TWD237229S - 用於物理氣相沉積（pvd）腔室的準直器 - Google Patents

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萊克馬丁李
馬丁李 萊克
法凱路克菲安妮
路克菲安妮 法凱
謝祥金
祥金 謝
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美商應用材料股份有限公司 (美國)
美商應用材料股份有限公司
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Abstract

【物品用途】;本衍生設計所請求係用於物理氣相沉積（PVD）腔室的準直器。;【設計說明】;本衍生設計與原設計(第112302648號申請案)的差異在於:本設計的外部三列通道中的中間列中的各通道的寬度小於其他兩列通道中的各通道的寬度；相對地，在原設計中，以垂直俯視視角觀察，原設計的外部三列通道中的各列通道的寬度則是實質上相同的。;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。

Description

用於物理氣相沉積（PVD）腔室的準直器
本衍生設計所請求係用於物理氣相沉積（PVD）腔室的準直器。
本衍生設計與原設計(第112302648號申請案)的差異在於:本設計的外部三列通道中的中間列中的各通道的寬度小於其他兩列通道中的各通道的寬度；相對地，在原設計中，以垂直俯視視角觀察，原設計的外部三列通道中的各列通道的寬度則是實質上相同的。
圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
TW112302648D02F 2022-12-16 2023-06-16 用於物理氣相沉積（pvd）腔室的準直器 TWD237229S (zh)

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