JP2018154880A - コリメータおよび処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】例えば、被処理物の場所による膜厚のばらつきが減るなど、より不都合の少ない新規な構成のコリメータおよび処理装置を得る。【解決手段】実施形態のコリメータには、格子領域と周縁フレームとの間で単位貫通孔よりも大きく開口し、コリメータを第一方向に貫通する周縁開口部が設けられる。周縁開口部は、第一端壁と周縁フレームとの間に位置された第一周縁開口部を含む。【選択図】図２

Description

実施形態は、コリメータおよび処理装置に関する。

従来、コリメータが設けられたスパッタ装置等の処理装置が知られている。

特開２００５−７２０２８号公報

例えば、被処理物の場所による膜厚のばらつきが減るなど、より不都合の少ない新規な構成のコリメータおよび処理装置が得られれば、有益である。

実施形態のコリメータは、第一面と、第二面と、周縁フレームと、格子領域と、第一端壁と、を有する。第一面は、第一方向と交差する。第二面は、第一方向と交差し、第一面とは反対側に位置される。格子領域では、第一方向に貫通した単位貫通孔を囲う単位フレームが第一面および第二面に沿い周縁フレームの第一方向と交差した第二方向の両端間に渡って配置される。第一端壁は、格子領域の第一方向および第二方向と交差した第三方向の両端に位置され第二方向の両端間を接続する。コリメータには、格子領域と周縁フレームとの間で単位貫通孔よりも大きく開口し、コリメータを第一方向に貫通する周縁開口部が設けられる。周縁開口部は、第一端壁と周縁フレームとの間に位置された第一周縁開口部を含む。

図１は、実施形態の処理装置の模式的かつ例示的な断面図である。 図２は、第１実施形態のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図３は、第２実施形態のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図４は、第３実施形態のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図５は、第４実施形態のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図６は、第１変形例のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図７は、第２変形例のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図８は、第３変形例のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。 図９は、第４変形例のコリメータの模式的かつ例示的な平面図である。

以下、コリメータおよび処理装置の例示的な実施形態が開示される。以下に示される実施形態の構成や制御（技術的特徴）、ならびに当該構成や制御によってもたらされる作用および結果（効果）は、一例である。図中には、説明の便宜上、方向Ｖ１、方向Ｈ２、および方向Ｈ３が示されている。方向Ｖ１は垂直方向（重力方向）であり、方向Ｈ２および方向Ｈ３は水平方向である。方向Ｖ１、方向Ｈ２、および方向Ｈ３は互いに直交している。

また、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。以下では、それら同様の構成要素には共通の符号が付与されるとともに、重複する説明が省略される場合がある。

＜第１実施形態＞
図１は、スパッタ装置１の断面図である。スパッタ装置１は、例えば、ウエハＷの表面に、金属の粒子による膜を形成する（積層する）。スパッタ装置１は、処理装置の一例であり、成膜装置や、積層装置と称されうる。ウエハＷは、被処理物の一例であり、物体と称されうる。

スパッタ装置１は、チャンバ１１を有する。チャンバ１１は、方向Ｖ１に沿った中心軸を中心とした略円筒状に構成され、天壁１１ａ、底壁１１ｂ、および周壁１１ｃ（側壁）を有する。天壁１１ａおよび底壁１１ｂは、方向Ｖ１と直交し、方向Ｈ２および方向Ｈ３に沿って延びている。周壁１１ｃの母線は、方向Ｖ１に沿っている。このチャンバ１１により、略円筒状の空間として、処理室Ｒが形成されている。スパッタ装置１は、例えば、チャンバ１１の中心軸（方向Ｖ１）が鉛直方向に沿うように設置される。チャンバ１１は容器の一例である。

スパッタ装置１の処理室Ｒ内には、天壁１１ａに沿う状態で、ターゲットＴが配置されうる。ターゲットＴは、例えば、バッキングプレートを介して、天壁１１ａに支持される。ターゲットＴは、金属の粒子を発生する。ターゲットＴは、粒子放出源あるいは粒子発生源と称されうる。天壁１１ａあるいはバッキングプレートは、放出源配置部と称されうる。

スパッタ装置１の処理室Ｒ外には、天壁１１ａに沿う状態で、マグネットＭが配置されうる。ターゲットＴは、マグネットＭに近い領域から金属の粒子を発生する。

スパッタ装置１の処理室Ｒ内には、底壁１１ｂに近い位置に、ステージ１２が設けられている。ステージ１２は、ウエハＷを支持する。ステージ１２は、プレート１２ａ、シャフト１２ｂ、および支持部１２ｃを有する。プレート１２ａは、例えば円板状に構成され、方向Ｖ１と直交する面１２ｄを有する。プレート１２ａは、ウエハＷを、面１２ｄ上で、当該ウエハＷの面ｗａが方向Ｖ１と直交する面に沿うように支持する。シャフト１２ｂは、支持部１２ｃから方向Ｖ１の反対方向に突出し、プレート１２ａと接続されている。プレート１２ａは、シャフト１２ｂを介して支持部１２ｃに支持されている。支持部１２ｃは、シャフト１２ｂの方向Ｖ１の位置を変更することができる。方向Ｖ１の位置の変更に関し、支持部１２ｃは、シャフト１２ｂの固定位置（保持位置）を変更可能な機構を有してもよいし、シャフト１２ｂの方向Ｖ１の位置を電気的に変更可能なモータや回転直動変換機構等を含むアクチュエータを有してもよい。シャフト１２ｂの方向Ｖ１の位置が変化すると、プレート１２ａの方向Ｖ１の位置も変化する。シャフト１２ｂおよびプレート１２ａの位置は、多段階あるいは無段階（連続可変）に設定されうる。ステージ１２（プレート１２ａ）は、被処理物配置部の一例である。ステージ１２は、被処理物支持部、位置変更部、位置調整部と称されうる。

天壁１１ａとステージ１２との間には、コリメータ１３０が配置されている。コリメータ１３０は、チャンバ１１の周壁１１ｃに支持されている。コリメータ１３０は、略円板状に構成され、上面１３ａと、上面１３ａの反対側の下面１３ｂと、円筒状の周壁１３ｆと、を有する。上面１３ａおよび下面１３ｂは、方向Ｖ１と直交し、方向Ｈ２および方向Ｈ３に沿って平面状に延びている。コリメータ１３０の厚さ方向は、方向Ｖ１である。コリメータ１３０は、周壁１３ｆの外周とチャンバ１１の周壁１１ｃの内周との間にほぼ隙間が無い状態で、チャンバ１１内に設置される。上面１３ａは、第一面の一例であり、下面１３ｂは、第二面の一例である。また、方向Ｖ１は、第一方向の一例である。周壁１３ｆは、周縁フレームおよび縁の一例である。

コリメータ１３０には、上面１３ａと下面１３ｂとの間を方向Ｖ１に貫通した複数の貫通孔１３ｃが設けられている。貫通孔１３ｃは、ターゲットＴ側、すなわち天壁１１ａ側に開放されるとともに、ウエハＷ側、すなわちステージ１２側に開放され、方向Ｖ１に沿って延びている。

図２は、コリメータ１３１（１３０）の平面図である。貫通孔１３ｃのそれぞれの断面形状は、多角形状であり、本実施形態では図２に示されるように正方形状（四角形状）である。貫通孔１３ｃは、方向Ｖ１に沿う四つの縦壁１３ｄに囲まれている。コリメータ１３１では、図２に示されるように、方向Ｖ１から見て、四つの縦壁１３ｄが貫通孔１３ｃを囲う正方形状（四角形状）の単位フレーム１３Ｕを構成し、複数の単位フレーム１３Ｕが平面的に密集配置された格子領域１３Ｌが構成されている。貫通孔１３ｃは、単位貫通孔の一例である。貫通孔１３ｃは、単位フレーム１３Ｕの内周面の一例である。縦壁１３ｄは、壁部とも称されうる。

格子領域１３Ｌは、図２に示されるように、コリメータ１３１の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡って延びている。なお、格子領域１３Ｌの周壁１３ｆ（端部１３ｆ１，１３ｆ２）との接続部には、貫通孔１３ｃとは大きさ（断面積、開口面積）がが異なる端部貫通孔１３ｃ１が設けられるとともに、端部貫通孔１３ｃ１を囲う端部フレーム１３ｄ１が設けられている。端部フレーム１３ｄ１を含む領域は、端部領域とも称されうる。本実施形態では、端部貫通孔１３ｃ１の大きさは、貫通孔１３ｃよりも小さいが、貫通孔１３ｃより大きくてもよい。また、端部貫通孔１３ｃ１（端部領域）は、格子領域１３Ｌと周壁１３ｆ（周縁フレーム）との間に、すなわち格子領域１３Ｌの周壁１３ｆとの接続部分に設けられるものであって、格子領域１３Ｌと周壁１３ｆとの間の開口部１３Ａ（周縁開口部）とは異なるものである。

他方、格子領域１３Ｌの方向Ｈ３の端壁１３ｅ３，１３ｅ４と、コリメータ１３１の方向Ｈ３の端部１３ｆ３，１３ｆ４との間には、それぞれ、開口部１３Ａが設けられている。端壁１３ｅ３，１３ｅ４は、それぞれ、端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間を接続し、単位フレーム１３Ｕの辺に沿って方向Ｈ２に真っ直ぐに延びている。開口部１３Ａは、端壁１３ｅ３，１３ｅ４と隣接して格子領域１３Ｌ外に位置され、方向Ｈ２に沿って延びている。また、開口部１３Ａは、端壁１３ｅ３，１３ｅ４のそれぞれの方向Ｈ２の端部１３ｅ１，１３ｅ２（一端および他端）間に渡り、貫通孔１３ｃよりも大きく開口されている。開口部１３Ａは、第一周縁開口部（周縁開口部）の一例である。方向Ｈ２は、第二方向の一例であり、方向Ｈ３は、第三方向の一例である。

このような方向Ｖ１に沿って延びる貫通孔１３ｃを通ることにより、粒子は方向Ｖ１に整流される。よって、コリメータ１３０は、整流装置あるいは整流部材と称される。貫通孔１３ｃを構成する格子領域１３Ｌは、整流部と称されうる。

チャンバ１１の例えば周壁１１ｃには、排出口１１ｄが設けられている。排出口１１ｄから延びた配管（不図示）は、例えば、吸引ポンプ（真空ポンプ、不図示）に接続される。吸引ポンプの動作により処理室Ｒ内のガスが排出口１１ｄから排出され、処理室Ｒ内の圧力が低下する。吸引ポンプは、略真空状態となるまでガスを吸引することが可能である。

チャンバ１１の例えば周壁１１ｃには、導入口１１ｅが設けられている。導入口１１ｅから延びた配管（不図示）は、例えば、タンク（不図示）に接続される。タンクには、例えばアルゴンガスのような不活性ガスが収容されている。タンク内の不活性ガスは、処理室Ｒ内に導入されうる。

また、チャンバ１１の例えば周壁１１ｃには、透明な窓１１ｆが設けられている。チャンバ１１の外に配置されたカメラ２０により、窓１１ｆを通じて、コリメータ１３０を撮影することができる。カメラ２０で撮影した画像から、コリメータ１３０の状態を、画像処理により、確認することができる。なお、透明な窓１１ｆは、着脱可能あるいは開閉可能な蓋や、カバー、扉等で覆われてもよい。また、周壁１１ｃには、透明な窓１１ｆに替えて開口部（貫通穴）が設けられるとともに、開口部を開閉可能な蓋が設けられてもよい。蓋や、カバー、扉等は、例えば、スパッタ装置１の動作中には窓１１ｆあるいは開口部を覆い、スパッタ装置１が動作していない状態で窓１１ｆあるいは開口部を開放しうる。

上述したような構造のスパッタ装置１にあっては、ターゲットＴに電圧が印加されると、処理室Ｒの内部に導入されたアルゴンガスがイオン化し、プラズマが発生する。アルゴンイオンがターゲットＴに衝突することにより、例えばターゲットＴの下面ｔａから、当該ターゲットＴを構成する金属材料（成膜材料）の粒子が飛び出す。このようにして、ターゲットＴは、粒子を放出する。

なお、ターゲットＴの下面ｔａから粒子が飛ぶ方向は、コサイン則（ランベルトの余弦則）に従って分布する。すなわち、ターゲットＴの下面ｔａのある一点から飛ぶ粒子は、当該下面ｔａの法線方向（鉛直方向、方向Ｖ１）に最も多く飛ぶ。よって、法線方向は、天壁１１ａまたはバッキングプレート（放出源配置部）に配置されたターゲットＴが少なくとも一つの粒子を放出する方向、の一例である。法線方向に対して角度θで傾斜する（斜めに交差する）方向に飛ぶ粒子の数は、当該法線方向に飛ぶ粒子の数の余弦（ｃｏｓθ）におおよそ比例する。

粒子は、ターゲットＴの金属材料の微小な粒である。粒子は、分子や、原子、原子核、素粒子、蒸気（気化した物質）のような、物質の粒子であっても良い。なお、粒子には、正電荷を有した銅イオン等の陽イオンが含まれる場合もある。

図１に示されるように、ウエハＷの面ｗａ上の点Ｐには、主として、ターゲットＴの下面ｔａの領域Ａｅから飛び出した粒子が積層される。コリメータ１３１（１３０）の縦壁１３ｄにより、粒子の所定角度を超えた斜め方向への進行が遮られるため、領域Ａｅの大きさは、コリメータ１３１の貫通孔１３ｃの大きさや、高さ（厚さ）等のスペックによって定まる。ここで仮に、コリメータ１３１の方向Ｈ３の両端部においても、本実施形態で設けられた開口部１３Ａに替えて、単位フレーム１３Ｕの縦壁１３ｄが設けられていた場合にあっては、ターゲットＴからウエハＷの端部の点Ｐｅに向けては、主として、図１中に二点鎖線で示される範囲内を通った粒子しか到着できないため、ターゲットＴの下面ｔａからウエハＷの端部の点Ｐｅに向けて粒子が飛び出す領域Ａｅ１が領域Ａｅよりも狭くなってしまう。この場合、ウエハＷの端部の点Ｐｅにおける膜厚が、ウエハＷの中央部の膜厚よりも小さくなってしまう虞がある。

そこで、本実施形態では、コリメータ１３１（１３０）の方向Ｈ３の両端部に、開口部１３Ａが設けられている。開口部１３Ａには、単位フレーム１３Ｕの縦壁１３ｄが設けられていない分、当該開口部１３Ａに替えて縦壁１３ｄが設けられていた場合に比べて、点Ｐｅに到達できる粒子の数を増やすことができる。よって、このような構成により、ウエハＷの端部（周縁部）において膜厚を従来よりも大きくすることができ、ウエハＷの場所による膜厚のばらつきが大きくなるのを抑制することができる。

以上、説明したように、本実施形態では、コリメータ１３１（１３０）に設けられた開口部１３Ａ（第一周縁開口部）は、格子領域１３Ｌの端壁１３ｅ３，１３ｅ４（第一端壁）と隣接して格子領域１３Ｌ外に位置され、端壁１３ｅ３，１３ｅ４の方向Ｈ２（第二方向）の端部１３ｅ１，１３ｅ２（一端および他端）間に渡って端壁１３ｅ３，１３ｅ４に沿って方向Ｈ２に延び、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）よりも大きく開口し、コリメータ１３１を方向Ｖ１に貫通している。すなわち、開口部１３Ａは、端部１３ｅ１（一端）から端部１３ｅ２（他端）にかけて端壁１３ｅ３，１３ｅ４に臨んでいる。よって、ウエハＷの端部の点Ｐｅにおける膜厚が、ウエハＷの中央部の膜厚よりも小さくなるのを抑制することができ、ひいては、ウエハＷの場所による膜厚のばらつきが大きくなるのを、抑制することができる。

また、本実施形態では、格子領域１３Ｌは、コリメータ１３１の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡り、当該端部１３ｆ１，１３ｆ２において所要幅で比較的強固に周壁１３ｆに支持されている。また、格子領域１３Ｌは、貫通孔１３ｃよりも小さい端部貫通孔１３ｃ１を構成する、単位フレーム１３Ｕの辺よりも短い複数の縦壁１３ｄを介して、周壁１３ｆと接続されている。このような構成によれば、格子領域１３Ｌの所要の剛性および強度、ひいては所要の位置および姿勢が、確保されやすい。

また、本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕは、方向Ｖ１（第一方向）から見た場合に、四角形状（多角形状）である。よって、格子領域１３Ｌひいてはコリメータ１３１を、より簡素な構成として得ることができるとともに、格子領域１３Ｌの所要の剛性および強度、ひいては所要の位置および姿勢が、確保されやすい。

＜第２実施形態＞
図３は、本実施形態のコリメータ１３２の平面図である。コリメータ１３２は、図１のスパッタ装置１に、コリメータ１３１に替えて設けられうる。本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状が、上記第１実施形態とは相違している。具体的には、図３に示されるように、貫通孔１３ｃおよび単位フレーム１３Ｕの形状が、正六角形状（六角形状）である。貫通孔１３ｃは、方向Ｖ１に沿う六つの縦壁１３ｄに囲まれている。コリメータ１３２では、図３に示されるように、方向Ｖ１から見て、六つの縦壁１３ｄが貫通孔１３ｃを囲う正六角形状（六角形状）の単位フレーム１３Ｕを構成し、複数の単位フレーム１３Ｕが平面的に密集配置された格子領域１３Ｌが構成されている。

また、本実施形態でも、格子領域１３Ｌは、コリメータ１３２の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡って延びている。

そして、格子領域１３Ｌの方向Ｈ３の端壁１３ｅ３，１３ｅ４と、コリメータ１３２の方向Ｈ３の端部１３ｆ３，１３ｆ４との間に、それぞれ、開口部１３Ａが設けられている。端壁１３ｅ３，１３ｅ４は、それぞれ、単位フレーム１３Ｕの六角形の辺に沿ってギザギザに屈曲しながら、方向Ｈ２に延びている。

すなわち、本実施形態でも、コリメータ１３２（１３０）に設けられた開口部１３Ａ（第一周縁開口部）は、格子領域１３Ｌの端壁１３ｅ３，１３ｅ４（第一端壁）と隣接して格子領域１３Ｌ外に位置され、端壁１３ｅ３，１３ｅ４の方向Ｈ２（第二方向）の端部１３ｅ１，１３ｅ２（一端および他端）間に渡って端壁１３ｅ３，１３ｅ４に沿って方向Ｈ２に延び、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）よりも大きく開口し、コリメータ１３２を方向Ｖ１に貫通している。すなわち、開口部１３Ａは、端部１３ｅ１（一端）から端部１３ｅ２（他端）にかけて端壁１３ｅ３，１３ｅ４に臨んでいる。よって、ウエハＷの端部の膜厚が、ウエハＷの中央部の膜厚よりも小さくなるのを抑制することができ、ひいては、ウエハＷの場所による膜厚のばらつきが大きくなるのを、抑制することができる。

また、本実施形態でも、格子領域１３Ｌは、コリメータ１３２の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡り、当該端部１３ｆ１，１３ｆ２において所要幅で比較的強固に周壁１３ｆに支持されている。また、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状が、六角形状である。よって、格子領域１３Ｌひいてはコリメータ１３２を、より簡素な構成として得ることができるとともに、格子領域１３Ｌの所要の剛性および強度、ひいては所要の位置および姿勢が、確保されやすい。

＜第３実施形態＞
図４は、本実施形態のコリメータ１３３の平面図である。コリメータ１３３は、図１のスパッタ装置１に、コリメータ１３１に替えて設けられうる。本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状が、上記第１，第２実施形態とは相違している。具体的には、図４に示されるように、貫通孔１３ｃおよび単位フレーム１３Ｕの形状が、正三角形状（三角形状）である。貫通孔１３ｃは、方向Ｖ１に沿う三つの縦壁１３ｄに囲まれている。コリメータ１３３では、図４に示されるように、方向Ｖ１から見て、三つの縦壁１３ｄが貫通孔１３ｃを囲う正三角形状（三角形状）の単位フレーム１３Ｕを構成し、複数の単位フレーム１３Ｕが平面的に密集配置された格子領域１３Ｌが構成されている。

また、本実施形態でも、格子領域１３Ｌは、コリメータ１３３の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡って延びている。

そして、格子領域１３Ｌの方向Ｈ３の端壁１３ｅ３，１３ｅ４と、コリメータ１３３の方向Ｈ３の端部１３ｆ３，１３ｆ４との間に、それぞれ、開口部１３Ａが設けられている。端壁１３ｅ３，１３ｅ４は、それぞれ、単位フレーム１３Ｕの辺に沿って方向Ｈ２に真っ直ぐに延びている。

すなわち、本実施形態でも、コリメータ１３３（１３０）に設けられた開口部１３Ａ（第一周縁開口部）は、格子領域１３Ｌの端壁１３ｅ３，１３ｅ４（第一端壁）と隣接して格子領域１３Ｌ外に位置され、端壁１３ｅ３，１３ｅ４の方向Ｈ２（第二方向）の端部１３ｅ１，１３ｅ２（一端および他端）間に渡って端壁１３ｅ３，１３ｅ４に沿って方向Ｈ２に延び、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）よりも大きく開口し、コリメータ１３３を方向Ｖ１に貫通している。よって、ウエハＷの端部の膜厚が、ウエハＷの中央部の膜厚よりも小さくなるのを抑制することができ、ひいては、ウエハＷの場所による膜厚のばらつきが大きくなるのを、抑制することができる。

また、本実施形態でも、格子領域１３Ｌは、コリメータ１３３の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２（両端）間に渡り、当該端部１３ｆ１，１３ｆ２において所要幅で比較的強固に周壁１３ｆに支持されている。また、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状が、三角形状である。よって、格子領域１３Ｌひいてはコリメータ１３３を、より簡素な構成として得ることができるとともに、格子領域１３Ｌの所要の剛性および強度、ひいては所要の位置および姿勢が、確保されやすい。

＜第４実施形態＞
図５は、本実施形態のコリメータ１３４の平面図である。コリメータ１３４は、図１のスパッタ装置１に、コリメータ１３１に替えて設けられうる。本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状は、上記第１実施形態と同じである。

ただし、本実施形態では、第１実施形態と同様の開口部１３Ａに加えて、格子領域１３Ｌの方向Ｈ２の端壁１３ｇ３，１３ｇ４と、コリメータ１３４の方向Ｈ２の端部１３ｆ１，１３ｆ２との間に、それぞれ、開口部１３Ｂが設けられている。端壁１３ｇ３，１３ｇ４は、それぞれ、コリメータ１３４の方向Ｈ３の端部１３ｆ３，１３ｆ４（両端）間を接続し、単位フレーム１３Ｕの辺に沿って方向Ｈ３に真っ直ぐに延びている。開口部１３Ｂは、第二周縁開口部（周縁開口部）の一例であり、端壁１３ｇ３，１３ｇ４は、第二端壁の一例である。また、本実施形態でも、格子領域１３Ｌの端部（角部、四隅）は、それぞれ、貫通孔１３ｃよりも小さい端部貫通孔１３ｃ１を構成する比較的短い複数の縦壁１３ｄを介して、周壁１３ｆと接続されている。これにより、格子領域１３Ｌの所要の剛性および強度が確保されやすい。

本実施形態では、開口部１３Ａとは別にコリメータ１３４（１３０）に設けられた開口部１３Ｂ（第二周縁開口部）は、格子領域１３Ｌの端壁１３ｇ３，１３ｇ４（第二端壁）と隣接して格子領域１３Ｌ外に位置され、端壁１３ｇ３，１３ｇ４の方向Ｈ３（第三方向）の端部１３ｇ１，１３ｇ２（一端および他端）間に渡って端壁１３ｇ３，１３ｇ４に沿って方向Ｈ３に延び、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）よりも大きく開口し、コリメータ１３４を方向Ｖ１に貫通している。すなわち、開口部１３Ｂは、端部１３ｇ１（一端）から端部１３ｇ２（他端）にかけて端壁１３ｇ３，１３ｇ４に臨んでいる。よって、ウエハＷの端部の膜厚が、ウエハＷの中央部の膜厚よりも小さくなるのを抑制することができ、ひいては、ウエハＷの場所による膜厚のばらつきが大きくなるのを、抑制することができる。また、上記第１〜第３実施形態よりも、膜厚が他よりも小さい範囲を、より小さくすることができる。なお、このような開口部１３Ｂを有したコリメータ１３４の貫通孔１３ｃおよび単位フレーム１３Ｕの形状は、四角形状には限定されず、例えば、三角形状や、六角形状であってもよい。

＜変形例＞
図６は、第１変形例のコリメータ１３５の平面図であり、図７は、第２変形例のコリメータ１３６の平面図である。コリメータ１３５，１３６（１３０）は、図１のスパッタ装置１に、コリメータ１３１に替えて設けられうる。本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状は、上記第１実施形態と同じである。

ただし、図６の変形例では、格子領域１３Ｌ内に、複数の貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）が互いに繋がった開口部１３ｏ１（内側開口部）が設けられている。また、図７の変形例では、開口部１３ｏ１に加えて、格子領域１３Ｌの周縁部に、一つ以上の互いに繋がった複数の貫通孔１３ｃのうちの少なくとも一つが開口部１３Ａと繋がった開口部１３ｏ２（切欠）が設けられている。開口部１３ｏ１，１３ｏ２は、互いに隣接した複数の貫通孔１３ｃの間に位置される辺（単位フレーム１３Ｕ構成する辺の少なくとも一つ）の欠損により、構成されている。このような開口部１３ｏ１，１３ｏ２を設けることによりウエハＷ上の膜厚のばらつきを抑制できる場合がある。なお、開口部１３ｏ１，１３ｏ２を構成する貫通孔１３ｃおよび単位フレーム１３Ｕの形状は、四角形状には限定されず、例えば、三角形状や、六角形状であってもよい。また、開口部１３ｏ１の位置や、数、大きさ、形状、姿勢等のスペックも図６，７の例には限定されない。

図８は、第３変形例のコリメータ１３７の平面図であり、図９は、第４変形例のコリメータ１３８の平面図である。コリメータ１３７，１３８（１３０）は、図１のスパッタ装置１に、コリメータ１３１に替えて設けられうる。本実施形態では、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）および単位フレーム１３Ｕの形状は、上記第１実施形態と同じである。

ただし、図８，９の変形例では、チャンバ１１の周壁１１ｃの筒内に面する周壁１３ｆが、分断されている。具体的には、端壁１３ｅ３，１３ｅ４（第一端壁）および端壁１３ｇ３，１３ｇ４（第二端壁）と面する位置には、チャンバ１１の周壁１１ｃの筒内に面する周壁１３ｆは、設けられていない。互いに離間した複数の周壁１３ｆは、第三端壁の一例である。

コリメータ１３７，１３８では、格子領域１３Ｌとチャンバ１１の周壁１１ｃと面する円弧状に曲がった周壁１３ｆとの間に、端部貫通孔１３ｃ１を囲う端部フレーム１３ｄ１を含む端部領域１３Ｅが構成されている。端部貫通孔１３ｃ１の大きさ（断面積、開口面積）は、貫通孔１３ｃ（単位貫通孔）とは異なり、貫通孔１３ｃよりも大きくても小さくてもよい。図８，９には、端部領域１３Ｅがドットパターンで示されている。図８のコリメータ１３７では、端部領域１３Ｅは、方向Ｖ１から見てコリメータ１３７の縁に沿って延びており、複数（二つ）の端部領域１３Ｅには、それぞれ、複数の端部フレーム１３ｄ１が含まれている。他方、図９のコリメータ１３８では、方向Ｖ１から見てコリメータ１３８の角部に配置され、複数（四つ）の端部領域１３Ｅには、それぞれ一つの端部フレーム１３ｄ１が含まれている。

これら変形例では、周壁１３ｆまたは端部領域１３Ｅが、チャンバ１１の周壁１１ｃに支持される。図８，９から明らかとなるように、コリメータ１３７，１３８がチャンバ１１に装着された状態では、端壁１３ｅ３，１３ｅ４，１３ｇ３，１３ｇ４とチャンバ１１の周壁１１ｃとの間に、上記実施形態の開口部１３Ａ，１３Ｂと同様の開口部が構成される。よって、これら変形例によっても、上記実施形態と同様の効果が得られる。また、本変形例によれば、コリメータ１３７，１３８をより軽量に構成することができる。なお、これら変形例でも、格子領域１３Ｌを構成する貫通孔１３ｃおよび単位フレーム１３Ｕの形状は、四角形状には限定されず、例えば、三角形状や、六角形状であってもよい。また、端部貫通孔１３ｃ１、端部フレーム１３ｄ１、格子領域１３Ｌの位置や、数、大きさ、形状、姿勢等のスペックも図８，９の例には限定されない。

以上、本発明の実施形態を例示したが、上記実施形態は一例であって、発明の範囲を限定することは意図していない。実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、組み合わせ、変更を行うことができる。実施形態は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、実施形態の構成や形状は、部分的に入れ替えて実施することも可能である。また、各構成や形状等のスペック（構造や、種類、方向、形状、大きさ、長さ、幅、厚さ、高さ、角度、数、配置、位置、材質等）は、適宜に変更して実施することができる。例えば、処理装置は、ＣＶＤ装置等のスパッタ装置以外の装置であってもよい。また、単位貫通孔および単位フレームの形状は、上記実施形態以外の形状であってもよい。

１…スパッタ装置（処理装置）、１１…チャンバ（容器）、１３ａ…上面（第一面）、１３ｂ…下面（第二面）、１３ｃ…貫通孔（単位貫通孔）、１３ｃ１…端部貫通孔、１３ｅ１，１３ｅ２…端部（第一端壁の第二方向の一端および他端）、１３ｅ３，１３ｅ４…端壁（第一端壁）、１３ｄ１…端部フレーム、１３ｆ…周壁（周縁フレーム、第三端壁、縁）、１３ｆ１，１３ｆ２…端部（コリメータの第二方向の両端）、１３ｆ３，１３ｆ４…端部（コリメータの第三方向の両端）、１３ｇ１，１３ｇ２…端部（第二端壁の第三方向の一端および他端）、１３ｇ３，１３ｇ４…端壁（第二端壁）、１３ｏ１…開口部（内側開口部）、１３ｏ２…開口部（切欠）、１３Ａ…開口部（第一周縁開口部、周縁開口部）、１３Ｂ…開口部（第二周縁開口部、周縁開口部）、１３Ｅ…端部領域、１３Ｌ…格子領域、１３Ｕ…単位フレーム、１３１〜１３８（１３０）…コリメータ、Ｈ２…方向（第二方向）、Ｈ３…方向（第三方向）、Ｖ１…方向（第一方向）。

Claims (9)

1. コリメータであって、
   第一方向と交差した第一面と、
   前記第一方向と交差し、前記第一面とは反対側の第二面と、
   周縁フレームと、
   前記第一方向に貫通した単位貫通孔を囲う単位フレームが前記第一面および前記第二面に沿い前記周縁フレームの前記第一方向と交差した第二方向の両端間に渡って配置された格子領域と、
   前記格子領域の前記第一方向および前記第二方向と交差した第三方向の両端に位置され前記第二方向の両端間を接続した第一端壁と、
   を有し、
   前記格子領域と前記周縁フレームとの間で前記単位貫通孔よりも大きく開口し、前記第一方向に貫通した周縁開口部が設けられ、
   前記周縁開口部は、前記第一端壁と前記周縁フレームとの間に位置された第一周縁開口部を含む、コリメータ。
2. 前記格子領域の前記第二方向の両端に位置され前記第三方向の両端間を接続した第二端壁を有し、
   前記周縁開口部は、前記第二端壁と前記周縁フレームとの間に位置された第二周縁開口部を含む、請求項１に記載のコリメータ。
3. 前記格子領域内に、複数の前記単位貫通孔が互いに繋がった内側開口部が設けられた、請求項１または２に記載のコリメータ。
4. 前記周縁開口部と繋がった切欠が設けられた、請求項１〜３のうちいずれか一つに記載のコリメータ。
5. 前記単位貫通孔は、前記第一方向から見た場合に多角形状である、請求項１〜４のうちいずれか一つに記載のコリメータ。
6. 容器と、
   前記容器内に設けられた請求項１〜５のうちいずれか一つに記載のコリメータと、
   を備えた、処理装置。
7. コリメータであって、
   第一方向と交差した第一面と、
   前記第一方向と交差し、前記第一面とは反対側の第二面と、
   前記第一方向と交差した方向に互いに離れて位置された複数の第三端壁と、
   前記第一方向に貫通した単位貫通孔を囲う複数の単位フレームが前記第一面および前記第二面に沿って互いに隣接して配置された格子領域と、
   前記格子領域と前記第三端壁のそれぞれとの間に位置され、前記第一方向に貫通し前記単位貫通孔とは異なる大きさの端部貫通孔を囲う一つまたは複数の端部フレームを有した複数の端部領域と、
   を備えた、コリメータ。
8. 前記端部領域は、前記第一方向からの視線で前記コリメータの縁に沿って延びた、請求項７に記載のコリメータ。
9. 前記端部領域は、前記第一方向からの視線で前記コリメータの角部に設けられた、請求項７または８に記載のコリメータ。

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