TWI281571B - Active mask particle disposal apparatus - Google Patents
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Description
1281571 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種光罩除塵裝置與方法,特別是有 關於一種主動式光罩除塵裝置與方法。 【先前技術】 隨著光學科技與半導體技術的進步,液晶顯示裝置 (Liquid Crystal Display ; LCD)已廣泛地應用於電子產品顯 示裝置上。從一般的桌上型電腦所使用之較小型的液晶顯 示器’到越來越多人所青睞的液晶電視,乃至於大型的液 晶顯示器,液晶顯示面板的尺寸也越來越大。 由於目前平面顯示器之面板的尺寸越來越大,因此, 其光罩尺寸也必須跟著變大,而此同時,其製造成本也跟 著變得更為昂貴。當進行微影製程時,光罩表面之圖案若 有異物(particles)存在或是遭受到破壞,其將造成面板線 路之圖案失真,其結果更將造成面板製程之良率 下降’甚至於整個面板因而報廢。 一般而言,對光罩圖案造成影響的原因主要來自於空 氣污染物、結晶沉積物、刮傷以及靜電破壞等等。雖然, 大部分光罩在不使用的時候#是置放在光罩盒之中而藉以 保護其内部之光罩。然而,無可避免的光罩表面仍舊存會 在著異物’而影響光罩的圖案分佈,進而造成面板良率二 因此,部分習知的光罩為了保護光軍,以避免微塵的 、-、六丄 , %兄佩麼 ❹防塵保護膜(pe„iele),其可有效的防止灰塵 掉 1281571 落至光罩,而影響光罩的圖案分佈,以增加面板的生產良 率,同時可以減少光罩於使用時之清潔和檢驗次數。然而, 光罩的表面或者是保護膜的表面仍舊存在著微塵污染的問 題。 在面板的生產過程中,工作人員必須週而復始的根據 目^或者儀ϋ設備的檢查結果,進行鮮的清潔卫作,例 如是以氣搶來吹除。然而,當使用氣槍來進行光罩表面灰 塵的清除時,由於氣槍的高壓氣體將直接朝向光罩的表 面,以將灰塵吹離光罩的表面。故若氣搶的氣體壓力太小, 無法有效的將灰塵有效的去除,然若壓力太大時,則將造 成光罩表面的圖案受到傷害,或者是保護膜被吹離光罩, 更可能因為保護膜接觸到光罩上的圖案,以致於造成光罩 圖案受到傷害。而且反覆的卸載與裝載以進行異物的清 除,更會增加光罩受損的機率。 【發明内容】 鑒於上述之發明背景中,由於平面顯示器之面板的尺 =越來越大。因此’所需的光罩尺寸也必須越來越大,使 得製造成本提高。然而,若因光罩表面之®案受到異物的 污染,其將造成面板線路之圖案失真,更將造成面板製程 之良率下降,使面板生產成本因而增加。 因此’本發明之一目的係提供一種主動式光罩除塵裝 置,以有效的檢查與清除光罩上的異物。 本發明之另一目的係提供一種主動式光罩除塵裝置, 利用異物掃描器與除塵氣刷,同時進行光罩表面之異物偵 1281571 殼體。密封殼體將主動式光罩除塵裝置密封,而排氣裝置 連接於密封殼體,以將除塵氣刷所清除之異物,由密封殼 體中排出。而排氣裝置則包含有一集風罩與一排氣管。集 風罩配置於密封殼體之前端外側,也就是除塵氣刷除塵路 月)方以增加集風面積,提高除塵效果。集風罩並連 接排氣官,以將異物直接且快速的由密封殼體中排出。 本發明之另一態樣係揭露一種主動式光罩除塵方法, 以去除光罩表面之異物。此方包含有下列步驟:首先提供 光罩,然後利用一除塵氣刷,以清除光罩之表面上之異 物,並同時利用一異物掃描器,跟隨除塵氣刷之後掃瞄光 罩之表面,以偵測光罩表面之清潔度。此方法更包含利用 另除塵氣刷,同步於前述之除塵氣刷,以清除光罩另一 表面之異物,並同時利用另一異物掃描器,跟隨另一除塵 =刷之後掃瞄光罩之另一表面,以偵測其表面之清潔度。 當光罩之表面安裝有一保護膜時,亦可利用此方法進行保 護膜之表面異物的清除與其清潔度之偵測。 因此,本發明之除塵裝置與方法可同時除塵且偵測光 罩表面之異物,有效提高光罩表面之清潔度更節省清潔與 檢查光罩所需之卫時。當配合氣體壓力的控制更可以避免 ^罩或保護膜的表面受到破壞,進_步提高光罩的使用壽 〒。而密封殼體與排氣裝置,更可以直接將異物直接排出 光罩除塵裝置,以避免異物之二次污染。 【實施方式】 本‘月之主動式光罩除塵裝置,可以有效的清除與檢 1281571 查光罩上的異物,以主動保護光罩免於受到異物的污染。 而利用具有穩疋壓力輸出之除塵氣刷,更可以避免傷害光 罩上之圖案,且可避免造成保護膜的傷害。以下將以圖示 及詳細說明清楚說明本發明之精神,如熟悉此技術之人員 在瞭解本發明之較佳實施例後,當可由本發明所教示之技 術,加以改變及修飾,其並不脫離本發明之精神與範圍。 第1圖係為本發明之主動式光罩除塵裝置之一較佳實 施例之内部元件示意圖,且第2圖係為此較佳實施例之外 觀示意圖。 如第1圖所示,主動式光罩除塵裝置1〇〇包含有除塵 氣刷130以及異物掃描器15〇安裝於除塵氣刷13〇之後方。 當欲利用光罩180進行面板圖案之轉移時,首先將光罩18〇 裝載至此主動式光罩除塵裝置1 〇〇之中,並利用第一線性 移動裝置110與第二線性移動裝置12〇,線性移動除塵氣刷 130以及異物掃描器150,使沿著光罩18〇的表面移動。除 塵氣刷130先以一預定的風壓吹向光罩18〇之表面,以清 除光罩180表面之異物,而異物掃描器丨5〇緊跟著除塵氣 刷130以進一步確認光罩18〇表面之清潔度。若經過清潔 後之光罩18 0已符合製程清潔度的要求時,則光罩1 $ 〇即 可裝載至曝光機台中進行面板之曝光工作,然若光罩18〇 未能符合製程清潔度的要求時,則直接進行第二次的除塵 與檢查的動作’以使光罩180的表面能符合製程清潔度的 要求。 其中’此主動式光罩除塵裝置1〇〇更包含有除塵氣刷 140與異物掃描器160,位於光罩18〇之另一表面,以進行 1281571 配合氣體壓力的控制更可以避免光罩或保護膜的表面受到 破壞’進一步提咼光罩的使用壽命。而安裝於密封殼體, 且位於除塵氣刷4方之排氣裝置,更可以直接將除塵氣刷 所移除之異物直接由排氣裝置排出光罩除塵裝置,以避免 異物再一次污染光罩之表面。本發明之主動式光罩除塵裝 置更可有效減少光罩在機台上之裝載與卸載的次數,使降 低光罩受損之機率。 如熟悉此技術之人員所瞭解的,以上所述僅為本發明 之較佳實施例而已,並非用以限定本發明之申請專利範 圍。凡其它未脫離本發明所揭示之精神下所完成之等效改 變或修飾,均應包含在下述之申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例 能更明顯易懂,所附圖式之詳細說明如下: 第1圖係為本發明之主動式光罩除塵裝置之一較佳實 施例之内部元件示意圖;以及 第2圖係為第1圖之較佳實施例之外觀示意圖。 【主要元件符號說明】 100 :主動式光罩除塵裝置 112 :驅動裝置 116 :滑執 124 :支撐滑塊 130 :除塵氣刷 110 :第一線性移動裳置 114 :支撐滑塊 120 :第二線性移動裝置 126 :滑執 132 :氣體傳輸管路 12 1281571 134 : 氣體量測裝 置 136 氣體調節裝置 140 : 除塵氣刷 142 氣體傳輸管路 144 : 氣體量測裝 置 146 氣體調節裝置 150 : 異物掃描器 160 異物掃描器 170 : 保護膜 180 光罩 210 : 密封殼體 220 集風罩 230 : 排氣管 13
Claims (1)
1281571 十、申請專利範圍: 1·一種除塵裝置,適用於清除光罩上之異物,包含: 一第一異物掃描器,位於該光罩之第一表面;以及 一第一除塵氣刷,配置於該第一異物掃描器之一側, 並朝向該光罩之該第—表面吹出—氣體,以清除該第一表 面上之異物,且該第一異物掃描器跟隨該第一除塵氣刷, 以债測該第一表面之清潔度。 2·如申凊專利範圍第1項所述之除塵裝置,更包含: 一第二異物掃描器,位於該光罩之一第二表面,且該 光罩之該第二表面上更包含一保護膜;以及 第一除塵氣刷,配置於該第二異物掃描器之一側, 並朝向該光罩之該第二表面吹出該氣體,以清除該保護膜 之表面上的異物’纟中該第二異物掃描器跟隨該第二除塵 氣刷,以偵測該保護膜之該表面的清潔度。 3.如申請專利範圍第2項所述之除塵裝置,更包含: 一線性移動裝置,配置於該第一異物掃描器及該第二 異物掃描器之兩側,使其沿著該光罩平行移動。 4_如申請專利範圍第3項所述之除塵裝置,其中上述 之該線性移動裝置更包含一驅動裝置。 更包含: 5.如申請專利範圍第2項所述之除塵裝置 1281571
___替換頁 -氣體傳輪管路,連 _ 、 —~ 塵軋刷,以提供該氣體; b、鑌弟一除 一氣體調節裝置,安萝 今鞞々r 威於该氣體傳輸管路,以坰敕兮 乳體之一壓力盥一产量 &吩 Μ凋整该
6·如申請專利範圍第 之氣體傳輪管路更包含一 氣體之該壓力與該流量。 5項所述之除塵裝置,其中上述 氣體量測裝置,以量測並顯示該 7·如申請專利範圍第 之第一異物掃描器與該第 置。 2項所述之除塵裝置,其中上述 二異物掃描器係為雷射掃瞄裝 8·如申請專利範圍第 之第一異物掃描器與該第 置。 9·如申請專利範圍第 之氣體係為一氮氣。 2項所述之除塵裝置,其中上述 二異物掃描器係為影像攝影裝 1項所述之除塵裝置,其中上述 < $ 10.如申請專利範圍第丨項所述之除塵裝置,其中上述 氣體係為一去離子氣體(deionized air)。 Ai·如申請專利】 排氣裝置與-密封壳 1項所述之除塵裝置,更包含一 該密封殼體將該主動式光罩除塵 15 1281571 裝置密封,而該排氣裝置連接於該密封殼體,以將該氣體 所清除之該些異物,由該密封殼體中排出。 12.如申請專利範圍第11項所述之除塵裝置,其中上 述之排氣裝置更包含一集風罩與一排氣管,該集風罩配置 - 於該密封殼體之前端外侧,並與該排氣管連接,以使該些 異物穩定的由該密封殼體,經由該集風罩與該排氣管排出。 # 13·—種主動式光罩除塵方法,至少包含: 提供一光罩; 利用一第一除塵氣刷,清除該光罩之一第一表面上之 異物;以及 利用一第一異物掃描器,跟隨該第一除塵氣刷之後掃 瞄該光罩之該第一表面,以偵測該第一表面之清潔度。 14·如申睛專利範圍第13項所述之主動式光罩除塵方 φ 法,更包含: 利用一第二除塵氣刷,同步於該第一除塵氣刷,以清 除該光罩之第二表面上的一保護膜之表面的異物;以及 利用一第二異物掃描器,跟隨該第二除塵氣刷之後掃 瞄該保護膜之該表面,以偵測該保護膜之該表面之清潔度。 15.如申明專利範圍第14項所述之主動式光罩除塵方 法,更包含: 利用-氣體傳輸管路,以提供該第一除塵氣刷與該第 16 1281571 22.如申請專利範圍第21項所述之主動式光罩除塵方 法,更包含利用一排氣裝置,將該些異物排出該密封殼體 之中。
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW94124740A TWI281571B (en) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | Active mask particle disposal apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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TW94124740A TWI281571B (en) | 2005-07-21 | 2005-07-21 | Active mask particle disposal apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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