助於支撐框$ 170之 174Τ^4 ^ I 2 U減少介於垂直框架部件1 74與地板之間的摩擦 ，以能容易地水平移動垂直框架部件”4。 件i 7;象：實鈿例之支撐框架170可以更包括-對旋轉構 中，該對1轉構件177係用以旋轉上蓋罩12〇。在該實施例 轉構件177係裝設至水平框架部件172，使其 16 1304241 位於上盍罩1 2 0之相對側。詳+ 备 々"之，奴轉構件1 7 7係耦接 至上蓋罩 1 2 0之相對侧劈沾士 ?側土的中心，以旋轉地支撐上蓋罩 120。疋以，在上蓋罩120被水平 一 八十驅動7〇件1 4 0移動以達到 -足夠的旋轉半徑之後，旋轉構件177即旋轉上蓋罩12〇, 藉此上…20能向上開啟以輕易管理與修復上蓋罩12〇 之内部設備。 較佳者，支撐框架170更包括有一或多個固定單元 179,以固定支撐框架17〇至腔室本體ιι〇。固定單元μ 用以在水平移動盥上甚1 j /、上盖卓120紅轉之期間，避免支撐框架 移動離開腔室本體110。在該實施例中，每一固定單元 179包括有一對固定塊體179a與一固定針梢179b。是以， 若該對固定塊體179a精確地相互對準，固定針梢17915則 插入該對固疋塊體179a，以維持支撐框架於一固定位 置。 以下’將解釋根據該實施例之真空處理設備丨〇 〇的上 蓋罩120之開啟/關閉程序。 在根據該實施例之真空處理設備i 〇 〇中，上蓋罩1 2 〇 係被支撐為使得其向上隔開於腔室本體1 1 0介於1公釐至 1〇公羞之距離，並且因此不需要抬升上蓋罩120。同樣地， 如第8A圖所示，僅内壁結構150依據相關的抬升元件160 之操作而被枱升。當内壁結構1 5 0被抬升時，即破壞了腔 室之氣密狀態，且因而釋放了腔室内之真空。之後，如第 8B圖所示’上蓋罩ι2〇依據水平驅動元件14〇之操作而水 平地移動。在此情況中，當使用支撐框架丨7〇時，支撐框 17

1304241 架170必須被定位成緊密接觸於導引軌道142。當使用僅 導引執道142時，導引軌道142之第二部份142b係未被折 疊以達到上蓋罩1 20之一穩定的旋轉半徑。在上蓋罩1 20 水平地移動以確保其穩定旋轉之後，如第 8 C圖所示，則 操作旋轉構件177以將上蓋罩120旋轉180°。依此方式， 上蓋罩1 2 0即向上開啟，而能修復其内設備。在完成設備 之修復之後，則逆順序地執行前述上蓋罩之開啟程序，藉 以關閉上蓋罩120。 第二實施例 根據該實施例之真空處理設備至少包含：一負載腔 室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室，下文係針對僅一 製程腔室進行敘述以為了解釋方便。請參閱第9圖，根據 該實施例之真空處理設備200包括有：一腔室本體2 1 0、 一上蓋罩220、一水平驅動元件240、一内壁結構250、與 一内壁結構抬升元件260。 在根據該實施例之真空處理設備200中，腔室本體210 大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩220係分離地設置在 腔室本體210上，以構成一真空腔室。真空腔室用以處理 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯示基材具有 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形基材之一矩 形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（未顯示），以 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在腔室内建 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行一期望的 製程。 18

々5义，密封構件252插 1304241 腔室本體210形成有一基材入口 E，其做為一通道， 用於接收來自一外部站之基材以載入基材，或送出基材以 卸载基材。一般而言，基材是以平躺狀態而水平移動地被 載入與卸載，因此基材入口 E係穿透腔室本體21〇之一側 壁。為了開啟與關閉基材入口 E，腔室本體2 1 〇具有一問 闊G。基材入口 E在載入與卸載基材期間是持續開啟的， 但是在基材完全載入後必須關閉’使得針對基材之一期望 製程是被執行於腔室之關閉狀態。是以，閘閥G係垂直地 移動以開啟與關閉基材入口 E。 内壁結構250係插入於上蓋罩220之側壁内，且用於 當其垂直移動時能建立與釋放腔室内的一真空。請參閱第 10圖’該實施例之内壁結構250包括有：一密封構件252、 複數個連接桿254、與一輔助密封構件256。密封構件252 插入於一插入溝槽222内（其中該溝槽222是沿著上蓋罩 220之側壁的下表面内凹），且用以密封介於上蓋罩與 脛室本體2 1 0之間 於上蓋罩220之側壁内，從而使上筌葚 优上盍罩220被支撐而隔開 腔至本體210 —預定距離。密封構丰 也打偁件252用來當其垂直移 動時，建立與釋放在腔室内之一意允 . 具工。在該實施例中，密 封構件252大致上具有一矩形的環 衣狀，並且當其向上移動 至上蓋罩220之下端時耦接至上蓋罩22〇。 該複數個連接桿254係垂直地穿 且地穿透上盍罩220之側壁 的特定位置，以將密封構件2 s 9 $ & 件252連接至内壁結構抬升元件 2 60。該些連接桿254於其下端虛鉍 卜端處耦接至密封構件252之上 19

1304241 表面的複數個位置，使得密封構件2 5 2之垂直移動是穩定 的。該實施例之密封構件2 5 2具有一階梯狀，從而使階梯 部份之一表面緊密地接觸於腔室本體210之一表面，且階 梯部份之另一表面緊密地接觸於輔助密封構件 256，藉以 在腔室内建立一真空。是以，輔助密封構件256為該實施 例之一重要構成要件。輔助密封構件256在高於腔室本體 210 —上表面的位置處接觸於密封構件252,並且適用以維 持腔室内部於一氣密狀態。特別地，如第1 〇圖所示，密封 構件2 5 2具有一階梯下部份，該階梯下部份定義了兩水平 接觸表面（即第一接觸表面與第二接觸表面）。第一接觸表 面接觸於腔室本體210之側壁的上表面，而第二接觸表面 接觸於輔助密封構件256。 内壁結構抬升元件260係位於上蓋罩220上方，且耦 接至内壁結構2 5 0，其中該内壁結構抬升元件2 6 0係穿透 上蓋罩220之側壁以垂直地抬升内壁結構250。在該實施 例中，内壁結構抬升元件260較佳是包括有一導引板262 與驅動馬達264，其中該導引板262是位於上蓋罩220上 方且耦接至該複數個連接桿254之上端，該導引板262係 用以導引該些連接桿254之同時移動，該些驅動馬達264 係固定地裝設在導引板 262上以垂直地移動該導引板 2 62。因為該複數個連接桿254必須同時地移動，導引板 2 62用以將所有連接桿254之抬升移動予以同步化。 水平驅動元件240用以水平地移動上蓋罩220於垂直 於閘閥G排列方向之方向。為了將真空處理設備200佔據 20

1304241 之面積最小化，該實施例建議上蓋罩2 2 0是被修復於介於 各自製程腔室之間的一未使用空間内。為此目的，上蓋罩 2 2 0必須水平地移動於垂直於閘閥G排列方向之方向，且 因此水平驅動元件240係位於相同於閘閥G之平面。在此 情況中，為了避免閘閥G與水平驅動元件240之間的干擾 (其相互地是位於相同平面），如第9圖所示，水平驅動元 件240係位於高於閘閥G之處。 是以，在該實施例中，水平驅動元件240包括有：一 上蓋罩移動框架242與一對水平移動件244。上蓋罩移動 框架242係於高於閘閥G之驅動高度的一位置處，而部份 地設置在上蓋罩220之相對側。上蓋罩移動框架242提供 了上蓋罩220之一水平移動路徑。 請參閱第1 1圖，上蓋罩移動框架242包括有：第一水 平框架部件242a與第一垂直框架部件242b，其中該第一 水平框架部件 242a之每一者係於其上表面支撐水平移動 件244之一者的第一端，該第一垂直框架部件242b係耦接 至該第一水平框架部件 242 a之下表面以在一預定高度支 撐該第一水平框架部件242a。在該實施例中，為了將完全 被組裝之上蓋罩移動框架242裝設至真空腔室，第一水平 框架部件242a係設置於高於上蓋罩220上端之一位置處。 此外，第一垂直框架部件242b係被安排成其相鄰之間互相 隔開一距離，其中該距離是比真空處理設備之寬度更寬。 每一水平移動件244具有第一端（其是固定地設置在 上蓋罩移動框架 242上）與第二端（其係耦接至上蓋罩 21 1304241 220 )。水平移動件244用以沿著上蓋罩移動框架242水平 地移動上蓋罩220。請參閱第12圖，該實施例之水平移動 件244包括有：一滚筒244a，係耦接至上蓋罩移動框架242 以在其上執行一旋轉移動；一垂直連接件2 44b，係在不同 兩度處連接至滾筒244a與上蓋罩220之中心兩者；以及一 馬達244c，用以提供需要旋轉滚筒244a之動力。藉此結 構，即使當滾筒244a設置在不同於上蓋罩22〇中心之高度 時’滚筒244a係藉由垂直連接件244b穩定地耦接至上蓋 罩2 2 0 ’藉此可以達到上蓋罩2 2 0之平順的旋轉與水平移 動。 根據該實施例之真空處理設備200可以更包含一支樓 框架270，該支撐框架270係設置在腔室本體210旁邊且 適用以當上蓋罩220沿著第一水平框架部件242a水平移動 時成接收上蓋罩220。提供分離的支撐框架270具有一優 點，即一單一支撐框架可被用於真空處理設備中的複數個

真空腔室。也就是，不需要對該複數個腔室各自地提供支 撐框架，一單一可移動的支撐框架可被共用於該複數個真 空腔室。 h參閱第7圖，在該實施例中，支撐 第二水平框架部件272、第二垂直框架部件274與間隙填 充部件276。第二水平框架部件272具有相同於第一水平 框木部件242a之尚度，且延伸於相同於第一水平框架部件 Wa之方向以導引上蓋軍22〇之水平移動。第二垂直框架 部件”4用以支撐第二水平框架部件272於相同於第—水 22

1304241 平框架部件242a之古痒 ^ 之円度。較佳者，第二垂直櫂架部^ 係適用以調節第二皮承括加a 水千框架部件272之高度，以消_ 水平框架部件242a盥笛-^ τ ^ _ /、 一水平框架部件2 7 2之間的局 異。 間隙填充部件276係位於第二水平框架部件272 端’其中該端係面對腔室。當支撑框架η。接近第一

框架部件242a時，pi脸+古士 A 令間隙填充部件276係適用以填充介 水平框木部彳242a肖第二水平♦匡架部彳2”之間 隙。如同所知悉者，由於有許多不同構件位於腔室周 V因於支樓框架之本身結構，第二水平框架部件π 緊密接觸於第-水平框架部# 242a。因此，如第13 不’必須提供間隙填充部件276以填充介於第一水平 邛件242a與第二水平框架部件272之間之間隙。在該 例中，間隙填充料276係以一樞紐可旋轉的方式而 於第一水平框架部件272，使得在傳送期間間隙填充 6疋被折疊，而其在使用時是被樞紐地旋轉以填充 第水平框架部件242a與第二水平框架部件272之間 較佳者’間隙填充部件2 7 6之每一者可以被提供 垂直驅動單元以確保其垂直移動。 較佳者’根據該實施例之支撐框架270更包括有 278以助於支撐框架27〇之移動。輪件278係各自裝 第一垂直框架部件274下端處，從而能減少介於第二 框架部件2 7 4與地板之間的摩擦力，以能容易地水平 :274 第一 度差 之一 水平 於第 之間 圍與 難以 圖所 框架 實施 鉸鏈 部件 介於 之間 有一 輪件 設在 垂直 移動 23 1304241 第二垂直框架部件274。 根據該實施例之支撐框架270可以更包括一對旋轉構 件277。旋轉構件277係用以旋轉上蓋罩22〇。在該實施例 中’該對旋轉構件277係裝設至第二水平框架部件272， 使其位於上盍罩220之相對側。詳言之，旋轉構件277係 ， 耦接至上蓋罩22〇之相對側壁的中心，並且適用以旋轉地 - 支撐上蓋罩220。是以，當上蓋罩220被水平驅動元件240 丨移動以達到一足夠的旋轉半徑時，旋轉構件277即旋轉上 蓋罩220，藉此上蓋罩22〇能向上開啟以輕易管理與修復 上蓋罩2 2 0之内部設備。 以下’將解釋根據該實施例之真空處理設備2 〇 〇的上 蓋罩220之開啟/關閉程序。 在根據該實施例之真空處理設備2〇〇中，上蓋罩220 係被支撲為使得其向上隔開於腔室本體21〇介於1公釐至 ίο公釐之距離，並且因此不需要抬升上蓋罩22〇。同樣地， 如第14A圖所示，内壁結構25〇依據相關的抬升元件26〇 之操作而被抬升。當内壁結構25〇被抬升時，即破壞了腔 室之氣密狀態’且因而釋放了腔室内之真空。之後，如第 14B圖所示’上蓋罩220依據水平驅動元件24〇之操作而 • 水平地移動。在此情況中’當使甩支撐框架270時，支撐 一框架270必須被定位成緊密接觸於第一水平框架部件 242a。在上蓋罩220水平地移動以確保其穩定旋轉之後， 如第1 4 C圖所不，則操作旋轉構件2 7 7以將上蓋罩2 2 〇旋 轉18〇。。依此方式，上蓋罩22〇即向上開啟，而能修復其 24 1304241 内設備。在完成設備之修復之後，則逆順序地執行前述上 蓋罩220之開啟程序，藉以關閉上蓋罩220。 第三實施例

根據該實施例之真空處理設備至少包含··一負載腔 室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室，下文係針對僅一 製程腔室進行敘述以為了解釋方便。請參閱第1 5圖，根據 該實施例之真空處理設備3 00包括有：一腔室本體3 1 0、 一上蓋罩320、一水平驅動元件340、與一密封元件3 50。 在根據該實施例之真空處理設備3 00中，腔室本體3 1 0 大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩320係分離地設置在 腔室本體310上，以構成一真空腔室。真空腔室用以處理 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯示基材具有 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形基材之一矩 形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（未顯示），以 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在腔室内建 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行一期望的 製程。 如第15圖所示，腔室本體310形成有一基材入口 E， 其做為一通道，用於接收來自一外部站之基材以載入基 材，或送出基材以卸載基材。一般而言，基材是以平躺狀 態而水平移動地被載入與卸載，因此基材入口 E係穿透腔 室本體3 10之一侧壁。為了開啟與關閉基材入口 E，腔室 本體310具有一閘閥G。基材入口 E在載入與卸載基材期 間是持續開啟的，但是在基材完全載入後必須關閉，使得 25 1304241 針對基材之一期望製程是被執行於腔室之關閉狀態。是 以，閘閥G係垂直地移動以開啟與關閉基材入口 E。

密封元件 350用以關閉介於腔室本體 310與上蓋罩 320之間的一間隙，且用以密封住腔室本體310與上蓋罩 3 2 0兩者之框邊。在該實施例中，上蓋罩3 2 0隔開於腔室 本體3 1 0 —預定距離，因此必須密封住其間的間隙以在真 空腔室内建立一真空。該實施例之密封元件3 5 0係使得上 蓋罩320分離地耦接至腔室本體310。 詳言之，腔室本體310沿著其上端表面具有一向外延 伸之下突出部312，並且上蓋罩320沿著其下端表面具有 一向外延伸之上突出部322。在此，腔室本體310之上端 表面包括腔室本體310之側壁的上表面，並且上蓋罩320 之下端表面包括上蓋罩320之側壁的下表面。 密封元件350具有一下接觸表面352(以緊密接觸於 下突出部312)與一上接觸表面354(以緊密接觸於上突出 部322)。為了達到下接觸表面352與下突出部312之間及 上接觸表面354與上突出部322之間的良好接觸與卡合， 其係被裝設成具有良好地搭配的形狀。 另外，因為腔室側壁是由相當堅硬之材料（例如金屬） 所製成，即使精細地對上與下突出部3 22、3 1 2及上與下接 觸表面354、352加工，不可避免地在其之間會存在有微小 間隙。這使得要達到腔室内之良好氣密狀態變得困難。為 了解決此問題，較佳地是形成輔助密封件Ο於下與上接觸 表面352、354之處。在此情況中，輔助密封件Ο是由一 26

1304241 稍微彈性的材料所製成。因此，當密封元件3 5 0 於下與上突出部312、3 22時，輔助密封件0在 下與上接觸表面352、354及下與上突出部312、 係被稍微地壓縮，藉此避免在其之間產生間隙。 情況中，為了達到提升的密封性能，可以將兩或 助密封件〇相互壓疊合。更佳者，為了避免輔助 偏離其正確位置，較佳地是使下與上接觸表面 形成有固定溝槽，其中該等溝槽是用於輔助密封 位與固定。 另一方式，如第18圖所示，密封元件350a 傾斜的下與上接觸表面3 52a、354a，並且對應之 與上突出部312、322兩者可以具有傾斜的表面。 述水平的接觸表面而言，使用傾斜的接觸表面具 觸面積之效果，因而提升了密封性能。再者，當 的接觸表面予輔助密封件0時，可以再擴大接觸 以容易地設置複數個輔助密封件0於其處。 在該實施例中，更包含有複數個密封元件 360以使密封元件350自動移動於一對角線方向 個密封元件驅動單元3 60係耦接至密封元件3 5 0 角落。在此，對角線方向是相對於一垂直方向形 之一方向，因而相對於地板是傾斜的。請參閱第 實施例之密封元件驅動單元360之每一者包括有 3 62與一凸輪364。滾筒362係以可旋轉方式設置 件350之下方角落之一。當凸輪3 64接觸於滾筒 緊密接觸 插入介於 3 22之間 在一特定 更多個輔 密封件〇 352 、 354 件Ο之定 可以具有 腔室的下 相對於前 有增加接 提供傾斜 面積且可 驅動單元 。該複數 之下端的 成45°角 16圖，該 :一滾筒 在密封元 362且移 27

1304241 動密封元件350於一對角線方向時，凸輪364會旋轉 以，當凸輪364接觸於滾筒362時，凸輪旋轉而滾筒 被旋轉，使得密封元件3 5 0移動於一對角線方向。 較佳者，密封元件驅動單元360更包含一凸輪旋 停塊366，用以限制凸輪364之旋轉半徑，且因而限 封元件3 5 0之對角線移動範圍。由有效操作的觀點來 較佳地是密封元件350具有足以在腔室内建立且釋放 之一最小移動，並且凸輪旋轉制停塊3 66是用以達到 元件3 5 0之最小移動範圍。 在該實施例中，較佳者，密封元件驅動單元360 於腔室本體3 1 0之相對橫向側（除了具有水平驅動元辦 之水平移動件3 44的腔室本體3 1 0相對側以外）。若密 件驅動單元3 6 0與水平驅動元件3 4 0兩者係被提供相 相同側，在操作密封元件驅動單元3 6 0與水平驅動元和 時其會遭受干擾，且難以安裝。因此，密封元件驅動 360必須設置在除了具有水平移動件344的側壁以外 室本體3 1 0側壁。 水平驅動元件340用以水平地移動上蓋罩320於 於閘閥G排列方向之方向。為了將真空處理設備3 00 之面積最小化，該實施例建議上蓋罩3 2 0是被修復於 各自製程腔室之間的一未使用空間内。為此目的，上 3 20必須水平地移動於垂直於閘闊G排列方向之方向 因此水平驅動元件3 4 0係位於相同於閘闊G之平面。 情況中，為了避免閘閥G與水平驅動元件3 4 0之間的 。是 3 62 轉制 制密 看， 真空 密封 是位 -340 封元 互地 :340 單元 之腔 垂直 佔據 介於 蓋罩 ，且 在此 干擾 28 1304241 (其相互地是位於相 於間閥G之處。 +面)’水平驅動元件34。係位於高 一疋 纟該實施例中’水平驅動元件340包括有··一 上蓋罩移動框架342盥 m u r 對水平移動件344。上蓋罩移動 框架342係於兩於蘭問 地設置在上蓋罩3、2〇之才之驅動高度的一位置處，而部份 了上蓋罩320之一水平J “則。上盘罩移動框架342提供 水十移動路徑。 上蓋罩移動框举3 、 匕括有·第一水平框芊部件盥篦 -垂直框架部件，1中Μ 卞up 4牛與第 其上表面支撐水平移動杜母者係於 _ 十移動件344之一者的第一端，該第一垂 直ϋ:部件係輕接至該第-水平框架部件之下表面以在一 預疋同度支撐該第一水平框架部件。在該實施 將完全被組裝之上#4 盍罩移動框架342裝設至真空腔室，第 一水平框架部件係設置於高於上蓋罩320上端之一位置 f此外’第-垂直框架部件係被安排成其相鄰之間互相 隔開一距離，盆由分„ 中該距離疋比真空處理設備之寬度更寬。 每一水平移動件344具有第一端（其是固定地設置在 上蓋罩移動㈣342上）與第二端（其係耗接至上蓋罩 0。水平移動件344用以沿著上蓋罩移動框架M2水平 —移動上蓋罩32〇。該實施例之水平移動彳344包括有： 一热筒344&係耦接至上蓋罩移動框架342以在其上執行 轉移動；-垂直連接件碼，係在不同高度處連接至 :344a與上蓋$ 32〇之中心兩者；以及一馬達， 从提供需要旋轉滾筒344a之動力。藉此結構，即使當滚 29 1304241 筒344a設置在不同於上蓋罩320中心之高度時，滾筒344a 係藉由垂直連接件344b穩定地耦接至上蓋罩320，藉此可 以達到上蓋罩320之平順的旋轉與水平移動。

根據該實施例之真空處理設備3 0 〇可以更包含一支樓 框架370，該支撐框架370係設置在腔室本體310旁邊且 適用以當上蓋罩320沿著上蓋罩移動框架342之第一水平 框架部件水平移動時能接收上蓋罩320。提供分離的支撐 框架370具有一優點，即一單一支撐框架可被用於真空處 理設備中的複數個真空腔室。也就是，不需要對該複數個 腔室各自地提供支撐框架，一單一可移動的支撐框架可被 共用於該複數個真空腔室。 第二水平框 充部件3 7 6 動框架3 4 2 第一水平框 第二垂直框 相同於第一 部件374係 消除第一水 度差異。 19圖’在該實施例中，支撐框架37〇包括有： 架邛件372、第二垂直框架部件374與間隙填 。第二水平框架部件372具有相同於上蓋罩移 =第一水平框架部件之高度，且延伸於相同於 ^ ^件之方向以導引上蓋罩320之水平移動。 卞件3 74用以支撐第二水平框架部件3 72於 :平框架部件之高度。較佳者，第二垂直框架 ^用以調節第二水平框架部# 372之高度，以 "£木邛件與第二水平框架部件372之間的高 間隙填充部件376係位 端，其中該端係面對腔室。 框架部件時’間隙填充部件 於第二水平框架部件3 7 2之一 當支擇框架370接近第一水平 3 7 6係適用以填充介於第一水 30 1304241 平框架部件盥篦-士 〃 一 千框罙部件之間之間隙。如辰 由於有許多不同構件位於腔室周圍與導因於々 :本身結構’第二水平框架部件372難以緊密接觸 水平框架部件。因此， ’弟1 9圖所不，係提供間1¾ 376以填充介於第一水平框架部件與第二水平相 之間之Μ 。在該實施例中’間隙填充部件Μ ^ 紐可旋轉的方式而鉸鏈於第二水平框架部# Μ， 傳送期間間隙填充料3 76是被折疊，而其在使拜 '地旋轉以填充介於第一水平框架部件與第二4 部件372之間之間隙。 較佳者’間隙填充部件376之每—者可以被^ 垂直驅動單元以確保其垂直移動。 較佳者，根據該實施例之支撐框架37〇更包名 378以助於支撐框架370之移動。輪件3 78係各自 第二垂直框架部件374下端處，從而能減少介於身 架邛件2 7 4與地板之間的摩擦力，以能容易地4 第二垂直框架部件274。 根據該實施例之支撐框架370可以更包括一 f; 件3 77。旋轉構件3 77係用以旋轉上蓋罩。在驾 中，該對旋轉構件377係裝設至第二水平框架部4 使其位於上蓋罩320之相對側。旋轉構件377係泰 蓋罩320之相對側壁的中心，並且適用以旋轉地^ 罩320。是以，當上蓋罩32〇被水平驅動元件3⑼ 達到一足夠的旋轉半徑時，旋轉構件3 77即碇轉 所知悉 撐框架 於第一 填充部 架部件 以一柩 使得在 時是被 平框架 供有一 有輪件 裝設在 二垂直 平移動 旋轉構 實施例 :372， 接至上 撐上蓋 移動以 上蓋罩 31 1304241 3 20’藉此上蓋罩320能向上開啟以輕易管理與修復上蓋罩 3 2 0之内部設備。 較佳者，支撐框架3 70更包括有一或多個固定單元 379 ’以固定支撐框架370至腔室本體310。固定單元379 用以在水平移動與上蓋罩32〇旋轉之期間，避免支撐框架 3 7〇移動離開腔室本體31〇。在該實施例中，每一固定單元 3 79包括有一對固定塊體3 79a與一固定針梢。是以， 右該對固定塊體3 7 9 a精確地相互對準，固定針梢3 7 9b則 插入該對固定塊體379a，以維持支撐框架37〇於一固定位 置。 以下’將解釋根據該實施例之真空處理設備3 00的上 蓋罩3 2 0之開啟/關閉程序。 在根據該實施例之真空處理設備300中，上蓋罩320

係被支撐為使得其向±„於腔室本體則介* i公餐至 10公釐之距離，並H 因此不而要抬升上蓋罩32〇。如第2〇A 圖所不4封7L件驅動單元36〇係被驅動以移動密封元件 350於—對角線方向，藉此是上蓋罩32Q隔開於腔 31°。當上蓋罩320移動時，即破壞了腔室之氣密狀態，且 因而釋放了腔室内之真空。 狀〜' 且 置me M v工 之後，如第2〇Β圖所示，上蓋 罩320依據水平驅動元 比 之插作而水平地移動。在肤 情況中，…支擇拖架370時， ㈣在此 置成緊密接觸於第—水芈扩加Α 37〇必須被設 ^ 水平框架部件。Α μ t w Λ 移動以確保其穩定旋棘$ $ 上盍罩320水平地 轉之後，如篦2 轉構件377以將上蓋罩 不，則操作旋 蓋罩320紋轉18〇。。依此方式，上蓋罩 32 1304241 3 2 0即向上開啟，而能修復其内設備。在完成設備之修復 之後，則逆順序地執行前述上蓋罩320之開啟程序，藉以 關閉上蓋罩3 2 0。 第四實施例

根據該實施例之真空處理設備至少包含：一負載腔 室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室，下文係針對僅一 製程腔室進行敘述以為了解釋方便。請參閱第2 1圖，根據 該實施例之真空處理設備400包括有：一腔室本體410、 一上蓋罩420、一水平驅動元件440、與一腔室本體抬升元 件 45 0。 在根據該實施例之真空處理設備400中，腔室本體410 大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩420係分離地設置在 腔室本體410上，以構成一真空腔室。真空腔室用以處理 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯示基材具有 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形基材之一矩 形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（未顯示），以 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在腔室内建 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行一期望的 製程。 腔室本體410形成有一基材入口，其做為一通道，用 於接收來自一外部站之基材以載入基材，或送出基材以卸 載基材。一般而言，基材是以平躺狀態而水平移動地被載 入與卸載，因此基材入口係穿透腔室本體410之一側壁。 為了開啟與關閉基材入口 ，腔室本體4 1 0具有一閘閥。基 33 1304241 材入口在載人與卸載基材期間是㈣開啟的，作是在 完全載入後必㈣閉，使得針對基材之__製程是 行於腔室之關閉狀態…’當閑闕垂直地移動時， 入口係開啟與關閉。 腔室本體抬升元件450係用以垂直地移動腔室 41〇。在該實施例中，腔室本體抬升元件45。包括有： 個抬升驅動構件452與一導引構件454。 抬升駆動構# 452係位於&室本帛4lQpg t 框架460之間’其中該腔室基座框架46〇係支撐腔室 410於距離地板-預定高度。抬升驅動料452係適 垂直地移動腔室本體410。垂直移動腔室本體41〇且 免當腔室本體410接觸上蓋罩42〇下端時其干擾上 420之水平移動的效果’並且具有避免介於該上蓋罩 與-〇型環之間干擾的效果。在上蓋罩42〇固定於一 高度之狀態中’腔室本體41q係被降低以隔開於上蓋專 一預定距離。 該實施例使用了複數個抬升驅動構件452，其每 具有一小能力。由價格觀點來看，相對於使用—單— 力之抬升驅動構件而言，使用該複數個小能力之抬升 構件452是有益處的^且，該複數個抬升驅動構件 可以在複數個位置處支撐一沈重的腔室本體，因而對 持腔室本體之平衡是有利的。較佳地，每一抬升驅動 452具有指箱柱體之外形。纟此情況中，如第η圖所 摺箱柱體各自具有離心補償肖456。詳言之，離 基材 被執 基材 本體 複數 基座 本體 用以 有避 蓋罩 420 預定 -420 一者 大能 驅動 452 於維 構件 示， 償體 34

1304241 45 6 (其每一者具有一半球形之形狀）係各自地形成在摺箱 柱體452之上端。在此情況中，腔室本體410係在對應於 各自摺箱柱體4 5 2中心之腔室本體下表面形成有離心補償 體插入凹部412。藉此結構，當摺箱柱體452接觸於腔室 本體 410之下表面以垂直地移動腔室本體 410而被抬升 時，離心補償體4 5 6是滑入插入凹部4 1 2以平順地尋找精 確的接觸位置。 導引構件4 5 4係耦接至腔室本體4 1 0，並且適用以導 引腔室本體41 0之垂直移動。請參閱第2 1圖，在該實施例 中，導引構件454較佳地是具有一導引塊體單元之外形， 其下表面處是耦接至腔室基座框架460之一上表面，其上 表面處是插入形成在腔室本體410下表面的一導引溝槽。 在腔室本體之下表面處提供做為導引構件之該導引塊體單 元，是具有導引腔室本體之精確垂直移動方向的效果，不 需要導引構件之一分離的裝設空間。 或者，導引構件可以具有導引圓柱之外形，其是位於 腔室本體410旁邊且耦接至腔室本體410之側壁，以導引 腔室本體410之垂直移動方向。 水平驅動元件440用以水平地移動上蓋罩420於面對 閘閥排列方向之方向。為此目的，水平驅動元件440耦接 至上蓋罩420而以一水平可移動的方式支撐上蓋罩420。 當腔室本體410藉由腔室本體抬升元件450之操作而向下 移動一預定距離且因而分離開上蓋罩420時，水平驅動元 件440係水平地移動上蓋罩420，而直到上蓋罩420到達 35

1304241 一期望的旋轉半徑為止。 在該實施例中，水平驅動元件440包括有一對導 道442，該對導引執道442係被水平地安排成相互平 使上蓋罩設置於其之間。導引軌道442用以導引上蓋澤 於一水平方向，且因而提供上蓋罩420之水平移動路 請參閱第23圖，導引軌道442之每一者係被分割為第 份442a與第二部份442b，其中該第一部份442a係面 蓋罩420,該第二部份442b係水平地延伸超過上蓋罩 較佳者’第一部份4 4 2 b是可以朝向上蓋罩4 2 0侧壁（ 垂直於該第一部份442a )而可折疊的，從而使其不使 可被折疊以將真空處理設備佔據之面積最小化。 根據該實施例之真空處理設備4 0 0可以更包含一 框架470，該支撐框架470係設置在腔室本體410旁 適用以當上蓋翠420沿著導引執道442水平移動時能 上蓋罩420。提供分離的支撐框架47〇具有一優點， 單一支撐框架可被用於真空處理設備中的複數個真 至。也就是’不需要對該複數個腔室各自地提供支撐相 —可移動的支標框架可被共用於該複數個真空腔室。 δ月參閱第2 4圖，在該實施例中，支撐框架4 7 〇包^ 矩形的水平框架部件472、垂直框架部件474與間 充部件476。水平框架部彳472具有相同於導引執道 之高度，且延伸於相同於導引軌道442之方向以導引 罩420之水平移動。垂直框架部彳474用以支撐水平 部件472於相同於導引執道442之高度。較佳者，垂 引轨 行而 420 徑。 一部 對上 420° 其是 用時 支撐 邊且 接收 即一 空腔 ί架， &有： 隙填 442 上蓋 框架 直框 36

1304241 架部件474係適用以調節水平框架部件472之高度 除水平框架部件472與導引軌道442之間的高度差】 ^隙真充部件4 7 6係位於水平框架部件4 7 2之 ’、中該，端係面對腔室。當支撐框架接近導引軌 時間隙填充部件476係適用以填充介於水平框架部 與導引軌道442之間之間隙。如同所知悉者，由於 不同構件位於腔室周圍與導因於支撐框架之本身結 平框架部件472難以緊密接觸於導引轨道，因此，d 圖所示’必須分離地提供間隙填充部件476以填充 平框架部件472與導引執道442之間之間隙。在該 中，間隙填充部件476係以一樞紐可旋轉的方式而 水平框架部件472，使得在傳送期間間隙填充部件 被折疊’而其在使用時是被樞紐地旋轉以填充介於 架部件472與導引軌道442之間之間隙。 較佳者，間隙填充部件476之每一者可以被提 垂直驅動單元以確保其垂直移動。雖然沒顯示，較 垂直驅動單元具有一球螺桿之外形，以達到間隙填 476之精確垂直移動。 較佳者，根據該實施例之支撐框架470更包括 478以助於支撐框架470之移動。輪件478系各自 垂直框架部件474下端處，從而其可以減少介於垂 部件474與地板之間的摩擦力，以能容易地水平移 框架部件474。 根據該實施例之支撐框架470可以更包括一對' ，以消 I ° 一端， 道442 件472 有許多 構，水 b第24 介於水 實施例 鉸鏈於 476是 水平框 供有一 佳地， 充部件 有輪件 裝設在 直框架 動垂直 旋轉構 37 1304241 件477。旋轉構件477係用以旋轉上 中’該對旋轉構件477係裝設 罩加？。在該實施例 位於上蓋“20之相對側。旋：…使其 420之相對側壁的中 係耦接至上蓋罩 *上蓋罩42" 支揮上蓋罩42〇。是以， 破水平驅動元件“Ο移動以達到—足㈣旋 轉半徑時，旋轉構# 477即旋轉上蓋 ]足夠的說 420能向上開啟以輕易管理與修 ’稭此上蓋罩 較佳者，支稽框架470更包括有罩一;2::内部設備。 479，以lil宕*产^多個固定單元 ^切㈣47G至腔室本體44G。^單元479 用以在水平移動舆上蓋罩42〇旋轉之期間 470移動離開腔室本體44〇。在該實施 支撐才* |5] ^ yf 479包括有-對固定塊體479a與一固定針梢㈣。是以， 右該對固定塊體479a精確地相互對準，固定針梢㈣則 插入該對固定塊體479a，以維持支撐框架47〇於一固定位 置。 、疋 空處理設備400的上 以下，將解釋根據該實施例之真 盖罩4 2 0之開啟/關閉程序。 首先，如第25A圖所示，藉由使用腔室本體抬升元件 450,腔室本體410被下降介於10公釐至15公釐之距離， 以避免上蓋罩420與腔室本體41〇之間的干擾。之後，如 第25B圖所示，上蓋罩420係藉由水平驅動元件44〇之操 作而水平地移動。在此情況中’當使用支撑框架470時， 支撐框架470必須被設置成緊密接觸於導引執道442。而 且’當使用僅導引軌道442時，導引軌道442之第二部份 38

1304241 4 4 2b係未被折疊以達到上蓋罩420之一穩定的旋轉半徑。 在上蓋罩420水平地移動以確保其穩定旋轉之後，如第25 C 圖所示，則操作旋轉構件477以將上蓋罩420旋轉180°。 依此方式，上蓋罩420即向上開啟，而能修復其内設備。 在完成設備之修復之後，則逆順序地執行前述上蓋罩之開 啟程序，藉以關閉上蓋罩420。 第五實施例 根據該實施例之真空處理設備至少包含：一負載腔 室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室，下文係針對僅一 製程腔室進行敘述以為了解釋方便。請參閱第26圖，根據 該實施例之真空處理設備500包括有··一腔室本體510、 一上蓋罩520、一水平驅動元件540、一基材入口 E、一閘 閥G、與一腔室本體抬升元件550。 在根據該實施例之真空處理設備5 00中，腔室本體5 1 0 大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩520係分離地設置在 腔室本體510上，以構成一真空腔室。真空腔室用以處理 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯示基材具有 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形基材之一矩 形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（未顯示），以 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在腔室内建 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行一期望的 製程。 腔室本體510形成有一基材入口 E，其做為一通道， 用於接收來自一外部站之基材以載入基材，或送出基材以 39

1304241 卸載基材。一般而言’基材是以平躺狀態而水平移動地被 載入與卸載，因此基材入口 E係穿透腔室本體510之一側 壁。為了開啟與關閉基材入口 E，腔室本體5 1 0具有一閘 閥G。基材入口 E在載入與卸載基材期間是持續開啟的， 但是在基材完全載入後必須關閉，使得針對基材之一期望 製程是被執行於腔室之關閉狀態。是以，閘閥G係垂直地 移動以開啟與關閉基材入口 E。 水平驅動元件540用以水平地移動上蓋罩520於垂直 於閘閥G排列方向之方向。為了將真空處理設備5 00佔據 之面積最小化，該實施例建議上蓋罩520是被修復於介於 各自製程腔室之間的一未使用空間内。為此目的，上蓋罩 5 20必須水平地移動於垂直於閘閥G排列方向之方向，且 因此水平驅動元件5 4 0係位於相同於閘闊G之平面。在此 情況中，為了避免閘閥G與水平驅動元件540之間的干擾 (其相互地是位於相同平面），水平驅動元件5 4 0係位於高 於閘閥G之處。 請參閱第29圖，該實施例之水平驅動元件540包括 有：一上蓋罩移動框架542與一對水平移動件544。上蓋 罩移動框架5 42係於高於閘閥G之驅動高度的一位置處， 而部份地設置在上蓋罩5 2 0之相對側。上蓋罩移動框架5 42 提供了上蓋罩520之一水平移動路徑。 請參閱第28圖，上蓋罩移動框架542包括有：第一水 平框架部件542a與第一垂直框架部件542b，其中該第一 水平框架部件 5 42 a之每一者係於其上表面支撐水平移動 40 1304241

件5 44之一者的第一端，該第一垂直框架部件542b係耦接 至該第一水平框架部件 542 a之下表面以在一預定高度支 撐該第一水平框架部件5 42 a。在該實施例中，為了將完全 被組裝之上蓋罩移動框架542裝設至真空腔室，第一水平 框架部件542a係設置於高於上蓋罩520上端之一位置處。 此外，第一垂直框架部件542b係被安排成其相鄰之間互相 隔開一距離，其中該距離是比真空處理設備之寬度更寬。 較佳者，水平齒輪係形成在每一第一水平框架部件 542a 之上表面，使得該等齒輪嚙合於滾筒544a以導引上蓋罩 520之一精確水平移動。 每一水平移動件544具有第一端（其是固定地設置在 上蓋罩移動框架542上）與第二端（其係耦接至上蓋罩 5 20 )。水平移動件544用以沿著上蓋罩移動框架542水平 地移動上蓋罩520。該實施例之水平移動件544包括有： 一滚筒544a，係耦接至上蓋罩移動框架542以在其上執行 一旋轉移動；一垂直連接件544b，係在不同高度處連接至 滚筒544a與上蓋罩520之中心兩者；以及一馬達544c， 用以提供需要旋轉滾筒544a之動力。藉此結構，即使當滾 筒544a設置在不同於上蓋罩520中心之高度時，滾筒544a 係藉由垂直連接件544b穩定地耦接至上蓋罩520，藉此可 以達到上蓋罩5 20之平順的旋轉與水平移動。並且，一滾 筒544d係設置在每一第一水平框架部件542a與相關連接 件544b之間，以在上蓋罩移動期間減少負載與摩擦力。 根據該實施例之真空處理設備5 00可以更包含一支撐 41 1304241 框架570，該支撐框架570係設置在腔室本體510旁 適用以當上蓋罩520沿著第一水平框架部件542a水平 時能接收上蓋罩520。提供分離的支撐框架570具有 點’即一單一支撐框架可被用於真空處理設備中的複 真空腔室。也就是，不需要對該複數個腔室各自地提 撐框架，一單一可移動的支撐框架可被共用於該複數 空腔室。

請參閱第30圖，在該實施例中’支撐框架57〇包4 第一水平框架部件5 7 2、第二垂直框架部件5 7 4與間 充部件5 76。第二水平框架部件5 72具有相同於第一 框茱部件542a之高度，且延伸於相同於第一水平框架 542a之方向以導引上蓋罩52〇之水平移動。第二垂直 邛件574用以支撐第二水平框架部件572於相同於第 平框架部件542a之高度 較佳者， 第二垂直框架部件 係 水 異 單 適用以調節第二水平框架部件572之高度，以消除 平框架部件542a與第二水平框架部件572之間的高 。雖然沒顯示，較佳地，具有球螺桿外形之一垂直 元係被提供’以達到在第二水平框架部件572之高 精確調節。 v、卬一不干框架部^ 端’其中該端係面對腔室。當支撐框架57〇接近 框架部件542a時，間隙填充部# 576係適用以填 一水平框架部件542a盥箆-^ τ …弟一水平框架部件572 隙。如同所知悉者，由於有& 、令井多不同構件位於腔 邊且 移動 一優 數個 供支 個真 t有： 隙填 水平 部件 框架 一水 574 第一 度差 驅動 度的 之一 水平 於第 之間 圍與 42 1304241 導因於支推框架之本身結構，第二水平框架料572難以 緊密接觸於第—水平框架部件542a。因此，如第3〇圖所 不，係分離地提供間隙填充部件576以填充介於第一水平 框架部件542a與第二水平框架部件572之間之間隙。在該 實施例中，間隙填充料576係以—樞紐可旋轉的方式而 ，鍵於第二水平框架部件572 ’使得在傳送期間間隙填充 P件576疋被折受，而其在使用時是被樞紐地旋轉以填充 介於第一水平框架部件5 4 2 a與第二水平框架部件5 7 2之間 之間隙。 較佳者’間P宋填充部件576之每—者可以被提供有一 垂直驅動單元以確保其垂直移動。 較佳者，根據該實施例之支標框架570更包括有輪件 ”8以助於支撐框# 57〇之移動。輪件578係各自裝設在 第二垂直框架部件574下端4，從而能減少介於第二垂直 框架部件574與地板之間的摩擦力，以能容易地水平移動 第二垂直框架部件5 7 4。 根據該實施例之支撐框架570可以更包括一對旋轉構 件577。旋轉構件577係用以旋轉上蓋罩52〇。在該實施例 中，該對旋轉構件577係裝設至第二水平框架部件572, 使其位於上蓋| 520之相對侧，上蓋罩52〇是介於該對旋 轉構件577之間。旋轉構件577係耦接至上蓋罩52〇之相 =側壁的中心，並且適用以旋轉地支撐上蓋罩。是以， 當上蓋罩520被水平驅動單元54〇移動以達到一足夠的旋 轉半徑時’旋轉構# 577即旋轉上蓋罩520，藉此上蓋罩 43 1304241 520能向上開啟以輕易管理與修 較佳者，支撐框架57〇更包 2〇之内5又備 以固定支樓框架57〇至腔室本體^或多㈣定單元 用以在水平移動與上蓋叾520旋轉期 固疋早兀579 一離開腔室本體51。。在該轉實;期:，避免支撐框架 -包括有-對固定塊體579a與每-固定單元 芒钤料陌〜 固疋針梢5 79b。是以， 右以對固疋塊體5 79a精確地相互 插入哕盤^ 固定針梢579b則 以對固疋塊體5 7 9 a，以維 置。 再符支撐框架570於一固定位 腔室本體抬升元件5 50係用以吉 510。在玲· 直地移動腔室本體 μ貫施例中，腔室本體抬 個抬升m 开70件55〇包括有：複數 升馬£動構件552與-導引構件554。 抬升驅動構件5 52係位於腔室太萨ς Ί 框架56λ κ匕至本體51〇與一腔室基座 510於距^中^腔室基座框架560係支樓腔室本體 垂直地移動妒反—預定而度。抬升驅動構# 5 52係適用以 移動腔室本體51〇。垂直銘 免當腔 一垂直移動“本ϋ 510具有避 52〇之 1〇接觸上蓋罩520下端時其干擾上蓋罩 移動的效果’纟且具有避免介於該上 52〇 兴一 0刮搭a 高度之- 干擾的效果。在上蓋罩520固定於一預定 _ ,v"中，腔室本體51 〇係被降低以隔開於上蓋罩520 一預定距離。 μ施例使用了複數個抬升驅動構件5 52，其每一者 具有一小能+ t 由彳貝格觀點來看’相對於使用一單一大能 力之抬升*1 医I* /1 驅動構件而言，使用該複數個小能力之抬升驅動 44 1304241 構件552是有益處的。而且，該複數個抬升驅動 可以在複數個位置處支撐一沈重的腔室本體，因 持腔室本體之平衡是有利的。較佳地，每一抬升 5 52具有摺箱柱體之外形。在此情況中，如第27

揭相柱體各自具有離心補償體 5 5 6 (其每一者具有一半球形之形狀）係形成在 552之上端。腔室本體51〇係在對應於各自摺求 中心之腔室本體下表面形成有離心補償體插入κ 藉此結構’當摺箱柱體552接觸於腔室本體51(] 以垂直地移動腔室本體5 1 0而被抬升時，離心孝 是滑：插入凹1 2以平順地尋找精確的接觸位 導引構件554係耦接至腔室本體51〇，並卫 :腔：本體510之垂直移動。請參閱第26圖，名 -下表ΓΠ 554較佳地是具有一導5丨塊體單* 處K耦接至腔室基座框架56〇之一 表面處是插入形成在腔室本體5 在腔室本體之下矣“ I體510下表面的-導 腔室本體之精確移動方向的效果，不：早… 離的裝設空間。 。的效果’不需要導引相 或者 腔室本體 腔室本體 導引構件可以具有導引圓柱之外形， 1〇旁邊且耦接至腔室本體51〇之側壁 1〇之垂直移動方向。 —以下，將解釋根據該實施例 蓋罩520之開啟/關閉程序。 之真空處理設備 構件5 5 2 而對於維 驅動構件 圖所示， 心補償體 摺箱柱體 柱體552 部 5 1 2 〇 之下表面 償體556 置。 適用以導 該實施例 之外形， 面，其上 引凹部。 具有導引 件之一分 其是位於 ，以導引 500的上 45 1304241 首先，如第31A圖所示，藉由使用腔室本體抬升元件 550,腔室本體510被下降介於10公釐至15公釐之距離， 以避免上蓋罩520與腔室本體51〇之間的干擾。之後，如 第31B圖所示，上蓋罩520係藉由水平驅動元件54〇之操

1下叫丁奶；^w ·,u丨 自1之用叉语很罘 5 7 0時， 支撐框架570必須被設置成緊密接觸於第一水平框架部件 542a。在上蓋罩52〇水平地移動以確保其穩定旋轉之後， 如第31C圖所示，則操作旋轉構件577以將上 热 轉180°。依此方式’上蓋罩520 a u 早520即向上開啟 内設備。在完成設備之修復之後， 此I復其 # 1 + Μ Μ P床 μ ' _序地執行前述上 爲罩520之開啟ί王序’藉以關閉上蓋罩 第六會施例 根據該實施例之真空處理設備至 夕包含：一負載腔 室、一饋入腔室、與一或多個製程腔室， 、 … χ 下文係針對僅一 製程腔室進行欽述以為了解釋方便。請表 ^阅第32圖，根據 該實施例之真空處理設備6〇〇句括有： —腔室本體610、 對上蓋罩移 一上蓋罩620、一或多個水平驅動單元63〇、— 動框架640、與複數個垂直驅動單元650。 在根據該實施例之真空處理設備600中，腔室本體61〇 大致上具有-矩形的盒狀，且上蓋罩620係分離地設置在 空腔室用以處理 面顯示基材具有 矩形基材之一矩 統（未顯示），以 腔室本體610上，以構成一真空腔室。真 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該 形的盒狀。真空腔室内部提供有〆排氣系 46 1304241 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而在腔室内建 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執行一期望的 製程。 腔室本體610形成有一基材入口，其做為一通道，用 於接收來自一外部站之基材以載入基材，或送出基材以卸 載基材。一般而言，基材是以平躺狀態而水平移動地被載 入與卸載，因此基材入口係穿透腔室本體6丨〇之一側壁。 為了開啟與關閉基材入口 ，腔室本體6丨〇具有一閘閥。基 材入口在載入與卸載基材期間是持續開啟的，但是在基材 完全載入後必須關閉，使得針對基材之一期望製程是被執 行於腔室之關閉狀態。是以，閘閥係垂直地移動以開啟與 關閉基材入口。 水平驅動單元630用以水平地移動上蓋罩620於面對 閘閥排列方向之方向。如第32圖所示，可以提供有複數個 水平驅動單το 6 3 0。在此情況中，該複數個水平驅動單元 63〇係分擔沈重的上蓋罩62〇之負載，可達到一提升的穩 定f生再者，上蓋罩6 2 0可以被支撐於複數個位置處，且 因而不會有上盍罩62〇震動之風險。這會增加處理操作之 穩定性。 ο對上蓋罩移動框架64〇係以一垂直可移動的方式而 位於上蓋罩620之相對側。上蓋罩移動框架64〇用以提供 、，平駆動單疋63〇之一水平移動路徑，使得上蓋罩MO水 平地移動以達到一足夠之用以開啟的旋轉半徑。 έ複數個垂直驅動單元65〇係耦接至每一上蓋罩移動 47 1304241 框架640之下表面，使其相互隔開一預定距離。垂直 單元650用以垂直地移動上蓋罩移動框架64〇與上 6 20。在該實施例中，不是直接地抬升上蓋罩62〇，而 升抬升其上支樓著上蓋罩620之上蓋罩移動框架mo 且’複數個小能力柱體（而非一單一大能力柱體）係 做為垂直驅動單元650，可以改善處理穩定性。是以 該實施例中，該複數個垂直驅動單元65〇係沿著每一 罩移動框架64〇排列。一下框架652係被提供於在每 蓋罩移動框架640之下方而相互平行，而使得該複數 直驅動單元650位於下框架652上而隔開該預定距離 佳者，該複數個垂直驅動單元650是被同時地驅動於 架652上，以垂直地移動上蓋罩移動框架64〇，使上 移動框架640能平行於地板移動。 請參閱第33圖，上蓋罩移動框架640之每一者係 割為第一部份640a與第二部份640b，其中該第一部份 係面對上蓋罩620，該第二部份640b係水平地延伸超 蓋罩620。較佳者，第二部份640b是可以朝向上蓋罩 側壁（其是垂直於該第一部份6 4 0 a )而可折疊的，從 其不使用時可被折疊以將真空處理設備佔據之面積 化。 根據該實施例之真空處理設備6 0 0可以更包含一 框架670’該支撐框架67〇係設置在腔室本體610旁 適用以當上蓋罩620沿著上蓋罩移動框架640水平移 能接收上蓋罩620。提供分離的支撐框架670具有一偵 驅動 蓋罩 是抬 。並 被用 ，在 上蓋 一上 個垂 0較 下框 蓋罩 被分 640a 過上 620 而使 最小 支撐 邊且 動時 :點， 48

1304241 即一單一支撐框架可被用於真空處理設備中的複數個 ^至°也就是’不需要對該複數個腔室各自地提供支 架，一單一可移動的支撐框架可被共用於該複數個真 室。 明參閱第34圖，在該實施例中，支撐框架67〇包名 水平框架部件672、垂直框架部件674與間隙填充 676。水平框架部件672具有相同於上蓋罩移動框架 之同度，且延伸於相同於上蓋罩移動框架040之方向 引上蓋罩120之水平移動。垂直框架部件674用以支 平杧架邻件672於相同於上蓋罩移動框架640之高度 佳者，垂直框架部件674係適用以調節水平框架部科 之同度，以消除水平框架部件672與上蓋罩移動框架 之間的高度差異。 間隙填充部件6 7 6係位於水平框架部件6 7 2之 -中該端係面對腔室。冑支撐框架接近上蓋罩 木640時，間隙填充部件676係適用以填充介於水 部件 6 7 2 -版 η» 一 蓋罩移動框架640之間之間隙。如同 者由於有e午多不同構件位於腔室周圍與導因於支 之本身結構’水平框架部件672難以緊密接觸於上 動框架’因此结 如第3 4圖所示，係分離地提供間隙 件 676以填斧么从 、兄"於水平框架部件672與上蓋罩移 640之間之間隙 永。在該實施例中，間隙填充部件 一樞紐可旋轉的士二、 万式而鉸鏈於水平框架部件 672， 傳送期間間隙壤右 異充部件676是被折疊，而其在使用 真空 樓框 空腔 t有： 部件 640 以導 撐水 〇較 .672 640 端， 動框 框架 知悉 框架 罩移 充部 框架 係以 得在 是被 49 1304241 柩紐地旋轉以填充介於水平框架部件672與上蓋箪移動框 架640之間之間隙。 較佳者’間隙填充部件6 7 6之每一者可以被提供有一 垂直驅動單元以確保其垂直移動。 較佳者’根據該實施例之支撐框架6 7 〇更包括有輪件 678以助於支撐框架670之移動。輪件678系各自裝設在 垂直框架部件674下端處，從而能減少介於垂直框架部件 6 74與地板之間的摩擦力，以能容易地水平移動垂直框架 部件674。 根據該實施例之支撐框架6 7 0可以更包括一對旋轉構 件6 77。旋轉構件677係用以旋轉上蓋罩620。在該實施例 中’該對旋轉構件6 7 7係裝設至水平框架部件6 7 2，使其 位於上蓋罩620之相對側，該上蓋罩620是介於該對旋轉 構件677之間。旋轉構件677係耦接至上蓋罩620之相對 側壁的中心，並且適用以旋轉地支撐上蓋罩620。是以， 當上蓋罩620被水平驅動單元640移動以達到一足夠的旋 轉半徑時，旋轉構件677即旋轉上蓋罩620，藉此上蓋罩 620能向上開啟以輕易管理與修復上蓋罩620之内部設備。 較佳者，支推框架670更包括有一或多個固定單元 679 ’以固定支撐框架670至腔室本體610。固定單元679 用以在水平移動與上蓋罩620旋轉之期間，避免支撐框架 670移動離開腔室本體610。在該實施例中，每一固定單元 679包括有一對固定塊體679a與一固定針梢679b。是以， 若該對固定塊體679a精確地相互對準，固定針梢679b則 50 1304241 插入 置。 蓋罩 升介 650 > 上方 以被 上蓋 動。 必須 620 ； 所示 此方 完成 開啟 該對固定塊體679a 室、 製程 該實 一上 元件 以維持支撐框架670於一固定位 以下，將解摆4日& 释根據該實施例之真空處理設備6 0 0的上 620之開啟/關閉程序。 首先，如第35A R % - A圖所不，上蓋罩移動框架640係被抬 於1公羞至 γ ^ 么羞之距離，而該複數個垂直驅動單元 ί系同時地被驅動。 助稭此’被支撐在上蓋罩移動框架640 之水平驅動 疋630、旋轉構件677與上蓋罩620可 抬升。错此，若經 — 釋放L至内一真空，如第35Β圖所示， 罩620即依據 瓜十驅動早TL 6 3 0之操作而水平地移 在此情況中’當使用支撐框架670時’支撐框架670 被設置成緊密接觸於上蓋罩移動框架64〇。在上蓋罩 火平移動以達到-足夠的旋轉半徑之後，如帛35C圖 ，則操作旋轉構件677以將上蓋罩62〇旋轉18〇。。依 式’上蓋罩620即向上開啟，而能修復其内設備。在 設備之修復之後，則逆順序地執行前述上蓋罩62〇之 程序，藉以關閉上蓋罩620。 第七實施例 根據該實施例之真空處理 一饋入腔室、與一或多個製程腔室，下文係針對^ 腔室進行敘述以為了解釋方便。請參閱第36圖，根據 施例之真空處理設備7〇〇包括有：一腔室本體71〇、 蓋罩720、一上蓋罩抬升元件730、與一水平驅動驅動 740 ° 51

1304241 在根據該實施例之真空處理設備7 0 0中，腔 大致上具有一矩形的盒狀，且上蓋罩720係分 腔室本體710上，以構成一真空腔室。真空腔 一大面積平面顯示基材（其中該大面積平面顯 矩形形狀），並且因此大致上具有對應於該矩形 形的盒狀。真空腔室内部提供有一排氣系統（ 在腔室内建立一真空。在藉由排氣系統操作而 立一真空之後，係對於置放在腔室内的基材執 製程。 腔室本體710形成有一基材入口，其做為 於接收來自一外部站之基材以載入基材，或送 載基材。一般而言’基材是以平躺狀態而水平 入與卸載，因此基材入口係穿透腔室本體710 為了開啟與關閉基材入口，腔室本體7 1 0具有 材入口在載入與卸載基材期間是持續開啟的， 完全载入後必須關閉，使得針對基材之一期望 行於腔室之關閉狀態。是以，當閘閥垂直地移 開啟與關閉基材入口。 請參閱第36圖，上蓋罩抬升元件73〇係分 上蓋罩720上，以垂直地移動上蓋罩720。在該 在上蓋罩720水平移動以為了開啟操作之前， 係藉由使用上蓋罩抬升元件7 3 〇而被抬升一預） 該實施例之上蓋罩抬升元件7 3 〇包括有： 起重件732與一起重件支擇框架734。舉升起 室本體710 離地設置在 室用以處理 7F基材具有 基材之一矩 (顯示），以 在腔室内建 行一期望的 一通道，用 出基材以卸 移動地被载 之一側壁。 一閘閥。基 但是在基材 製程是被執 動時，即能 離地設置在 實施例中， 上蓋罩720 定距離。 複數個舉升 重件732係 52

1304241 耦接至支撐框架734以向下延伸，從而使其耦接至上 72 0之上表面以抬升上蓋罩720。該複數個舉升起重件 係各自地耦接至上蓋罩7 2 0之複數個位置，以分擔沈 上蓋罩720之負載。使用複數個耦接至上蓋罩720之 起重件732來抬升上蓋罩720具有分散負載積聚之效 此外，由於在複數個位置處支撐住上蓋罩 720，在上 720之垂直移動期間的上蓋罩720震動可以被最小化。 起重件支撐框架734係位於上蓋罩720上方而平 隔開於上蓋罩720之上表面，並且具有對應於上蓋罩 邊緣之形狀。該複數個舉升起重件732係耦接至起重 撐框架 7 3 4之適當的部份而被起重件支撐框架 7 3 4 住。請參閱第37圖，起重件支撐框架734大致上具有 於上蓋罩 720邊緣之一矩形環狀，但其寬度大於上 720。為了使該複數個舉升起重件 732被排列於不同 中，如第37圖所示，係提供有一輔助框架733於起重 撐框架7 3 4。輔助框架7 3 3係排列在起重件支撐框架 内而延伸越過起重件支撐框架734。如第37圖所示， 起重件372係位於輔助框架73 3之相交處。 根據該實施例之上蓋罩抬升元件73 0是可以藉由 至一清潔室頂部的一主要起重件而由一位置移動至其 置，其中真空處力設備是安裝在該清潔室内。詳言之 蓋罩抬升元件730是藉由該主要起重件而被抬升，使 由一真空處理設備移動至另一真空處理設備以開啟設 上蓋罩。是以，較佳者，起重件支撐框架734是以耦 蓋罩 732 重的 舉升 果。 蓋罩 行地 720 件支 支撐 對應 蓋罩 位置 件支 734 舉升 裝設 他位 ，上 得其 備之 接件 53

1304241 (未顯示）而被提供在真空處理設備之上表面以與主要起 重件輕接。使用可移動之上蓋罩抬升元件73〇係消除了對 真空處理設備之所有製程腔室各自提供上蓋罩枱升元件之 需要’藉此減少製造成本且簡化設備結構。 較佳者，根據該實施例之上蓋罩抬升元件7 3 〇具有一 防震動構件73 6。防震動構件73 6是位於起重件支撐框架 734與上蓋罩72〇之間，且適用以當上蓋罩被抬升或 :降時避免上蓋罩720震動。在該實施例中，如第％圖所 不，防震動構件73 6可以包括有複數個彈性彈簧。在此情 况中，較佳者，彈性彈簧736耦接至上蓋罩72〇之上表面 的邊緣或角落，以增加上蓋| 72〇之防震動性能。當防震 動構件736由彈性彈簧所形成時，其可以吸收上蓋罩72〇 動且彈ϋ地抵罪上盍罩7 2 〇，而增加防震動性能。 或者，請參閱第38圖，防震動構件736可以包括有一 罩動型架736a，防震動型架736a之形狀係對應於上蓋 720之邊緣。防震動型架73“係配置成與一震動制止塊 耦接其中該制止塊722係形成在上蓋罩72〇之上表 在此it况中’為了有效地避免上蓋罩之震動，震 接雜龙722與防震動型架736a必須被配置成相互地緊密 塊7?纟該實施例中，如第3 8圖所示，較佳者，震動制止 足722與防震動】加 .y 1木73 6a兩者之接觸表面皆是向外傾斜， 確保當上蓋罩72〇 #於 而7 2〇被抬升時，震動制止塊722之接觸表 其上=平順地接觸於防震動型架736a之接觸表面以滑到 54 1304241

較佳者，防震動型架736a具有上蓋罩高度感測器 73 8，以精確地量測上蓋罩720之高度。上蓋罩高度感測器 738係位於防震動型架73 6a與震動制止塊722之間，以偵 測經抬升之上蓋罩720的高度。精確地量測上蓋罩720之 高度是重要的，這是因為上蓋罩7 20被完全地抬升之後， 若動力持續施加至舉升起重件7 3 2，則上蓋罩7 2 0或起重 件會被損壞。並且，當上蓋罩720被抬升的不足時，在上 蓋罩720之水平移動期間會對〇型環造成損壞。因此，在 該實施例中，上蓋罩高度感測器7 3 8 (其是一種接觸型感 測器）係被提供在防震動型架736a之接觸表面處，從而使 當被舉升之上蓋罩720碰觸感測器728時，舉升起重件732 之操作能停止。 水平驅動元件740係被配置成設置在上蓋罩72〇之相 對側’使得上蓋罩7 2 0位於其之間。水平驅動元件7 4 0用 以當上蓋罩720被上蓋罩抬升元件730抬升之後，水平地 移動上蓋罩720。請參閱第36圖，水平驅動元件740係支 律住起重件支撐框架7 3 4之相對側，以水平地移動起重件 支標框架734’且因此水平地移動被抬升之上蓋罩72〇(其 中該上蓋罩720是耦接至該起重件支撐框架734)。因此， 在該實施例中，水平驅動元件74〇包括有一對導引執道742 ^驅動馬達（未顯示）。如第36圖所示，導引執道742 觸於起重件支撐框架7 3 4之相對側，以水平地導引起重 2支撐框架734。驅動馬達提供了需要水平移動起重 卜 。是以’驅動馬達係輕接至起重件支樓 55 1304241 框架734與導引軌道742兩者，以水平地移動起重件支撐 框架734 。 根據該實施例之真空處理設備7 00可以更包含一支撐 框架770，該支撐框架770係設置在腔室本體710旁邊且 適用以當上蓋罩720被水平驅動元件740水平地移動時能 接收上蓋罩720。提供分離的支撐框架770具有一優點， 即一單一支撐框架可被用於真空處理設備中的複數個真空 腔室。也就是，不需要對該複數個腔室各自地提供支撐框 架’一可移動的支撐框架可被共用於該複數個真空腔室。 請參閱第39圖，在該實施例中，支撐框架77〇包括有： 一水平框架部件7 72、垂直框架部件7 74、間隙填充部件 776與旋轉構件777。水平框架部件772具有相同於導引轨 道742之高度，且延伸於相同於導引執道742之方向以導 引上蓋罩720之水平移動。垂直框架部件774用以支撐水 平框架部# 772於相同於導引執冑742之高度。較佳者， 垂直框架部件774係適用以調節水平框架部件772之高 度，以消除水平框架部件與導引執冑742之間的高度差 間隙填充部件776係位於水平框架部件772之一端、， ^該端係面對腔室。…框架770接近導引軌道時： =填充部件7則適用以填充介於水平框架部件川盘 :引軌道742之間之間隙。"所知悉者，由於有許多： =件位於腔室周圍與導因於支揮框架之本身結 框木部件772難以緊密接觸於 平 39ffl^ 難乂緊在接觸於導弓I軌道742。因此，如第 斤不，係分離地提供間隙填充部件Μ以填充介於水 56 用以在上蓋罩720被移動至支 罩7 2 〇。在該實施例中，該對旋 部件772之中心，從而使其係 亦即’旋轉構件7 7 7位於上蓋

1304241 平框架部件772鱼導引勒 φ , pe ^ 丨軌道742之間之間隙。在該 間隙填充部件776 7lc ,ρ . ^ 你U 一樞紐可旋轉的方式而 水千框架部件772 被狀晶 使侍在傳送期間間隙填充部件 加邱：，m其在使用時是被樞紐地旋轉以填充介於 木…72與導引軌道％之間之間隙。 較佳者’間隙填充部件^之每—者可以被提 驅動：元以確保其垂直移動。雖然沒顯示，較 +直驅動單元具有一球 Ίη 瓦螺衿之外形，以達到間隙填 76之精確垂直移動。 旋轉構件7 7 7 770之後而旋轉上蓋 777係位於水平框架 輕接至上蓋罩720。 之相對側，且可以水平移動以耦接於耦接件724， 些耦接件724是位於上蓋罩72〇之相對側壁處。因 上蓋罩720到達—旋轉位置時，旋轉構件777即與 724耦接以將上蓋罩72〇旋轉18〇〇。 較佳者，間隙填充部件776之每一者可以被提 垂直驅動單元，以確保其垂直移動。 較佳者，根據該實施例之支撐框架77〇更包括 8以助於支撐框架770之移動。輪件係各自 垂直框架部件774下端處，從而能減少介於垂直框 774與地板之間的摩擦力，以能容易地水平移動垂 部件774 。 實施例 鼓鍵於 7 7 6是 水平樞 供有一 佳地， 充部件 撐框架 轉構件 分離地 -罩 720 其中該 此，當 耦接件 供有一 有輪件 裝設在 架部件 直框架 57 1304241 較佳者，支撐框架770更包括有一或多個固定單元 779，以固定支撐框架770至腔室本體71〇。固定單元779 用以在水平移動與上蓋罩720旋轉之期間，避免支撐框架 770移動離開腔室本體71〇。在該實施例中，每一固定單元 779包括有一對固定塊體779a與—固定針梢779b。是以， 若該對固疋塊體779a精確地相互對準，固定針梢779b則 插入該對固定塊體779a，以維持支撐框架77〇於一固定位 置。 以下’將解釋根據該實施例之真空處理設備7 〇 〇的上 蓋罩320之開啟/關閉程序。 首先’如第40A圖所示，藉由同時驅動該複數個舉升 起重件732，上蓋罩72〇則被抬升介於i公釐至1〇公釐之 距離。當上蓋罩720被抬升時，即釋放腔室内之一真空。 接著，如第40B圖所示，上蓋罩720與起重件支撐框架734 依據水平驅動元件74〇之操作而水平地移動。在此情況 中’當使用支撐框架770時，支撐框架77〇必須被設置成 緊密接觸於導引執道742 ^在上蓋罩720水平地移動以確 保其穩定旋轉之後，如第40C圖所示，則操作旋轉構件777 以將上蓋罩72〇旋轉18〇。。依此方式，上蓋罩72〇即向上 啟 而修復其内設備。在完成設備之修復之後，則逆 順序地執行前述上蓋罩720之開啟程序，藉以關閉上蓋罩 72 0 〇 &

請參閱第41圖與第42圖，根據本發明之較佳實施例 58

1304241 之一傳送舉升型架系統包括有：一主體 810、第一至 連接環圈816、818、826、螺桿820、移動件822、一 830、一下板834、軸承836、與一固定板838。 主體810具有一方形形狀，其具有適當厚度。主II 具有：四個導引溝槽 812，其係由一中心點對角線地 至主體之四角落而達一預定距離；以及一十字延伸部 係自主體8 1 0中心點向上延伸一預定距離。 導引溝槽8 1 2係等距離地相互隔開9 0 °，且每一 有一下向漸細的截面。 在該實施例中，主體8 1 0係部份地下凹以減少材 本。下凹之結構亦具有強化主體8 1 0整體強度之功能 二連接環圈8 1 8係各自地裝設於主體8 1 0之上表面的 落處，以使.當需要傳送一特定沈重的物件時，起重件 電纜可連接至第二連接環圈8 1 8。藉由使用連接環圈 而將起重件C之電纜連接至主體8 1 0之角落可以達到 分散負載之效果。 第一連接環圈816係裝設至延伸部814之上表面 接至位於清潔室頂部的起重件C，其中該延伸部8 1 4 於主體8 1 0之中心。 螺桿8 2 0係各自地被收納於導引溝槽8 1 2中，而 者在隔開於其前端與後端的預定距離之位置處被置 承。螺桿820由左與右螺桿所組成。儘管左與右螺转 兩者具有相同的旋轉方向，左與右螺桿820可使移動卡 (其中該些移動件822係各自地固定至螺桿820 )同 第三 電源 810 延伸 ，其 者具 料成 。第 四角 C之 818 均勻 以連 係位 每一 入軸 820 * 822 時地 59 1304241 向内或向外移動，藉此移動件8 U之部份能同時而一致地 改變。 每移動件822具有一向下漸細之塊體形狀，該塊體 升y狀疋對應於導引溝槽8丨2之截面。移動件$ 2 2係被水平 也穿出孔/同，使得一對螺帽8 2 4係裝設在孔洞之相對端 ，處。螺桿係旋轉地固定至螺帽824。第三連接環圈826係 • 裝設至移動件822之下表面的中心。 Φ 電源8 3 〇具有一空心的垂直柱體形狀，且為階梯狀的 而使其上端是比其下端還要窄。u形握把M2是沿著電源 830上端而在周圍地設置。電源“ο是位於一穿孔的上端 區域中，其中該穿孔係垂直地穿透主體81〇之中心。 電源830形成在主體之具有螺紋的下表面4,且該些 螺紋是卡合於形成在每一碟4曰。 累+于8 2 0前端處之螺紋。藉此結 構 右電源8 3 〇旋轉於一方向，經由電源8 3 〇之卡合螺紋 與螺桿8 2 0之螺紋，該複數彳 個螺桴8 2 0可同時地旋轉。因 為左與右螺桿82G係相互地相對，@定至” 82( • 彳822可同時地向内或向外移動，以一致妯^ 下板834係被插入穿孔一 改變位置。 穿透主體81〇中心。為此目的mg’其中該穿孔是 •得其上端是比其下端還要窄。、一下板834是階梯狀的而使 。一軸承836是嚙人s卞上 乂 之一階梯狀部份。軸承836用、 嘴。至下板834 •接觸於每一螺桿820之下端的^表垂直地支撐下板824’且 詳言之’若電源、830旋轉，下接表觸面於電源 即會旋轉。在此情況中，細& '、 之螺桿8 2 〇 承836係接觸於每-螺桿82。 60 241 之下表面，用以促進螺# 82〇之旋轉。 固定板838夏古 定$ + 一 一碟盤形狀，且經由複數個螺栓被固 1主體810之下矣& (^ . 面的中心。固定板838用以將下板834 '車由承836是固定 中，、、、* 疋至該下板834)定位在主體810之 、穿孔内，以偾亂名 士 之#山 承836之上表面接觸於每一螺桿820 則‘的下表面。 的#則所述，每一被收納在主體810之導引溝槽812内 J移動件899目士 八有一倒梯形形狀，因此每一移動件822具 ’相對的傾斜矣& m 八 ^ 。因此，即使移動件822沒有藉由使用 :的固定元件而被固定至導引部份“2,移動件822之 動3經由相對的傾斜表面而被導引（請參閱第43圖）。 1由引述結構，如第4丨_ 4 3圖所示，本發明之傳送舉 升型架糸統（其具有-預定尺寸）能傳送-腔室（未顯示） 之一上蓋罩（未顯示），這是因為連接環圈820可以向内或 向外移動至對應於上蓋罩尺寸之適當位置，。 在此，為了改變連接環圈826之位置，握把832首先 被手動地旋轉於一方向以旋轉電源83〇，其中該些握把832 是沿著電源830上端而周圍地設置。若電源83〇旋轉，則 電源8 3 0之下表面的螺紋就會旋轉，使得卡合於電源8 3 〇 螺紋之四個螺桿820可以同時地旋轉。因為左螺桿82〇之 螺紋係被形成為相反於右螺桿829之螺紋，固定至左與右 螵桿820之移動件822可以同時地向内或向外移動，藉此 改變位置。是故，裝設在移動件822下表面之連接環圈826 也會改變位置。依此方式，當需要傳送一大面積之上蓋罩 61

1304241 或其他不同平板時，移動件822係向外移動，以能輕易地 耦接於上蓋罩。相反地，當需要傳送一小面積之上蓋罩或 其他不同平板時，移動件8 2 2係向内移動，以能輕易地耦 接於上蓋罩。 電源8 3 0之操作可以由一驅動馬達（未顯示）來執行。 由前述說明可明顯得知，本發明提供了 一種大尺寸之 真空處理設備，其是適用於處理大面積基材，具有以下效 果。 首先，根據本發明，上蓋罩僅需要簡化的旋轉，且具 有簡單結構之水平驅動元件與腔室本體可以垂直地移動， 而能輕易達到上蓋罩之開啟/關閉操作。 其次，根據本發明，當上蓋罩水平地移動至介於製程 腔室之間的一未使用空間之後，上蓋罩即可被開啟。這具 有達到明顯減少真空處理設備的佔據面積之效果。 雖然本發明之較佳實施例已經為了說明目的而被揭 示，熟習此領域之技術人士將可以瞭解的是，在不脫離本 發明隨附申請專利範圍所揭示之範圍與精神下，不同的變 更、添加與取代是有可能的。 【圖式簡單說明】 本發明之前述與其他目的、特徵及其他優點，可由以 上詳細說明與其相關的伴隨圖式而能更加瞭解，其中： 第1圖為繪示一習知真空處理設備之各個腔室的佈局 圖； 62

1304241 第2圖為繪示習知真空處理設備之内部的截面圖； 第3圖為繪示一習知上蓋罩開啟/關閉元件之立體圖； 第4圖為繪示根據本發明第一實施例之一真空處理設 備的截面圖； 第5圖為繪示根據本發明第一實施例之一内壁結構與 一内壁結構抬升元件的側視圖； 第6圖為繪示根據本發明第一實施例之一真空處理設 備的立體圖； 第7圖為繪示根據本發明第一實施例之一支撐框架的 側視圖； 第8A-8C圖為繪示根據本發明第一實施例之真空處理 設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第9圖為繪示根據本發明第二實施例之一真空處理設 備的截面圖； 第 1 0圖為繪示根據本發明第二實施例之一内壁結構 與一内壁結構抬升元件的側視圖； 第1 1圖為繪示根據本發明第二實施例之一上蓋罩移 動框架的立體圖； 第1 2圖為繪示根據本發明第二實施例之一水平驅動 元件的截面圖； 第13圖為繪示根據本發明第二實施例之一支撐框架 的側視圖； 第1 4A-1 4C圖為繪示根據本發明第二實施例之真空處 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 63

1304241 第1 5圖為繪示根據本發明第三實施例之一真空處理 設備的截面圖； 第1 6圖為繪示根據本發明第三實施例之一密封元件 與一密封元件驅動單元的側視圖； 第1 7圖為繪示根據本發明第三實施例之密封元件驅 動單元與一水平驅動單元之配置的平面圖； 第1 8圖為繪示根據本發明第三實施例之密封元件的 截面圖； 第1 9圖為繪示根據本發明第三實施例之一支撐框架 的側視圖， 第20A-20C圖為繪示根據本發明第三實施例之真空處 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第 21圖為繪示根據本發明第四實施例之一真空處理 設備的截面圖； 第 22圖為繪示根據本發明第四實施例之一腔室本體 抬升元件的側視圖； 第 23圖為繪示根據本發明第四實施例之真空處理設 備的立體圖； 第 24圖為繪示根據本發明第四實施例之一支撐框架 的側視圖， 第25A-25C圖為繪示根據本發明第四實施例之真空處 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第 2 6圖為繪示根據本發明第五實施例之一真空處理 設備的截面圖； 64

1304241 第 2 7圖為繪示根據本發明第五實施例之一腔室本體 抬升元件的側視圖； 第 2 8圖為繪示根據本發明第五實施例之一上蓋罩移 動框架的立體圖； 第 2 9圖為繪示根據本發明第五實施例之一水平驅動 元件的截面圖； 第3 0圖為繪示根據本發明第五實施例之一支撐框架 的側視圖； 第3 1 A-3 1 C圖為繪示根據本發明第五實施例之真空處 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第3 2圖為繪示根據本發明第六實施例之一真空處理 設備的截面圖； 第 3 3圖為繪示根據本發明第六實施例之真空處理設 備的立體圖； 第 34圖為繪示根據本發明第六實施例之一支撐框架 的側視圖， 第35 A-35C圖為繪示根據本發明第六實施例之真空處 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第 3 6圖為繪示根據本發明第七實施例之一真空處理 設備的截面圖； 第3 7圖為繪示根據本發明第七實施例之一上蓋罩抬 升元件的平面圖； 第 3 8圖為繪示根據本發明第七實施例之一防震動構 件的截面圖； 65

1304241 第3 9圖為繪示根據本發明第七實施例之 的側視圖； 第40A-4 0C圖為繪示根據本發明第七實施 理設備内一上蓋罩之開啟程序的截面圖； 第 4 1圖為繪示根據本發明第八實施例之 型架系統之平面圖； 第42圖為第41圖之截面圖；以及 第43圖沿著第42圖之線A-A的截面圖。 支撐框架 之真空處 傳送舉升 【主要元件符號說明】 C 起重件 E 基材入口 G 閘閥 0 輔助密封件 P 製程腔室 R 負載腔室 T 饋入腔室 1 習知製程腔室 10 腔室本體 20 上蓋罩 50 開啟/關閉元件 60 水平移動導引部 100 真空處理設備 110 腔室本體 66 1304241

120 上蓋罩 122 溝槽 140 水平驅動元件 142 導引執道 142a 第一部份 142b 第二部份 150 内壁結構 152 密封構件 154 連接桿 156 輔助密封構件 160 内壁結構抬升元件 162 導引板 164 驅動馬達 170 支撐框架 172 水平框架部件 174 垂直框架部件 176 間隙填充部件 177 旋轉構件 178 輪件 179 固定單元 179a 固定塊體 179b 固定針梢 200 真空處理設備 210 腔室本體 67 1304241

220 上蓋罩 222 插入溝槽 240 水平驅動元件 242 上蓋罩移動框架 242a 第一水平框架部件 242b 第一垂直框架部件 244 水平移動件 244a 滾筒 244b 垂直連接件 244c 馬達 250 内壁結構 252 密封構件 254 連接桿 256 辅助密封構件 260 内壁結構抬升元件 262 導引板 264 驅動馬達 270 支撐框架 272 第二水平框架部件 274 第二垂直框架部件 276 間隙填充部件 277 旋轉構件 278 輪件 279 固定單元 68

1304241 279a 固定塊體 279b 固定針梢 300 真空處理設備 310 腔室本體 312 向外延伸之下突出部 320 上蓋罩 322 向外延伸之上突出部 340 水平驅動元件 342 上蓋罩移動框架 344 水平移動件 344a 滚筒 344b 垂直連接件 344c 馬達 3 50 密封元件 350a 密封元件 3 52 下接觸表面 352a 下接觸表面 3 54 上接觸表面 354a 上接觸表面 360 密封元件驅動單元 362 滾筒 364 凸輪 366 凸輪旋轉制停塊 370 支撐框架 69

1304241 372 第二水平框架部件 374 第二垂直框架部件 376 間隙填充部件 377 旋轉構件 3 78 輪件 379 固定單元 379a 固定塊體 379b 固定針梢 400 真空處理設備 410 腔室本體 412 離心補償體插入凹部 420 上蓋罩 440 水平驅動元件 442 導引執道 442a 第一部份 442b 第二部份 450 腔室本體抬升元件 452 抬升驅動構件 454 導引構件 456 離心補償體 460 腔室基座框架 470 支撐框架 472 水平框架部件 474 垂直框架部件 70 1304241 476 間隙填充部件 477 旋轉構件 478 輪件

479 固定單元 479a 固定塊體 479b 固定針梢 500 真空處理設備 510 腔室本體 512 離心補償體插入凹部 520 上蓋罩 540 水平驅動元件 542 上蓋罩移動框架 542a 第一水平框架部件 542b 第一垂直框架部件 544 水平移動件 544a 滚筒 544b 垂直連接件 544c 馬達 544d 滚筒 550 腔室本體抬升元件 552 抬升驅動構件 554 導引構件 556 離心補償體 560 腔室基座框架 71

1304241 570 支撐框架 572 第二水平框架部件 574 第二垂直框架部件 576 間隙填充部件 5 77 旋轉構件 5 78 輪件 579 固定單元 579a 固定塊體 579b 固定針梢 600 真空處理設備 610 腔室本體 620 上蓋罩 630 水平驅動單元 640 上蓋罩移動框架 640a 第一部份 640b 第二部份 650 垂直驅動單元 652 下框架 670 支撐框架 672 水平框架部件 674 垂直框架部件 676 間隙填充部件 677 旋轉構件 678 輪件 72 1304241

679 固 定 單 元 679a 固定％ L體 679b 固定針梢 700 真 空 處 理 設 備 710 腔 室 本 體 720 上 蓋 罩 722 震 動 制 止 塊 724 耦 接 件 730 上 蓋 罩 抬 升 元 件 732 舉 升 起 重 件 733 輔 助 框 架 734 起 重 件 支 撐 框 架 736 防 震 動 構 件 736a 防震動型架 738 上 蓋 罩 高 度 感 測 器 740 水 平 驅 動 驅 動 元 件 742 導 引 執 道 770 支 撐 框 架 772 水 平 框 架 部 件 774 垂 直 框 架 部 件 776 間 隙 填 充 部 件 111 旋 轉 構 件 778 輪 件 779 固 定 單 元 73 固定塊體 固定針梢 主體 導引溝槽 延伸部 第一連接環圈 第二連接環圈 螺桿 移動件 螺帽 第三連接環圈 電源 握把 下板 軸承 固定板 74

Claims (1)

1. 1304241 拾、申請專利範圍： 1. 一種真空處理設備，其至少包含一腔室本體與一隔開於 該腔室本體之上蓋罩，該真空處理設備更包含： 一水平驅動元件，係位於該上蓋罩之外部且適用以水 平地移動該上蓋罩；以及 一關閉機制，係適用以執行一垂直移動，以關閉與開 啟介於該腔室本體與該上蓋罩之間之一間隙。 2. 如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該關閉機制包 括： 一内壁結構，係插入該上蓋罩之側壁，且適用以經由 其垂直移動以關閉與開啟介於該腔室本體與該上蓋罩之間 之該間隙；以及 一内壁結構抬升元件，係位於該上蓋罩上方，且適用 以垂直地移動該内壁結構。 3. 如申請專利範圍第2項所述之設備，其中該内壁結構包 括： 一密封構件，係插入一插入溝槽中，其中該溝槽係沿 著該上蓋罩之側壁之下表面而凹陷，該密封構件係適用以 密封住介於該上蓋罩與該腔室本體之間之該間隙； 複數個連接桿，係垂直地穿透該上蓋罩之側壁的特定 位置，以連接該上蓋罩至該内壁結構抬升元件；以及 75 1304241 一輔助密封構件，係設置成緊密接觸於該密封構件之 一表面與該上蓋罩之一表面，且適用以助於在該腔室本體 與該上蓋罩内建立一真空。 4.如申請專利範圍第3項所述之設備， 其中該密封構件具有一階梯狀下部份，該階梯狀下部 ‘ 份係定義了 一第一接觸表面與一第二接觸表面，並且 φ 其中該第一接觸表面係接觸於該腔室本體之側壁之上 表面，且該第二接觸表面係接觸於該輔助密封構件。 5 .如申請專利範圍第3項所述之設備，其中該内壁結構抬 升元件包括： 一導引板，係位於該上蓋罩上方，且耦接至該複數個 連接桿之上端，以導引該些連接桿之同時移動；以及

   複數個驅動馬達’係固定地裝設在該導引板上，以垂 直地移動該導引板。 6.如申請專利範圍第1項所述之設備，更包含： 一支撐框架，係設置在該腔室本體旁邊，且適用以當 該上蓋罩被該水平驅動元件水平地移動時，可以接收該上 蓋罩。 7 ·如申請專利範圍第6項所述之設備，其中該支撐框架包 76 1304241 括一對旋轉構件，該對旋轉構件係設置在該支撐框架上以 當該上蓋罩移動至該支撐框架上時可以耦接至該上蓋罩， 藉此能夠旋轉該上蓋罩。 8.如申請專利範圍第6項所述之設備，其中該水平驅動元 件包括： 一上蓋罩移動框架，係設置在該上蓋罩之相對倒，而 位於高於一閘閥之驅動高度的位置，該上蓋罩移動框架提 供了該上蓋罩之一水平移動路徑；以及 一對水平移動件，其每一者具有第一端與第二端，其 中該第一端係固定地設置在該上蓋罩移動框架上，且該第 二端係耦接至該些旋轉構件，該些水平移動件係用以沿著 該上蓋罩移動框架水平地移動該上蓋罩。 9·如申請專利範圍第8項所述之設備，其中該上蓋罩移動 框架包括： 一對第一水平框架部件，其每一者係在其上表面支撐 該些水平移動件之其一者的第一端；以及 禝數個第一垂直框架部件，係耦接至該些第一水平框 架部件之下表面，以支撐該些第一水平框架部件於一預定 兩度。 10·如申請專利範圍第8項所述之設備，其令該些水平移 77

   1304241 動件之每一者包括： 一滾筒，係耦接至該上蓋罩移動框架，以在其上 一旋轉移動； 一垂直連接件，係在不同高度處連接至該滾筒與 蓋罩之中心兩者；以及 一馬達，係用以提供需要旋轉該滾筒之動力。 11.如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該關閉 係用做為一密封元件，其係選擇性地密封住該腔室本 該上蓋罩兩者之邊緣區域，且可以分離開該腔室本體 上蓋罩兩者。 1 2 ·如申請專利範圍第11項所述之設備，其中該密封 係移動於一對角線方向，該對角線方向係偏離該閘閥 動路徑。 1 3 .如申請專利範圍第1 2項所述之設備， 其中該腔室本體具有：沿著其上端表面之一向外 的下突出部，與沿著其下端表面之一向外延伸的上 部，並且 其中該密封元件具有：一下接觸表面，用以緊密 於該下突出部；與一上接觸表面，用以緊密接觸於該 出部， 執行 該上 機制 體與 與該 元件 之移 延伸 突出 接觸 上突 78 1304241 藉此，該腔室本體之該下與上突出部及該上蓋罩可以 同時地緊密接觸於該密封元件之該下與上接觸表面，而能 夠密封住該腔室本體與該上蓋罩之内部。 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項所述之設備，其中該該密封元 件之該下或上接觸表面係具有一傾斜表面之外形，且該下 或上突出部具有對應於該傾斜的下或上接觸表面之一傾斜

   1 5.如申請專利範圍第1 4項所述之設備，其中至少一輔助 密封件被形成在該密封元件之該下或上接觸表面處，該輔 助密封件是由一彈性材料所製成且適用以協助該腔室本體 與該上蓋罩之内部的密封。

   1 6 ·如申請專利範圍第1 4項所述之設備，其中該密封元件 具有複數個密封元件驅動單元，該些密封元件驅動單元係 耦接至該密封元件以移動該密封元件於一對角線方向。 1 7.如申請專利範圍第1 6項所述之設備，其中該些密封元 件驅動單元之每一者包括： 一可旋轉之滾筒，係位於該密封元件之下方角落之其 一處； 一凸輪，係接觸於該滚筒而設置成能執行一旋轉運 79 1304241 動，且適用以移東該密封元件於該對角線方向。 18. —種真空處理設備，其至少包含一腔室本體與一上蓋 罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基材，該 上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該真空處理設備更 包含：

   一腔室本體抬升元件，係裝設在該腔室本體之一下表 面，且適用以垂直地移動該腔室本體；以及 一水平驅動元件，係裝設在該上蓋罩之一外表面，且 適用以支撐該上蓋罩於一預定高度而能水平地移動該上蓋 罩。 19.如申請專利範圍第18項所述之設備，其中一導引構件 係被提供在該腔室本體之外部，以導引該腔室本體之垂直 移動。

   2 0.如申請專利範圍第19項所述之設備，其中該腔室本體 抬升元件包括數個摺箱柱體。 2 1.如申請專利範圍第2 0項所述之設備，其中該水平驅動 元件包括： 一上蓋罩移動框架，係設置在該上蓋罩之外表面的周 圍，而位於高於該閘閥之驅動高度的位置，該上蓋罩移動 80 1304241 框架提供了該上蓋罩之一水平移動路徑；以及 一對水平移動件，其每一者具有第一端與第二端，其 中該第一端係緊密接觸於該上蓋罩移動框架以在其上移 動，且該第二端係耦接至該上蓋罩。 22.如申請專利範圍第2 1項所述之設備， 其中該上蓋罩移動框架包括：

   一對第一水平框架部件，係位於該腔室本體之相 對側，該腔室本體之相對側之其一者係被提供有該閘閥， 該些第一水平框架部件之每一者具有形成在其狹長上表面 之齒輪；以及 複數個第一垂直框架部件，係耦接至該些第一水 平框架部件，以支撐該些第一水平框架部件，並且 其中該些水平移動件之每一者包括： 一驅動軸，係具有驅動齒輪以卡合於該些第一水 平框架部件之其一者之齒輪；以及 一驅動馬達，係裝設在該上蓋罩上。 23. —種真空處理設備，其至少包含一腔室本體與一上蓋 罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基材，該 上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該真空處理設備更 包含： 一或多個水平驅動單元，係支撐該上蓋罩以水平地移 81 1304241 動該上蓋罩於面對該閘閥排列方向之方向； 一對上蓋罩移動框架，係以一垂直可移動之方式而位 於該上蓋罩之相對側，且適用以提供該些水平驅動單元之 一水平移動路徑；以及 複數個垂直驅動單元，係相互隔開一預定距離而耦接 至該些上蓋罩移動框架之每一者之下表面，該些垂直驅動 單元係用以垂直地移動該些上蓋罩移動框架與該上蓋罩。

   24.如申請專利範圍第23項所述之設備， 其中該設備更包含一對下框架，係平行地隔開於該些 上蓋罩移動框架之下端，該複數個垂直驅動單元係被排列 在該些下框架上而隔開預定距離，並且 其中該複數個垂直驅動單元係在該些下框架上被同時 地驅動，以垂直地移動平行於地板之該些上蓋罩移動框架。 25.如申請專利範圍第23項所述之設備，更包含 一支撐框架，係設置在該腔室本體旁邊，且適用以當 該上蓋罩被該些上蓋罩移動框架水平地移動時，可以接收 該上蓋罩。 26. —種真空處理設備，其至少包含一腔室本體與一上蓋 罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基材，該 上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該真空處理設備更 82 1304241 包含= 一上蓋罩抬升元件，係分離地設置在該上蓋罩上，以 垂直地移動該上蓋罩；以及 一水平驅動元件，係設置在該上蓋罩之相對側，且適 用以在該上蓋罩被該上蓋罩抬升元件抬升之後，可以水平 地移動該上蓋罩。

   2 7.如申請專利範圍第26項所述之設備，其中該上蓋罩抬 升元件包括： 複數個舉升起重件，係耦接至該上蓋罩之上表面，以 抬升該上蓋罩；以及 一起重件支撐框架，係平行地隔開於該上蓋罩之上表 面，該複數個舉升起重件係耦接至該起重件支撐框架且被 該起重件支撐框架所支撐。 2 8.如申請專利範圍第2 7項所述之設備，其中該上蓋罩抬 升元件更包含： 一防震動構件，係位於該起重件支撐框架與該上蓋罩 之間，且適用以當該上蓋罩被抬升時能避免該上蓋罩之震 動0 2 9.如申請專利範圍第28項所述之設備，其中該防震動構 件為一防震動型架，其具有對應於該上蓋罩的邊緣區域之 83 1304241 形狀，該防震動型架係耦接於形成在該上蓋罩上表面之 防震動制止塊，以避免該上蓋罩之震動。

   3 〇.如申請專利範圍第2 9項所述之設備，其中該防震動 架係被提供有一或多個上蓋罩高度感測器，該些上蓋罩 度感測器係位於該防震動型架與該防震動制止塊之間， 偵測被抬升之上蓋罩之高度。 3 1.如申請專利範圍第30項所述之設備，其中該些上蓋 高度感測器為接觸型感測器。 型 以

   32. —種真空處理設備，其至少包含一腔室本體與一上 罩，該腔室本體具有一閘閥以用於載入與卸載一基材， 上蓋罩係分離地設置在該腔室本體上，該真空處理設備 包含： 一傳送舉升型架系統，且 其中該傳送舉升型架系統包括： 一主體，係具有一多邊柱體形狀而具有一適當 度，該主體係在中心地被提供有一連接環圈；以及 複數個連接環圈，係被提供在該主體之下表面 各自角落，而以一對角線方向朝向該主體之中心移動， 些連接環圈可以同時地向内或向外移動以改變位置。 罩 蓋 該 更 厚 之 該 84 1304241 3 3 .如申請專利範圍第3 2項所述之設備，其中該主體包括： 複數個導引溝槽，係穿透該主體之一厚度，而自該中 心對角線地延伸至該主體之角落； 複數個螺桿，係各自地被收納在該主體之該些導引溝 槽内，而在其相對末端固定至該主體；

   複數個移動件，其每一者係固定至該些螺桿之其一者 之一特定周圍位置，且適用以依據該螺桿操作而向前或向 後地移動，該些移動件之每一者係在其下表面被提供有一 連接環圈；以及 一柱體電源，係具有形成在其下表面之螺紋，該些螺 紋係嚙合於形成在每一螺桿之一末端的螺紋，以使該複數 個螺桿能依據該電源旋轉而同時地旋轉。 3 4 ·如申請專利範圍第3 3項所述之設備，其中該主體之該 些導引溝槽之每一者具有一向下漸細之截面。

   3 5.如申請專利範圍第3 4項所述之設備，其中該些螺桿包 括左與右螺桿，其是位於相互相對處，左螺桿之螺紋係延 伸於一相反於該右螺桿之螺紋的方向。 3 6.如申請專利範圍第3 5項所述之設備，其中複數個握把 係沿著該電源之上端而被周圍地排列，以使該電源可以被 手動地旋轉。 85 1304241

   3 7.如申請專利範圍第3 6項所述之設備，其中該傳送舉升 型架系統更包含： 一軸承，係接觸於該些螺紋之下端以促進該些螺桿之 旋轉，其中該些螺紋是形成於每一螺桿之末端處。 86