TWI242598B - Photochromic, photochromic material and method for manufacturing the same - Google Patents
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Description
1242598 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 發明背景 1. 發明領域 本發明係與用於生產一個光致變色物的方法以及一 用於生產一個光致變色材料的方法有關,該光致變色物包 含有一會藉著紫外線光照射作用而改變其之透光度的氧 化組成物。特別地說,本發明係與一適合用於印刷材料、 光學儀器、記錄材料、顯示材料、調光材料、光敏性元件、 衣服和裝飾品的光致變色物有關。 【先前技術】 2. 相關技藝的說明 在相關技藝中,已知例如苯并哌喃光致變色材料的 有機材料係為會藉著光的照射而改變其之透光度的材料。 雖然例如苯并哌喃光致變色材料的有機材料,會在 光照射數秒之後變成不透明的,並在停留在暗處數秒至數 分鐘之後回到透明狀態,一旦該材料藉由光照射而變成不 透明後,就無法獲得穩定的透光性質室一個問題。 【發明内容】 發明摘要 本發明提供一種包含有一氧化組成物薄膜與一光透 性薄膜之層合物的光致變色物,該氧化組成物包含分別地 1242598 選自於由 Ti、Μη、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群組以 及由 Mg、A1和 Si所構成的群組的至少二種元素所組 成。該光致變色者的透光性質係被紫外線光照射作用所改 變 〇 本發明提供一種包含有一氧化組成物與一光透性薄 膜之層合薄膜物的光致變色物,該氧化組成物包含分別地 選自於由 Ti、Mn、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群組以 及由 Mg、A1和 Si所構成的群組的至少二種元素所組 成。該氧化組成物薄膜和該光透性薄膜的至少之一者,係 形成在另一個薄膜的兩個面上,且該透光性質係被紫外線 光照射作用所改變。 本發明提供一種包含有一氧化組成物之層合薄膜的 光致變色物,該氧化組成物包含分別地選自於由 Ti、 Μη、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群組以及由 Mg、A1和 S i所構成的群組的二種元素所組成。該氧化組成物包含 光透性粒子。 在上述之光致變色物中,該光致變色物係為包含錫 和錢的氧化組成物。 在上述之光致變色物中,在該氧化組成物中所包含 的該錫原子的數目與該鎂原子的數目的原子數比,係介於 3 : 7到 7 : 3 的範圍中。 1242598 在上述之光致變色物中,在該光致變色物中該氧化 組成物的氧原子缺陷的比例是 1 %到 70%。 在上述之光致變色物中,該光透性薄膜包含有氧化 銦物作為一主要成分。 在上述之光致變色物中,該光透性粒子包含有氧化 銦物作為光致變色物之主要成分。 本發明提供一種包含有一具有氧化組成物之粉末的 光致變色材料,該氧化組成物包含分別地選自於由 Ti、 Μη、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群組以及由 Mg、A1和 S i所構成的群組的二種元素。該氧化組成物包含光透性 粒子。 在上述之光致變色材料中,該氧化組成物在光致變 色材料中包含有錫和鎂。 在上述之光致變色材料中,在該光致變色材料中該 氧化組成物中所包含的該錫原子的數目與該鎂原子的數 目的原子數比,係介於 3 :7到 7:3的範圍中。 在上述之光致變色材料中,在該光致變色物中該氧 化組成物的氧原子缺陷的比例是 1 %到 70%。 在上述之光致變色材料中,包含偶氧化銦之光透性 粒子矽作為如光致變色材料的主要的成分。 1242598 在上述之光致變色物中,該光透性薄膜包含有氧 銦物作為一主要成分。 在上述之光致變色物中,該光透性粒子包含有氧 銦物作為光致變色物之主要成分。 本發明提供一種製造一致變色材料方法,其包含 該層合的光致變色薄膜研磨成粉末以形成一粉狀的光 變色材料。 本發明提供一種生產光致變色物的方法,其包含 著一種選自於塗層-裂解方法、溶膠-凝膠方法、CVD 法、蒸汽沈積程序、離子電鍍方法與濺散方法之一的方 來形成一氧化化合物薄膜。 在上述的方法中,氧化化合物薄膜係藉著使用一 肪酸鹽或一脂肪酸鹽衍生物作為原料之塗層裂解方法 形成。 在上述的方法中,一種產生光致變色物的方法, 含有藉由塗層裂解和溶膠-凝膠方法來形成形成一氧化 合物薄膜的步驟。 在上述的方法中,該氧化化合物薄膜矽藉由使用 脂肪酸鹽或一脂肪酸鹽衍生物作為原料的塗料裂解方 來形成。 化 化 將 致 藉 方 式 脂 來 包 化 法 1242598 在上述的光致變色物中,一部分係以波長 500 nm 或更少的光線照射以形成一被照射的不透明部分。 在上述的光致變色物中,被紫外線的光照作用所形 成的不透明部分係藉由加熱而變得透明。 圖式簡要說明 第 1A-C圖顯示一依據本發明的光致變色物之作用 原理,該光致變色物的透光性會藉著紫外線光之照射作用 而改變。 第 2A-C圖顯示產生依據本發明的具體例 1之光 致變色物的方法。 第 3 A-C圖顯示產生依據本發明的具體例 2之光 致變色物的方法。 第 4A-C圖顯示產生依據本發明的具體例 2之光 致變色物的方法之修改。 第 5A-C圖顯示依據本發明的具體例 3之用於產 生該光致變色物的方法。 第 6圖顯示在紫外線照射作用之前和在之後依據 本發明的光致變色物之透光性。 第 7圖顯示在一張依據本發明的光致變色材料所 施加之紙上撰寫文件的具體例。 第 8圖顯示擦掉第 7圖中所撰寫的文字的具體 1242598 例。 【實施方式】 參考具體例說明 依據本發明的光致變色物之藉著紫外線光照作 變更透光性的作用原理係被顯示於第1圖中,其係 一摻雜了氧化物之氧化銦薄膜(以下稱為ITO薄膜 一包含有錫和鎂的組成物薄膜之間得結合來作為 例。雖然該作用原理並沒有被完全了解,其據推測可 如以下來作用。 在 ITO和錫-鎂的複合氧化物之間的結合之能 寬度被認為係如第 1A圖中所例示說明的。在該圖 從左到右例示說明了 ITO、一過渡晶體與錫-鎂的複 化物。在ITO的傳導能帶1 1與價電子帶13之間 間隙係為 3 · 7 5電子伏特(測量值),而錫-鎂組成氧 的傳導能帶和價電子帶之間的帶間隙是4.2 5電子伏 ITO的費米水平 12被認為係位在傳導能帶 11 近,而錫-鎂組成氧化物的費米水平被認為係位在傳 帶 1 1和價電子帶 13之間。 在過渡晶體的價電子帶13中之電子15係在 1 B圖所示的紫外線光線照射作用中,被紫外線的光 用 16激發到傳導帶 1 1,而該激活電子 15係由於 能帶1 1的梯度而被轉移至ITO的傳導能帶内。另 用而 使用 )與 具體 能係 量帶 式中 合氧 的帶 化物 特。 的附 導能 如第 照作 傳導 一方 -10- 1242598 面,相當電子價數的正電洞 14係被留在價電子帶 13 ^ 中〇 _ 因為在第1 C圖中所顯示的紫外線光照作用後的過 渡晶體之電洞 1 4的再結合作用之前會有一時間上的延 遲,原子排列會在此時間延遲期改變。與正電洞 1 4有關 的水平害在該等帶間隙之間移動,而形成一個新的水平 1 7,而這水平係被作為一色彩水平。 因為一呈色反應藉由上述的機制而在氧化組成物和 鲁 ITO之間的界面於氧化組成物一側發生,較大的本發明 之光致變色效應可以在該氧化組成物和 ITO之間的界面 之影響較大的時候來獲得。 雖然在上述中例示了包含有錫-鎂組成氧化物和 ITO的光致變色物,相同的效應可在組成氧化物與ITO之 間藉由與上述相同的機制而獲得,該組成氧化物係由具有 分別選自於 Ti、Mn、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群組 ® 以及由 Mg、A1和 Si所構成的群組的至少二種元素所 組成。該透明的導體並不限於 IT 0,而且例如氧化亞錫 和氧化鋅之任何材料都可以被使用,只要他們是光透性的 材料且具有 N-型半導體的特性。 [第一具體例] -11 - 1242598 第 2圖提供用於生產依據本發明的光致變色物之 -方法,而其顯示一在施加後藉著一熱分解方法而用於形成 -錫-鎂組成氧化物之製造方法。 如第 2A圖所示,一厚度為 0.2//m的ITO薄膜 2 係被沈積在玻璃基材 1上以作為一支持物。 如第 2B圖所示,每種 1 Og的癸酸錫和癸酸鎂係被 溶解在 1 0 g的乙醇中,而此種作為施加流體 3的溶液係 使用一在 1 200rpm下旋轉的旋轉塗敷器而施加在該 Φ ITO薄膜上。在此施加作用之後,該施加流體係在 60°C 下於乾燥爐中乾燥 10分鐘。 在乾燥施加在 ITO薄膜 2上的該施加流體之後, 玻璃基材 1係在一烘烤爐中於 400°C 下烘烤 1小時, 藉此在 ITO薄膜 2上形成如第 2C圖所顯示的一厚度 為 0.4 // m的錫-鎂組成的氧化物薄膜 5。當烘烤的溫度 較低的時候,氧原子缺陷的含量係較大,而在烘烤溫度較 ® 高時係較小的。當在烘烤環境中氧濃度較大的時候,缺陷 含量會變得比較大,而在烘烤環境中氧濃度較小的時候缺 陷含量會變得比較小。換句話說,在氧化組成物中氧原子 缺陷含量可以由烘烤的溫度和烘烤的環境氧濃度所控制。 氧原子缺陷的含量係較佳地在 1到 70%的範圍中,因 -12- 1242598 為在上述的條件範圍之外透光性質幾乎不會被紫外線光 胃 照作用改變。 , 可見光的透光度可藉由對上述的包含有ITO薄膜2 與錫-鎂組成氧化物薄膜 5的光致變色物,在照射光能為 3 0 mW/cm2波長為 3 6 5 nm的光 5分鐘後,而從 9 5 %改 變到 3 0%。在將經由紫外線光照作用導致透光度變化之 後的光致變色物置於室内光源1 2個月後,可見光的透光 度並沒有變化。 籲 雖然癸酸錫和癸酸鎂係被當成起始材料來例示說 明,任何的錫和鎂之脂肪酸鹽都可被使用。然而,當除了 癸酸錫或癸酸鎂之外的脂肪酸鹽被用來作為起始材料的 時候,該起始材料的溶解重量係不同的。在氧化組成物薄 膜中的原子比例,可以藉著改變溶解在乙醇中之起始材料 的重量比率而改變。錫原子的數目對鎂原子的數目的比 率,係較佳地介於3:7到 7:3範圍中,因為在上述的條 · 件範圍之外透光性質幾乎不會被紫外線光照作用改變。 雖然在塗覆之後的熱分解方法係在上述中被描述為 形成氧化組成物薄膜的方法,其也可以使用一溶膠-凝膠 方法、CVD方法、真空沈積方法、離子電鍍方法與濺散 作用方法。在 CVD方法中,(CH3)2SnCl2與 Mg(C5H702)2 中係被蒸發以作為起始物質的氣體,一電漿係藉由混合氧 -13- 1242598 和氮所產生,而蒸汽係被沈積在一以 5 0 0 °C 加熱的玻璃 -基材上。氧化亞錫和氧化鎂可能被用來作為真空沈積來 -源,或者在使用的真空蒸發作用時,金屬錫和鎂可以在一 氧氣環境中沈積。另一方面,在使用濺散作用時,可以使 用氧化亞錫和氧化鎂可被用來作為濺散靶,而該等薄膜係 藉由控制濺散環境氣體與基材溫度而加以沈積。 該光透性材料並不限於 ITO,而其也可以使用例如 氧化亞錫和氧化鋅的材料。該沈積方法並不限於濺散方 · 法,而其也可以使用真空沈積方法、離子電鍍方法和 CVD 方法。 [第二具體例] 在第3圖中所顯示的第二具體例中,光致變色物具 有一層合薄膜結構,其中形成被夾合在該二組成氧化物薄 膜之間的ITO薄膜。如第3A圖所示,首先一厚度為 0.4 /zm之包含有氧化亞錫和氧化鎂的第一氧化組成物薄膜 ® 5a係藉由如第 2A和 2B圖中的第一具體例所顯示描述 的方法來形成。然後,如第3B圖所示,厚度為 0.2#m 的 ITO薄膜 2係在該氧化組成物薄膜 5a上使用濺散 方法而形成。如第 3C所示,一厚度為 0.4//m之包含 有氧化亞錫和氧化鎂的第二氧化組成物薄膜 5 b,係在 I TO薄膜 2上以與形成第一氧化組成物薄膜 5a相同的 -14- 1242598 方法來形成。結果得到包含有夾合在該等二氧化組成物 -薄膜 5a和 5b之間的ITO薄膜 2之光致變色物。 - 上述方法的一種變化係為厚度為 0.2 /z m之該 ITO 薄膜 2係如第 4圖所顯示的被形成於一玻璃杯基材 1 上。然後,厚度為 〇. 4 // m的氧化組成物薄膜 5係在IΤ Ο 薄膜 2 a上形成,接著在氧化組成物薄膜上形成厚度為 0.2 // m的ITO薄膜 2b。此種光致變色物係被認為具有 與第3圖中所顯示的結構反向之層合結構,其中該氧化 _ 組成物薄膜係被插入在ITO薄膜之間。 由於在氧化組成物和 ITO之間的界面會增加,在第 3和 4圖中所顯示的具有氧化組成物與 ITO層之夾合 結構的第二具體例中之層合結構,會比氧化組成物薄膜和 ITO薄膜的層合結構還要好。 然而,與下面的第三具體例中所顯示的光致變色材 料類似的光致變色材料,可以藉著由包含有從玻璃杯基材 ® 1使用金屬刮刀 6剝下該光致變色物,並如第 3 D圖所 顯示的將該剝落的薄膜磨成粉。該在第一具體例中之光致 變色物可以藉著與上述相同的方法而以一光致變色材料 的粉末來使用。 第 6圖顯示在第二個具體例中所獲得的光致變色 物之透光度的圖表。該圖表顯示在照射光能為 30 -15- 1242598 mW/cm2波長為3 65nm的紫外光5分鐘前,該光致變色 · 物之透光度。該縱軸顯示相較於以空氣為100%透光度 -的透光度(%),且該水平軸係為光的波長。該透光度係以 Shimadzu公司所製造的 U V- 3 1 00 S來測量。該粗線代表 在紫外線光照作用之前的透光度,而該細線係代表在紫外 線光照作用之後的透光度。透光度在550nm的波長從紫 外線光照作用之前的86%下降到紫外線光照作用之後 -的4 · 7 %,且在將該經照射的光致變色物維持在室内光下 鲁 6個月,該透光度都沒有改變。 [第三具體例] 在第5圖中所顯示的第三具體例中,該光致變色物 包含一單層。一施加流體係藉由將每種丨〇 g的癸酸錫和 癸酸鎂溶解在10g的乙醇中,接著分散〇 lg直徑為 〇·〇4 # m的ιτο粒子的粉末而加以製備。一施加薄膜係 藉著以如第2B圖中之相同方法,在如第5A圖所顯示 _ 的作為支持物之玻璃基材i上施加該施加流體。在乾燥 机體之後,讜玻璃基材丨係在一烘烤爐中於4 〇 〇 C下玖烤1小時,藉此形成一厚度為0 · 4 // m的光致變 色物8 ’其包含有該具有厚度為〇 〇4// m IT〇粉末的錫_ 鎮氧化組成物薄膜。透光性相當於第二具體例的光致變色 -16- 1242598 物之透光性,係藉著對因此形成的光致變色物 8照射紫 》 外光而獲得。 _ 或者,一施加薄膜係藉著以如第 2B圖中之所示之 相同方法,將一藉著將每種 1 〇g的癸酸錫和癸酸鎂溶解 在 1 0 g的乙醇中來製備的施加流體,施加在該玻璃基材 上而形成。在乾燥該施加流體之後,該玻璃基材係在一烘 烤爐中於4 0 0 °c 下烘烤 1小時,且該所形成的氧化組成 物薄膜係從該玻璃基材上剝落以形成尺寸大約為 1 // m # 的鱗片狀粉末。施加流體係藉由將癸酸錫和癸酸銦溶解在 乙醇中而製備,而一施加薄膜係藉由將該施加流體與該鱗 片狀粉末,以第 2 B 圖中所示之相同方法施加在玻璃基 材上而製備。在乾燥該施加薄膜之後,該玻璃基材係在一 烘烤爐中於400°C 下烘烤 1小時。紫外光係如上述的照 射至所形成的氧化組成物薄膜,而獲得透光性相當於第二 具體例的光致變色物之透光性。 ® 在第一具體例和第二具體例中所顯示的光致變色材 料可藉著使用一金屬的刮刀 6而將這些光致變色物從玻 璃杯基材 1剝落,並藉由將該剝落的光致變色物如第 5 B 圖所顯示的磨成細粉而獲得。 [第四具體例] -17- 1242598 第 4圖顯示使用由第一具體例中到第三具體例所 , 獲得的具有大約 1 // m的一尺寸之鱗片狀光致變色材料 -的具體例。 該鱗片狀的光致變色材料係與一對該光致變色材料 為惰性之溶劑混合,且該溶液係在乾燥之後被施加在一張 紙 2 1上。一黏合劑可被適當地與該光致變色材料混合以 使得該光致變色材料不會剝落。該如上述所製備的紙張係 如第7圖所顯示的以一經過透鏡2 3聚焦的紫外線光源 _ 2 2進行掃瞄,以在該張紙 21上描繪一圖案(字元與照 片)24。該紫外線光源可以是一雷射二極體或任何其他的 短波長光源。因為該印刷過程序與使用一調色劑之傳統 Carlson方法相比係更簡化,所以印刷機的大小、重量、 花費與電能消耗可被大幅地減少。 在第 7圖的方法中所描繪的圖案可如第 8圖所顯 示的藉由將該張紙通過熱滾輪31之間而擦掉。其有助於 · 再利用該張紙,因為該圖案可以在第 7圖中所顯示的步 驟中再次寫入。可以用一紅外線雷射照射來擦掉所寫入的 圖案。可能可以藉由將該光致變色材料施加在一替代紙張 的織物上產生相同的圖案。 18- 1242598 ,可 可以 上形 而產 光可 於化 受光 度的 色素 塗層 傳統 相比 的機 物, 成不 該包含該鱗片狀的氧化組成物之光致變色材料 以與一有機樹脂混合以將其形成一薄片,或者該薄片 與一金屬、玻璃、陶究和樹脂薄片一起層合成。 [第五具體例] 用於建築物之遮光玻璃可藉由在一鈉鈣玻璃板 成依據第一具體例至第三具體例的那光致變色物 生,並藉由以控制紫外線的光能來照射紫外線而產生 透過該玻璃的任何透光度。 包含有該光致變色物的遮光薄膜可以在形成用 學品之玻璃瓶的玻璃板時於其上形成,以用於保存易 影響的物質的玻璃瓶中。一具有任意的彩色色調和梯 玻璃產品,可藉由將例如是氧化鐵、氧化鈷和欧菁之 加入施加流體中而製造。更複雜的顏色控制可藉由在 之後立刻使用乙醇在施加薄膜上描繪圖案而進行。與 的包含有在表面上塗覆一樹脂和色素的玻璃產品 較,依據本發明的方法所製備的暗淡玻璃,具有優良 械強度、抗溶劑性與财熱性。 依據本發明的詳細描述可以獲得一種光致變色 其中該光致變色物係以紫外線照射作用而從透明變 透明,其係藉由一包含至少二元素的氧化組成物以及一光 1242598 透性的材料所形成。該光致變色物的透光性在室内光下會 改變。 【圖式簡單說明】 第1 A- C圖顯示一依據本發明的光致變色物之作用 原理,該光致變色物的透光性會藉著紫外線光之照射作用 而改變。 第 2A-C圖顯示產生依據本發明的具體例 1之光 致變色物的方法。 第 3 A-C圖顯示產生依據本發明的具體例 2之光 致變色物的方法。 第 4A_C圖顯示產生依據本發明的具體例 2之光 致變色物的方法之修改。 第 5A_C圖顯示依據本發明的具體例 3之用於產 生該光致變色物的方法。 第 6圖顯示在紫外線照射作用之前和在之後依據 本發明的光致變色物之透光性。 第 7圖顯示在一張依據本發明的光致變色材料所 施加之紙上撰寫文件的具體例。 第8圖顯示擦掉第7圖中所撰寫的文字的具體例。 -20- 1242598 【圖式之主要元件代表符號表】 1玻璃基材 14正電洞 2 ITO薄膜 15電子 5氧化物薄膜 16紫外線光照作用 5a氧化組成物薄膜 17費米水平 5b第二氧化組成物薄膜 21紙 6 金屬刮刀 22紫外線光源 8 光致變色物 23透鏡 11傳導能帶 24圖案 12費米水平 31熱滾輪 13價電子帶
Claims (1)
1242598 拾、申請專利範圍: 1. 一種光致變色物,其包含有一氧化組成物薄膜與 透性薄膜之層合薄膜,該氧化組成物包含分別地 於由 Ti、Mn、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群 及由 Mg、A1和 Si所構成的群組的至少二種元 組成,其中該光致變色者的透光性質係被紫外線 射作用所改變。 2 . 一種光致變色物,其包含有一氧化組成物薄膜與 透性薄膜之層合薄膜,該氧化組成物包含分別地 於由 Ti、Mn、Co、Ni、Zn和 Sn所構成的群 及由 Mg、A1和 Si所構成的群組的至少二種元 組成,該氧化組成物薄膜和該光透性薄膜的至少 者,係形成在另一個薄膜的兩個面上,其中該透 質係被紫外線光照射作用所改變。 3 . —種光致變色物,其包含有一氧化組成物之薄顏 氧化組成物包含分別地選自於由 Ti、Mn、Co、 Zn和 Sn所構成的群組以及由 Mg、A1和 Si 成的群組的二種元素所組成,該氧化組成物包含 性粒子。 4. 如申請專利範圍第1或 2項的光致變色物,其 氧化組成物包含錫和鎮。 一光 選自 組以 素所 光照 一光 選自 組以 素所 之一 光性 ,該 Ni、 所構 光透 中該 -22- 1242598 5. 如申請專利範圍第 3項的光致變色物,其中該氧化 組成物包含有錫和鎮。 6. 如申請專利範圍第 4項的光致變色物,其中在該氧 化組成物中所包含的該錫原子的數目與該鎂原子的 數目的原子數比,係介於 3 :7到 7:3的範圍中。 7. 如申請專利範圍第5項的光致變色物,其中在該氧 化組成物中所包含的該錫原子的數目與該鎂原子的 數目的原子數比,係介於 3 :7到 7:3的範圍中。 8. 如申請專利範圍第 6項的光致變色物,其中該氧化 組成物中的氧原子缺陷的比例是 1 %到 70%。 9. 如申請專利範圍第7項的光致變色物,其中該氧化 組成物中的氧原子缺陷的比例是 1 %到 7 0 %。 10. 如申請專利範圍第1或 2項的光致變色物,其中該 光透性薄膜包含作為主要成分的氧化銦。 1 1 .如申請專利範圍第 4項的光致變色物,其中該光透 性粒子包含作為主要成分的氧化姻。 12 ·如申請專利範圍第3或 5項的光致變色物,其中該 光透性粒子包含作為主要成分的銦。 1 3 . —種光致變色材料,其包含有一具有氧化組成物之粉 末,該氧化組成物包含分別地選自於由 T i、Μ η、C 〇、 N i、Ζ η和 S η所構成的群組以及由 M g、A1和 S i所 -23- 1242598 構成的群組的二種元素所組成,該氧化組成物包含光 透性粒子。 14.如申請專利範圍第13項的光致變色材料,其中該氧 化組成物包含錫和鎂。 1 5.如申請專利範圍第14項的光致變色材料,其中在該 氧化組成物中所包含的該錫原子的數目與該鎂原子 的數目的原子數比,係介於 3 :7到 7:3的範圍中。 16.如申請專利範圍第15項的光致變色材料,其中該氧 化組成物中的氧原子缺陷的比例是 1 %到 70%。 17 ·如申請專利範圍第13或14項的光致變色材料,其 中該光透性粒子包含作為主要成分的氧化銦。 1 8. —種製造光致變色物的方法,其包含將依據申請專利 範圍第1或2項的該層合薄膜磨成粉,以形成一粉 末狀的光致變色材料。 19. 一種製造光致變色物的方法,其包含藉由選自於由塗 層-裂解方法、溶膠·凝膠方法、CVD方法、蒸汽沈積 程序、離子電鍍方法與濺散方法之一的方式,來形成 一如申請專利範圍第 1或 2項所述的氧化化合物 薄膜。 20. —種製造如申請專利範圍第 1或 2項所述之光致 變色物的方法,其中該氧化組成物薄膜係使用一脂肪 -24- 1242598 酸鹽或一脂肪酸鹽衍生物作為原料,而以的; 解方法形成。 21. —種製造光致變色物的方法,其包含藉由選自 層-裂解方法與溶膠-凝膠方法之一的方式,來 申請專利範圍第3項所述的氧化組成物薄膜 22. —種製造如申請專利範圍第 3項所述之光致 的方法,其中該氧化組成物薄膜係使用一脂肪 一脂肪酸鹽衍生物作為原料,而以的塗料-裂 形成。 23. 如申請專利範圍第1 、2或3項的光致變色 中其之一部份係被波長為 500 nm或更短的 射以形成一不透明的照射部分。 2 4.如申請專利範圍第 23項的光致變色物,其中 外線照射所形成的不透明部分,係藉由加熱而 明0 ^料-裂 於由塗 形成如 〇 變色物 酸鹽或 解方法 物,其 光線照 該被紫 變成透 -25-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002159484 | 2002-05-31 | ||
JP2002348598A JP4188672B2 (ja) | 2002-05-31 | 2002-11-29 | フォトクロミック体、フォトクロミック材料及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200404886A TW200404886A (en) | 2004-04-01 |
TWI242598B true TWI242598B (en) | 2005-11-01 |
Family
ID=29422470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092113461A TWI242598B (en) | 2002-05-31 | 2003-05-19 | Photochromic, photochromic material and method for manufacturing the same |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7041392B2 (zh) |
EP (1) | EP1367112A3 (zh) |
JP (1) | JP4188672B2 (zh) |
KR (1) | KR20030094035A (zh) |
CN (1) | CN1257952C (zh) |
TW (1) | TWI242598B (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1333039C (zh) * | 2005-01-05 | 2007-08-22 | 中国科学院化学研究所 | 可用于蓝光存储的光致变色材料 |
CN100358159C (zh) * | 2005-02-28 | 2007-12-26 | 浙江大学 | 一种日盲区紫外探测器用的薄膜材料及其制造方法 |
AU2007214373B2 (en) * | 2006-09-01 | 2010-05-20 | Aristocrat Technologies Australia Pty Ltd | Gaming apparatus and method with dependent feature game |
CN102540606B (zh) * | 2006-11-02 | 2014-12-10 | 刮拉技术有限公司 | 金属氧化物以及金属氧化物的构造改变方法 |
WO2008123739A1 (en) * | 2007-04-09 | 2008-10-16 | Lg Chem, Ltd. | Multi-layered photochromic sheet and photochromic glass prepared therefrom |
JP5141794B2 (ja) * | 2011-06-10 | 2013-02-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 有機el用透明導電膜およびこの透明導電膜を用いた有機el素子 |
WO2013136358A1 (en) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Empire Technology Development Llc | Holographic image reproduction mechanism using ultraviolet light |
US9365314B2 (en) | 2012-11-16 | 2016-06-14 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Product and package with a photosensitive use-evident feature |
US9367849B1 (en) | 2015-05-21 | 2016-06-14 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Packaging authentication |
CN110752241B (zh) * | 2019-10-31 | 2023-01-10 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种显示面板及显示装置 |
KR102390830B1 (ko) * | 2019-12-20 | 2022-04-25 | 주식회사 포스코 | 방향성 전기강판용 소둔 분리제 조성물, 방향성 전기강판 및 그의 제조방법 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0611870B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1994-02-16 | 徳山曹達株式会社 | 無機化合物/染料複合体粒子 |
JP3053667B2 (ja) * | 1991-06-10 | 2000-06-19 | 株式会社資生堂 | ホトクロミック性紫外線遮蔽粉体及びその製造方法、皮膚外用剤 |
TW288044B (zh) * | 1993-05-12 | 1996-10-11 | Sumitomo Chemical Co | |
ES2149345T3 (es) * | 1994-01-24 | 2000-11-01 | Catalysts & Chem Ind Co | Oxido de compuesto fotocromico, metodo para producirlo y cosmeticos que lo contienen. |
US5604626A (en) * | 1995-02-10 | 1997-02-18 | Donnelly Corporation | Photochromic devices |
JP3840664B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2006-11-01 | セイコーエプソン株式会社 | コーティング用組成物 |
WO2000071482A1 (fr) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Asahi Glass Company, Limited | Verre photochrome et procede de preparation |
CN1211446C (zh) * | 1999-12-06 | 2005-07-20 | 株式会社德山 | 涂料组合物及其制备方法 |
JP3772194B2 (ja) * | 2000-08-31 | 2006-05-10 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 光制限材料 |
-
2002
- 2002-11-29 JP JP2002348598A patent/JP4188672B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-05-15 US US10/438,951 patent/US7041392B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-05-19 TW TW092113461A patent/TWI242598B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-05-30 KR KR10-2003-0034657A patent/KR20030094035A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-05-30 EP EP03253428A patent/EP1367112A3/en not_active Withdrawn
- 2003-05-30 CN CNB031385141A patent/CN1257952C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-03-07 US US11/369,789 patent/US7335322B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20030094035A (ko) | 2003-12-11 |
JP2004050808A (ja) | 2004-02-19 |
EP1367112A3 (en) | 2006-11-08 |
US7335322B2 (en) | 2008-02-26 |
JP4188672B2 (ja) | 2008-11-26 |
US7041392B2 (en) | 2006-05-09 |
CN1467261A (zh) | 2004-01-14 |
US20030224219A1 (en) | 2003-12-04 |
US20060151757A1 (en) | 2006-07-13 |
CN1257952C (zh) | 2006-05-31 |
TW200404886A (en) | 2004-04-01 |
EP1367112A2 (en) | 2003-12-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |