1284253 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 量測系統之微影 本發明係關於一種包含一曝光系統及一 投影設備，該曝光系統包含： -一用以提供一輻射投影射束之輻射系統； --用以支持圖案化構件之支持結構，該圖案化構件用於 根據所需圖案而圖案化該投影射束，· -一用以固定一第一基板之基板台； _ 一用以將該圖案化射束投影至該第一基板之一目標部分 上的投影系統，該投影系統包含用以控制至該第一基板之 目標位置上的投影之投影控制構件；及 -第一控制構件，其用以移動該曝光系統之一活動零件以 使該圖案化射束相對於該第一基板是可移動的， 該量測系統包含： 光干畺測裝置，其用以將一量測射束投影至一第二基 板之一目標部分上並用以量測該第二基板之目標部分的^ 面特性； -一用以固定該第二基板之第二基板台；及 -第二控制構件，其用以移動該量測系統之一活動零件以 使該量測射束相對於該第二基板是可移動的。 進一步，本發明係關於一種裝置製造方法，其包含以下 步驟： k供一至少部分覆蓋有一層輻射敏感材料之第一基板； -提供一使用一輻射系統之輻射投影射束； 93803.doc 1284253 •使用圖案化構件以在該投影射束截面内賦予其一圖案； 且 -將該圖案化輻射射束投影至該層輻射敏感材料之一目標 部分上； 相對於該第一基板移動該圖案化射束； -提供一第二基板； -將一量測射束投影至該第二基板之一目標部分上並量測 该第二基板之目標部分的表面特性； -相對於該第二基板移動該量測射束。 【先前技術】 此處採用之術語”圖案化構件”應廣泛地認為指的是可用 以賦予一入射之輻射射束一對應於基板之一目標部分中待 建立之圖案的圖案化截面的構件；本文中亦可使用術語”光 閥"。通常，該圖案對應於在目標部分中待建立之裝置内的 一特定功能層，諸如一積體電路或其它裝置（見下文）。該等 圖案化構件之實例包括： -一光罩。光罩之概念在微影技術中已為吾人熟知且其包 括如二進位交互相移及衰減式相移之光罩類型以及各種混 合光罩類型。根據光罩上之圖案，在輻射射束中置放此光 罩使得照射在光罩上的輻射根據光罩上之圖案選擇性透射 (在透射光罩之情況下）或反射（在反射光罩之情況下）。在光 罩之情況下，支持結構通常為一光罩台，其保證光罩可固 定於入射輻射射束中一所需位置處，且若需要該光罩可相 對於射束移勢； 93803.doc 1284253 可私式化鏡面陣列。此裝置之一實例為具有一黏彈 性控制層及一反射表面之矩陣可定址表面。支持此設備之 基本原則為（例如）反射表面之定址區域將入射光反射為繞 射光’而非定址區域將入射光反射為非繞射光。使用一適 田的慮光器’可將該非繞射光自反射射束濾去，僅留下繞 射光；以此方式’該射束根據矩陣可定址表面之定址圖案 而成為圖案化的。可程式化鏡面陣列之一替代實施例採用 微小鏡面之矩陣排列，藉由施加一適當的區域化電場或藉 由採用壓電致動構件可使每一鏡面單獨對於一軸傾斜。再 一次，該等鏡面為矩陣可定址的以使定址鏡面將一入射輻 射射束以不同方向反射至非定址鏡面；以此方式，根據矩 陣可定址鏡面之定址圖案而使反射射束圖案化了。可使用 適田的電子構件執行所需之矩陣定址。在上述兩種情形 中圖木化構件可包含一或多個可程式化鏡面陣列。此處 引用之關於鏡面陣列的更多資訊可（例如）自美國專利US 5,296,891及仍 5,523，193及PCT專利中請案wo 98/38597及 W〇 98/33_進行收集，該等專利以引用的方式倂人本文。 在一可程式化鏡面陣列之情況下，該支持結構可具體化為 框架或台（例如），JL可妒嬙命* & 為 八根據扁要為固定的或活動的；及 一可程式化LCD陣列。該構造之—實例在美國專利us 5,22M72中給出，該專利以引用的方式倂人本文。如上， π結構可具體化為框架或台(例如)’其可根據 而要為固疋的或活動的。 為間早起見，本文1躲邮八 餘°卩刀可在特定位置特別地指向涉 93803.doc 1284253 及光罩或光罩台之實例；然而，應在如本文上述之圖案化 構件的廣泛情形巾瞭解該等情形巾所討論之-般原則。 微影投影設備可用於（例如）製造積體電路（ICs)。在此情 況下，圖案化構件可產生對應於1(:之一單獨層的電路圖案 且此圖案可成像於已塗佈有一層輻射敏感材料（抗蝕劑）之 2板（矽晶圓）上的一目標部分（如包含一或多個晶粒）上。通 常，單個晶圓將含有藉由投影系統一次一個連續照射之相 姊目祆部分的整個網路。在當前設備中，採用藉由光罩臺 上之光罩的圖案化，能在兩種不同類型機器之間作出區 別。在一種類型之微影投影設備中，藉由一次性將整個光 罩圖案曝光於目標部分上而照射每一目標部分；該設備通 蓽稱之為晶圓步進機或步進重複設備。在一替代設備（通常 %之為步進掃描設備）中，藉由以一給定參考方向C，掃描,， 方向）在投影射束下逐漸掃描光罩圖案同時同步地平行於 或反平行於此方向掃描基板台而照射每一目標部分；因 為，通常該投影系統具有一放大係數Μ(通常 <丨），所以掃描 基板台之速度V將為係數]V[乘以掃描光罩台之速度。關於此 處描述之微影裝置的資訊可自（例如）US 6,046,792進行收 集’該案以引用的方式倂入本文。 在使用微影投影設備之製造過程中，一圖案（如，在一光 罩中）成像於至少部分覆蓋有一層輻射敏感材料（抗蝕劑）之 基板上。在此成像步驟之前，基板可經歷各種程序，諸如 上底漆、抗餘劑塗佈及軟烘焙。在曝光之後，基板可經過 其它程序，缚如後曝光烘焙（PEB)、顯影、硬烘焙（hard bake) 93803.doc 1284253 及成像特徵之量測/檢查。此批程序用作圖案化一裝置之一 早獨層（例如，iC)的基礎。隨後該圖案化層可經歷各種處 理，諸如蝕刻、離子植入（摻雜）、金屬化、氧化、化學機械 研磨專所有過程皆意欲完成一單獨層。若需要若干層， 則必須對每一新層重複整個程序或其之變化。最後，在基 板（晶圓）上將呈現一批裝置。接著藉由諸如切塊或鋸之技術 使此等没備相互分離，由此該等單獨的裝置可安裝於載體 上、連接至引腳等。關於該等處理之進一步的資訊可（例如） 自 Peter van Zant 之”Micr〇chip Fabricati〇n: a practical
Guide to Semiconductor· Processing”，第三版，McGraw Hm 出版公司1997年出版、lSBN0-07_067250_4的書中獲得，該 書以引用的方式倂入本文。 為簡單起見，在後文中可將投影系統稱為”透鏡"；然而， 此術語應廣泛解釋為涵蓋各種類型之投影系統，例如，包 括折射光學系統、反射光學系統及反射折射混合系統。輻 射系統亦可包括根據引導、成形或控制輻射投影射束之任 何設計類型而運作的組件，且該等組件亦可在下文中共同 地或單獨地稱為”透鏡’’。此外，微影設備可為具有二或多 個基板台（及/或二或多個光罩台）之類型。在此等”多平臺，， 咸置中’可並行使用額外台或者在一或多個臺上執行預備 步驟同時一或多個其它台用於曝光。雙平臺微影設備描述 於（例如）US 5,969,441及W0 98/40791中，該等案皆以引用 的方式倂入本文。 一與上述已知微影投影設備及裝置製造方法相關之問題 93803.doc •10- 1284253 在於夏測系統之活動零件的移動將影響曝光系統之活動零 件的位置且反之亦然。因為通常所需圖案之解析度非常高 且因此對微影設備之準確度要求非常嚴格，小干擾即可引 起微影設備之準確度惡化且/或引起該設備之生產良率的 惡化。 【發明内容】 本發明之一目標為改良微影設備及裝置製造方法之準確 度。 根據本發明在開始段落中指定之微影設備中達成了此目 標及其它目標，其特徵在於該設備進一步包含修正確定構 件，其用以確定修正訊號以至少部分修正曝光系統及量測 系統其中之一的活動零件之位置的誤差，該誤差由曝光系 統及量測系統其中之另一個的活動零件之移動引起；及饋 入構件’其用以將修正訊號饋入第一或第二控制構件中以 至少部分修正曝光系統及量測系統的該其中之一的位置。 該微影投影設備包含一量測系統及一曝光系統，每一系統 具有一用於相對於個別基板移動個別射束之活動零件。本 發明者已發現一活動零件之位置的誤差是由於另一個活動 零件之移動引起的，此係由於另一個活動零件之移動引起 的空氣位移導致的。根據本發明，藉由確定一修正訊號並 將修正訊號饋入至控制該一活動零件（意即，受干擾的活動 零件）之位置的控制構件中來修正或至少部分修正空氣位 移導致的誤差。 第一及第二控制構件可包含專用硬體，如一類比電子控 93803.doc -11 - 1284253 制糸統，然而亦可能一或兩個該 I# , # ^ 寻徑制構件程式化為軟 體其糟由諸如專用於此功能之微處+ 杆山士 傲處理态的處理構件來執 仃或精由亦在該設備中執行一或 處理構件來執行。 h個其它功能之該設備的 、曝，系統之活動零件可（例如）為投影系統或其零件、用 以固疋第一基板之基板台 u八匕週當的零件，以使當 移動活動零件時，投影於篦_ 又〜於¥基板之-部分上的圖案化射 束移動至第一基板之另一部分。 Θ 類似地’ $測系統中之活 動零件可包含第二基板台或光學量測裝置（之一部分）或任 2其它Μ ’以使當移動活動零件時，量測射束投影於上 方之弟二基板的目標部分相對於基板而發生位移。 光學量測裝置有利地用於量測第二基板之表面特性(如 t面度），量測射束投影至第二基板端在第二基板之目標部 分上運作。 有可能確定一修正訊號以至少部分修正曝光系統之活動 零件的位置’該誤差由光學量測系統之活動零件的移動引 2，然而，亦有可能藉由修正訊號來修正或至少部分修正 量測系統之活動零件之位置的誤差，該誤差由曝光系統之 活動零件的移動引起。當然，亦可能同時、連續或交互施 加兩個修正。 應瞭解曝光系統及/或量測系統之活動零件可包含個別 的單個活動零件，’然而有可能-或兩個該等活動零件中每 一個包含兩個或兩個以上活動子零件，每—子零件以相同 或不同（如相反）方向移動。 93803.doc -12· 1284253 同時，應瞭解該誤差不僅可由設備運作之中的空氣或其 它大氣或氣體之位移引起，而且替代地或額外地可由傳送 干擾之任何其它原因（如機械振動等）引起。 饋入構件可（例如）包含一訊號以命令轉換器將修正訊號 轉換成修正命令（force)，然而饋入構件亦可包含諸如類比 或數位加法器（addition)、減法器（subtraction)等之任何其它 適當的構件以在設備中將該修正訊號與任何其它適當的訊 號組合起來。 有利地，修正確定構件被調適成自一或兩個該等活動零 件之狀態（如機械狀態、位置、移動等或其任何組合）來確定 修正訊號。 有利地，修正確定構件被調適成自曝光系統及量測系統 其中之另一個之活動零件的資訊（較佳為加速度）以及量測 系統之活動零件與曝光系統之活動零件之間的距離來計算 修正訊號。本發明者已發現當該等零件之間的距離增加時 對由量㈣系統及曝光系、统其中之另一個的活_件之移動 引起的量測系統及曝光系、统的該丨中之一的$動零件的影 響減少’而且干擾，i因此誤差是與活動零件之加速度有 關的。藉由此有利實施例可確定干擾之良好估計且因此可 確定修正訊號之適當的值。 有利地，該資訊包含加速度，該加速度藉由包含於第一 或第二構件（包含於曝光系統及量測系統中之另—個中）中 之加速度偵測器而提供且其中距離自曝光系統與量測系統 之活動零件的個別位置而計算出’個別位置藉由包含於曝 93803.doc -13- 1284253 :系統及量測系統中之個別位置谓測器而提供。因此，該 設備中僅需少量或不需額外硬體’此係因為來自已出現於 系、充令之彳貞測②的加速度資訊及位置資訊可用於計算修正 訊號。 有利地，X軸及y軸定義於曝光系統及量測系統之活動零 件為可移動的平面中，修正確定構件被調適成自資訊之X #成刀來確定一 χ修正訊號以修正沿X轴的曝光系統及 f測系統其中之-的活動零件之位置的誤差，且調適成自 、貝^之y轴組成部分來確^ — y修正訊號以修正沿y轴的曝 光系統及量測系統其中之一的活動零件之位置的誤差。活 動零件中之另—個在—特定方向的移動將導致在相同方向 上之空氣位移引起的誤差，該誤差因此可加以修正。 C*Accr 7 有利地，控制構件被調適成使用下列公式計算修正訊號：
F 其中1^，7為分別在X及y方向之修正訊號，c為一常數， 為分別在方向之加速度，且〜為曝光系統與量測系統} 之活動零件之間的距離。常數c#x方向及乂方向之修正可為 相同的，但是亦可能對常數C應用不同的值。 有利地，修正確定構件被調適成自資訊之y軸組成部分來 確定一X至y修正訊號以修正沿叉軸的曝光系統及 其中之一的活動零件之位置的誤差，且調適成自資訊之X 軸組成部分來確定一ysx修正訊號以修正沿y軸的曝光系 統及量測系統其中之一的活動零件之位置的誤差。以此方 93803.doc •14- 1284253 式’可達成更準確之修正，且同樣地一個活動零件在1或乂 方向的移動亦將導致另一個活動零件在另一（因此為y或X) 方向的修正。 有利地，控制構件被調適成使用下列公式計算X至y或y 至X修正訊號： F 一 气y X toy, y to χ--— ^ y 其中Fx t。y，y t。X分別為x至y及y至X修正訊號，C為一常數， 八“”為分別在乂及丫方向之加速度，Dx為χ方向之曝光系統 與量測系統之活動零件之間的距離，且Dy為y方向之曝光系 統與量測系統之活動零件之間的距離。同樣在此情形中， 常數C對χ至y及7至\修正可具有不同值，然而其亦可對此等 兩個修正具有相同值，且常數C之值可與用於計算Fx，y修正 訊號的常數C之值相同或不同。 該設備可包含一用以延遲該或每一修正訊號之延遲器 (delay) ’以使能考慮到由於應用於控制構件中之數位處理 而引起的延遲。 有利地’饋入構件被調適成在一封閉迴路反饋控制迴路 中之一調整器的輸出處對一控制訊號（如一命令訊號）增加 该或每一修正訊號。因為控制之輸出連接至用於移位活動 令件之疋位裝置的控制輸入，所以在控制迴路中與干擾亦 起作用之處最相似的一處增加該修正訊號，因此引起對該 誤差之良好補償。 根據本發明之方法的特徵在於下列步驟：確定一修正訊 93803.doc -15- 1284253 5虎以至乂、一为修正圖案化射束及量測射束其中之一相對於 個別的第一及第二基板其中之一的位置的誤差，該誤差由 用以相對於第一及第二基板其中之另一個而移動圖案化 射束及量測射束其中之另一個的一裝置之移動引起；且藉 由修正訊號來修正圖案化射束及量測射束的該其中之一相 對於個別的第一或第二基板之位置。 熟悉此項技術者將明瞭根據本發明之上述關於設備之有 利實施例亦可應用於根據本發明之方法中。 /艮據本發明之補償不僅可用於補償由於量測系統及曝光 系統其中之另一個的活動零件之移動引起的誤差，而且可 用於補償由該設備之任何其它活動零件引起的干擾。 雖然本文中特別提及在製造ICs中使用根據本發明之設 備’但應清楚瞭解該設備具有多個其它可能的應用。例如， 其可用於製造積體光學系統、對磁嘴記憶體之指導及镇測 圖案、液晶顯示面板、薄膜磁頭等。熟悉此項技術者應理 解在該等替代制之情财，本文中術語"主光罩"、"晶圓" 或’，晶粒"之任何使用應視為可分別被更通常之術語"光 罩"、"基板’’及’’目標部分"替換。 在本I明中，術，吾輻射”及”射束"用於涵蓋所用類型之電 磁輻射，包括紫外（uv)輻射（例如，波長為365、248、193、 =或mnm)及極端紫外（EUV)輕射（例如，波長在5_2〇· 粑圍内）與粒子射束’如離子射束或電子射束。 現在將參看所附不意圖僅以示例方式描述本發明之實施 例，圖式中對應的參考符號指示對應的零件，且其中： 93803.doc -16- 1284253 【實施方式】 如圖1中描繪之微影投影設備包含一曝光系統2及一量測 系統3。曝光系統2包含一輻射系統4，如一用於產生一放射 微粒（radion)投影射束5之光源；及一稜鏡（或其它偏轉構 件）4a ; —用於圖案化構件6a(如一主光罩）之支持結構；一 用以固定第一基板8之基板台7;及一用於將圖案化射束投 影至第二基板13之一目標部分上的投影系統9。光學量測裝 置可（例如）包含一輻射系統11a、一投影系統llb及進一步之 元件（未展示）以由於量測射束12在第二基板13之目標部分 上的投影藉由反射、幾何變換、吸收、繞射或任何其它物 理現象來量測第二基板13之目標部分的表面特性。量測系 統2進一步包含一用以固定第二基板13之第二基板台丨斗及 第二控制構件15，該控制構件用以移動量測系統2之至少一 個零件以使量測射束在基板13上是可移動的。曝光系統2 曝光第一基板之目標部分且因此將圖案化構件以提供之圖 案投影至第一基板8上。在此實施例中，基板台7在第一控 制構件10之控制下移動以使圖案化射束相對於第一基板8 移動，從而提供掃描第一基板且曝光第一基板之每一所需 部分的可能性。與曝光系統2之活動零件（此實例中活動零 件為基板8)的移動同時進行的是量測系統3量測表面特 性，如第二基板13之平面度。因為將量測第二基板之一相 關部分的表面特性，所以如上所述藉由相對於彼此移動第 二基板13及修正射束12來完成量測射束12相對於第二基板 13之掃描移動。 93803.doc -17- 1284253 藉由微影投影設備1可同時執行曝光第一基板8及量測第 一基板1例如该等基板為半導體晶圓）。每一活動零件，此 實例中為基板台7及基板台14是藉由控制個別基板台7、工4 之位置的個別控制構件1 〇、1 5加以控制的。每一控制構件 10、15與個別位置偵測構件7a、14a(諸如位置感測器、加 速度感測器等）形成封閉迴路控制電路。下文中將更詳細解 釋第一及第二控制構件之結構。該系統進一步包含用以確 定一修正訊號之修正確定構件16。將修正序號自饋入構件 1 7饋入至第一控制構件丨〇中。向修正確定構件丨6提供關於 第一及第二基板台之位置的位置資訊，位置資訊由第一及 第二基板台7及14之個別位置感測器7&及14a提供。計算確 疋構件自感應器7a及14a提供之資訊計算修正訊號。修正訊 號為干擾提供修正且因此為由量測系統3之活動零件（此實 例中為活動基板台14)引起的曝光系統之位置誤差提供修 正。由於活動零件之移動，在圍繞該等個別活動零件之空 氣中產生了壓力波，該等壓力波易於在其它系統（此實例中 為曝光系統2)中引起干擾。儘管該空氣位移引起之誤差可 能乍一看絕對項很小且為奈米或微米之數量級，但因為通 常投影設備1之準確度要求很高，所以該誤差可能在其影響 之系統中導致一顯著誤差。此實施例中之修正確定構件16 自篁測系統（意即，第二台14)之活動零件的加速度及個別活 動零件（意即，此實例中之第一與第二基板台7與14)之間的 距離計异修正訊號。因此，此實例中，感測器14&包含一用 以量測基板台14之加速度的加速感測器及用以偵測第二基 93803.doc -18· 1284253 板台14之位置的位置感測器。此實例中之感測器〜至少包 含用以偵測第一基板台7之位置的位置感測器。因此，兩個 基板台7與14之位置以及第二基板台14之加速度提供給修 正確定構件。自第一及第二基板台7及14之位置修正確定構 件1 6计异出此等基板台之間的距離，該距離用於計算修正 訊號。在此實例中，使用下列公式計算修正訊號：
FzzC^A〇c D2 其中F為修正訊號，c為常數，Acc為加速度且d為曝光系統 與量測系統之活動零件之間的距離。在此實例中，曝光系 、、先之/舌動令件的位置得以修正，從而Au為另一活動零件之 加速度，即為量測系統之活動零件。 圖2a及圖2b鬲度示意性地展示了量測系統之活動零件 100及曝光系統之活動零件101的俯視圖。圖2a及圖2b亦展 示了包含X軸及y軸之座標系統β χ軸及y軸定義於活動零件 10=101為可移動的平面中。當活動零件⑽按箭頭丄嶋指 不私動％，空氣位移將引起對第二活動零件101以虛線箭頭 购指示之方向作用的干擾。根據本發明，藉由修正確定 構件16計算—至少部分抵消干擾1GU之影響的修正訊號。 在所述之實施财，對此計算使用下列公式：
F X，y D\y 其中Fx，y為分別在x及y方向之修正訊號，c為一常數，Acc” 為分別在X及y方向之加速度，且Dxy為曝光系統與量測系統 93803.doc -19- 1284253 之活動零件之間的距離。 在圖2b中，活動零件100之位移（其由1〇〇a示意性地指示） 引起影響活動零件101之周圍空氣中的壓力波且引起箭頭 101a及101b所指示之干擾。箭頭101a所指示之干擾為y軸方 向的干擾，而箭頭101b所指示之干擾為又軸方向的干擾。因 此，y軸方向之位移100a引起了活動零件1〇1在\轴方向及7 轴方向的干擾。在此實例中，此係由於活動零件1⑼及丨〇 1 在X軸方向之偏移引起的，然而亦可能是由於任何其它原因 引起的，如周圍之幾何情形等。修正確定構件被調適成計 异包含用以至少部分補償y方向之干擾丨〇丨a的組成部分及 用以至少部分補償X軸方向之干擾1〇 lb的組成部分之修正 訊號。在此實施例中，使用下列公式計算修正訊號之個別 組成部分： F — C*A*〜
X to y, y to X ^ y 其中FX t。y，y t。χ分別為&至y及丫至χ之修正訊號，C為一常數， Accx，y為分別在x&y方向之加速度，Dx為X方向之曝光系統 與量測系統之活動零件之間的距離，且！^為y方向之曝光系 統及量測系統之活動零件之間的距離。因此Fx t。y表示由於 另一活動零件在X方向之移動引起的在y方向的修正且反之 亦然。在圖2b中指示了距離Dx及Dy。因此，當如圖2a中所 示X方向之距離Dx為零時，X至y及y至X之補償計算將引起具 有值為零的修正，同時距離Dx越大（與圖2a比較之圖2b)，X 至y及/或y至X補償訊號將越大。 93803.doc -20- 1284253 圖3展示包含如圖1中所描繪之第一控制構件丨〇的封閉迴 路控制迴路的更加詳細之示意性表示圖。第一控制構件包 含一具有兩個輸入的調整器2〇〇。調整器2〇〇之第一輸入連 接至一提供設定點之設定點訊號s，意即一表示活動零件之 一所需位置的訊號。調整器200之另一輸入連接至一感測器 201，諸如偵測活動零件202之位置或加速度的位置感測器 或加速度感測器。該活動零件（其中僅展示一高度示意性描 繪部分）藉由如致動器之定位構件2〇3來定位。藉由調整器 200之一輸出訊號來驅動定位構件2〇3。調整器2〇〇可為（例 如）一類比電子調整器，然而亦可能調整器2〇〇藉由在微處 理器或微電腦上執行之適當的軟體指令來建構。該調整器 200可包含整合、成比例調整、微分或任何適當的運作。穿 過定位構件203及感測器201之虛線表示”電子，，或"控制，，部 分與"實體”部分之間的分隔。由於投影設備之另一活動零 件的位移引起之干擾、由此位移引起之空氣壓力波動或壓 力波的增大將導致活動零件202之干擾。為（至少部分）補償 活動零件202之干擾，將補償訊號204加至調整器200之輸出 汛唬’從而將修正訊號饋入控制迴路中。若控制構件包含 一包含專用硬體或程式化為軟體的數位調整器，則用以將 f乡正號饋入至控制構件之饋入構件（例如）包含以硬體或 权體建構之加法器或減法器，然而亦可能饋入構件包含用 以將修正訊號饋入個別控制構件中之任何其它適當的構件 (士 θ加电壓或電流之類比加法器）、或是包含將修正訊號饋 入控制構件中之任何適當的構件或任何其它方式。在第一 93803.doc • 21 - 1284253 及/或苐二控制構件包含數位控制構件的情況下，根據此實 施例之饋入構件包含用於延遲修正訊號之延遲器。在此實 例中之延遲匹配數位控制構件之延遲，以消除大部分（例如） 由修正訊號之過早補償引起的不利影響；因此饋入構件在 封閉迴路控制中之調整器的輸出處將修正訊號加至控制訊 號。 圖4展示了根據本發明之裝置製造方法。在步驟3〇〇中， 提供第一基板。第一基板至少部分覆蓋有一層輻射敏感材 料。接著，在步驟301中使用一輻射系統提供投影射束。在 步驟302中，使用圖案化構件以在投影射束之截面内賦予其 一圖案。在步驟303中，將圖案化射束投影於第一基板上之 該層輻射敏感材料層的一目標部分上。在步驟3〇4中相對於 第一基板移動圖案化射束。在步驟305中提供第二基板而在 步驟306中將一量測射束投影於第二基板之一目標部分上 且量測第二基板之目標部分的表面特性。接著，在步驟 中，在第二基板之表面的一相關部分上移動量測射束。藉 由相對於個別基板移動個別射束，個別射束能相對於個別 基板之一相關部分而移動，如掃描。因此，圖案化射束掃 描第一基板之一相關部分同時量測射束掃描第二基板之一 相關部分。在步驟308中，確定一修正訊號以至少部分修正 第一基板上圖案化射束之位置的誤差，該誤差由用以相對 於第二基板移動量測射束之一裝置的移動引起。當然，亦 可能步驟308包含確定一修正訊號以至少部分修正在第二 基板上之量測射束的位置之誤差的步驟，該誤差由用以相 93803.doc -22- 1284253 ;第I板移動圖案化射束之—裝置的移動引起。在步 驟309中，益山片^ 曰 > 訊號來修正圖案化射束相對於第一基板 之位置。應清楚亦可能步驟中藉由修正訊號來修正量測 射j相對於第二基板之位置。此外，熟悉此項技術者應清 楚或夕個步驟或部分步驟或所有步驟可同時、以任何適 當順序連續執行。 根據本發明提供一用於補償由於微影系統之活動 零:的移動引起之空氣位移導致之誤差的補償，該誤差由 於微如叹備之另一活動零件的移動引起之空氣位移或空氣 中之麼力波所導致。基於導致干擾之活動零件的加速度及 該等個別活動零件之間的距離（更佳為平方距離之倒數）來 計算該補償。 雖然上文描述了本發明之特定實施例，但應理解本發明 之實施方法可不同於所描述之實施方法。該描述並非意欲 限制本發明。 【圖式簡單說明】 圖1不意性地描繪根據本發明之一實施例的微影投影設 備； 圖2示意性地描繪曝光系統及量測系統之活動零件的俯 視圖； 圖3示意性地描繪用於控制根據本發明之設備的一個活 動零件之位置的封閉迴路控制迴路；及 圖4展示根據本發明之方法的流程圖。 【主要元件符號說明】 93803.doc -23- 1284253 1 微影投影設備 2 曝光系統 3 量測系統 4 輻射系統 4a 稜鏡（或其它偏轉構件） 5 放射微粒投影射束 6a 圖案化構件 7 第一基板台 7a 位置偵測構件/位置感測器 8 第一基板 9 投影系統 10 第一控制構件 11 光學量測裝置 11a 輻射系統 lib 投影系統 12 量測射束 13 第二基板 14 第二基板台 14a 位置偵測構件/位置感測器 15 第二控制構件 16 修正確定構件 17 饋入構件 100 活動零件 100a 箭頭/位移 93803.doc -24- 1284253 101 活動零件 101a 箭頭/干擾 l〇lb 箭頭/干擾 200 調整器 201 感測器 202 活動零件 203 定位構件 204 補償訊號 93803.doc -25-