TWD218092S - 反應管 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
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Abstract
【物品用途】;本物品係在將複數個基板排列成多層來進行處理之基板處理裝置中所使用的反應管,係在本體外周的下部形成排氣口,且連接到外設的泵浦來使用。;【設計說明】;(無)
Description
本物品係在將複數個基板排列成多層來進行處理之基板處理裝置中所使用的反應管,係在本體外周的下部形成排氣口,且連接到外設的泵浦來使用。
(無)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020-005340 | 2020-03-19 | ||
| JP2020005340F JP1678277S (ja) | 2020-03-19 | 2020-03-19 | 反応管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD218092S true TWD218092S (zh) | 2022-04-11 |
Family
ID=74312778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW109305095F TWD218092S (zh) | 2020-03-19 | 2020-09-09 | 反應管 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP1678277S (zh) |
| TW (1) | TWD218092S (zh) |
-
2020
- 2020-03-19 JP JP2020005340F patent/JP1678277S/ja active Active
- 2020-09-09 TW TW109305095F patent/TWD218092S/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP1678277S (ja) | 2021-02-01 |
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