TWI232975B - Release agent for non-substrate liquid crystal display - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 28
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 10
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 78
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 5
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 5
- -1 methyl ethyl Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 241001417534 Lutjanidae Species 0.000 claims 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 125000005469 ethylenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 210000001161 mammalian embryo Anatomy 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000061176 Nicotiana tabacum Species 0.000 description 1
- 235000002637 Nicotiana tabacum Nutrition 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 244000299461 Theobroma cacao Species 0.000 description 1
- BBHIKOOUEXTWMQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[U] Chemical compound [Li].[U] BBHIKOOUEXTWMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 235000019634 flavors Nutrition 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000243 photosynthetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920003209 poly(hydridosilsesquioxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
1232975 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明侧於一種用於無基板液晶顯示器之離型材料,該離型材料係 塗佈於無基板液晶顯示n製程中的輔助基板上,使組裝完成之液晶顯示元 件與辅助基板分離,獲得一無基板液晶顯示元件。 【先則技術】 平面顯示㈣制已達錢少顯示n重量觸_目的,現有液晶顯 示技術可獅被動掃描或主動矩陣呈現訊息,惟其f要相當的厚度穩定性 以進行精確的控制,即使輕微變形,也會造絲像嚴重扭曲^為了實現更 輕薄且耐衝擊之平面顯轉,傳統玻璃基板製程之平面顯㈣技術已有部 分轉而朝向歸基板平面顯示碰術之研究觸發,而可撓式平面顯示器 的開發,更可使平面顯示器達到更輕薄、耐衝擊與攜帶方便的願景。 可撓式平Φ顯示H(FPD)所使狀基板频,轉基材受到高度青味, 主要是塑職材具有更輕、更薄及更_擊的可攜帶/移動式之特點。但 是,由於製程上塑膠基材在勘。c以上的高溫下,易變形甚至分解,使得 尺寸及應壯妙限制,為了克服瓣基板材料之缺點,無基板卿將是 受注目之製程。 氣利浦(Philips)公司於2002年Nature期刊及向世界智權組織彳WIPQ) 申請之液晶顯示職造方法(公告號刪細32A2)揭露了單層塑膠基 板LCD (single substrate LCD)之製造技術,其係使肖爪光照射產生聚合 反應同時形餘分轉作州純^kPsa)F結構,此液晶單元在繞 曲操作狀態下也能保持均勻。 1232975 為了進一步開發更輕薄、更具設計彈性的無基板可撓式平面顯示哭, 新製程之_㈣及技術之-即是_材料。減板可撓式fpd轉型材 料應可克服塑膠基板材料之不耐高溫易變形之缺點,並可針對不同材料碉 整配方使其具有均句良好關雜力,並且應用麟型材料於無基板可於 式平面顯示器製程,可製作出無基板液晶顯示器,短期之内可應用於手機、 PDA等攜帶式產品,使得PC與通訊等相關大廠對於個人隨身電子閱讀系 統之開發,注入一薪新之技術。 【發明内容】 本發明係於減板液晶顯示元件之離赌料,該離型材料 係包含(a)2_2〇wt%之選自下列群組之化合物:石夕化物㈣化㈣、氣化物及其 混合物;及_·5〜30wt%(以⑷之重量為準)之離型改質劑;前述離型材料係 塗佈於無基板液晶顯示H餘中賴助基板上,使組裝完成之液晶顯示元 件與辅助基板分離,獲得一無基板液晶顯示元件。 - 較佳地,前述之離型材料係可包含(a)3〜7加%之選自下列群組之化合 物:石夕化物(silicone)、氣化物及其混合物;及(b)3〜2〇德(以⑷之重量為準) 之離型改質劑。 前述離型改質劑係為矽酮離型改質劑。 前述糊離型改質劑係為具有下列線形分子結構之石夕嗣化合物: 1232975 其中化1為Ci·3烷基;R2為氫原子、Cl·3烷基、或(^⑺烯烷基;&為Cm 烧基或笨基,鈾述石夕_化合物之分子量在3,5〇〇〜3〇,〇〇〇之間;以前述石夕酮 化合物之分子量什异,(-SidXDO-L部份佔6〇〜95 %,(_Si(Ri)(R2)〇士部 份佔 0〜10 %’(-Si(Ri)(R2)0-)。部份佔 〇〜1〇 %,及(-Si(R3)(R3)〇_)p部份佔 〇〜1〇 %。 前述矽酮離型改質劑亦可為具有下列籠形分子結構之化合物: ((R4)SiOL5)q (II) 其中’ R4為氫原子或(υπό晞烧基;及q為8〜16之整數。 前述離型改質劑中烯烷基之比例越高時,施用離型劑組合物後所獲得 之剝離力越大。 前述之離型材料係可進一步包含觸媒,該觸媒係包含白金觸媒、硫 酸、鹽酸、醋酸。 刚述之離型材料係可進一步包含適當之溶劑,該溶劑係包含甲苯、正 庚烷、曱基乙基酮或其組合物。 如述之離型材料係可進一步包含適量之抑制劑,例如:炔醇化合物或 過氧化合物,以增長離型劑混合後之使用操作壽命,即適用期(p〇Uife)。 前述之離型材料係可進一步包含適量之微細粒子,例如··奈米級的 Si〇2、Ti〇2或有機高分子微粒。 別述之輔助基板係包含玻璃、晶片、鐵氟龍、陶瓷或高分子基板。 本發明係使用離型材料於無基板液晶顯示器製程中,幫助辅助基板與 1232975 顯示器元件分離,以獲得一無基板顯示元件。前述離型材料係完成此一嶄 新之無基板液晶顯示器製程之關鍵材料,打破傳統液晶顯示元件皆固定於 基板之特徵,克服因仰賴基板支撐而無法彎曲、或塑膠基板不耐高溫易變 形之缺點,使液晶顯示器之發展應用朝向更輕、更薄、更柔軟的目標邁進。 【實施方式】 本發明係關於一種用於無基板液晶顯示元件之離型材料,該離型材料 係包含(a)2-20wt%之選自下列群組之化合物:石夕化物㈣c〇ne)、氣化物及其 混合物;及(b)0.5〜3〇Wt%(以⑷之重量為準)之離型改質劑;前述離型材料係 塗佈於無基板液晶顯示H製程中的辅助基板上,使組裝完成之液晶顯示元 件與辅助基板分離,獲得一無基板液晶顯示元件。 較佳地,刖述之離型材料係包含⑷3〜7wt%之選自下列群組之化合 物:石夕化物__)、氟化物及其混合物;及_〜2_%(以⑷之重量為準) 之離型改質劑。 刖述之矽化物(silicone)係包含具有Si-H及Si-CH==CH2,且si H/ Si-CH=CH2之莫耳比在1·2〜4.8之間,較佳在2 〇至3 5之間;分子量在 励,_至i,_,_之間,較佳在3〇〇,_至·,_之間的石夕聚合物。前 述之氟化物係包含鐵氟龍、石夕氟化物及氟烧類。 前述離型改質劑係為矽酮離型改質劑。 前述石夕酮離型改質劑係為具有下列線形分子結構之石夕明化合物: 1232975 R, Rj 1¾ 1¾ 1¾ Ri
I I I I I I 民一Si~〇( Si-0)m( Si^O)n( Si-OUSi-Op-Si-1¾
I I I I I I
Rj 氏 Rj R3 Ri 其中Ri為烷基,較佳為曱烷基;R2為氫原子、Q_3烷基、或C2_l0烯烷 基’較佳為氫原子、乙烯基、或甲烷基;113為Q-3烷基或苯基,較佳為甲 烷基或苯基;前述矽酮化合物之分子量在3,500〜30,000之間,較佳為 100,000〜700,000之間;以前述矽酮化合物之分子量計算,(-SKRiXR^O-h 部份佔 60〜95 %,(-SKRiXRJO-X部份佔 〇〜1〇 %,(-^(RiXRJO-)。部份佔 0〜10 %,及(-Si(R3)(R3)0-)p部份佔〇〜1〇 %,較佳比例為 份佔 85〜95 %,(-Si(Ri)(R2)0-)n 部份佔 〇〜5 %,(^(RiXRdO-)。部份佔 〇〜5 %,及(-Si(R3)(R3)〇-)p 部份佔 〇〜5 %。 前述線形分子結構之矽酮化合物係為矽酮單體與觸媒在高溫下反應 而共聚合,除去參與反應之觸媒後,經過高真空除去未反應之單體與低分 子寡聚物而製得,其中可使用之矽酮單體舉例為··環狀之 (-Si(CH3)(CH3)0-)3、(-Si(CH3)(CH3)0-)4、(-Si(CH3)(CH3)0-)5、 (.Si(CH3)(CHCH2)0^ . (-Si(CH3)(H)〇.)4 . , H2C=CH-Si(CH3)2-0-Si(CH3)2-CH=CH2 . H-Si(CH3)2-〇.Si(CH3)2-H .
PhSiCH3(OCH3)2、及Ph2Si(OCH3)2等,其中Ph為苯基;可使用之觸媒為強 酸溶液。 前述石夕酮離型改質劑亦可為具有下列蘢形分子結構之石烟化合物: 10 1232975 (⑽卟忒 (π) 其中’ 114為氫原子或C2]〇稀烧基,較佳為氫原子或乙稀基;及q為8〜16 之整數。 剞述1形分子結構之矽酮化合物是以丁·型矽烷單體溶於有機溶劑中, 與水及觸媒在低溫下轉、縮合反應,除去參與反狀賴及除水後,濃 縮過剩的溶劑,即可析出此籠形之細化合物,其中可使狀料體舉例 為:HSiCl;、吸哪⑽现)3、及哪吸)4 ;可使用之觸媒為硫酸、鹽 酸、醋酸等。 前述之龍形分子結構之化合物亦可使用市售化合物,如,Gdest 所售之SST-V8V01 (學名為聚(乙烯基矽倍半氧烷 (poMvinylsilsesquioxan.Ts))或 SST_H8H01 (學名為聚(氫矽倍半氧烧)丁8 (poly(hydridosilsesquioxane)-T8))等相類似產品。 前述離型改質劑中烯烷基之比例越高時,施用離型劑組合物後所獲得 之剝離力越大。 前述之離型材料係可進一步包含觸媒,該觸媒係包含白金觸媒、硫 酸、鹽酸、醋酸。 前述之離型材料係可進一步包含適當之溶劑,例如:甲苯、正庚烧、 甲基乙基酮或其混合物。 前述之離型材料係可進一步包含適量之抑制劑,例如:块醇化合物、 過氧化合物等,以增長離型劑混合後之使用操作壽命,即適用期(p〇Uife)。 1232975 前述之離型材料係可進-步包含適量之微細粒子,例如:奈米級的 Si02、Ti02或有機高分子微粒。 前述之離型材料係可進-步針對不同欲分離之輔助基板材質調整組成 配方,使其具有良好分離能力。 前述之離型材料塗佈方式係包含旋轉塗佈、浸塗或滾驗佈。 前述之輔助基板係包含玻璃、晶片、鐵氟龍、陶瓷或高分子基板。 以下實施例係用於進一步了解本發明之優點,並非用於限制本發明之 申請專利範圍。 · 所示之各單體代號說明如下: D4 : (-Si(CH3)(CH3)0-)4 D4vi : (-Si(CH3)(CHCH2)0-)4 ‘ D4H : (_Si(CH3)(H)0-)4 -
DPh : Ph2Si(OR)2,Ph 為苯基,及 R 為 CH3 M2Vi : H2C=CH-Si(CH3)2-〇- Si(CH3)2-CH=CH2 M2H : H-Si(CH3)rO- Si(CH3)rH 實施例1線形離型改質劑之製備 秤取0.43克D4vi單體、1.86克M2vi單體47·Ή克D4單體、及0.13克 之濃度為0.25 wt%之硫酸水溶液置於旋轉式反應機之反應瓶中,蓋妥瓶 蓋。啟動旋轉式反應機,升溫至80°C反應2小時後,再升溫至130°C反應1 小時。降溫取出所得之溶液,以0.22克NaHCCb中和之。然後,將所得之 混合物攪拌均勻後,以離心分離方式將產生之鹽類去除,然後將該混合物 12 1232975 置於蒸發器(evaporator)内,溫度設定180°C,啟動真空馬诖石> , 至簡小於1〇 托耳(torr)後’除去低分子量寡聚物,再升溫至2〇〇°c維持約 士 ·υ 、 小時,直到 無餾出物為止。獲得本發明之線形離型改質劑(樣品編號ss_i97),具有下 列結構,預設分子量為約5〇〇〇,其令乙烯基含量為約〇」莫耳謂〇克。 ch3 •Si—ch=ch2 〒H3 ch3 ch=ch2 ch2=ch-。讲-七 CH3 ch3 ch3 ch3 實施例2至6線形離型改質劑之製備 所如實施例1之相同方法依表1所示之數據進行線形離型改 質劑之製備。獲得本發明之線形離型改質劑(樣品編號SS-198 至SS_2〇2) ’樣品編號SS-198至199之結構同上述樣品編號 SS 197之、纟。構’樣品編號ss_2〇〇至SS2〇2具有下列結構。其 他數據如表1所示。 ch3 I V 俨CH ch3 1 Si 0 + 1 /- I t-0I1_H ch3 CH, ch3 ch3 CH, 13 1232975 表1 實施例編號 1 2 3 4 5 6 所得樣品編说 SS-197 SS-198 SS-199H SS-200 SS-201 SS-202 單體 (g) D4V1 0.43 0.86 1.29 0.43 0.86 1.29 m2w— 1.86 1.86 1.86 - - - m2h - - - 1.34 1.34 1.34 d4 47.71 47.28 46.85 48.23 47.80 47.37 觸媒 H2SO4 (0.25wt%) 〇.13g 〇.13g 0.13 g 〇.13g 〇.13g 0.13 g 中和鹼 NaHC03 〇.22g 0.22g 〇.22g 〇.22g 0.22g 〇.22g 預設分子量 5000 5000 5000 5000 5000 卜 5000 乙婦基含量 (莫耳/1000克) 0.1 0.2 0.3 0.1 0.2 0.3 實施例7-13離型材料之製備 分別依表2所示之量取實施例丨至6中所製備之離型改質 劑樣品、日本信越化學公司的KS-3703、KE-82-VBS、甲苯、 及白金觸媒CAT-PL-50T經甲苯稀釋至10%,置於攪拌器中混 合均勻,脫泡完全,製得本發明之離型材料,測定黏度及 量0 使用4#線棒(9 μιη)將其塗佈於5〇 μπΐ2ρΕτ膜上或用浸 塗方式塗佈於玻璃上,評估其塗佈性及密著性。 & PET塗佈性評估標準:佳,成膜性㈣、平整;可 地方會收縮;差,呈現波浪狀。 一 PET密著性評估標準:佳,用橡皮擦,擦拭3至5回合不 剝洛接:’:拭!至2回合不剝落擦栻一下馬上剝落。 接者,則述實施例7-13之離型材料依 7475標準膠帶剝離力: ·!方法測忒Tesa 14 1232975 在離型劑組合物調製好靜置30分鐘後,使用4#線棒(9 μπι) 將其塗佈於50 μπι之PE丁膜上,於130土5。(:下烘60秒,冷卻 後過夜。取玻璃片(5 cm X 10 cm x0.2 cm)與3M雙面膠帶貼 合,再與上述製備好的PET離型膜試片貼合,裁切,並與Tesa 7475標準測試膠帶(2.5 cm X 13 cm)貼合,測試膠帶另一端貼合 離型紙條(2.5 cm X 15 cm),離型紙條掛拉力勾環,訂書針固定 之。使用拉力測試機(機型:美製 Adhesion/Release Tester AR-1000(粘著力試驗機))以底座機台牽引速度(12英寸/分鐘) 進行Tesa 7475標準膠帶剝離力測試。所得結果如表2所示。 前述實施例7-13製備之離型材料並依下列方法測試X7R 生胚片產品(Green tape)之剝離力: 使用4#線棒(9 μιη)將其塗佈於50 μπι之PET膜上,於 130 士 5°C下烘60秒,冷卻後過夜。使用4#線棒在此製好之PET 離型膜上塗佈X7R漿砂,於100±5°C下烘30秒,冷卻後過夜。 取玻璃片(5 cm X 10 cm X 0.2 cm)與3M雙面膠帶貼合,再與上 述具有X7R生胚的PET離型膜之另一面貼合,裁切下玻璃大 小的尺寸,X7R生胚表面與Tesa 7475標準測試膠帶(2.5 cm X 13 cm)貼合,測試膠帶另一端貼合離型紙條(2·5 cm X 15 cm), 離型紙條掛拉力勾環,以訂書機固定離型紙於拉力勾環上,使 用拉力測試機(機型··美製Adhesion/Release Tester AR-1000(粘 著力試驗機))以底座機台牽引速度(12英寸/分鐘)進行X7R生 胚剝離力測試,所得結果如表2所示。 15 1232975 表2 列編號 7 8 9 10 11 12 13 SS-197 1 SS-198 1 1 SS-199 1 SS-200 1 SS-201 1 SS-202 KS-3703(30%S.C.) 9 9 9 9 9 9 8.6 _ KE-82-VBS(25%S.C.) 1.8 _ 甲苯 40 40 40 40 40 40 24 KP/oCAT-PL^OT 1.2 1.2 1.2 1.2 12 1.2 1 黏度(CPS) 44 45 45 46 45-46 45 33 固含量(%) 7.23 7.23 7.23 723 7.23 7.23 6.2 PET塗佈性 可 可 可 可 可 可 可 PET密著性 可 可 可 可 可 可 佳 一 Tesa7475 標準膠帶 剝離力 15-26 13 〜19 12〜26 S-7 8-10 5-7 18-28 13^20 14-28 5-7 74 7-9 5-7 16-26 14-20 11 〜24 4^6 7-9 >9 5-7 平均值(g/英寸) 21± 5 17± 3 19± 7 6+ 1 7± 1 8± 1 6± 1 X7R 生胚片 剝離力 2.S-3.2 2.S-3.2 2.7〜3.2 27〜3.2 2.7〜3*2 3.0-33 2.2 〜2.5 2.7〜3.1 2.7〜3.2 2.7〜3.2 3.0-33 2.7〜3*2 3.0-3.5 22 〜2.4 2.6^3.0 2.7〜3.2 2.7^3.2 2.8-33 2.7〜3.2 2.9-3.4 2.2 〜2.5 英寸) 2.9± 0.2 3.0± 0.2 2.9± 0.3 3.0± 0.3 3.0± 0.3 3.2± 0.2 2.4 ± 0.2 由上表2的結果顯示,實施例7-13所製備之離型材料其pet塗佈性皆 為可 …、σ ’僅有部分會收縮;實施例7-12之PET密著性亦為可,用橡皮擦擦拭 回不會剝落,實施例13之離性材料其PET密著性佳,用橡皮擦擦拭3-5 回不會制落;Tesa7475標準膠帶剝離力測試結果,實施例1屮Η之離漤材 料之剝離力明顯小於實施例7-9之離型材料,顯示實施例1〇_13之離塑材料
離型能力較好;X7R生胚片剝離力測試結果,以實施例13之離裂材料剝 離力最* I 小’但與實施例7-12之離型材料差異不大。 16 1232975 實施例14無基板液晶顯示元件之製程 如第一 A圖所示,在第一辅助基板
首先進行第一輔助基板10製程, 10上,塗佈一實施例10所製備之離3 第一 B圖,在離型材料層2〇 ^ 化之感光材料層30,上製作電極圖案4〇。
3卜並以各外光合硬化感光材料,形材硬化之感光材料層y,,如第二。 圖所示;然後,第二D圖,製作電極圖案41於硬化之感光材料層31,,並 塗佈配向層50 ;之後,第二E圖,在配向層5()上塗佈光聚合材料混合物 60,該光聚合材料混合物60係包含感光性材料與液晶材料。 第三圖係顯示組合第一輔助基板1〇及第二輔助基板n之製程,如第 三A圖所示,將第一輔助基板1〇倒置於第二輔助基板u上對準組合後透 過光罩(圖未顯示)進行曝光;然後,第三B圖,曝光後之光聚合材料混 合物60形成複數聚合壁(polymer wall)70,結合第一輔助基板1〇與第二輔 助基板11,並使液晶與光聚合材料完成相分離,液晶80被聚合壁70包覆; 接者’弟二C圖’將弟一輔助基板1〇及第二辅助基板11,及兩者之離型 材料層20、21剝離;最後,第三〇圖,即完成無基板液晶顯示元件1〇〇。 17 1232975 【圖式簡單說明】 第一圖係顯示第一輔助基板之製作流程圖。 第二圖係顯示第二輔助基板之製作流程圖。 第三圖係顯示完成無基板顯示元件之製作流程圖。 【主要元件符號對照說明】 ίο…第一輔助基板 11…弟二輔助基板 20—離型材料層 21…離型材料層 30…感光性材料層 31…感光性材料層 30’…硬化之感光性材料層 31’…硬化之感光性材料層 40…電極圖案 41 —電極圖案 50…配向層 60…感光性材料混合物 70…聚合壁 80 —液晶 100…無基板液晶顯不元件
Claims (1)
1232975 拾、申請專利範圍: 1· 一種用於無基板液晶顯示元件之離型材料,係包含: (a) 2-20wt%之選自下列群組之化合物:石夕化物(siHcone)、氟化物及其 混合物,及 (b) 0·5〜30wt°/〇(以⑻之重量為準)之離型改質劑; 前述離型材料係塗佈於無基板液晶顯示器製程中的辅助基板上,使 組裝完成之液晶顯示元件與辅助基板分離,獲得一無基板液晶顯示元件。 2·如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中前述之離型材料係包含⑻3〜7wt%之選自下列群組之化合物:矽 化物(silicone)、說化物及其混合物;及⑼3〜2〇wt%(以⑻之重量為準) 之離型改質劑。 3.如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中前述離型改質劑係為矽酮離型改質劑。 4·如申請專利範圍第3項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材 料,其中前述矽酮離型改質劑係為具有下列線形分子結構之矽酮化合 物: Ri Ri R3 R I 1.丨· I I I Si ~0)m( Si-0)n( Si-~〇)〇(Si-〇)p-Si- Ri Ri Ri R, Rs R, (I) 其中仏為Q-3烧基;R2為氫原子、Cl·3炫基、或c㈣稀烧基;&為 烷基或苯基;前述矽鲷化合物之分子量在3,5〇〇〜3〇,〇〇〇之間;以前述 19 1232975 矽艱I化合物之分子量計算,部份佔60〜95 %, (-SKRiXR^O-L 部份佔 〇〜1〇 %,卜si(Ri)(R2)a)。部份佔 〇〜1〇 %,及 (-Si(R3)(R3)0-)p 部份佔 〇〜1〇 %。 5.如申請專利範圍第4項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料,其 中前述Ri為曱烷基。 6·如申請專利範圍第4項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料,其 中R_2為氣原子、乙稀基或甲少完基。 7. 如申請專利範圍第4項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料,其 中R3為曱烷基或苯基。 8. 如申請專利範圍第4項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料,其 中以前述矽酮化合物之分子量計算,(-Si(Ri)(Ri)a)m部份佔85〜95 % ’(-Si(Ri)(R2)〇_)n 部份佔 0〜5 %,(ϋ(Κ4)(Ι12)0-)。部份佔 〇〜5 %,及 (-Si(R3)(R3)〇-)p 部份佔 〇〜5 %。 9·如申請專利範圍第3項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料,其 中前述石夕i同離型改質劑係為具有下列籠形分子結構之化合物: (_i〇i.5)q (II) 其中’ R4為氩原子或c2_1G烯烷基;及q為8〜16之整數。 10·如申請專利範圍第9項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中R4為氫原子或乙烯基。 11·如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 20 1232975 其中前述之離型材料係可進-步包含觸媒,該觸媒係包含白金觸媒、 硫酸、鹽酸、醋酸。 12·如申請專穩圍第1項所述之用於無基·晶顯示元件之離型材料, 係可進一步包含適當之溶劑,該溶劑係包含甲苯、正庚烷、甲基乙基 s同或其混合物。 13.如申請專利範圍第丨項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 係可進一步包含適當之抑制劑,該抑制劑係包含炔醇化合物或過氧化 合物。 14·如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其係可進一步包含適量之微細粒子,該微細粒子係包含奈米級的 Si02、Ti02或有機高分子微粒。 15. 如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中前述之輔助基板係包含玻璃、晶片、鐵氟龍、陶瓷或高分子基板。 16. 如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中前述之矽化物(silicone)係包含具有Si-H及Si-CH=CH2,且Si-H/ Si-CH=CH2之莫耳比在1.2〜4.8之間,分子量在100,000至ι,〇〇〇,〇〇〇 之間的石夕聚合物。 17·如申請專利範圍第16項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材 料,其中前述之矽化物(silicone)係包含具有Si-H及Si-CH=CH2,且 Si-H/ Si-CH=CH2之莫耳比在2.0〜3.5之間,分子量在300,000至 700,000之間的矽聚合物。 21 1232975 18.如申請專利範圍第1項所述之用於無基板液晶顯示元件之離型材料, 其中前述之氟化物係包含鐵氟龍、矽氟化物及氟烷類。
22
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW092132259A TWI232975B (en) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | Release agent for non-substrate liquid crystal display |
JP2004030715A JP4310208B2 (ja) | 2003-11-18 | 2004-02-06 | 無基板液晶ディスプレイ用剥離剤 |
US10/790,722 US20050107522A1 (en) | 2003-11-18 | 2004-03-03 | Release agent for non-substrate liquid crystal display |
US12/232,200 US8142591B2 (en) | 2003-11-18 | 2008-09-12 | Method for producing liquid crystal display element without substrates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW092132259A TWI232975B (en) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | Release agent for non-substrate liquid crystal display |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI232975B true TWI232975B (en) | 2005-05-21 |
TW200517702A TW200517702A (en) | 2005-06-01 |
Family
ID=34568643
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092132259A TWI232975B (en) | 2003-11-18 | 2003-11-18 | Release agent for non-substrate liquid crystal display |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050107522A1 (zh) |
JP (1) | JP4310208B2 (zh) |
TW (1) | TWI232975B (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI257506B (en) * | 2003-11-18 | 2006-07-01 | Ind Tech Res Inst | Photosensitive material for non-substrate liquid crystal display |
KR101616508B1 (ko) * | 2009-09-23 | 2016-04-28 | 삼성전자주식회사 | 이색성 염료를 포함하는 고분자 분산형 액정 필름의 형성 방법 |
EP2624326A4 (en) * | 2010-09-29 | 2017-05-10 | Posco | Method for manufacturing a flexible electronic device using a roll-shaped motherboard, flexible electronic device, and flexible substrate |
KR101820171B1 (ko) | 2011-10-24 | 2018-01-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 경량 박형의 액정표시장치 제조방법 |
EP3122208B1 (en) * | 2014-03-25 | 2024-02-07 | Koninklijke Philips N.V. | Brush head arrangements |
CN108873426B (zh) * | 2018-06-27 | 2021-06-29 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板及其制造方法、液晶显示装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3115563A1 (de) * | 1981-04-16 | 1982-11-04 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum herstellen von klebrige stoffe abweisende ueberzuegen |
JPH05171047A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-09 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 剥離性硬化皮膜形成用オルガノポリシロキサン組成物 |
-
2003
- 2003-11-18 TW TW092132259A patent/TWI232975B/zh not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-02-06 JP JP2004030715A patent/JP4310208B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-03-03 US US10/790,722 patent/US20050107522A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050107522A1 (en) | 2005-05-19 |
JP4310208B2 (ja) | 2009-08-05 |
TW200517702A (en) | 2005-06-01 |
JP2005148695A (ja) | 2005-06-09 |
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