TWI249590B - Corrosion-resistant Al-based structural member and method for producing the same - Google Patents

Description

1249590 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 發明領域 本發明係有關一種耐钱性A1系構造構件及其製造方 5法。在此，於A1系構造構件中，包含由純A1形成之構造構 件及由A1合金形成之構造構件兩者。 I：先前技術3 背景技術 迄今，此種A1系構造構件具有由鉻酸鹽皮膜形成之防 1〇蝕皮膜(例如，參照日本公開公報60-35432號）是已知的。 然而，由於習知鉻酸鹽皮膜使用含有Cr〇3為處理液之 主成分，因而形成物中含有6價&。眾所皆知，由於6價〇 是對人體有害之元素，因此在公害防止上，以不含有6價& 之防蝕皮膜為佳。 15 【發明内容】 發明概要 本七明之目@，係提供一種具有不含6價鉻酸鹽之無公 σ防餘皮膜之前述财餘性A1系構造構件。 2〇 為了達成所述目的，本發明提供-種耐钱性Α1系構造 構件4耐餘性八!系構造構件係具有密接於…系構造構件 由Ζ底層與㊉接於該底層之防*皮膜，又，前述底層係 V成又，岫述防蝕皮膜係由含有3價Cr鉻酸鹽皮膜形 成者。 、’述防蝕皮膜由於具有優異耐蝕性且不含有對人體有 1249590 害之6價Cr，因而在防止公害上是有益的。又，含有3^cr 之Zn用鉻酸鹽皮膜並不會直接密接於A1系構造構件表面， 而是對由Zn形成之底層，即，對Ζιυ£層表面發揮充分的密 接性。此外，使用習知鋅酸鹽處理等，可輕易地在Μ系構 5 造構件表面密接形成Ζη底層。 又，本發明之目的健供可輕_量“述構造之对 蝕性Α1系構造構件之前述製造方法。 為了達成前述目的，本發明提供一種耐蝕性Μ系構造 構件之製造方法，該方法係利用在⑽構造構件表面，藉 10由鋅酸鹽處理，形成由Ζη所形成之底層，即，形成zn底層 之程序，與在該Ζη底層表面，藉由使用有3價鉻酸鹽之絡酸 鹽處理，形成由含有3價Cr之Ζη鉻酸鹽皮膜所形成之防蝕皮 膜之程序。 利用前述製造方法’可輕易且確實地獲得前述構造之 15 A1系構造構件。又，鋅酸鹽處理及鉻酸鹽處理，由於可同 時以浸潰法來進行，故兩處理可進行線上生產程序以提高 生產性。 鋅酸鹽處理所需時間“係設定為增加在A1系構造構件 表面Ζη析出量，可得到Ζη底層所需厚度之值，例如，ti$ 20 3〇s。另一方面，鉻酸鹽處理所需時間。係設定為儘管因鉻 酸鹽處理溶解Ζη底層，亦在確保該zn底層厚度後，在該Zn 底層表面可確實地形成含有3價Cr之Ζη用鉻酸鹽皮膜之 值，例如，t2‘ 15s。但在鋅酸鹽處理的處理時間為“，且“ < 30s，Ζη底層厚度對鉻酸鹽處理是不充分的，另一方面， !24959〇 當路酸鹽處理的處理時間t2, t2>15s則會進行zn底層溶 解，故有A1系構造構件表面露出之虞。 圖式簡單說明 第1圖係耐蝕性A1合金製氣化器主體正面圖，第2圖係 5耐餘性A1合金製氣化器主體之要部擴大截面圖。 【實施方式】 較佳實施例之詳細說明 、第1圖顯示作為耐蝕性A1系構造構件且由八丨合金所形 成之耐钱性氣化為、主體i。該耐餘性氣化器主體1係如第2圖 10所*，在使用JIS ADC12it藉由壓鑄所得之氣化器主· 未防歸面，設置與其密接之底層2與密接於該底層2表面 之防钱皮膜3。底層2係由Zn形成，另一方面，防餘皮膜3 係由含有3價Cr之Zn用鉻酸鹽皮膜所形成者。 該防蝕皮膜3，具有優異耐蝕性並不含對人體有害之6 u價cr，因而在防止公害上是有益的。又，含有3般之仏 用鉻酸鹽皮膜，並非直接密接於由A1合金所形成之氣化器 主體1〇表面，而是對由Zn所形成之底層，即，對Zn底層2 表面充分發揮密接性。更，使用習知鋅酸鹽處理，可輕易 地在由A1合金所形成氣化器主體丨❶表面密接形成211底層2。 2〇 耐蝕性氣化器主體丨❹的製造係首先對壓鑄後氣化器主 體1〇依序進行習知的前處理，即，漂白、脫脂、水洗、活 性化、水洗及漂白。接著，在前處理後的氣化器主體1〇表 面依序進行藉由鋅酸鹽處理而形成Zn底層2程序、水洗程 序、在前述Zn底層2表面，藉由使用有3價鉻酸鹽之鉻酸鹽 1249590 處理形成由3價Cr之Zn用鉻酸鹽皮膜所形成之防蝕皮膜程 序、水洗程序、乾燥程序等。 利用前述製造方法，可輕易且確實地得到前述構造之 耐蝕性氣化器主體。又，由於鋅酸鹽處理及鉻酸鹽處理可 5同時使用浸潰法進行，故兩處理可進行線上生產程序以提 高生產性。 鋅酸鹽處理所需時間U係設定為增加在氣化器主體、 表面Zn析出量，可得到Zn底層2所需厚度之值，例如，ti-30s。另一方面，鉻酸鹽處理所需時間。係設定為儘管因鉻 10酸鹽處理溶解Zn底層，在可確保Zn底層厚度後，在該211底 層表面確實地形成含有3價Cr之Zn用鉻酸鹽皮膜之值，例 如，15s 〇 [實施例] 以Zn取代液（商品名：κ-102，日本Kanigen社製）作為 15鋅酸鹽處理液主成分。該辞取代液含有18.6wt%NaOH、 3.1wt%ZnO、7.8wt%有機酸及微量添加劑。將該溶液濃度 調製成220mL/L，以作為辞酸鹽處理液。 又，以3價鉻酸鹽溶劑（商品名：dips〇1_ZT_444A，液狀， D1PS01社製)作為鉻酸鹽處理液主成分。該3價〇鉻酸鹽溶劑 20 係由 14〜16wt%(Cr3+ : 4)硝酸鉻[Cr(N〇3)3 . 9H2〇]、2〜4加％ 確酸钻[Co(N03)2]及殘留部普通物形成，且該等為既有之化 學物質。將該溶液濃度調製成6〇mL/L，以作為絡酸鹽處理 液。

預備複數個與前述同樣之A1合金製氣化器主體（JIS 1249590 ADC12聯機品）ι〇，並進行與前述相同的前處理。接著，依 序進行使用30°C前述鋅酸鹽處理液並改變處理時間。形成

Zn底層2水洗、使用3〇。〇鉻酸鹽處理液並改變處理時間h 升y成防蝕皮膜、水洗及乾燥，以得到各種耐蝕性氣化器主 5 體1。 對6亥等耐蝕性氣化器主體進行鹽水喷霧試驗，以求出 從試驗開始經過48小時後之白色生成物（A1合金腐钱而成 的生成物）面積率A，gp，A=(白色生成物面積緣化器主體 〜表面積）xl〇〇A。弟1表係顯示有關耐钱性氣化器主體1第 10 1 6例之鋅酸鹽處理時間h、鉻酸鹽處理的處理時間t2及白 色生成物的面積率A。 【第1表】 器主體 酸鹽里時3 ti(s) i酸鹽處間 t2(S) 白色生成物 面積率A(%)

由第1表可清楚地知道，如例i、2中均分別將鋅酸鹽處 15 =的處理時間tl設定在ti^3〇s，並將鋅酸鹽處理的時間^設 疋在t2S 15s，即可得到具有優異耐餘性之^合金製氣化器 与。在第3〜5例的情形下可判斷儘管鋅酸鹽處理的處理時 ^係^15S，，底層2厚度會較薄，但由於鋅酸鹽處理 的處理時間 t2*t2= 15s<t2 = 3〇< h曰 2〜50，因此氣化器主體 又面路出量仍會依例3、例4、例5之 順序惡化。 川之順序增加，並且依此 20 1249590 A1系構造構件不限於A1合金製氣化器主體，且可包含 由A1合金所形成之節氣閥、電磁閥主體、壓縮器機座等， 也可含有由純A1所形成之構造構件。 【圖式簡單說明3 5 第1圖係耐蝕性A1合金製氣化器主體正面圖，第2圖係 耐蝕性A1合金製氣化器主體之要部擴大截面圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 1、10…氣化器主體 2…底層 3…防蝕皮膜

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Claims (1)

1249590 拾、申請專利範圍： 1. 一種耐蝕性A1系構造構件，係具有密接於A1系構造構 件表面之底層與密接於該底層表面之防蝕皮膜，又，前 述底層係由Zn形成’前述防餘皮膜係由含有3價Cr 5 之Zn用鉻酸鹽皮膜所形成者。 2. —種耐蝕性A1系構造構件之製造方法，係使用於A1 系構造構件表面，藉由鋅酸鹽處理形成由Zn所形成之 底層之程序，與於該底層表面，藉由使用3價鉻酸鹽形 成由含有3價Cr之Zn用鉻酸鹽皮膜所形成之防蝕皮膜 10 之程序。 3. 如申請專利範圍第2項之耐蝕性A1系構造構件之製造 方法，其中前述辞酸鹽處理所需時間“係設定為增加前 述A1系構造構件表面之Zn析出量，可得到由Zn形成 前述底層所需厚度之值，又，前述鉻酸鹽處理所需時間 15 t2係設定為儘管因該鉻酸鹽處理溶解前述底層，亦可確 保底層厚度後於該底層表面確實地形成含有3價之前 述Zn用鉻酸鹽皮膜之值。 4. 如申請專利範圍第3項之耐蝕性A1系構造構件之製造 方法，其中前述鋅酸鹽處理所需時間為U，且30s， 20 又，前述鉻酸鹽處理所需時間為t2，且t2S 15s。 11