TW594230B - Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same - Google Patents
Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same Download PDFInfo
- Publication number
- TW594230B TW594230B TW091133093A TW91133093A TW594230B TW 594230 B TW594230 B TW 594230B TW 091133093 A TW091133093 A TW 091133093A TW 91133093 A TW91133093 A TW 91133093A TW 594230 B TW594230 B TW 594230B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- metal layer
- reflective
- exposure
- liquid crystal
- crystal display
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
- G02F1/133555—Transflectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Description
594230 A7 五、發明說明() 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種反射型液晶顯示器之反射板及 造方法,尤指-種可防止樹脂凸型結構製作時因曝光機平 台光反射造成異常圖案,並可縮短曝光時間提 射板製造方法。 【先前技術】 所謂的反射型顯示器是依賴外來光源以達到顯示效果 ,因此可減少消耗大量功率之背光使用時機,所以非常適 合用在可攜式產品上。 事實上,反射型|員示器尚可分為反射式與半穿透式, 反射式顯不器係搭配前光源以便在外部光源微弱時提供所 需之亮度,而半透式顯示器則可利用背光系統辅助環境光 源之不足。當裱境光源充足時,反射式或半穿透式兩者皆 不需用到内建光源(;^0111:141^抓(11^以11扯1:)而達到省 電之效果。 又,反射式顯示器之反射板係一全反射的反射板,故 如前述,該顯示器通常會搭配一前光源(fr〇ntHght)。在 光線不足的情況下利用前光源達到照明補強之效果。然而 别光源的技術除了不成熟還有先天上的缺點,故發展出半 穿透式之顯示器,其反射板特性乃是環境光源入射後會部 分穿透、部分反射,故可利用背光系統(backUght)來加 強%境光微弱時顯示器所需之亮度。而在反射板上主要係 透過製作樹脂凸型結構以達成此一目的。 本紙張尺度刺巾關規格⑽x 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------線」
594230 A7 B7 五、發明說明() 如第七圖所示,揭示有一製作半穿透式反射板的製程 步驟’首先如第七圖A所不步驟’係先於一完成薄膜電晶 體(TFT)製作的玻璃基板(7 0 )上鑛上一層透明電極 (ΙΤ0) (7 1),由於玻璃基板(70)上已完成薄膜電 晶體製作,故玻璃基板(7 0 )表面與透明電極(7 1 ) 間在圖示的晝素(PIXEL)區内依序具有閘極絕緣層 1 )、保護層(7 0 2 )。 又前述透明電極(7 1 )係於表面塗佈一層由樹脂材 料(RESIN)構成的光阻(7 2),隨後利用曝光機配合曝
光顯影,以去除圖案(PATTERN)以外的光阻(如第七圖B 所示),接著再進行金屬反射層(73)的鍍膜(如第七 圖C所示),該金屬反射層(7 3)可為單層膜或多層膜 ’如為三層膜結構時,其材質依序為M〇 Alloy、Al、Mo
Alloy。最後,經過蝕刻步驟去除非圖案的金屬與光阻而 形成透光區(7 4),隨即完成反射板及其上樹脂凸型結 構的製作。 又如第八圖A〜C所示,則為全反射式反射板的製程 ,其步驟與半穿透式反射板大致相同,不同處在於全反射 式反射板無須形成透光區。 ,以前述製程雖可供製作出反射板,並在反射板上形成 透光的樹脂凸型結構,但在製程上卻仍存在影響良率與產 能的顯著瑕庇。 前述反射板在光阻的曝光顯影步驟中,係將玻璃基板 (70)置於曝光機的平台(STAGE)上,為精確對準與固 本紙張尺度剌中關家標準(cns)A4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
A7 ----------B7 五、發明說明() 定’平台上設有真空吸嘴(Vacuum Pad)以吸附於玻璃基板 < 7 Q )底面’當玻璃基板(7 〇 )塗佈光阻並進行曝光 時’平台上的真空吸嘴及接腳(PIN)將產生光反射,因而 造成光阻表面的曝光量不均勻,以至於在光阻表面上形成 一些非預期的圖案標記(PATTERN MARK),而在隨後的反射 金屬層(7 3 )鍍膜步驟後,該圖案標記依然存在,換言 之’在反射板的反射金屬層表面將出現形狀相同於真空吸 嘴及接腳的圖案標記,此一狀況無疑將嚴重影響反射板的 製程的良率。 由上述可知,既有反射型液晶顯示器的反射板製程在 曝光過私中可能因平台表面圖案反射而影響良率,故有待 進一步檢討,並謀求可行的解決方案。 【内容】 因此’本發明主要目的在提供一種可有效防止樹脂凸 型釔構製作時因曝光機平台光反射造成異常圖案,並可縮 短曝光時間提高產能之反射板製造方法。 為達成前述目的採取的主要技術手段係令前述方法包 括下列步驟: 透明電極錢膜,係於已完成薄膜電晶體製作的玻璃基 板進行透明電極鍍膜; 隔離金屬層鑛膜,係於透明電極鍍膜表面鍍上一層金 屬層,作隔離之用; 透明電極與隔離金屬層之圖形定義,係經由光阻塗佈 本紙張又度適用中國國規格(⑽χ - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -------訂---------
594230 A7 面 五、發明說明( 曝光、顯影及蝕刻等,以定義出畫素圖形; 塗佈光阻,利用樹脂材料構成的光阻塗佈於金屬層表 曝光顯影,去除非圖案部分之樹脂; 反射金屬層鍍膜; 在前述製程中,因在樹脂凸型結構製作前即先鍍上一 金屬層,其可有效隔絕曝光過程中曝光機平台不平表面的 光反射,藉以避免曝光量不均及其衍生的異常圖案標記問 題;除此以外,該隔離用的金屬層在曝光過程中因均勻反 光,而可縮短樹脂材料的感光時間,從而可縮短曝光時間 ,進而提高產能。 月1J述反射板係為全反射式。 前述反射板為半穿透式時,其於反射金屬層鍍膜完成 後’進一步經由一钱刻步驟去除非圖案部分的隔離金屬層 、反射金屬層而形成透光區。 本發明又一目的在提供一種在玻璃基板上製作薄膜電 曰曰體的同時,在晝素區内同時形成金屬隔離層,以隔絕曝 光過私中曝光機平台不平表面的光反射之反射板製造方法 【實施方式】 本發明主要係於製作樹脂凸型結構前先在玻璃基板上 鑛上一層金屬層,再依序進行光阻塗佈、曝光顯影及多層 金屬層、#刻等步驟,利用該預鍍的金屬層隔絕曝光過程 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公t ) -------------------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -
594230 A7 B7 五、發明說明( 中曝光機平台不平表面的光反射,以避免曝光量不均及產 生異常圖案標記等問題。首先,其用於製作全反射式反射 板的一較佳實施例製程,係如第一圖所示,至少包括下列 步驟: 透明電極鍍膜:如第一圖A所示,其係於已完成薄膜 電晶體製作的玻璃基板(1 0 )進行透明電極鍍膜,令透 明電極(1覆設於玻璃基板(1〇)表面,該玻璃基 板(1 〇)與透明電極(11)間係薄膜電晶體之閘極絕 緣層(1 0 1 )及保護層(i 0 2 )等; 隔離金屬層鍍膜:如第一圖B所示,係於透明電極( 11)表面鍍上一層金屬層(12),以隔離曝光過程來 自平台的反射光,於本實施例中,其採用的金屬為M〇Cr ; 透明電極與隔離金屬層之圖形定義:係經由光阻塗佈 、曝光、顯影及蝕刻等,以定義出畫素圖形; 一塗佈光阻:如第一圖C所示,係利用樹脂材料構成的 光阻(1 3)塗佈於前述經過圖形定義的金屬層(1 2) 表面; 曝光顯影:係利用曝光機配合光罩進行曝光,再利用 顯影方式去除非圖案部分之樹脂; 反射金屬層鍍膜:如第一圖D所示,係於剩餘光阻( 1 3 )所構成圖案上依序進行反射金屬層(i 4)的鍍膜 步驟,於本實施例中,該反射金屬層為三層膜結構,其材 質得依序為 Mo Alloy、Μ、Mo A11〇y。 又如第二圖所示,係本發明用於製作半穿透式反射板 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --線·
五 發明說明() :!二較佳實施例,其製程步驟與第-實施例大致相同, 雷;「透明電極鍍膜」、「隔離金屬層鍍膜」「透明 旦電極與隔離金屬層圖形定義」、「塗佈光阻」、「曝光顯 :」_及「反射金屬層錢膜」等步驟(依序如第二圖A〜c :4達成局部透光的效果,故於「反射金屬層鑛膜 二V驟之後進-步進行―_步驟,其如第二圖D所示, =用以去除非圖案部分的隔離金屬層(i 2)及反射金屬 層(14)而形成透光區(15)。 由上述說明可看出本發明用於製作全反射式及半穿透 =反射板之較佳實施例製程,以該等設計至少具備 性與優點: •避免在金屬反射層上產生異冑的圖案標記 由於本發明係在反射板上製作樹脂凸型結構以前即先 鑛上-金屬層(12),該金制(12)在後續的曝光 過程中,可有效隔離來自於曝光機平台的光反射,因而平 台上的真空吸嘴、針腳等形狀’均不致對於光阻的曝光量 造成影響,進而不虞在反射板上出現異常的圖案標記,而 可有效提升反射板之製程良率。 二·縮短曝光時間,提高產能 反射板的樹脂凸型結構製作係採用高感光時間的樹脂 材料(RESIN)及南膜厚樹脂塗佈製程。前者影響曝光時間 的長短,並呈相對反比的反應在產能上(曝光時間愈長, 產能愈低);而後者的高膜厚樹脂塗佈製程在曝光過程中 容易出現如前揭所述的曝光量不均勻及衍生的異常圖案俨 8 594230 A7 ------— B7__ 五、發明說明() 記問題。在利用本發明的改善方案後,除高膜厚樹脂塗佈 製程的問題獲得解決以外,對於樹脂材料的感光時間更具 ^縮短的效果,主要原因在於該隔離用的金屬層在曝光過 程中會直生均勻的光反射,因而縮短樹脂材料的感光時間 ,如未鍍上隔離用金屬層的樹脂凸型結構進行曝光時,所 須能量約為120mJ,鍍上隔離用金屬層後,因金屬層的反 射作用,故其曝光能量僅須6〇mJ,故足足縮短了 5〇%的曝 光時間,從而得以有效提高產能。 又,本發明除前述兩實施例外,亦可由其他製程步驟 達成之: 請參閱第三圖所示,係本發明用於製作全反射式反射 板的第三較佳實施例,其依舊係在完成樹脂凸型結構前先 行在玻璃基板鍍上一反射金屬層,與第一較佳實施例不同 處在於:該反射金屬層係與薄膜電晶體同時完成。 该玻璃基板(1 0 )因製作薄膜電晶體,故將於表面 依序形成閘極電極、閘極絕緣層、保護層等,本實施例中 ,即利用製作閘極電極的金屬層,同時經由圖形定義,除 形成閘極電極外’亦同時在晝素區内形成隔離金屬層,藉 由此種方法,亦可達到與前述實施例相同的優點與特性。 故由第三圖A可以看出,玻璃基板(10)完成薄膜電晶 體製作後,其表面在畫素區内閘極絕緣層(丄0丄)間即 存在一隨閘極電極同時完成的隔離金屬層(12 ),隨後 利用忒玻璃基板(1Q)再依序進行「透明電極鐘膜」、 「透明電極圖形定義」、「塗佈光阻」、「曝光顯影」及 本紙張尺度家標準(CNS)A4規格G10 x 2979}t)-—~-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -------訂---------線
594230 A7 五、發明說明( 反射金屬層鍍膜」等步驟(請參閱第三圖A〜C所示) ,隨即完成一全反射式反射板之製作。 又如第四圖所示,係本發明用於製作半穿透式反射板 之第四實施例製程,其與第三實施例之實施内容大致相同 不同處在於增加一蝕刻步驟,以形成透光區(1 5 )。 再如第五圖所示,係本發明用於製作全反射式反射板 之第五實施例製程,與第三、四實施例相同的是本實施例 亦係在製作薄膜電晶體的同時完成該隔離金屬層,不同處 於本貫轭例係利用製作源/汲極電極的金屬層經由圖形定 義,以同時形成源/汲極電極及隔離金屬層。故由第五圖 A可以看出,玻璃基板(i 〇 )完成薄膜電晶體製作後, 晝素區内在閘極絕緣層(丄〇丄)與保護層(i 〇 2 )間 即存在一隨閘極電極同時完成的隔離金屬層(12),隨 後利用該玻璃基板(1 〇 )再依序進行「透明電極鍍膜」 、「透明電極圖形定義」、「塗佈光阻」、「曝光顯影」 及反射金屬層鍍膜」等步驟(請參閱第五圖a〜C所示 )’隨即完成一全反射式反射板之製作。 另如第六圖所示’係本發明用於製作半穿透式反射板 之第六實施例製程,其與前述第五實施例之實施内容大致 相同,不同處在於增加一蝕刻步驟,以形成透光區( 由上述可看出本發明各種實施態樣與達成功效,而利 用該等設計可有效隔絕曝光過程中曝光機平台不平表面的 光反射,避免曝光量不均及其衍生的異常圖案標記問題, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I — — II--訂----I I I I «
594230
五、發明說明() 並具備縮短曝光時間、提高產能等優點,其相較於習用的 反射板製作方法確已具備顯著功效增進,並符合發明專利 要件,爰依法提起申請。 ^ 【圖式簡單說明】 (一)圖式部分: 第圖A〜D ·係本發明第一較佳實施例之製程步 圖。 弟二圖A〜D ··係本發明第二較佳實 圖。 第三圖A〜C:係本發明第三較佳實施例之製程步 圖。 第四圖A〜C ·係本發明第四較佳實施例之製程步 圖。 第五圖A〜C ··係本發明第五較佳實施例之製程步 圖。 第六圖A〜C ··係本發明第六較佳實施例之製程步 圖。 驟示意 施例之製程步騍示意 驟示意 驟示意 驟示意 驟示意 Γ4先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} - — — — — — — — « — — — — — — I —
第七圖A〜C:係習用半穿透式反射板之製程步 〇 第八圖A〜C:係習用全反射式反射板之製程步 驟示意圖 驟示意圖 (二)圖號部分: (1 0)玻璃基板 (1 0 1 )閘極絕緣層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ^97公爱 594230 A7 B7 五、發明說明( (1 0 2 )保護層 (12)金屬層 (14)反射金屬層 (7 0 )玻璃基板 (7 0 1 )閘極絕緣層 (7 2 )光阻 (7 4 )透光區 (1 1 )透明電極 (1 3 )光阻 (1 5 )透光區 (7 1 )透明電極 (7 0 2 )保護層 (7 3 )反射金屬層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) f· 訂· -線
12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐〉
Claims (1)
- 七、申請專利範圍 1 · 一種反射型液晶顯示器之反射板製造方法,係於 一玻璃基板表面完成薄膜電晶體後,製作樹脂凸型結構前 先形成一層金屬層,以隔離曝光過程中來自曝光 光反射,並利用金屬層的均句反射作用,縮短曝光時間口。 2.如申請專利範圍第i項所述反射型液晶顯示器之 反射板製造方法,係用以製作全反射式的反射板,其包括 有·· 透明電極鍍膜步驟,係於已完成薄膜電晶體製作的 玻璃基板進行透明電極鍍膜; 一隔離金屬層鍍膜步驟,係於透明電極鑛膜表面錢上 一層隔離用金屬層; 一透明電極與隔離金屬層之圖形定義㈣,係經 阻塗佈、、曝光、顯影及關等,以定義出畫素圖形; 塗佈光阻步驟’利用樹脂材料構成的光阻塗佈於金 屬層表面; ' 一曝光顯影步驟,去除非圖案部分之樹脂; 一反射金屬層鍍臈步驟。 …制 圍第1項所述反射型液晶顯示器 「:=造方法’係用以製作半穿透式的反射板,除包 電極鑛膜」、「隔離金屬層鍍膜」、「透明電極 隔=圖形定義」、「塗佈光阻」、「曝光顯影」 屬層鑛膜」等步驟外,進—步進行一姓刻步驟 去除非圖案部分的隔離金屬層與反射金屬層而形成透光本紙張尺度適用中涵 X 297公釐) 594230 C8 ------- D8___ 六、申請專利範圍 4 種反射型液晶顯示器之反射板,係於一玻璃基 板上分没有薄膜電晶體、透明電極及一樹脂凸型結構,其 中透明電極與樹脂凸型結構間於畫素區内分別具有一隔離 金屬層。 5 ·如申請專利範圍第4項所述反射型液晶顯示器之 反射板,该玻璃基板上於各隔離金屬層與樹脂凸型結構間 分別形成有透光區。 6 · —種反射型液晶顯示器之反射板製造方法,係於 一玻璃基板製作薄膜電晶體時同時在晝素區内形成一隔離 金屬層’以便玻璃基板在隨後的樹脂凸型結構製程中,以 隔離曝光過程中來自曝光機平台的光反射。 7 ·如申請專利範圍第6項所述反射型液晶顯示器之 反射板裝造方法’该玻璃基板係於薄膜電晶體製程中利用 製作閘極電極的金屬層經由圖形定義,以同時完成閘極電 極與隔離金屬層。 8 ·如申請專利範圍第6項所述反射型液晶顯示器之 反射板製造方法,該玻璃基板係於薄膜電晶體製程中利用 製作源/汲極電極的金屬層經由圖形定義,以同時完成閘 極電極與隔離金屬層。 9 ·如申請專利範圍第7或8項所述反射型液晶顯示 器之反射板製造方法,該玻璃基板係用以製作全反射式的 反射板,並進行「透明電極鍍膜」、「透明電極圖形定義 」、「塗佈光阻」、「曝光顯影」及「反射金屬層鍍膜」 等步驟。 14 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再塡寫本頁) -一口 594230 、申請專利範圍 「透明電極圖形定 「反射金屬層鍍膜 一。。1 0 .如申請專利範圍第7或8項所述反射型液晶顯 不β之反射板製造方法,該玻璃基板係用以製作半穿透式 的反射板,並進行「透明電極鍍膜」 義」、「塗佈光阻」、「曝光顯影」 」、「蝕刻形成透光區」等步驟。 1 1 · 一種反射型液晶顯示器之反射板,係於一玻璃 基板上分設有薄膜電晶體、透明電極及樹脂凸型結構,其 中薄膜電晶體各層薄膜中同時具備一位於晝素區内的隔離 金屬層。 1 2 ·如申請專利範圍第丄i項所述反射型液晶顯示 訂 之反射板,該隔離金屬層係與薄膜電晶體中的閘極電極 位於同·一層。 。1 3 .如申請專利範圍第丄丄項所述反射型液晶顯示 益之反射板,該隔離金屬層係與薄膜電晶體中的源/汲電 極位於同一層。 線 14 ·如申請專利範圍第、12或13項所述反 射型液晶顯示器之反射板,該玻璃基板上的各樹脂凸型結 構間形成有透光區,而構成一半穿透式反射板。 15 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公|)
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW091133093A TW594230B (en) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same |
US10/698,143 US6999141B2 (en) | 2002-11-12 | 2003-10-31 | Method for fabricating a reflective type reflector plate of a reflective liquid crystal display |
JP2003378725A JP2004163938A (ja) | 2002-11-12 | 2003-11-07 | 反射型液晶ディスプレイの反射板及びその製造方法 |
KR1020030079158A KR100666581B1 (ko) | 2002-11-12 | 2003-11-10 | 반사 액정 디스플레이용 반사판 및 그 제조 방법 |
US11/296,949 US7092054B2 (en) | 2002-11-12 | 2005-12-07 | Method for fabricating a semi-transmissive reflector plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW091133093A TW594230B (en) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200407617A TW200407617A (en) | 2004-05-16 |
TW594230B true TW594230B (en) | 2004-06-21 |
Family
ID=32228186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW091133093A TW594230B (en) | 2002-11-12 | 2002-11-12 | Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6999141B2 (zh) |
JP (1) | JP2004163938A (zh) |
KR (1) | KR100666581B1 (zh) |
TW (1) | TW594230B (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101311874B1 (ko) * | 2009-12-14 | 2013-09-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판의 제조 방법 |
TWI673552B (zh) * | 2018-11-21 | 2019-10-01 | 友達光電股份有限公司 | 顯示面板及其製作方法 |
CN113741089B (zh) * | 2021-08-31 | 2022-08-23 | 惠科股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3377447B2 (ja) * | 1998-03-05 | 2003-02-17 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル及びその製造方法 |
JP2000122093A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-28 | Sharp Corp | 反射型液晶表示装置 |
JP4034470B2 (ja) * | 1999-05-31 | 2008-01-16 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 液晶表示装置およびその製造方法 |
JP4781518B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2011-09-28 | 三星電子株式会社 | 反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置 |
JP4560924B2 (ja) * | 2000-09-19 | 2010-10-13 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置 |
JP4993830B2 (ja) * | 2000-11-11 | 2012-08-08 | 三星電子株式会社 | 反射型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2002156651A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-31 | Nec Corp | パターン形成方法及びそれを用いた反射型液晶表示装置の製造方法 |
JP4651826B2 (ja) * | 2001-01-31 | 2011-03-16 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 反射型表示装置及びその製造方法 |
JP4398602B2 (ja) * | 2001-05-18 | 2010-01-13 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
US6859246B2 (en) * | 2001-06-20 | 2005-02-22 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | OCB type liquid crystal display having transition nucleus area from splay alignment to bend alignment |
KR100483979B1 (ko) * | 2001-06-22 | 2005-04-18 | 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. | 반사판, 그 제조방법, 액정표시장치 및 그 제조방법 |
KR100408346B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2003-12-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
JP3842604B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2006-11-08 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
US7064799B2 (en) * | 2002-07-10 | 2006-06-20 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Semi-transmissive-type liquid crystal display device and method for manufacturing same |
KR100770472B1 (ko) * | 2003-03-27 | 2007-10-26 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정표시소자용 어레이기판의 제조방법 |
-
2002
- 2002-11-12 TW TW091133093A patent/TW594230B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-10-31 US US10/698,143 patent/US6999141B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-11-07 JP JP2003378725A patent/JP2004163938A/ja active Pending
- 2003-11-10 KR KR1020030079158A patent/KR100666581B1/ko active IP Right Grant
-
2005
- 2005-12-07 US US11/296,949 patent/US7092054B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200407617A (en) | 2004-05-16 |
US7092054B2 (en) | 2006-08-15 |
KR100666581B1 (ko) | 2007-01-09 |
US20060082707A1 (en) | 2006-04-20 |
US20040090575A1 (en) | 2004-05-13 |
KR20040044109A (ko) | 2004-05-27 |
JP2004163938A (ja) | 2004-06-10 |
US6999141B2 (en) | 2006-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104749816B (zh) | 一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置 | |
JP5254458B2 (ja) | 液晶表示パネルおよびその製造方法、液晶表示装置 | |
CN105514033B (zh) | 阵列基板的制作方法 | |
WO2013159537A1 (zh) | 半透射半反射彩膜基板及其制造方法和液晶显示装置 | |
JP4117169B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
CN101807550A (zh) | 阵列基板及其制造方法和液晶显示器 | |
KR101880875B1 (ko) | Tft-lcd 디스플레이 기판의 제조방법, 액정 패널 및 액정 디스플레이 장치 | |
TWI744549B (zh) | 電極膜及其製造方法 | |
TW200408878A (en) | A method of utilizing dual-layer photoresist to form black matrix and spacers on a control circuit substrate | |
TWI326491B (en) | Trans-reflective liquid crystal display and manufacturing method thereof | |
TW586045B (en) | Fabrication method of liquid crystal display device | |
CN105097837B (zh) | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | |
CN101661908B (zh) | 水平电场型半透过式液晶显示装置的阵列基板制造方法 | |
TWI274909B (en) | Transflective liquid crystal display panel, color filter and fabricating method thereof | |
TW594230B (en) | Reflective plate of reflective-type liquid crystal display and method for producing the same | |
TWI226965B (en) | Semi-transmission type liquid crystal display and fabrication method thereof | |
JP2000284272A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
TWI375839B (en) | Liquid crystal panel and method of making the same | |
TW200302939A (en) | Reflection type electro-optic device and electronic machine | |
TWI224701B (en) | Liquid crystal display device and its manufacturing method | |
WO2018205700A1 (zh) | 触摸基板及其制作方法、显示面板及显示装置 | |
US20080024702A1 (en) | Pixel structure and fabrication method thereof | |
WO2013131282A1 (zh) | 半穿半反液晶显示器的阵列基板制造方法 | |
JP3566874B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP4067097B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |