TWI226976B - Lithographic apparatus, and device manufacturing method - Google Patents

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1226976 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於微影投射裝置，包括： 幸田射系統，其包括用以提供一輻射投射光束的多個反 射光學元件，該等反射光學元件包括一用以在一第二 夕面體反射鏡上產生複數個影像源的第一多面體反射鏡 _ 一支撐結構，用以支撐圖樣化構件，該圖樣化構件的 作用是根據所需的圖樣來圖樣化該投射光束； -一基板檯面，用以固定該基板；及 -一投射系統，用來把被圖樣化的光束投射到該基板的 一目標部分上， 【先前技術】 本文所採用的”圖樣化構件（patterning means)，，應廣義地 解項為指可被使用來賦予入射輻射光束一圖樣化截面的裝 置，該圖樣化截面對應於要在基板目標部分内產生之圖樣 ，在本文中也可使用”光閥”一詞。一般而言，該圖樣對應 於目標部分内產生的裝置（諸如積體電路或其他裝置，請參 考下文）中一特別功能層。此種圖樣化構件的範例包括： -光罩。光罩的概念在微影技術領域中是眾所週知的，且 其包括諸如二進位型光罩、交替相移型光罩和衰減相移 型光罩’還有各種混和型光罩。將光罩置入輻射光束内 會造成A?、射到光罩上的輪射根據光罩上的圖樣選擇性地 透射（在透射型光罩的情況下）或反射（在反射型光罩的情 84302-930722.doc 1226976 況下）°在有光罩的情況下，支撐結構一般是光罩檯面， 光罩檯面確保光罩可固定在入射輻射光束内所需的位置 上’且其可在需要時相對於光束移動。 可編程反射鏡陣列。此類裝置的一種範例是具有一黏彈 性控制層和一反射表面的可矩陣定址表面。此種裝置所 根據的基本原理（譬如）是反射表面之被定址區域將入射 光線反射成為繞射光線，而未被定址區域則將入射光線 反射成為未繞射光線。利用適當的濾光鏡，可從反射光 束中濾除該洙繞射光線而僅留下繞射光線；依此方式， 可根據可矩陣定址表面之定址圖樣將光束圖樣化。可編 程反射鏡陣列的一種替代具體實例採用微小反射鏡的矩 陣結構，可藉著加上一適當局部電場或藉著利用壓電致 動構件使母個細1小反射鏡獨立地繞著一軸傾斜。同樣 地，這些反射鏡可矩陣定址以使被定址的反射鏡會將入 射輻射光束往不同於未被定址之反射鏡的方向反射，·依 此方式，可根據可矩陣定址反射鏡的定址圖樣將所反射 之光束圖樣化。可使用適#的電子構件來實現所需的矩 陣定址。在上述的兩種情況下，圖樣化構件都可包括一 或多個可編程反射鏡陣列。本文所指的反射鏡陣列之更 多訊息可從譬如美國專利第5,296,891號和第5,523，職 及PCT專利申請案wo議―则_號知悉， 這些專利與專利中請案以引用的方式併人本文中。在可 編程反射鏡陣列的情況下，链 姐一 月况下言如可依照需要將該支撐結 構貫施成固定或可移動框架或檯面。 84302-930722.doc 1226976 可編程液晶顯示（LCD)陣列。美國專利第5,229,872號提供 此種結構的—種範例，該專利以引用的方式併人本文中 :如上文所述般，在此情況下’譬如可依照需要將該支 撐結構實施成固定或可移動框架或檯面。 為了簡化起見，本發明說明的以下部分可能在某些地方明 確地指向包含光罩與光罩檯面的範例，但是在此情況下討 論的整體原理應被視為上文所述的較廣義圖樣化構件。 譬如於積體電路（1C)的製造過程中可使用微影投射裝置 。在此情況下圖樣化構件可產生一對應於積體電路單層 的電路圖樣，且此圖樣可成像於已塗佈㈣敏感材料（総 )層之基板(矽晶圓)上的目標部分(譬如包括一或多個晶粒) 上。-般而言’單一晶圓會包含整個相鄰目標部分網路， 該等目標部A經由投射系、统被一次一個連續地照射。在現 行裝置中，採用藉I光罩檯面上的光草圖樣化，兩種不同 型式機器間可有差異。在一種微影投射裝置中，每個目標 部分藉著一次將整個光罩圖樣曝光在目標部分上而照射7 此種裝置一般稱為晶圓步進器（wafer stepper)。在一般稱為 步進掃描（step-and-scan)裝置的另一種裝置中，每個目標部 分以既定基準方向（”掃描”方向）在投射光束下漸次掃描光 罩圖樣，同時以與此方向平行或反向平行的方向同步掃描 基板檯面而被照射；因為一般而言，投射系統有一放大因 數Μ(—般<1)，基板檯面被掃描之速率v是光罩檯面被掃描 速率的Μ倍。本文所述有關微影裝置的更多資訊可譬如從 第6,046,792號美國專利中蒐尋，該專利以引用的方式併入 84302-930722.doc 1226976 本文申。 在使用d奴射u的製造程序中，—圖樣（譬如在光罩 内）被成像在基板上’該基板至少局部被一輕射敏感材料（ 光阻）層覆盖。在此成像步驟之前，可經過各種程序處理來 基板，如印刷、光m塗佈及軟烤（soft bake)。在曝光之後 ’基板可接受諸如曝光後供培（pGst exp_re他，pEB) 、顯影、硬供培及成像特徵測量/檢查等其他處理程序。這 、串5处里耘序被使用當做定出諸如積體電路等裝置單 層圖樣的基廣。然後此種被圖樣化之層可進行諸如姓刻 、離子植入（摻雜）、金屬化、氧化、化學機械磨光等各種處 理程序，該等程序全部是用來完成一單獨層所需的。若需 要。f夕層’則須對每個新層重複一遍整個處理程序一或其 變體-。最後會有-系列的裝置呈現在基板（晶圓）上。然後 藉由諸如切割或鑛割等技術將這些裝置彼此分開，接著將 :別1置固定在載體上、連接至接腳等。如需製程的詳細 貢訊，請參閱（例如）MCGraw職Publishingc。，在㈣ 0-07-067250.4 ^ Peter van Zant r 黯㈣叫恤咖咖·· A⑽㈤Guide tG Semi_duct〇r P™ng」第三版，這份文獻以引用方式併人本文中。 為了簡化起見’投射系統在下文中可稱為”透鏡㈣”， 但此名自司應被廣義址紘枝炎A人 ，、我地解項為包含各種不同的投射系統，孽 如包含㈣光學裝置、反射光學裝置、及兼反射和折射光 學糸統寺。轉射照射系統也可包括根據這些設計類型中任 一種設計而操作的元件，用來導引、修整或控制輕射投射 84302-930722.doc 1226976 光束，且此種元件也可在下文中整體或個別稱為，，透鏡，，。 此外，微影裝置的類型可為具有兩個或更多個基板檯面（及 /或兩個或更多個光罩檯面）者。在此種，，多重載台，，裝置中， 可平打使用額外的檯面，或者可在一或多個檯面上實施預 加工步驟而同時使用一或多個其他檯面做曝光。雙載台微 影裝置譬如描述於第5,969,441號美國專利及W0 98/40791 號專利申請案中，該等文件以引用的方式併入本文中。

在微影裝置中，很重要的是讓圖樣化構件的照明在場與 角度方面平均吩佈，對諸如雙極性或四極性照明等照明模 式而曰，所有的極性相等。為達成此目的，照明系統内配 置了整合斋。在使用UV4DUV曝光輻射的微影裝置中，整 合裔的形式可為水晶棒或所謂蠅眼透鏡。蠅眼透鏡是由極 大里較小透鏡以陣列方式建構而成的透鏡，該透鏡在照明 系統的瞳孔平面内產生相對應的大量影像源。這些影像當 做疋虛擬的或間接的影像源。但是當使用Ευν曝光輻射時 ，因為沒有已知的適合材料可為Euv輻射形成折射光學元 件所以知、明系統須由反射鏡構成。在此種照明系統中， 可使用多面體反射鏡構成來提供同等於蠅眼透鏡的功能， 譬如像是美國專利第6，195,201號，美國專利第6，198,793號 及歐洲專利第Α-0 939 341號中所述者，該等專利的内容以 引用的方式併入本文中。這些文件描述第一（或場）多面體反 射鏡’場多面體反射鏡將複數個影像以每個分段鏡面一個 影像的方式聚焦於第二（或瞳孔）多面體反射鏡上，瞳孔多面 體反射鏡將光線導引以適當地填充投射系統的瞳孔。由UV 84302-930722.doc 1226976 與DUV微影技術知道不同種類光罩圖樣之成像可藉著控制 妝明汉疋值而改善，譬如控制投射系統之瞳孔的填充率（一 般稱為σ)或提供諸如環狀、雙極性或四極性照明等特別照 明杈式。# _照明設定值的更多資訊可從區欠洲專利第冬〇 949 541號和歐洲專利第i 1()9㈤號中獲得，該等文件以 引用的方式併入本文中。在具有繩眼整合器的肋乂微影裝 置内可藉著選擇性遮擋某些曈孔分段鏡面而控制這些照 月又疋值仁是，因為在各分段鏡面上的來源位置與大小 不完全精確得如且不穩定，所以必須一次遮擒掉整個分段 鏡面而非遮擋掉局部分段鏡面。所以只可能非常粗才造地控 制照明設定值。而且，為了提供環狀照明設定值，就必須 遮暗最内側的瞳孔分段鏡面，且當定位一遮播葉片於内側 分段鏡面上時，難以避免部分地遮暗一或多個外側分段鏡 面0 【發明内容】 本發明—項目的是提供-種包含反射光學元件照明系统 之微影裝置，該裝置可斜昭明士上 于、尤 了對…、月故疋值提供較佳的控制。 此目的和其他目的根據在【發明所屬之技術領域】中所 迷之本發明之微影裝置内達成，其特徵為： 該微影袭置包括分段鏡面遮擋構件，該分段鏡面遮播構 來選擇性遮擋該第一多面體反射鏡與該第二多面體 反射鏡的一或多固分ρ於 、， 又兄，亚且該分段鏡面遮擋構件包 擇性插入於該投射光束内的至少—局部不透明遮擔 局部不透明遮播葉片具有不透明與透明區域之結 84302-930722.doc 1226976 構’且具有足夠大之間距以促使消略該投射光束的繞射。 藉著使用該局部不透明遮檔葉片以選擇性遮擋一或多個 分段鏡面’來自該分段鏡面之輻射的一部分可被遮擋而不 會在圖樣化構件的照明内形成無法接受的不均勻，而不需 考慮到事貝上热法得知影像源在瞳孔分段鏡面上的確實位 置。依此方式，可在遮擋整個分段鏡面或分段鏡面環與不 遮擋整個分段鏡面或分段鏡面環之間，提供照明的中間設 定值。 間隙根據分段鏡面和被照明範圍之大小而應在從）麵到 5 00 nm的範圍内。 間隙應相對外於影像源，以使被遮擋的輻射比率與來源 位置無關’但間隙應不小到會造成投射光束發生繞射之程 度。較佳的是，對使用EUV當做曝光輻射的裝置而言，該 分段鏡面遮撞構件最好進—步包括用來調整分段鏡面被 遮暗範圍之比率的裝置，譬如包括可選擇性插人於該等投 射光束内的複數個局部不透明葉片。這實現了多重之照明 的中間設定值，從而提供進一步的多功能性。 較佳的是，分段鏡面遮_件配置成#近㈣二（瞳 多面體反射鏡，因為這樣提供圖樣化構件最均勾的照明。 本發明的第二種態樣提供一種在 1 i L七月所屬之技術領域 】中所述的微影裝置，其特徵為： 、$ 該微影裝置包括分段鏡面遮擋構 ^ ^ 用來選擇性地遮擋 該第一多面體反射鏡的一或多個分段鏡面。 因為來自該第一（場）多面體反射鏡之 刀奴鏡面的所有 84302-930722.doc -11- 1226976 輻射都入射到該第二多面體反射鏡的一個分段鏡面上，所 以可藉著如同遮擋瞳孔分段鏡面一樣選擇性遮擋場分段鏡 面來達成等效的照明控制。但一般而言，不打算在此位置 處控制諸如σ等照明設定值，因為這不是瞳孔平面，所以 預期在此位置處做選擇性遮暗會造成圖樣化構件照明内的 不均勻。但是因為場反射鏡與瞳孔反射鏡被鏡面分段，所 以可執行的選擇性遮擋整個場分段鏡面，而不會有無法接 受的非均勻損失。 分段鏡面可激配置以促使場分段鏡面照明不同位置上的 目里孔分段鏡面，譬如靠近場多面體反射鏡周邊處的分段鏡 面會導引輻射定位在瞳孔多面體反射鏡更中央處的分段鏡 面。如此可更簡單地設定環狀照明模式，而不部分遮暗外 側瞳孔分段鏡面，且可設定需要遮擋難以接近的瞳孔分段 鏡面之照明模式。 當然，本發明第二種態樣之分段鏡面遮擋構件可與第— 種恶樣之分段鏡面遮撞構件相同，且這二種態樣可合併以 廷擇性遮擋場分段鏡面及瞳孔分段鏡面。藉此，可達成獨 立控制環狀照明模式之内側與外側半徑範圍0_^與σ。"） 〇 根據本發明進一步態樣提供一種裝置製造方法，該方法 包括下列步驟： -k供基板，該基板至少局部被一輻射敏感材料層覆蓋； -使用輻射系統提供輻射投射光束，該輻射系統包括多個 反射光學元件以供應輪射投射光束，該等反射光學元件 S4302-930722.doc -12- 1226976 包括一用以在一第二多面體反射鏡上產生複數個影像源 的第一多面體反射鏡； -使用圖樣化構件，以便將一圖樣賦予投射光束的橫斷面 内； -將被圖樣化之輻射光束投射到該輻射敏感材料層的目標 部分上， 其特徵為： ， 該方法藉著選擇性將局部不透明遮擋葉片插人於該投射 光束内，而遠擇性地遮措該第一多φ體反射鏡與該第二多 面體反射鏡之-的-或多個分段鏡面，該局部不透明遮擋 葉片具有透明與不透明區域的結構，且具有足夠大之間距 以促使消略該投射光束的繞射。 雖然本發明說明特別指明使用根據本發明的裝置於製造 龍電路的環境令，但請清楚注意此種裝置有許多其他可 應用。譬如’製造積體光學系統、磁域記憶體的導引及 k測圖樣、液晶顯示面板、薄膜磁頭等。熟習此項技術者 會知道在此種替代性應用背景下，任何使用"主光罩 (reticle)”、’’晶圓”或”晶粒"等名詞應被視為分別被，，光罩”' ”基板"與，，目標部分”等更廣義的名詞取代。 在本發明說明中，，，幸畐射，，與”光束，，等名詞被使用以包含所 :重類的電磁輕射，包括紫外線輕射(譬如波長為365,248, 鞋、或 26 nm)與遠备、外線（extreme ultra-violet EUV ’ 曰如波長為5-20nm，尤其是糾、$ 2 土丄、 八疋·^ nm附近）輻射，以及諸如離 子束或電子束等粒子束。 84302-930722.doc -13- 1226976 【實施方式】 具體實例1 圖1概要顯示根據本發明_ 裝置。該裝置包括·· 種特…實例的微影投射 -=^Ex，IL，用來供應輻射（譬如遠紫外線㈣）投射 束 在此特別情況下也包括輻射源LA，· 第-物件檯面(光罩檯面)MT，該檯面配置有光罩固定哭 以固定一光罩MA(譬如主光罩)，且連接至第一定位裝置 PM，以將光罩相對於標的項目PL正確地定位； 第二物件檯面（基板檯面）WT，該檯面配置有基板固定器 以固定基板W(譬如有光阻塗層㈣晶圓），且連接至第二 定位衣置PW，以將基板相對於標的項目PL正確地定位；

投射系統（”透鏡”）PL(譬如一群反射鏡），用來將光罩MA 的被照射部分成像於基板w的目標部分c(譬如包括一或 多個晶粒）上。 如本圖所示者，該裝置為反射型者（譬如有反射型光罩）。但 是一般而言，其也可譬如為透射型者（譬如有透射型光罩） 。或者，該裝置也可採用其他種類的圖樣化構件，像是上 文中所引用的那種可編程反射鏡陣列等。 來源LA(譬如為由雷射產生的或放電電漿源）產生照射光 束。此光束直接或在穿過諸如光束擴展器Ex等調整裝置之 後饋送入照明系統（照明器）IL内。照明系統IL可包括調整裝 置AM ’用來設定光束内強度分布的外側及/或内侧徑向幅 度（一般分別稱為外側σ與内側σ )。此外，照明系統IL通常 84302-930722.doc -14- 1226976 還包括各種其他構成元件，像是整合器IN與聚光器C0。依 此方式，照射在光罩MA上的光束PB在其橫斷面内可有期望 的均勻性與強度分布。 在圖1中請注意來源LA可在微影投射裝置的機殼内（譬如 就像是當來源LA是水銀燈的常見情況般），但其也可遠離微 影投射裝置、其產生之照射光束被導引入微影投射裝置内（ 譬如藉助於適當的導引反射鏡）；此後者景象常見於當來源 LA是準分子雷射的方案。本發明與申請專利範圍包括這兩 種方案。 光束PB接著攔截被固定在光罩檯面MT上的光罩μα。已 經被光罩MA選擇性反射的光束pb穿過透鏡pl，透鏡pl將 光束PB聚焦在基板W的目標部分c上。藉助於第二定位裝置 (及干涉計量測量裝置汀），基板檯面WT可被正確地移動， #如以將不同目標部分C定位在光束pB的路徑内。同樣地 ，可使用第一定位裝置來將光罩M A相對於光束pB的路徑正 確地定位；譬如在將光罩MA從光罩儲存庫做機械取回之後 或在掃描期間。一般而言，物件檯面MT、WT的移動可藉 助長衝程模組（粗定位）與短衝程模組（細定位）實施，該等模 組未清楚地顯示於圖丨中。但是在晶圓步進器（相對於步進 掃描裝置）的情況下，光罩檯面乂了可僅連接至短衝程傳動 器或為固定者。 該圖所示裝置可使用於兩種不同模式下： κ在步進模式下，光罩檯面Μτ維持基本上不動，且整個光 罩影像一次投射（亦即以單一,,閃光”）到目標部分C上。然 84302-930722.doc -15- 1226976 後’基板檯面WT在χ及/或古 a y方向上移動以使不同的標 部分c可被光束1>6照射； Ja铩 2·在掃描模式下，基本上廡 土本上相相同的方案，只是某目標部 分C不是以單一”閃光”曝光。 而疋遽光罩檯面ΜΤ以速率 ^在某方向（所謂，丨掃描方向，，壁 吕如y方向）移動，以使投 射光束PB知描在光罩影像上pi η士 m上冋時，基板檯面W丁以

的速率在相同或相反方向上同時移動，.其㈣是透鏡PL 的放大倍數（一般而言如1/4或1/5)。依此方式可曝光相當 大的目標部 >分C而不必犧牲解析度。 如圖2中所不，照明系統包括具有複數個分段鏡面u的場 多面體反射鏡10，該等分段鏡面從輻射源乙八接收輻射並在 目里孔多面體反射鏡22的對應分段鏡面上形成來源LA的複 數個影像。瞳孔分段鏡面21連同照明系統的其餘部分重新 $引輻射，以促使場多面鏡的影像重疊於圖樣化構件上。 %多面鏡11之形狀大體上界定圖樣化構件上照明場的形狀。 為了控制用來照明光罩的照明設定值而配置了分段鏡面 遮檔構件22-25。分段鏡面遮擋構件22_25包括局部不透明遮 擋葉片22和實心遮檔葉片24，該等葉片分別連接至各自的 致動器23、25，以便可選擇性地且漸增地在瞳孔多面體反 射鏡的個別分段鏡面前方靠攏入投射光束内。因為投射系 統PL之瞳孔内的影像是瞳孔多面體反射鏡2〇的影像（它們 是在共軛平面内），所以若未出現繞射（在光罩處），則選擇 性地遮暗瞳孔分段鏡面21最外側的分段鏡面可控制投射系 統瞳孔被填充之量的比率σ光罩。遮暗最外側分段鏡面可 84302-930722.doc -16- 1226976 降低σ。 分段鏡面遮擋構件22，23 24 γ漁甘ρ & 一 ，24，25與其刼作方法更詳細地 顯示於圖3到7中。雖然在這些圖式中，局部不透明遮播草 片22被顯示為實心’但其可在限制條件下包含儘可能多數 目的孔徑與不透明區域，限生丨 飞限制條件是孔徑與不透明區域的 尺寸與間隔必須比投射井类的、士且 尤釆的波長大，以促使不發生繞射 且符合實際製造考量。不透 社 逍月£域的總面積宜充分足以將 瞳孔分段鏡面反射的㈣減少_狀比率，較佳的是5〇% 。請注意’因為投射光束不是正好垂直入射到瞳孔反射鏡 2〇上’所以若分段鏡面遮擋構件完全與瞳孔反射鏡2〇分隔 開’則局部不透明遮播葉片22的總不透明面積相對於分段 鏡面之-面積的比率會料於投射光束要被吸收之預定分 量比率。 如圖3中所示，瞳孔分段鏡面21是正方形的且配置成行。 所以，局部不透明與實心遮擋葉片22, 24被建構成複數個指 狀物26, 27，每行瞳孔分段鏡面配一個指狀物，該等指狀物 可選擇地且漸增地擴展以覆蓋瞳孔分段鏡面中的各個分段 鏡面。較佳的是，可獨立控制各個指狀物26, 27以獲得照明 設定值的較大彈性，但是在某些情況下，指狀物對組或群 可成套排列在一起。 局部不透明遮擋葉片27譬如可建構成棒、條或線格柵或 在貫心板内以適當圖樣形成孔徑。圖7中顯示以複數個棒29 形成的局部不透明遮擋葉片27。 一般而言’對其他形狀與結構的瞳孔分段鏡面而言，遮 84302-930722.doc -17- 1226976 擋T片22, 24的結構可不同。譬如，對配置成同心環的瞳孔 刀奴鏡面而5，遮擋葉片可為虹狀光圈形式。可調整葉片 的一種替代方案是可能提供複數個葉片—不透明的與局部 不透明的，對應於所需照明設定值且選擇性地將這些葉片 根據需要插入於光束中。此種固定葉片可形成為具有適當 開口舁局邓不透明(開孔徑的)區域之薄板且可固定在要插 入於光束中的底片盒或旋轉架内。 圖3顯示分段鏡面遮擋構件在其空檔位置，遮擋葉片22, 24(指狀物26, 27)都打開且瞳孔分段鏡面21沒有障礙。此設 定值提供最大的σ。為了以最小量減少σ(實際上為半幻 ，局部不透明指狀物26擴展一步以覆蓋最外側環瞳孔分段 鏡面21a，如圖4中所示。實心指狀物27維持完全縮回狀態 且内側瞳孔分段鏡面21b未被覆蓋。為了進一步降低σ，實 心指狀物27擴展一步，完全遮暗最外側環瞳孔分段鏡面 ，如圖5中所示。同樣地，内側瞳孔分段鏡面2ib維持未被 覆蓋。藉著進一步擴展指狀物26, 27可達成進一步降低α， 擴展實心指狀物27以整步降低，而再多一步擴展局部不 透明指狀物26則提供半步降低口。將局部不透明指狀物％ 比貫心指狀物27多擴展一步使照明強度分布更平緩的朝向 瞳孔邊緣減少。請注意，為了提供圓形照明模式，最外側 指狀物會移動以遮暗整行的分段鏡面，而中央指狀物則僅 前進一個分段鏡面寬度。當中央指狀物向内再移動另一個 分段鏡面寬度時，次一個最外侧行會被遮暗，依此類推。 其目的是使未被遮暗的分段鏡面區域儘可能接近圓形。 84302-930722.doc -18- 1226976 藉著提供多重具有不同遮擋率的局部不透明遮擋葉片， 就可提供較小的^漸增量。譬如，使用兩個適當對齊的局 部^透明遮播葉片，-個遮播25%的韓射而另—個遮擔5〇% ，就可提供1/4步的漸增量；25%遮擋葉片比實心遮擋葉片 擴展多一步提供1/4步，50%遮擋葉片多擴展一步提供1/2步 ，而二者都多擴展一步提供3/4步。 雖然圖示的組態是旋轉對稱，但此並非一定必要或期望 的。譬如，可藉著僅在一方向上覆蓋分段鏡面而產生橢圓 瞳孔組態，且可藉僅覆蓋適當的分段鏡面而產生多極性組態 〇 在第一種具體實例的一種變體中，使用四組由分段鏡面 遮擋葉片，該四組葉片配置在環繞多面體反射鏡的四個邊 上。這顯示於圖6中且可提供圓形照明模式，而當分段鏡面 配置在正方形格柵上時可有較短的指狀物移動。 具體實例2 圖8與9中顯示本發明的第二種具體實例，下文中省略描 述第二種具體實例相同於第一種具體實例之部份。 如圖8中所示，第二種具體實例有靠近場多面體反射鏡10 的刀4又鏡面遮撞構件12、I]。分段鏡面遮擔構件12，13可 如第一種具體實例般包括局部不透明遮擋葉片與實心遮擋 葉片’或者僅單純包括實心遮擋葉片。將分段鏡面遮擋構 件放在場多面體反射鏡處而不放在瞳孔多面體反射鏡處會 有利’因為場分段鏡面一般在一個方向上大於瞳孔分段鏡 84302-930722.doc -19- 1226976 面’所以有額外的空間提供必要的機制且可較簡單地以較 大尺寸規格建構局部不透明遮擋葉片。但是若場分段鏡面 配置成填充瞳孔分段鏡面而非瞳孔反射鏡内對應位置内的 分段鏡面，則可獲得額外的優點。譬如，最外側場分段鏡 面1 la可配置成填充最内側瞳孔分段鏡面21b，反之亦然， 如圖8中所不。在該情況下，關閉分段鏡面遮擋構件12，13 以遮暗最外側場分段鏡面丨丨a，可將照明從最内侧瞳孔分段 鏡面21 b移除，從而提供環形照明模式。 圖9顯示場多面體反射鏡1〇，其與第一種具體實例中者相 同。場多面體反射鏡10包括複數個場多面鏡u，該等場多 面鏡11為间覓比甚高的長方形且配置成列與行。分段鏡面 遮擋構件12可實施成複數個可選擇性擴張的指狀物，像是 第一種具體實例的瞳孔多面鏡分段鏡面遮擋構件内的指狀 物，或者實施成單純的葉片以便一次遮擋整個場分段鏡面 11區段。 各種瞳孔分段鏡面與場分段鏡面間的對應關係可被選擇 ，以促使場多面體反射鏡10上相鄰場分段鏡面i丨之區域對 應於瞳孔多面體反射鏡20上一組特定瞳孔分段鏡面21。譬 如，場分段鏡面11的區域I可被選擇以對應於瞳孔分段鏡面 21的一環、區域π對應於另一環瞳孔分段鏡面、且區域m 對應於瞳孔分段鏡面21一内側圓形區域。區域11與111可 藉個別的遮擋葉片輕易地被遮擋，從而使能選擇不同的口 值或環形照明，然而要僅遮擋對應的瞳孔分段鏡面就遠較 困難了。可使用場與瞳孔分段鏡面間對應關係的不同結構 84302-930722.doc •20- 1226976 以提供其他的照明槿或，兮 、 諸如又極性與四極性組態及盥上 述組態互補的組態。 一 當然’第一種具體實例的分 、 奴鏡面遮擋構件可與第二種 ，、體貫例的分段鏡面遮擋構件人 y r ,, 千〇併以&供環形照明模式内 側與外側半徑範圍（σ 盥 ^ 的獨立控制能力。 雖然上文中描述本發明的特 明可爾纺…，、 體實例，但請注意本發 述方法不同的其他方法實浐· 砲又3田十a 无只知〇本發明說明的敘 述不疋用來限制本發明的。 【圖式簡單說明】 上文僅藉由範例參考諸概 ，諸圖式中： 口式榣述本發明的具體實例 圖1顯示根據本發明—種具 貝例的械影投射裝置； S 2,4不圖i之裝置的照明系統. 圖3到6顯示本發明第_種具體實舒—70件， 面遮擋構件； 、a彳在各種位置之分段鏡 圖7顯示使用於本發明第—種且 遮擋葉片； 〃體實例中的局部不透明 _ 員示本發明第二種具體實例 元件；且 “、、月系統的某些構成 圖』不本發明第二種具體實夕 在諸圖式中，對應的參考符?” '夕面體反射鏡。 【圖式代表符號說明】”虎表示對應的元件。 EX 光束擴展器 p 投射光束 84302-930722.doc -21 - 1226976 LA 輻射來源 MT 光罩檯面 MA 光罩 PM 第一定位裝置 PL 透鏡 WT 基板檯面 W 基板 PW 第二定位裝置 C 目標部分 IL 照明裝置 AM 調整裝置 IN 整合器 CO 聚光器 IF 干涉計量測量裝置 10 場多面體反射鏡 11 場分段鏡面 20 瞳孔多面體反射鏡 21 瞳孔分段鏡面 22 局部不透明遮擋葉片 24 實心遮擋葉片 23, 25 致動器 26, 27 指狀物 29 棒 21b 内侧瞳孔分段鏡面 84302-930722.doc -22- 1226976 21a 最外側環瞳孔分段鏡面 12, 13 分段鏡面遮擔構件 11a 最外側場分段鏡面 I， II， III 區域 -23 - 84302-930722.doc

Claims (1)

1226976 修正替換本 $年；；月》曰 拾、申請專利範圍： 1 · 一種微影投射裝置，包括： -輻射系統，其包括用以提供一輻射投射光束的多個 反射光學元件’該等反射光學元件包括一用以在一第二 多面體反射鏡上產生複數個影像源的第—多面體反射鏡； 一支撐結構1以支撐圖樣化構件，該圖樣化構件的 作用疋根據所需的圖樣來圖樣化該投射光束； 一基板檯面，用以固定該基板；及 一投射系統，用來把被圖樣化的光束投射到該基板的 一目標部分上， 其特徵為： 該微影投射裝置包括分段鏡面遮擋構件，該分段鏡面 遮擋構件係用來選擇性遮擋該第一多面體反射鏡與該第 二多面體反射鏡之一的一或多個分段鏡面，並且該分段 鏡面遮擔構件包括可選擇性插入於該投射光束内的至少 一局部不透明遮擋葉片，該局部不透明遮擋葉片具有不 透明與透明區域的規則性週期結構，且具有足夠大之間 距以促使消略該投射光束的繞射，並實質上遮擔整個分 段鏡面。 2·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該間距相對於該影像 源甚小。 3·如申請專利範圍第2項之裝置，其中該間距在從1 mm到 5 00 nm的範圍内。 4·如申請專利範圍前述諸項中任一項、之裝置’其中該等分 V' ,一..'〆 84302-930722.doc 1226976 段鏡面配置成行且該局部不透明葉片包括複數個局部不 透月扣狀物’该等指狀物可選擇性地沿著個別分段鏡面 線擴張。 汝申明專利範圍第丨，2或3項之裝置，其中該等分段鏡面 遮撞構件配置在靠近第二多面體反射鏡處。 6.如申請專利範圍第丨，2或3項之裝置，其中該分段鏡面遮 擋構件進一步包括實心遮擋裝置，該實心遮檔裝置可選 擇丨生插入於該投射光束内以幾乎完全遮擋該等分段鏡面 中的至少一個分段鏡面。 .如申％專利範圍第1，2或3項之裝置，其中該分段鏡面遮 擋構件進一步包括調整裝置，該調整裝置用來調整被局 部不透明遮擋葉片遮暗之分段鏡面面積的比率。 8·如申請專利範圍第7項之裝置，其中該分段鏡面遮擋構件 有複數個可選擇性插入於該投射光束内的局部不透明遮 擋葉片。 9· 一種微影投射裝置，包括： 一輻射系統，其包括一用以提供一輻射投射光束的多 個反射光學元件，該等反射光學元件包括一用以在一第 二多面體反射鏡上產生複數個影像源的第一多面體反射鏡 一支撐結構，用以支撐圖樣化構件，該圖樣化構件的 作用是根據所需的圖樣來圖樣化該投射光束； 一基板檯面，用以固定該基板；及 一投射系統，用來把被圖樣化的光束投射到該基板的 84302-930722.doc 1226976 一目標部分上， 其特徵為： 該微影投射裝置包括分段鏡面遮擋構件，該分段鏡面 遮擋構件係用來選擇性遮擋該第一多面體反射鏡的一或 多個分段鏡面之全部。 10·如申請專利範圍第9項之裝置，其中該第一多面體反射鏡 的一群相鄰分段鏡面被配置以導引輻射到該第二多面體 反射鏡的一組分段鏡面，該第二多面體反射鏡的該組分 段鏡面被以:一種組態配置，該組態從下列組態群組中選 擇： 實質上呈環形的組態； 多極性組態； 大致呈圓形的組態；及 與上述組態互補的組態。 11·如申請專利範圍第9或10項之裝置，其中接近該第一多面 體反射鏡周邊處的分段鏡面被配置成導引輻射到該第二 多面體反射鏡更中央部分處的分段鏡面。 12 · —種裝置製造方法，包括下列步驟： 提供基板’該基板至少局部被一輻射敏感材料層覆蓋； 使用輻射系統提供輻射投射光束，該輻射系統包括多個 反射光學元件以提供輻射投射光束，該等反射光學元 件包括一用來在一第二多面體反射鏡上產生複數個影 像源之苐一多面體反射鏡； 使用圖樣化構件，以便將一圖樣賦予投射光束的橫斷面内 84302-930722.doc 1226976 將被圖樣化之輻射光束投射到該輻射敏感材料層的目桿 部分上， 其特徵為： 該方法藉著選擇性將至少一局部不透明遮擋葉片插入 於該投射光束内而選擇性地遮擋該第一多面體反射鏡與 a第一夕面體反射鏡之一的一或多個分段鏡面，該局部 不透明遮擋葉片具有透明與不透明區域的規則性週期結 構且/、有:足夠大之間距以促使消略該投射光束的繞射 ，且並κ貝上遮擋整個分段鏡面。 84302-930722.doc -4-