TWI252326B - Method for forming Fresnel lens - Google Patents
Method for forming Fresnel lens Download PDFInfo
- Publication number
- TWI252326B TWI252326B TW92128763A TW92128763A TWI252326B TW I252326 B TWI252326 B TW I252326B TW 92128763 A TW92128763 A TW 92128763A TW 92128763 A TW92128763 A TW 92128763A TW I252326 B TWI252326 B TW I252326B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- fresnel
- rtigt
- rti
- material layer
- Prior art date
Links
Description
1252326 案號 92128763 五、發明說明(1) (一)、【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種透鏡形成古、上 耳透鏡形成方法。 法 修正 特別關於一 菲涅 (二)、【先前技術】 隨著視訊技術的提昇與市場的需求,近年來背 幕/Rear PrGjectlQn Screen)係廣泛地運用於背投電Ϊ
Rear Pr°jectl°nTV)之顯示幕、終端機勞幕 視 (M〇nitor Screen)、及多媒體展示 Installation )等。 screen -般而言,背投螢幕主要包括"里耳透鏡 “=二二 擴散板(Diffuser Plate),其中 ^ ^ 、見’、以提昇影像的亮度與均勻度,以使得相、祕 像白。、光線月匕做良好的運用’而擴散板則用以提供影像之成 ^-j # ί SB0 ! 1" st 55 〇 V;" ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 1 it f ^ ^ τ 包括一铭基板及-=,步驟S〇1係提供一模板,其通常 之對應圖案。接著^而鎳板上係形成有-菲淫耳透鏡 菲-耳材料層I時❹驟S〇2中’其係於模板上塗佈-之對應圖案上,故“::::料層係塗佈於菲淫耳透鏡 鏡之圖案。铁後,ϋ耳材料層可以形成所需的菲淫耳透 淫耳材料層:4,°3中,二透明基板係設置於菲 S04係接著進行一壓人透·明基板通常為一壓克力板。步驟 料層及模板滾麼合模口〜序’其係將,明基板、菲沒耳材 —————--- 後,步驟S05係烘烤滾壓合模後 1252326 frz Mu 五、發明說明(2) 的透明基板、菲涅耳材料層及模板,以便硬化菲涅耳材料 層。如上所述,菲涅耳材料層與透明基板係構成一耳 透鏡。 ^ 然而,依據上述方法所製造的菲涅耳透鏡會有一歧 題。睛茶照圖2所示,當進行前述之步驟s〇2時,一々 二料層U係塗佈於—模板"上,而模板⑴系包括一::: Π1及一鎳板112,其中,锃祐119夕 主工丨入 土板 個凹押113,豆禕或一鎳板112之一表面上會形成複數 耳好S 非沒耳透鏡之對應圖案,此時,菲淫 凹槽113,土而合1 ,非涅耳材料層13可能無法完全填滿 造的菲淫耳透:不 率。 口規格,因而降低了菲涅耳透鏡的產 序以::菲二:料層之後’4妾著會進行脫膜程 中有氣泡“殘模板11 ’此時,若在凹槽⑴ 可能會損壞菲沒耳材料= 材料層13與模板η時, 果同::降低菲淫耳透“ί率 產生裂痕⑶,結 泡現象,以提昇菲】$ :::::里耳材料層時所產生的氣 製造技術的重要課題之一二、义率,正是當前背投影元件 (—)、【發明内容】 有鐘於上诚4里 在塗佈菲,耳材料層時產:::: = =種能夠 W非/圼耳透鏡形成方 1252326 號 921287M 五、發明說明(3) 緣是,為達上述目的 曰 修正 法包括提供一模板 二菲涅耳材料 本發明中,模 案;第 耳材料 於第二 菲涅耳 層、設 板之一 非〉圼耳材料 成於第 材料層 層係形 菲涅耳 材料層 承上所述 佈一層第一菲 案,然 料層, 材料層 程序中 造菲涅 後再塗 所以能 之材料 ’能夠 耳透鏡 、第一 ’因依 ®耳材 佈第二 夠有效 可以是 有效防 時的良 形成一 置一透 表面係 層係形 一菲涅上;壓 菲涅耳 本發明 料層以 菲涅耳 避免氣 與模板 止裂痕 率。 依本發明之菲涅耳透鏡形成方 弟菲/圼耳材料層、形成一第 明基板、以及一壓合程序。在 形成有一菲淫耳透鏡之對應圖 成於模板之表面上;第二菲涅 耳材料層上;透明基板係設置 合%序係壓合透明基板、二 材料層及模板。 ~ 之菲,里耳透鏡形成方法係先塗 填滿模板之表面上的對應圖 材料層以構成所需的菲涅 泡的產± ’·另彳,第—菲 2 Γ離’所以在後續的:膜 、务生,故能夠有效地提昇製 (四)、【實施方式】 以下將參照相關圖式,% :圼耳透鏡形成方法,其中相同的元' ::二實施例之菲 加以說明。 千將以相同的參照符號 請參照圖4所示,依本發明較 形成方法2包括以下步驟。 只細例之菲涅耳透鏡 一、曰=先,步驟S21係提供—模板,兑一 > 而γ 非匕耳透鏡之對應圖案。在 /、表面係形成有— 基板及-鎳板,而鎳板上係形:J:、’模板係包括一鋁 心成有非運耳透鏡之對應圖 五、發明說明(4) Ϊ、二ί 儲存於一模板儲存台車中,其通常為-設有滾輪 中跑中’口車’並配合—升降台車將模板自模板儲存台車 =出’以進行後續步驟。另外,在提供模板時,通常會 ίί仃:除靜電程序,然後再進行後續步驟,以避免影響 後績之非涅耳材料的塗佈程序。 # f著,步驟S22係形成一第一菲涅耳材料層於模板之 2機播士在本實施例中’第一菲淫耳材料層係於一材料塗 的一 形成,且其係形成於具有菲涅耳透鏡之對應圖案 硬化腴,上i,第一菲涅耳材料層之材料可以包含紫外光 $ f =如%氧樹脂)、或室溫反應型硬化劑及壓克力樹 酸樹脂),·另外,第一菲埋耳材料層 挺板之表面為易分離。 -菲 '、曰:,S23中’一第二菲涅耳材料層係接著形成於第 第二Ϊ涅:::。在t實施例中,第-菲涅耳材料層與 塗佈制二所π ^ a可以是利用相同的材料塗佈機構來進行 包括;:伞以’而且其可以是利用相同材料所形成,如 縮劑及!起:ΐ ί、脫膜膠、界面活性劑、消泡劑、抗收 脂。(始劑專,或是室溫反應型硬化劑及壓克力樹 S23中明茶圖j及圖6所* ’在本實施例之步驟S22及步驟 亦即是耳材料層231係完全覆蓋模板11之表面, 時,有非涅耳透鏡之對應圖案的鎳板112上,此 會有汽:2涅耳材料層231可以充分地填滿凹槽113、且不 一菲=且產生,然後第二菲涅耳材料層2 3 2再形成於第 非〉圼耳材料層231上(如圖5所示);另夕卜,第二成菲^耳 1252326 案號 92128763 五、發明說明(5) 材料層231可以是塗佈於凹槽113中而並未完全覆蓋模板^ 之表面,此時,第一菲涅耳材料層231係先填入凹槽, 並暴露出模板11之部分表面,然後第二菲涅耳材料9層232 再形成於第一菲涅耳材料層23 1及模板丨丨表面之暴露θ部分 上(如圖6所示),其係能夠有效地避免於菲涅耳材声 與模板之間所形成的氣泡。 曰 ^驟S24係設置一透明基板於第二菲涅耳材料層上。 在本貫施例中,透明基板係為一壓克力板,其产 2mm且具有可撓性(flexible )。 又、、、為 ,著,步驟S25係執行一壓合程序以壓合 ッ驟S25係利用一具有滾輪(Roller)之壓入機構 來執行滾壓合模程序,其中, 口栊構 或第。其係為第一菲淫耳材料層及/ &耳材料層在壓合程序中所殘留的物質。 在壓合程序之德,垃装一 、 淫耳材料層及第-H進订一硬化程序以硬化第一菲 例中,第—菲、材料層(步驟s26)。在本實施 係構成-菲“3 1、ί二菲淫耳材料層及透明基板 第二菲涅耳材=而,主思者,當第一菲涅耳材料層及 須配合-紫外’::J:料為紫外光硬化膠時,*步驟係必 及第二菲機構來進行;而當第,耳材料層 樹脂時,本牛驟楛^=材料為室溫反應型硬化劑及壓克力 第 -菲違耳材料層及模板靜置非f耳材料層、第
—菲淫耳材料層中的材L ί ^寺第一非淫耳材料層及 —^枓於至溫下反應,即可完成硬化
Μ 第12頁 Ϊ252326 發明說明(6) 程序。 92128763 曰 修正 最後 與模板。 綜上所述 成第一菲涅耳 後再於第一菲 能夠有效避免 料可以是與模 夠有效防止裂 鏡時的良率。 以上所述 本發明之精神 應包含於後附 步 驟S2 7係進行一脫膜程序以分離菲涅耳透鏡 ,由於本發明之菲淫耳透鏡形成方法係先形 材料層以填滿模板之表面上的對應圖案,然 涅耳材料層上形成第一菲涅耳材料層,所以 氣泡的產纟;另外’第—菲涅耳材料層之材 板為易分離,所以在後續的脫膜程序中,能 痕的發生,故能夠有效地提昇製造菲涅耳透 ^舉例性,而非為限制性者。㈣未脫離 人鞄嚀,而對其進行之等效修改或變更,均 之申請專利範圍中。
第13頁 1252326 j號 92128763 圖式簡單說明 "^J 啟ΓΡ (五)、【圖式簡單說明a 圖1為一流程圖,顯示習 流程; 的非浬耳透鏡形成方法的 圖2為一示意圖,其顯示 ,、 方法於模板上形成菲涅耳材 1習知的菲涅耳透鏡形成 圖3為一示意圖,其顯的示意; 方法分離菲涅耳透鏡與模板;1用習知的菲涅耳透鏡形成 圖4為一流程圖,顯 透鏡形成方法的流程;又發明較佳實施例之菲遑耳 料鏡為η不:、其顯示利用本發明較佳·" 菲淫耳;把成从 、 t成第一菲沒耳松料爲12雖 今材枓層的示意;以及 斗材料層及箪二 涅耳二$為不忍圖,其顯示利用本發明較佳每f彻 h里耳材料層的另一示意。 耳材料層及第二 1元件符號說明: Π 習知的菲淫耳透鏡形成方法 1 模板
紹基板 I 112 鎳板 113 凹槽 13 131 非涅耳材料層 裂痕 第14頁 1252326 案號 92128763 曰 修正 圖式簡單說明 15 2 231 232 S(H 〜S05 S2 卜S27 驟 氣泡 本發明較佳實施例之菲涅耳透鏡形成方法 第一菲淫耳材料層 第二菲涅耳材料層 習知的菲涅耳透鏡形成方法之步驟 本發明較佳實施例之菲涅耳透鏡形成方法的步
第15頁
Claims (1)
- tl#, 921287R^ 1252326六 申請專利範圍 1、一種菲涅耳透鏡形成方法,包含: 提供一模板,該模板之一表面係彤士、 奴之衣诉形成有—菲涅耳透鏡之對 應圖累, 形成一第一菲涅耳材料層於該表面上; 形成一第二菲涅耳材料層於該第—菲涅耳上; 設置一透明基板於該第二雜涅耳材料層上丨以^ 壓合該透明基板、兮筮-託里耳ϋ 士、丨& ^ β弟一 # /里斗材枓層、該第一菲涅耳材 料層及該模板,发中該第一菲、、?且4 二斗Μ A /、宁3弟非/圼耳材料層係形成於該表 面之该對應圖案中’並暴露出部分之該表面,而該第二 材料層係形成於該第—菲淫耳材料層及該表面之 暴露部分上。 菲;圼耳透鏡形成方法,更 :、如申請專利範圍第1項所述之 包含: 硬化:第—菲涅耳材料層及該第—”今材料厂一… m材料層、該第二菲淫耳材料層“透明基板 係構成一菲涅耳透鏡。 如申睛專利範圍第2項所述 包含: 分離該菲涅耳透鏡與該模板。 之菲沒耳透鏡形成方法,更 如+申凊專利範圍第1項所述之菲淫 °亥模板係預先經過一除靜電程序。第16頁 1252326 _案號92128763_年月日__ 六、申請專利範圍 5、 如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法,其 中該模板係包含一鋁基板及一鎳板,而該對應圖案係形成 於該鎳板上。 6、 如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法,其 中該第一菲涅耳材料層係完全覆蓋該表面。7、 如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法,其 中該苐一非 >圼耳材料層之材料係與該表面之材料為易分 離。 8、 如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法,其 係利用一滚輪(Ro 1 1 er )進行一滾壓合模程序以壓合該透 明基板、該第二菲涅耳材料層、該第一菲涅耳材料層及該 模板。9、 如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法,其 中該透明基板係一壓克力板。 1 0、如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法, 其中該第一非〉圼耳材料層及該苐二非〉圼耳材料層之材料係 包含紫外光硬化膠。第17頁 1252326 _案號 92128763_年月日__ 六、申請專利範圍 11、如申請專利範圍第1項所述之菲涅耳透鏡形成方法, 其中該第一菲涅耳材料層及該第二菲涅耳材料層之材料係 包含室溫反應型硬化劑及壓克力樹脂。第18頁 1252326 案號 92128763 _η 曰 修正 六、指定代表圖 (一) 、本案代表圖為:圖4 (二) 、本案代表圖之元件代表符號簡單說明: 2 本發明較佳實施例之菲涅耳透鏡形成方法 S21-S27 本發明較佳實施例之菲涅耳透鏡形成方法的步 驟第6頁
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW92128763A TWI252326B (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Method for forming Fresnel lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW92128763A TWI252326B (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Method for forming Fresnel lens |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200515003A TW200515003A (en) | 2005-05-01 |
TWI252326B true TWI252326B (en) | 2006-04-01 |
Family
ID=37565387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW92128763A TWI252326B (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Method for forming Fresnel lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI252326B (zh) |
-
2003
- 2003-10-16 TW TW92128763A patent/TWI252326B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200515003A (en) | 2005-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103402908B (zh) | 在大面积上生产高度有序的纳米柱或纳米孔结构的方法 | |
TWI278694B (en) | Method for supporting a flexible substrate and method for manufacturing a flexible display | |
CN108667958B (zh) | 一种手机面板边框孔区透明胶层的制备方法 | |
TW200405122A (en) | Novel planarization method for multi-layer lithography processing | |
AU2001252982A1 (en) | Assembly of free-standing films using a layer-by-layer process | |
JPH0922111A (ja) | ペリクル | |
TW200837792A (en) | Manufacturing method of thin keypad assembly | |
TW201227642A (en) | Functional film lamination method, lamination device and film positioning method | |
TWI252326B (en) | Method for forming Fresnel lens | |
JP2002086462A (ja) | 基板の製造方法及び製造装置 | |
WO2018018468A1 (zh) | 一种壳体与显示屏的粘结方法、壳体组件和移动终端 | |
TW201142490A (en) | A pellicle for lithography | |
CN208421297U (zh) | 导光结构、背光模组及显示装置 | |
CN106707629A (zh) | 液晶空盒及制作方法、应用该液晶空盒的液晶透镜 | |
TWI279006B (en) | Manufacturing method of thin film transistor display | |
TW201249272A (en) | Manufacturing method for electronic substrate and binding agent applied to the same | |
TW201227455A (en) | Touch panel display device | |
TW201109740A (en) | Hybrid optical film | |
CN114407472A (zh) | 壳体的制作方法、壳体和电子设备 | |
ATE299091T1 (de) | Verfahren zur herstellung von einem optischen gegenstand aus kunststoff | |
TWI250124B (en) | Method of manufacturing micro-structure element by utilizing molding glass | |
TWM334999U (en) | Mold structure for forming keypad panel | |
TWI285300B (en) | A method for making a light guide plate mold | |
KR101001934B1 (ko) | 패턴 가공 및 전주도금기술을 이용한 유브이 몰딩 도광판의 제조방법 | |
TW591262B (en) | Methods for fabricating air gap between optical devices |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |