TW591337B - Positive photoresist composition - Google Patents
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Description
/ A7 B7 五 、發明說明( 發明範轉 體於正型綠組合物,合物用於製造半導 板.、曰书 置、製造積體電路所用之掩模、印刷電路 板、敗晶平板及類似裝置。 發明背景 之2造:導體裝置、磁泡記憶器、積體電路和類似裝置 光二广Γ實務上廣泛使用對紫外線或可見光敏感之 :二,阻劑包括負型光阻劑(光照射區域不溶於顯影 I:年二劑(光照射區域溶解)。負型光阻劑在最 配:也位’因爲其敏感性比正型高,濕法 “極佳’即對基板之接著性和對化^之耐性。 步致密和高整合半導體裝置及類似物的 :刻二度減小。另外,基板利用“ 抗乾蚀性^要光阻劑具有高析像度和高度 乾幻由於此等原因’目前正型光阻佔主要地位。 另外,最近幾年來,隨著多力;上 展,非常需要更精細圖;電子設備的 合度。 闺果乂違到更间致密作用和更高 m’與橫向減小相比,積體電路垂直 不疋太夕’因此’光阻圖案之高度對 因此’當圖案變得更加精細時,晶圓上大。 構之阻抗圖案在抑制大小變化方面㈣更^^度複雜結 此外,在各種暴露系統中,問題伴隨】曰現。例如,在由光線曝光時,由於基’二门尺寸* 工阿度不同,反射 近 而 進 法 訂 發 積 -4 本紙張尺度顧 t _ χ 297 ) 591337 A7 五、發明說明(2 ) 光之干擾作用極大影響尺寸精度,而在電子束曝光時,由 於電子反散射產生近貼效應,不能增加精細光阻圖案之高 寬比。 回 頃發現,可用多層光阻系統解決大量此類問題。多層光 阻系統普遍描述於且state 丁 (1981)],此外,有很多出版物報告關於此系統方面之研究。 通常,多層光阻系統包括三層光阻系統和雙層光阻系 統。三層光阻系統之形成方法爲,將有機平化薄膜塗覆於 具不同咼度之基板上,其上疊加無機中間層和光阻層,使 光阻層圖案化,用光阻層作掩蔽乾法蝕刻無機中間^,用 無機中間層作掩蔽由〇2RIE (反應離子蝕刻)使有機平化薄 膜圖案化。該系統基本使用習用技術,因此,對此系統研 %從早期即已開始。然而,I系統問題爲,製程很複雜, 或者説,由於所疊加三層(即,有機薄膜,無機薄膜和有 =薄膜)物理性能不同,所以中間層中易產生裂痕或針 線 與該三層光阻系統相比,雙層光阻系統使用一種光阻 曰該光阻層具有二層光阻系統之光阻層和無機中間芦之 兩種性能(即阻抗氧U之光阻層),因此防止裂痕或二孔 出現另外,從二層減至兩層使製程簡化。但與用習知 光阻層之三層光阻系統不同,雙層光阻系統必 疋不利導出一種具抗氧電漿之新型光阻層。 在此等形勢下,需要開發一種高敏感和高析像之正 阻劑,該光阻劑具有極佳抗氧電浆性,且能夠在雙層光阻 5-— 297ΤΜΎ 本紙張尺度義巾_規格⑵0; 591337 A7 B7 五、發明說明(3 系統或類似系統中用作上層光阻層,特別在無任何變化利 用該製程之驗顯影系統光阻層。 在製造包含具有半微米或更小寬度線路之㈣時,光刻 曝先裝置所用波長變得越來越短,目前正對使用κπ激元 雷射或AfF激元雷射進行研究。在使用料短波長之微影 (光刻)技術中,一般使用稱爲"化學放大型光阻劑"之光阻 劑。 訂 ,在使用ArF激元雷射時’以薄膜透光性視點看,特別不 適合將酚結構作爲光阻劑主要组分引入黏著樹脂。所普遍 使用《黏著劑爲樹脂聚合物,其包含能夠由酸分解且產生 羧酸作爲成像部位之結構,如羧酸之三級酯(如第三丁 酯)、1 -烷基金剛烷酯和經T H P保護之本體。 線 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 ίν 作爲對ArF激το雷射透明之具成像部位之含矽光阻劑實 例,JP-A第1 1-23 1542號(此處,” JP_A ”指"未經審查公開 曰本專利申請案”)揭示一種聚合物,其包括馬來酸酐-羧 酸不飽和第二丁酯·烯丙基三甲基矽烷-甲基丙烯酸乙氧基 乙酉曰。該光阻劑有一個問題,處理超細圖案之析像度和線 圖案之邊緣粗糙度差。在本文中,”邊緣粗糙度”指由於光 阻劑性能,光阻線路圖案之上部和底部邊緣在與線路方向 垂直之方向不規則波動,且自上方正視觀察到邊緣不規則 之現象。另外,所塗佈薄膜具有高疏水性,因此,曝光面 對鹼顯影劑顯示不良滲透性,不利產生大量顯影缺陷。 發明概要 本發明之目的爲提供一種用於製造半導體裝置之正型光 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 591337 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (I) A7 五、發明說明(4 阻組合物,該組合物保證高析像度、極隹線路圖案邊緣粗 键度及減少顯影缺陷。 經對正型化學放大系統中光阻組合物進行廣泛調查,本 發明發現’藉使用由共聚特定重複單元獲得之可酸解樹 月旨’可達到本發明之目的。更明確而言,本發明提供以下 正型光阻組合物。 (1) 一種包含(A)樹脂之正型光阻組合物,該樹脂包括(a) 一種由以下式(I)代表之重複單元,(b)至少一種由以下式 (Ila)或(lib)代表之重複單元,(c) 一種由以下式(111)代表之 重複單元及(d) —種滿足以下條件之重複單元(〗v): 可以與由式(I)至(III)代表重複單元對應之單體共聚, 包含至少一種選自由含内酯結構之基團,含内醯胺結構 之基團、-OH、_OCH3、-OCORa、-NHCORa、_NHS02Ra、 -N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、_COORa、_CONHRa、 -C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN所組成 之群之官能團,且可經過取代,其中r、r a和R b分別獨 立代表具1至1 0個碳原子之烷基或芳基,及 大體不能由酸分解, 且在酸作用下於驗顯影劑中溶解度增加: ~f-CH2—CH夺 R, I I1 (CH2)TS 丨1 —只2 R3 其中R1至R3分別獨立代表烷基、鹵烷基、鹵原子、烷氧 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I I I I -ϋ ϋ n ϋ H ϋ ϋ 1· I · ϋ ϋ ϋ ϋ I 一-口V I ϋ ϋ ϋ ϋ I ^1 ϋ I I ϋ ϋ ϋ V. ϋ ϋ ^ I ϋ ϋ ϋ I ^ ϋ I I ϋ ·1 ϋ ϋ ϋ I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591337 A7 B7 五、發明說明(5 ) 基、三烷基矽基或三烷基矽氧基,且n代表 γ -4-CH2—C-4- (Ha) L——C02 — Q 其:γ代表選自由氫原子、甲基、氰基和氣原子組成之群 (基團’ L代表單鍵或二價連接基團,Q代表氯原子 夠由酸分解產生羧酸之基團; 或能 CH~f- 〇=~i j=:〇 (lib) ___>·11 Jr— . I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A1 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 其中X1和X2分別獨立代表選自氧原子、硫原子、_NH_ -nhso2·之基團;L>L2分別獨立代表單鍵或二價連接; 團;A1代表-Q,或-COOQ,,但其限制條件爲,當χΐ代表』 原子且L1代表單鍵時,Al代表-Q,; Α2代表氫原子、4 基、羥基、-COOH、-C00R,、<〇_ΝΗ1”、可經取代之丈 基、可經取代之環烴基、烷氧基或-C〇〇Q,,其中r,*r 分別獨立代表可具有取代基之烷基;且…代表能夠由酸3 解產生羧酸之基團:
-CH-CH
0==S 广0 (XXX) 其中Z代表氧原子或Z-R4,R4代表氫原子、羥基、具線性
in I i^i ϋ I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ I -8 - 591337 A7 B7 五、發明説明(6 ) 或分支鏈之烷基或-〇-S02-R5,且R5代表烷基或三鹵甲基。 (2)根據以上(1)中描述之正型光阻組合物,其中重複單 元(IV)爲一種滿足重複單元(IV)所需條件之單元,且由下 式(IV)代表: (IV) -l3-a3 其中Y表選自由氫原子、甲基、氰基和氣原子組成之群之 基團,X3代表選自由-C02-、-0-及-CON(R)-組成之群之基 團,其中r具有如上之相同含義,L3代表單鍵或二價連接 基團,A2代表由下式(V)或(VI)代表之基團: —X4 -(-ilc)ml (V) 其中X4代表可在環内包含一個羰鍵或酯键之脂環系烴基, 各R c獨立代表氫原子、院基、含有作爲取代基的至少一個 官能團之烷基(該官能團選自由-OH、-0CH3、-OCORa、 -NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)C0Ra、-N(R)S02Ra、-C00H、 -COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、 -C0N(Ra)(Rb)和-CN組成之群)或選自由 _0H、-0CH3、-OCORa、 -NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)C0Ra、-N(R)S02Ra、-C00H、 -COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-C0N(Ra)(Rb) 和-CN組成之群之基團,其中R、Ra和Rb分別具有與上相 同含義,ml代表〇至5之整數; —CH2—C—RC2 (VI) Rc3 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 591337 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(7 ) 其中Rcl和Rc3各自獨立代表氫原子、具1至10個碳原子 可經取代之烷基、含作爲取代基之至少一個官能團之烷基 (該官能團選自由-OH、-OCH3、-OCORa、-NHCORa、 -NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra-、-COOH、-COORa、 -CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和 -CN 組成之群)或選自由-COOH、-COORa、-CONHRa、 -C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之 群之基團,但其限制條件爲Rcl和Rc3不同時爲氫;且Rc2 代表選自由-OH、-OCH3、-OCORa、-NHCORa、-NHS02Ra、 -N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、 -C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之 群之基團,其中R、Ra和Rb各自具有與上相同之含義。 (3) 根據以上(2)中所述之正型光阻組合物,其中式(IV) 中A3爲由以下式(VII)代表之基團: (VI 工〉 ρ).Τ1: 其中X 5代表選自-C0-0·和- C(=0)-之基團,Rc和ml各自具 有與上相同含義·,m5代表〇至2之整數。 (4) 根據以上(3 )中所述之正型光阻組合物,其中由式 (VII)代表之基團爲由以下式(VIII)4(IX)代表之基團: CJhU ο ___ __-10-___ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ———------·_____ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
一口、I .1 I I I I I I ϋ I Lr ϋ I Γ· ϋ ϋ I I I I ϋ ϋ n I ϋ I 591337
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(8 ) CH3 (5) 根據以上(2 )中所述之正型光阻組合物,其中式(V) 中X 4爲金剛烷殘基。 (6) 根據以上(1)至(5 )任一項中所述之正型光阻組合 物,其除包括樹脂(A )外,尚包括: (B) —種能夠以光化射線或輻射線照射產生酸之化合 物, (C) 一種能夠溶解(a )和(B )之有機溶劑,和 (D) —種有機驗性化合物。 (7) 根據以上(6 )中所述之正型光阻組合物,其中該組分 (B )爲肖b夠以光化射線或輻射線照射產生有機續酸之化合 物0 (8) 根據以上(1)至(7)任一項中所述之正型光阻組合 物,其進一步包括(F)含氟界面活性劑、含矽界面活性劑 和非離子界面活性劑之至少一種界面活性劑。 本發明藉由使用具有上述明確結構重複單元之含矽可酸 解樹脂,&良析像度和顯影缺陷,且進—步藉加入有機驗 性化合物改良®案之線邊緣粗糙度。改良線邊緣粗链度之 機理尚不m楚’但據推測,樹脂中高親水性組分⑻和有 機驗性化合物協同作用,由之在對應線路側壁和邊緣部分 心區域控脂中可酸解基團之分解比例。 本紙張尺度翻
591337 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -12- 五、發明說明(9 發明詳細説明 以下描述本發明所用樹脂(A )。 在重複結構單元中,…至R3各自獨立代表選自烷 基、i 基、自原子、烷氧基、三烷基矽基和三烷基矽氧 基之基團。 該坑基較佳爲具1至i 〇個碳原子之線性或分支烷基,更 佳爲具1至6個碳原子之線性或分支烷基,更佳爲甲基、乙 基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基或第三 丁基。 画淀基之實例包括氣甲基、溴甲基和碘甲基。 少充氧基較佳爲具1至6個碳原子之線性或分支烷氧基,更 佳爲甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、 異丁氧基、第二丁氧基或第三氧基,更佳爲甲氧基或乙氧 基。 三垸基秒基之烷基較佳爲具1至6個碳原子之線性或分支 燒基,更佳爲甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異 丁基、第二丁基或第三丁基,最佳爲甲基。 三燒基碎氧基之烷基較佳爲具1至6個碳原子之線性或分 支烷基,更佳爲甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、 異丁基、第二丁基或第三丁基,最佳爲甲基。 η代表0或1,較佳爲丨,邊緣粗糙度在此範圍得到更大改 良。 由式(I)代表重複單元之具體實例包括以下化合物,但本 發明不限於此等明確實例。 表紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 訂-----------------1--------------- 591337 A7 B7 五、發明說明(1〇 )
Si(CH3}3 a-i) ;ch2— fHr (1-7)
Si{CHJ3 :CH,
Sl{C^ (KZ) •ff
Sl{C^s}2 ch2—ch) CH2 Si(Si(CH5)3)3 (1-3) ;CH2~^jr (Ϊ-9)si(si(cfy3)3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -CH—CHj-夺 h2 (^) SiO(Si(CH3)a}3 [cht (1-10)
SiO(Si(CH3)3)3 -CH2—Ct (1-5). -4ch^- sia3 <ch广 (1-6) ch2 Si(OCH3)0 •ff Sid3_fh. SipCH3)3 (Ml) (M2) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 · ^1 ϋ ϋ ij -^1 «^1 —ϋ 一-ΰ,I ·ϋ ϋ I ·.1 I ^1 ϋ ϋ ϋ ^1 I ϋ ϋ ϋ i^i ϋ ϋ ^1 ϋ ϋ ϋ —^1 ϋ ϋ ϋ ^1 , 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 _____B7__ 五、發明説明(H ) — 在重複單元(Ila)中,γ代表選自氫原子、甲基、氰基和 氯原子之基團。L代表單鍵或二價連接基團。Q代表氫原 子或能夠由酸分解產生羧酸之基團。 能夠由酸分解產生羧酸之基團爲在曝光時由組分(B )產 生之酸作用下分解和自樹脂解吸且產生_CO〇H之基團。該 基團之明確實例包括三級烷基(如第三丁基和第三戊基)、 卜烷氧乙基(如異冰片基、1 -乙氧乙基、丨-丁氧乙基、i _ 異丁氧乙基和1-環己基氧乙基)、烷氧甲基(如丨_甲氧甲基 和1-乙氧甲基)、四氫吡喃基、四氫糠基、三烷基矽基、 3 -氧代環己基、2 -甲基金剛烷基、甲瓦龍酸(mevai〇nic)内 酯殘基以及2_(r-丁内酯基氧羰基)-2·丙基。 在重複單元(lib)中,X1和X2分別獨立代表選自由氧原 子、硫原子、-NH-和-NHS02-組成之群之基團。l1和L2分 別獨立代表單鍵或二價連接基團。 由L 1和L 2代表之二價連接基團明確爲選自由亞烷基、經 取代亞烷基、醚基、硫醚基、羰基、酯基、醯胺基、磺醯 胺基、胺基甲酸酯基和脲基或兩種或多種其組合基團所組 成之群之基團。 L 1和L2之亞烷基和經取代亞烷基包括由下式代表之基團: -[C(Rd)(Re)]r. 其中Rd和Re可相同或不同,分別代表氫原子、烷基、經取 代烷基、_原子、羥基或烷氧基。該烷基較佳爲低碳烷 基’如甲基、乙基、丙基、異丙基和丁基,更佳爲甲基、 乙基、丙基或異丙基。經取代烷基之取代基實例包括羥
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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(η ) Γ仗自原子和%氧基。該貌氧基包括具1至4個碳原子之燒 氧基,如曱0其 土 乙氧基、丙氧基和丁氧基。_原子之實 例包括氯原子、溴馬 ^ ^ 昊原子、鼠原子和破原子。r代表1至1 〇之 整數。 A1和A 2分別獨立代表氫原子、氰基、羥基、-c〇〇h、 •^OOR、-CCKNH-R”、可經取代之烷基、烷氧基、環烴基 或-COOQ,其中R,和Rn分別獨立代表可具有取代基之燒 基。 A A R和R"之烷基較佳爲具1至1 0個碳原子之線性 或刀支k基’更佳爲具1至6個碳原子之線性或分支烷基, 更佳爲甲I、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、 第一丁基或第三丁基。其烷氧基亦較佳爲具丨至6個碳原子 之線性或分支烷氧基,更佳爲甲氧基、乙氧基、正丙氧 基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、第二丁氧基或第三 丁氧基,更佳爲甲氧基或乙氧基。Q ’之實例包括對重複單 元(Ila)中Q描述之相同基團。 上述燒基或烷氧基之額外取代基實例包括_原子(如 氟、氣、溴和碘)和烷氧基(如甲氧基、乙氧基、丙氧基和 丁氧基)。 Α1和A 2之環烴基實例包括環丙基、環戊基、環己基、金 剛烷基、2 -甲基-2-金剛烷基、降冰片基、冰片基、異冰片 基、三環癸基、二環戊晞基、降莰烷橋氧基、蓋基、異蓋 基、新菫基及四環十二烷基。組成此等環烴基環之鍵可包 含酯鍵或羰鍵。 -15 - ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱7 ---.-------------------t---------^ — ----------^---.------------ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591337 A7 __________B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(13) 環烴基之額外取代基實例包括羥基、卣原子,羧基、燒 氧基、醯基、氰基和醯氧基。卣原子之實例包括氯原子、 溴原子、氟原子和碘原子;烷氧基之實例包括丨至4個碳原 子之烷氧基,如甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基;醯基 之實例包括甲醯基和乙醯基;醯氧基之實例包括乙醯氧 基。 由式(Ila)代表重複單元之具體實例包括以下化合物,但 本發明不限於此等具體實例。 CH| •CH3
HaD (Ha-1) (^-5) rCH, 令〇2 C(CH3)2(C2H3) -CH2—Of CHa (Ua-2) 计 严 2 (Da-6) CHsOC^ -pf (H^8) · ---------:---t---------^ I --------- (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) -16 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(14 )由式(lib)代表重複單元之具體實例包括以下化合物,但 本發明不限於此等具體實例。 f〇2 C(CH3)3 (Ha-9)卞Hr (Ua-10) f〇2 C(CHab(p2Hs> CH, (Ua-13)
CH CH.¢5 PH3 ch3oc2 (Ha-12) (na-14) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
W) ί la VI 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - mu ϋ .^1 ϋ 一-οτ I i^l ϋ ϋ I I ^1 ^1 11 ^1 n L1 ϋ ^1 n ϋ ^1 ϋ I- ϋ —^1 ϋ I ^1 ^1 ϋ ϋ i^i _ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 591337 . A7 B7 五、發明說明(15 ) 冬"CH-CH*^0 0H C(CH3)3 CH 冲M 0=f T° 0 OH H3CH2C — C(CH3);2 Μ ^CH- •CH^^ 0==f r° P-3] 0=^ y^o p-4] S OH ? OH C(CH3)3 ca2 qch3 ^^CH- ^ch- ,CH j r° p-5] °=r T^0 [1-6] 〇 OH 〇 I OH h3c-ch h3c-ch 0CH2CH3 0CH2ai2CH2CH3 0=f 〇
OH H-7]
〇=Υ γ=0 [1-8] 0 OH H3C-CH och2ch〔ch3)2
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0=f 〇 I . H3COH2C-C(CH3)2
T° M OH °=T 0 C(CH3)3 SOo CH, -18- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) I - — — — II - - - I - - - — II I - — IUI - - I - I - I - - - - ---- - - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 乃1337 A7 B7 五、 發明說明(16 ) 0=f γ=0 H-11] Ο NH C(CH3)3 S02
[1-12] 0
IcH-CH 冲 Γ0 P-13] Ο NH CCCH^ S02 NH CH3 0=Ί T^0 P-35J 0 CL
0=f γ^ο Ο NH σ-ΐ4]
H3C — CH so2 ch3
I c(ch3)3 ch2ch2oh och2ch30=Γ Τ"° Π-16] 0 0、 ——.——- — — 1-----Φ____ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) C(CH3)3 ch2ch2cooh 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
Π-1730、 C^CH^ ch2ch2och2ch2cooh 〇=f l=〇 P-18] 0 〇s ^{CH^ ch2ch2conhso2ch3 "^CH-CH 才 !=〇 P-19] 0 HN i(CH3)3 ^™°0H
tcH-CH 冲 0=^ T° Π-20] 〇 HN C(CH3)3 ^CH2CH2〇H -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) ^-rov I I I I ϋ ki 1^1 n I ϋ ϋ ϋ ϋ I ϋ I .^1 ϋ I . 591337 A7 B7 五、發明說明(17) v /CH-CH 1 0=f γ=0 [卜21]? ◦、 0陶3叫_ ^ 才 v CH-CH J 0=f y^O 0-22J? 〇、 C(CH3)3 ch2ch2coocn3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
I · ^1 ϋ -^1 ϋ ·ϋ 一-口 V I ϋ ϋ ϋ t^i I I i^i l·— ϋ 1 ϋ I in in ϋ> ϋ ϋ n ϋ i^i I 冲 v yCH-CH 1 0=( y=0 il-23]&叫。、CH傅。〇 li〇H3h
CH-CfT^ γ=0 ^24] O 0、 O
}25] P-27J
• O
[^26] 1^28] x yCH-CH 7 〇=f y=^〇 0-29]
0=1 Y=0 0 Q * C(CH3)3 U~3D]
x yCH-CH }0=y 〇 o iC(CH3)3
il-32] COOH -20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 _ B7五、發明說明(18 ) 0=[ · r° [1-333 〇=f . γ=〇 [卜 34] 0 0 · 〇 1 s 1 c(ch3)3 1 C(CH3)3 _3)3 C(CH3)3 〇=f γ=0,[卜35] 0=[ ^===0 [卜 36] 〇 〇 X 0 〇、 C(CH3)3 CH^ C(CH3)3 CH- I *ch3 OCH3 och2ch3 0=^ γ=0 [1-37] °-r r° [丨-3B] 0 〇v 〇 0 C(CH3)3 .υ 0 ch2 och3 1 ch2 och3 為 0==f T"0 [h39] 〇 1 〇、—, hc-ch3 ce-ch3 och2ch3 〇ch,ch3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -21 - 本紙張尺度適元中國ϋ:標準(CNS)A4規格⑵Ο X 297公釐) -· I I I J I I I 1 - - - - - - I — — ΙΙΓ - — ^· - I - - - I - - - - - - - - 591337 A7 • B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
五、發明說明(19 ) 冬XH-CH才 . J=0 [l-4〇j 0 | 0 i0 j C(CH3)3 ^;CH- CH沖 X° {1-42] 0 0 I CH20CH3 tcH-CH 彳 i0 -CH冲 0=( r° | 0 0 1 Ί C(CH3)3 [1-44]
[1-41] S , ccch3)3 r° [1-43] Ο ο .
ch-ch3 och2ch3
(卜 45] Γ〇 [卜46] Ο 〇
"^CH - CH 冲, 0=T r° [I-47J Ο Ο IC(CH3)3
C(CH3)3 "^CH- ‘CH冲 〇 Γ〇 [1-48] 1 h3c 0==f o。 (h C(CH3)3 ( )r CH-CH 、COOH F〇 ch2och3 [卜 49] -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 --—-—--— B7 _____五、發明說明(2〇 ) 在重複單元(III)中,Z代表氧原子或N_R4,R4代表氫原 子、踁基、具線性或分支鏈之烷基或-0-S〇2-R5,且R5代表 烷基或三南甲基。^和^之烷基較佳爲具1至10個碳原子 •^線性或分支烷基,更佳爲具〗至6個碳原子之線性或分支 烷基,更佳爲甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異 丁基、第二丁基或第三丁基。 由式(III)代表重複單元之具體實例包括以下化合物,但 本發明不限於此等具體實例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
(請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) -23- 尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -I « n ϋ ί I .^1 ϋ n 一-ov 1 n I ϋ n n I ϋ If >^· ϋ I ϋ ϋ ϋ I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ .^1 I . A7 A7五、發明說明(21 )
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 重複單元(IV)具有以下特性: 1)可與由式(I)至(III)代表重複單元對應之單體共聚, 2 )包含至少一個選自由含内醋結構之基團、含内醯胺結 構之基團、-OH、-〇CH3、-〇c〇Ra、-NHC〇Ra、_丽8〇办、 -N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、 -C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之 群之官能團,其中R、Ra和R:b分別獨立代表具1至1〇個碳 原子之烷基或芳基,且可經過取代,及 3 )大體不能由酸分解。 在以上1)中,”可與式(I)至(ΠΙ)代表重複單元對應之單 體共聚”確切含義爲,當式(I)至(III)代表重複單元對應之 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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五、發明說明(22 ) 單體和重複單元I V對應之單體在共存聚合觸媒中聚合時, 總能產生一種聚合物,該聚合物分別以1莫耳%或更高量 包含式(I)至(IV)代表重複單元之對應單體。 在以上3 )中,,,大體不能由酸分解,,包括根本不能分解之 情形或即使分解,分解率也非常低(小於5莫耳% )。 在以上2 )中,含内酯結構基團之實例包括含々-丙(醇酸) 内酯、Γ-丁内酯、6 -戊内酯或ε -己内酯骨架之基團,且 可具有取代基。取代基之實例包括低碳烷基(如甲基、乙 基和丙基)及甲氧基。 含内醯胺結構基團之實例包括含/?·丙内醯胺、r _ 丁内 醯胺、d -戊内醯胺或ε -己内醯胺骨架之基團,且可具有 取代基。其取代基之實例包括低碳烷基(如甲基、乙基和 丙基)和曱氧基。 此R、R a和Rb代表具1至1 0個碳原子烷基或芳基之實例 包括甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第 二丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、正己基、環己基、 苯基及茶基,且可經取代。 此外,烷基或芳基之進一步取代基實例包括低碳烷基 (如甲基、乙基及丙基)和甲氧基。 更確切言之,R較佳爲甲基、乙基、正丙基、異丙基、 環己基或苯基,更佳爲甲基、乙基、正丙基、異丙基或環 己基’更佳爲甲基、乙基、正丙基或異丙基。
Ra和Rb較佳分別爲甲基、乙基、正丙基、異丙基、異 丁基、第二丁基、第三丁基、環己基或苯基,更佳爲甲 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 «I ϋ I ϋ I I I I I Li ϋ I I I n ϋ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591337 A7 B7 五、發明說明(23) 基、乙基、正丙基、正丁基、環己基或苯基,更佳爲甲 基、乙基、正丙基或環己基。 重複單元(IV)較佳由式(IV)代表之重複單元。 在式(IV)中,Y代表選自由氫原子、甲基、氰基和氯原 子組成之群之基團。X3代表選自-C02_、-0-及-CON(R)-之 基團,其中R具有與上相同之含義。L 3代表單鍵或二價連 接基團。A3表示由式(V)或(VI)代表之基團。 在式(V )中,X 4代表脂環系烴基,且可在環内包含羰鍵 或酯鍵。各R c獨立代表氫原子、烷基、含作爲取代基之至 少一個官能團之烷基(該官能團選自由- 〇H、-OCH3、 -OCORa、-NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra-、 -COOH、-COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、 -CON(Ra)(Rb)和_CN組成之群)或選自由-OH、-OCH3、-OCORa、 -NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、 -COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb) 及-CN組成之群之基團,其中R、Ra和Rb分別具有與上相 同之含義,ml代表0至5之整數。 在式(VI)中,Rcl和Rc3分別獨立代表氫原子、具1至1 0個 碳原子可經取代之烷基、含作爲取代基之至少一個官能團 之烷基(該官能團選自由-OH、-OCH3、-OCORa、-NHCORa、 -NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、-COORa、 -CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和 -CN 組成之群)或選自由-COOH、-COORa、-CONHRa、 -C0NHS02Ra、_C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之 — -26- ϋ張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ,1:0、I H ϋ n ϋ ϋ ϋ —.1 I I ϋ ϋ ϋ ϋ t I I n ϋ I ϋ ^1 I I ϋ ϋ I ϋ ϋ . 591337 A7 _B7__ 五、發明説明(24 ) 群之基團,但其限制條件爲Rcl和Rc3不同時爲氫。且Rc2 代表選自由-OH、-OCH3、-OCORa、-NHCORa、-NHS02Ra、 -N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、 -C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之 群之基團。R、Ra和Rb具有與上相同之含義。 在式(IV)中,X3較佳爲-C02-或-CONH-,更佳爲-C02-。 由L 3代表之二價連接基團確切爲選自由亞烷基、經取代 亞烷基、亞芳基、經取代亞芳基、醚基、硫醚基、羰基、 酯基、醯胺基、磺醯胺基、胺基甲酸酯基、脲基或兩種或 兩種其組合基團所組成之群之基團。L3之亞烷基和經取代 亞'坑基包括由下式代表之基團: _[C(Rd)(Re)]r_ 在該式中,Rd和Re分別獨立代表氫原子、烷基、經取代 烷基、_原子、羥基或烷氧基。該烷基較佳爲低碳烷基, 如甲基、乙基、正丙基、異丙基和正丁基,更佳爲甲基、 乙基、正丙基或異丙基。經取代烷基之取代基實例包括羥 基、_原子和烷氧基。該烷氧基包括具1至4個碳原子之烷 氧基,如甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁氧基。_原子之實 例包括氣原子、溴原子、氟原子和破原子。r代表1至10之 整數。_ L 3之亞芳基中亞芳基和經取代亞芳基之實例包括鄰亞苯 基、間亞苯基、對亞苯基、2,3-亞莕基、2,6-亞莕基和2,7-亞莕基。在此等當中,較佳選用鄰亞苯基、間亞苯基及對 亞苯基,更佳選用間亞苯基和對亞苯基。 -27- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐) 591337 A7 --- B7 五、發明說明(25 ) L 3之8i胺基、磺醯胺基、胺甲酸酯基和脲基可分別在其 氮原子上具有取代基。該氮原子上之取代基包括氫原子和 燒基。該烷基較佳爲低碳烷基,如曱基、乙基、正丙基、 異丙基和正丁基,更佳爲甲基、乙基、正丙基或異丙基。 在式(V )中,X4之脂環烴基之具體實例包括卜丁内酯、 四氫呋喃、d -戊内酯、四氫吡喃、金剛烷、降莰烷和異 莰燒之殘基。在此等中,較佳環爲r - 丁内酯、d -戊内酯 和金剛燒。
Rc之:基或具取代基烷基中之烷基包括具1至個碳原 子之燒基,其明確實例包括甲基、乙基、正丙基、異丙 基、正丁基、正戊基、正己基和環己基。
Rc較佳爲氫原子、甲基、乙基、_〇h、-〇ch3、-COOH、 -COOCH3或-CN,更佳爲氫原子、甲基、_〇H、-C00H或_CN。 m 1較佳爲1至4之數字,更佳爲2或3。 式(VI)中Rcl和Rc3之烷基或具取代基烷基中之烷基包括 曱基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、正戊基、正己基 和ϊ衣己基。
Rcl和Rc3較佳分別爲氫原子、甲基、乙基、正丙基、正 丁基、環己基、-CH2OH、-CH2OCH3、-COOH、-COOCH3、 -CH2COOH或- CH2COOH3’更佳爲氯原子、甲基、乙基、 正丙基、環己基、-CH2OH、-CH2OCH3、-COOH或-COOCH3, 更佳爲氫原子、甲基、乙基、_CH2OH、-CH2OCH3、-COOH 或-COOCH3。
Rc2較佳爲-OH、-OCH3、-COOH、-COOCH3 或-CN,更佳 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公餐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 — --------^ ---------I ----------------------- 591337 A7 r—-------— R7_ 五、發明說明(26 ) 爲-OH、-COOH或-CN。 式(IV)中A3較佳爲由(V)代表之基團。由式(V)代表之基 團更佳爲由式(VII)代表之基團,最佳爲由式(VIII)*(IX)代 表之基團。 在式(VII)中’ X5代表選自-c(=0)_0_和·c(=0)_之基團。Rc 具有與上相同之含義。 m5代表〇至2之整數。 在式(VII)中,X5較佳爲-C0-0- ; Rc較佳爲氫原予、甲 基、乙基、_0H、_OCH3、-COOH、_COOCH3或-CN,更佳爲 氫原子、甲基、-OH、-COOH或-CN °ml較佳爲0至2之數 字;m 5較佳爲0或1。 含有由式(V)代表基團之重複單元之明確實例包括以下 化合物,但本發明不限於此等明確實例。 式(V)之實例: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} . I I------------I I I----ί--I I I I I I--------- 591337 A7 B7 五、發明說明(27 ) ch2-ch^--^ch2-ch)--(* ch2- ch)— C〇7 co9. co2
〇〇‘ -(ch2-ch)--(ch2-ch)~. ~(ch2-ch)-—(ch2-ch- CO.
〇 o o CO,
o C〇2 CO,
-(ch2-ch)- C02 -(ch2 - CHi o,I . II CH2CH2〇CCH2CH2C02-(占 CH2CH2OCCH2CH2C〇2, 〇
CH2—CHj- ~(-ch2-ch^ C〇2
OH 〇 ^ch2-ch]— CCb
co2h C〇2
co2h HO -(ch^ch]- ch2-ch)- -(ch2-ch] 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 C〇2
OH HO CO,
C〇2CH3 HO C〇2
co2ch3 ------------·1!—訂---------線 ---- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 30· 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(28 ) 包含由式(VI)代表基團之重複單元之明確實例包括以下 化合物,但本發明不限於此等明確實例。 式(VI)之實例: -CHp-GH- C02
—^ch2-ch]— · —^CH2~CH^~.丫 入 CO广 OH
O II co2h ccv -(ch5-ch^ CO: -°v
Me
CN ^fcH2 — CH)—
Me 包含由式(VII)代表基團之重複單元之明確實例包括以下 化合物,但本發明不限於此等明確實例。 式(VII)之實例: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 IAW ---------^ --------I I ---------------------. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(29 )
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-(oh2-chJ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -c C〇2 I CH2CH2OCCH2CH2C02·。 ο :η2— ch*^— ? CO, CO- i? CH2CH2〇CCH2CH2C〇2'
經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 對於本發明之樹脂(A),爲選擇由式(I)代 元、至=一種來自(IIa)和(nb)之重複單元和由式(ΙΠ)ϋ 〈重複單元之含量,可藉考慮光阻劑之所需抗氧漿蝕刻 性、敏感度、防止圖案裂化能力、對基板之接著力、光阻 2分布以及爲光阻、析像度、抗熱性及類似所需之因素實 在用於本發明之樹脂(Α)中,由式(I)代表之重複單元含 表之重複單 -32- 本紙張尺適用中國國豕標準(CNS)A4規格(21〇>< 297公釐 ^-----------------一--------------- 591337 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(3〇 ) 量以全部重複單元計,一般爲1 〇至9 〇莫耳%,較佳1 5至 7 0莫耳%,更佳2 〇至5 0莫耳%。 來自重複單元(Ila)和(Hb)之至少一種重複單元含量以全 部重複單元計,爲5至5 0莫耳%,更佳1 〇至4 〇莫耳。/0。 重複單元(III)之含量以全部重複單元計,爲1〇至9〇莫耳 %,較佳1 5至7 0莫耳%,更佳2 0至6 0莫耳%。 重複單元(IV)之含量以全部重複單元計,爲3至4〇莫耳 %,更佳5至3 0莫耳%。 爲獲得本發明所用之樹脂(A),可在聚合觸媒存在下共 聚由式(I)代表重複單元對應之單體、至少一種自(IIa)和 (iib)之重複單元對應之單體、由式(ΙΠ)代表重複單元對應 之單體以及由式(IV)代表重複單元對應之單體。另一種方 法在共聚由式(I)代表重複單元對應之單體、式重複單 元對應之單體及馬來酸酐後,或者在使式(1)代表重複單 儿對應之單體和馬來酸酐共聚後,使所得共聚物中自馬來 酉艾肝衍生之重複單元在鹼性或酸性條件下用醇進行部分開 環酉旨化或水解。 以GPC法聚苯乙烯爲基準,本發明之樹脂較佳具有〗,〇〇〇 至20〇,〇〇〇之重均分子量。如果重均分子量小於丨,〇〇(),抗熱 或抗乾蝕刻性能降低,所以不佳,而在超過2〇〇,〇〇〇時,顯 影性能受到破壞,或者由於黏度極高,產生不利結果,例 如,成膜性能惡化。 在本發明之正型光阻組合物中,根據本發明混於全部組 合物之樹脂(A)之量以光阻劑中全部固體含量計,較佳爲 33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公愛 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·· , J n ^^1 1 ^^1 ^^1 ^^1 I ϋ ϋ i^i ^^1 ϋ ^^1 mMt n ϋ ϋ ϋ I 11 ·1 ϋ ^^1 I I ϋ· ^^1 < 591337 A7
五、發明說明(31 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 40至99.99重量%,更佳5〇至99 97重量%。 能夠以光化射線或輻射線照射產生酸之化合物(B )係描 述如下。 能夠以光化射線或輻射線照射分解並由之產生酸之可用 化合物實例包括,光陽離子性聚合所用之引發劑、光游離 基聚合所用之引發劑、染料所用之光學脱色劑、光學褪色 劑和能夠經照射產生酸之化合物,照射係以用於微影光阻 劑或類似之已知光線(例如2〇〇至4〇〇納米之紫外線或遠紫外 線’較佳爲g線、h線、i線或κ I* F激元雷射線),或者以 A r F激元雷射線、電子束、X射線、分子束或離子束照 射。該化合物可適當自此等及其混合物選擇。 能夠以光化射線或輻射線照射產生酸之本發明所用化合 物之其G實例包括’錢鹽,如§ · I ·斯里辛格(gchlesinger) Photogr. Sci. Eng, [18, 387 (1974)]、T.S·巴爾(Bal)等人,1 &斗勿(polymer) [21,423 (1980)]等所述之重氮鹽,美國專利 第4,069,055號、第4,069,056號和Re27,992、日本專利申請案 第3-140140號等所述之銨鹽,D.C.耐克(Necker)等人,九 分子(Macromolecules) [17,2468 (1984)]、C · S ·溫(Wen)等 人,Teh, Proc. Conf. Rad, Curing ASIA [東京,1988年8 月, 第4M頁]、美國專利第4,〇69,055號及第4,〇69,〇56號等所述 之磷鑌鹽,J.V.克瑞威洛(Grivello)等人,大分子[1〇 (6) 1307 (1977)]、Chem. & Eng. News [Nov· 28,ρ· 3 1 (1988)]、 歐洲專利第104,143號、第339,049號和第410,201號、日本專 利申請案第2-150848號、第2-2965 I4號等所述之碘鏘鹽,j. -34- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> ·· 訂i •線丨Φ----ΓΙ1ί----------- 591337 A7 B7 五、發明說明(32 ) V·克瑞威洛等人,聚合物 J· (Polvmer J.) [17, 73 (1985)]、J. V·克瑞威洛等人,J. Org· Chem· [43, 3055 (1978)]、W. R·沃 特(Watt)等人,J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. [22,1789 (1984)]、J· V·克瑞威洛等人,聚合物體(Polymer Bull)[14, 279 (1985)]、J· V.克瑞威洛等人,大分子Π4 (5),1141 (1981)]、J· V·克瑞威洛等人,J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed· [17, 2877 (1979)]、歐洲專利第 370,693 號、第 161,811 號、第 410,210 號、第 339,049 號、第 233,567 號、第 297,443 號 和第297,442號、美國專利第3,902,114號、第4,933,377號、第 4,760,013號、第4,734,444號和第2,833,827號、德國專利第 2,904,626號、第3,604,580號和第3,604,581號、日本專利申 請案第7-28237號、第8-27102號等所述之硫鑌鹽,J· V·克 瑞威洛等人,大分子「10 (6),1307 (1977)]、J. V·克瑞威洛 等人,J. Polymer Sci·, Polymer Chem. Ed· [17,1047 (1979)] 等所述之硒鑌鹽,及C· S·溫等人,Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA「第478頁,1988年8月,東京]所述之坤鑕鹽 等;美國專利第 3,905,815 號、JP-B-46-4605 (,’JP-Bn指’’經 審查曰本專利公告π)、日本專利申請案第48-36281號、第 55-32070 號、第 60-239736 號、第 61-169835 號、第 61-169837號、第 62-58241號、第 62-212401號、第 63-70243 號、第63-298339號等所述之有機i化合物;Κ.梅耶(Meier) 等人,J. Rad. Curing [13 (4),26 (1986)]、Τ· Ρ·吉爾(Gill)等 人,無機化學(In〇rg· Chem.)[19, 3007 (1980)]、D·阿斯特 拉(Astruc),Acc· Chem· Res· [19 (12),377 (1896)]、曰本專 -35- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ·------- I ^---------^ I ----^---^---------------- 591337 A7 B7 五、發明説明(33 ) 利申請案第2-161445號等所述之有機金屬/有機鹵化物;S. 哈亞斯(Hayase)等人,J. Polymer Sci. [25, 753 (1987)]、Ε·瑞 曼尼斯(Reichmanis)等人,J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed. [23, 1 (1985)]、Q· Q.朱(Zhu)等人,J. Photochem· [36, 85, 39, 317 (1987)]、B.阿密特(Amit)等人,Tetrahedron Lett. [(24) 2205 (1973)]、D. H. R·巴坦(Barton)等人,J. Chem. Soc· [3571 (1965)]、P. M·考林斯(Collins)等人,J. Chem· Soc·[柏金 (Perkin) I,1695 (1975]、M.如 丁斯坦(Rudinstein)等人, Tetrahedron Lett· [(17),1445 (1975)]、J· W.沃克(Walker)等 人,J. Am. Chem. Soc· [110,7170 (1988)]、S· C·布斯曼 (Busman)等人,J. Imaging Technol. [ 11 (4),191 (1985]、H· M.侯林漢(Houlihan)等人,大分子[21,2001 (1988)]、Ρ· Μ. 考林斯等人,J. Chem. Soc·,Chem. Commun· [532 (1972)]、S· 哈亞斯等人,大分子[18, 1799 (1985)]、E.瑞曼尼斯等人,L Electrochem. Soc·,Solid State Sci· Technol·「130 (6)1、F. M. 侯林漢等人,大分子[21,2001 (1988)]、歐洲專利第0, 290, 750 號、第 〇46,083 號、第 156,535 號、第 271,851 號和第 0,388,343 號、美國專利第3,901,710號和第4,181,531號、日本專利申 請案第60-198538號、第53-133022號等所述具鄰硝基苄基 類型保護-基之光化發酸劑;光化分解產生磺酸且由亞胺磺 酸酯(鹽)代表之化合物,描述於Μ ·吐努卡(TUNOOKA)等 人,曰本,聚合物預印刷(Polymer Preprints Japan) [35 (8)]、G·波那(Berner)等人,J. Rad. Curing [ 13 (4)]、W· J·密 基斯(Mijs)等人,塗覆工藝(Coating Technol·) [55 (697),45 -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 591337 A7 B7 五、發明說明(34 ) (1983)]、亞克蘇(Akzo)),H.阿達齊(Adachi)等人,曰本, 聚合物預印刷[37 (3)]、歐洲專利第0,199,672號、第84,515 號、第044,115號、第618,564號和第0,101,122號、美國專利第 4,371,605號和第4,431,774號、日本專利申請案第64-18143 號、第2-245756號、第3-140109號等;日本專利申請案第61-166544號、第2-71270號等所述之二颯化合物;以及日本專 利申請案第3· 103854號、第3-103856號和第4-210960號等所 述之重氮酮颯和重氮砜化合物。 除以上外,亦可使用其中將能夠由光產生酸之上述基團 或化合物引入主鏈或側鏈之化合物,其實例化合物描述於 Μ· E.伍德象斯(Woodhouse)等人,J. Am· Chem. Soc· [104, 5586 (1982)]、S· Ρ·帕帕斯(Pappas)等人,J. Imaging Sci. [30 (5),218 (1986)]、S.康朵(Kondo)等人,Makromol. Chem” Rapid Commun· [9,625 (1988)]、Y·亞馬達(Yamada)等人, Makromol. Chem, [152, 153, 163 (1972)]、J· V·克瑞威洛,L Polymer Sci,Polymer Chem· Ed· [17,3845 (1979)]、美國專 利第3,849,137號、德國專利第3,914,407號、日本專利申請 案第 63-26653 號、第 55-164824 號、第 62-69263 號、第 63-146038號、第63-163452號、第62-153853號、第63-146029號 等。 此外,亦可使用由光產生酸之化合物,其描述於V. N. R. 匹莱(Pillai),合成(Synthesis)[(l), 1 (1980)]、A·阿拜德 (Abad)等人,Tetrahedron Lett. [(47) 4555 (1971)]、D· Η· R. 巴坦等人,J· Chem· Soc· [(C),329 (1970)]、美國專利第 -37- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規^(210 x 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •丨----- It---------^ I----.---^---------------- 591337 A7 五、發明說明(35 ) 3,779,778號、歐洲專利第126,712號等。 在此等能夠以光化射線或輻射線照射分解且由之產生酸 之化合物中,特別有效化合物描述如下。 (1)由下式(PAG1)代表之嘮唑衍生物及由下式(pAG2)代表 之均三畊衍生物、兩種衍生物係分別以三卣甲基取代:
R N—N/ W 201 0 (PAG1) C(Y)
C N C(Y) (PAQ2) 其中R2G1代表經取代或未經取代芳基或者經取代或未經取 代晞基,R2G2代表經取代或未經取代芳基、經取代或未經 取代晞基、經取代或未經取代烷基或-C(Y)3,Y代表氣原 子或溴原子。 其明確實例包括以下化合物,但未以任何方式限制本發 明0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 •38- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
— · ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ 一φ、I H ϋ ϋ ϋ ϋ H ϋ I ^ I ϋ I ^1 ^1 I I I ϋ I ϋ ϋ I ^1 ^1 I ϋ ϋ .1 I ϋ ^1 I 591337 A7 B7 五、發明說明(36 ) C1 CH=CH- CC13 (PAG1-1) N-N h3c-^)-ch=ch-c.〇;c-cci3 (PAG1-2) N-NH3c。乂)- CH 二 CH- c、〇/ C - CBx3 (PAG1-3) N-N-Q^C如CH 乂。》-叫 (PAG1-4)
(ni^HgO .0 0
N 一N (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) CH=CH (PAG1-5) c 一 cci3 Q-ch=ch^〇-c; .(PAG1-5) n—n ;C-CC13 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 N-N Q[Vch 奢A〇>-叫 (PAG1 - 7) N_N CH=CH-C^〇^-CC13 {3~ch==ch^O^ (PAGl-B) 39- ··____ ϋ ί 1 ·ϋ 一-口、I ϋ ·ϋ ϋ i^i I 11 線 I ----.------------------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(37) ecua3c义n人cc】3 C1
(PAG2-2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
-----^----^ ---------I ----.---^---------------I
Nci3c^N^ca3 (PAG2-3)
Λ Λa3c 八 Ν 人ca: (PAG2 - 7)
(2 - 4)
COCH, (PAG2-6) OCH, CH=CH N^NΛ Λa3c 八;K~cc!〕 (PAG2-S) -40- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ^1337 發明說明(38 ) ^1337
cQ 9H-CH N Ac 八;tr、cq3 CPAG2-9) αΑΛU3C n ca3 (PAG2 -10) 式(PAG3)代表之㈣11和由以下式(PAG4)代表
ArJ :ΙΘ 2Θ c請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁:> -· ϋ ml ϋ
Ar" (PAG3> Θ (PAG4) R' 205 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在式(PAG3)中,Ari和Ar2分別獨立代表經取代或未經取 代芳基。其取代基較佳爲垸基、卣烷基、環燒基、芳基、 烷氧基、硝基、羧基、烷氧羰基、羥基、醜基或_原子。 在式(PAG4)中,R2❹3、&2。4和R2〇5分別獨立代表經取代或 未經取代烷基或者經取代或未經取代芳基。較佳爲具6至 1 4個碳原子之芳基、具1至8個碳原子之烷基或其經取代 衍生物。該經取代芳基之取代基較佳爲具1至8個碳原子之 烷氧基、具1至8個碳原子之烷基、硝基、羧基、幾基或齒 -41 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(39 ) 原子,該經取代烷基之取代基較佳爲具1至8個碳原子之燒 氧基、羧基或烷氧羰基。 在式(PAG3)和(PAG4)中,Z-代表相反陰離子,灰實例包 括全氟烷磺酸陰離子(如BF4_、AsF6_、PF6_、SbF6·、SiF62·、 CIO,和CF3S〇3_)、經縮合多核芳系磺酸陰離子(如全氟苯續 酸陰離子和莕1 -磺酸陰離子)、蒽醌磺酸陰離子以及各含 續酸基團之染料,但本發明不限於此。 可通過單鍵或取代基連接R2〇3、r2〇4和r2〇5之二者或Arl和 Ar2 〇 其明確實例包括以下化合物,但未以任何方式限制本發 明。 ΟτΆ. 4¾ ^-sof _3-” sof (PAG3D Λ 1? θ (PAC3-3) 0^0 (PAG3-4) -42- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ϋ ϋ f ϋ 1 I · ϋ ϋ J .[ ϋ ϋ 一,0、I ϋ ϋ I I ^1 ϋ I I I ^1 I I ϋ WH ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ I I I ϋ I ϋ . (請先閱讀背面之注咅?事項再填寫本頁) 591337 A7 . B7 五、發明說明(40 )
OCH3 SbF6 (PAC3-7) cf3so3 OCH3 PF6 Θ Θ
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(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) - I I I I I I 一= 口,— — — — — — — — — I I I I I Γ — — — — — — — — — — — — — — — — — — 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(45 ) /h-s-K ^-OC^HsJ CF^SO® (PAG4-B) H3C0 ^ 、〇& α CF3S0; © 2 (PAG4-9)即~〇~产嗎玛θ ch3 (PAG4-10)
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I I ϋ Ί I I I 一-口,I n ϋ ϋ ϋ I 1 I I I ϋ ϋ ϋ Ml ϋ ϋ I I I ϋ ϋ I ϋ ϋ ϋ I ϋ I I I ^1 I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(46 ) H0(n)^ © (PAG4—14) bf4 Θ ch3 (FAG4-15)
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cf3(cf2)3so3 Θ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -53
一-口,· ^1 ϋ ϋ I ϋ ϋ I I I I ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ ϋ ϋ ί— ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ I I ϋ ϋ ϋ ϋ ^1 I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(51 ) 上述由式(PAG3)和(PAG4)代表之鏘鹽爲我們所熟悉,且 可以下述方法合成’例如J· W·奈普西爾(Knapczyl)等人,J· Am^Chem. Soc. [91,145 (1969)]、A· L·梅克(Maycok)等人,L Qlg^-Chem. [35, 2532 (1970)]、Ε·果薩斯(Goethas)等人,Bull· Soc_^Chem. Belg. [73,546 (1964)]、Η· M.雷赛斯特(Leicester), J^Am. Chem. Soc. [5 1,3587 (1929)]、J· V·克瑞威洛等人,L l〇hm. Chem, .Ed. [18, 2677 (1980)]、美國專利第 2,807,648 號及第4,247,473號、日本專利申請案第53-101331號等。 (3)由下列式(PAG5)代表之二磺酸衍生物和由式(PaG6)代 表之亞胺續酸衍生物: (PAG5) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
R206 - SO广。-N u 人 (PAG6) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中Ar3和Ar4分別獨立代表經取代或未經取代芳基,R2〇6代 表經取代或未經取代烷基或者經取代或未經取代芳基,A 代表經取代或未經取代亞燒基、經取代或未經取代亞缔基 或者經取代或未經取代亞芳基。 其明確實例包括以下化合物,但未以任何方式限制本發 明〇 54- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 x 297公釐) — · ϋ »1— ϋ ϋ ϋ H ϋ 一-口,I W MB ^ ΜΗ· MB Μ·· MB Η·· KB MB · 591337 A7 B7 五、發明說明(52 ) (PACS-r])SO 广 so2-(^CH3
CI CPAG5-2) h3co^^s〇2—s〇2· (PAG5-3) H3C{^KS0广 5¾ (PAG5-4)
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Cl -55- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) a 線_·——Γ —------------ 591337 A7 B7 五、發明說明(53 ) ca S0;2 — S〇2 ~ (PAG5-9) ch3 a
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Cl (PAG5-10) SO广 5¾ (PAG5-11)
OCH, (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •參 h3c k<y h3c SO 厂 S02.
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F F F F F (PAC5-13) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
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(PAG5-15) -56 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 線丨^----- 591337 A7 B7 五、發明說明(54 ) 0
,Ν-0—S02 -^ 0 (PAG6-2) 0
,N_0- 0 (PAG6-2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Φ
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0CH3 -57- 線 ----·------------------- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(55 ) 〇 0 (PAG5-7) 0 N— 0—SO, 0 (PAG6-8) 0
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
-58- I I I i I I 一aj— — — — — — — — — —^^^1 I I I I»— I ϋ I I ϋ ϋ ϋ I ϋ I ! ϋ ϋ ϋ I I _ _ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(56 )
0-50厂 CF3 (PAG6-13)
F (PAG6-14) η
F (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (PAG6-15) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -59-
一 δ、1 I ϋ ϋ ϋ I I ϋ a^i ϋ ·ϋ I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ .^1 ϋ ϋ ^1 I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(57
0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 蠡 H3c h3c
,N-G - S02-CF3 Ο (PAG6-18) Ο
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -RO -
一:口 t 1 n ϋ I I ϋ ϋ I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ ^1 ^1 ^1 n ϋ ^1 ϋ I 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) 591337 A7 B7 五、發明說明(58 ) (4)由以下式(PAG7)代表之重氮二砜衍生物 n2 R21—S02—C—S02—R22 (PAG7) 其中R21和R22分別獨立代表可具取代基之烷基、環烷基或 可具取代基之芳基。 遠:ki基較佳爲具1至2 0個碳原子之線性或分支燒基,更 佳爲具1至1 2個碳原子之線性或分支烷基。該環烷基較佳 爲環戊基或環己基。該芳基較佳爲可具取代基之6至1 〇個 石反原子^•基。其取代基之實例包括,垸基,如甲基、乙 基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三 丁基、正戊基、正己基、正辛基、2_乙基己基、壬基、癸 基及十二烷基;烷氧基,如甲氧基、乙氧基、丙氧基和丁 氧基;1¾原子、硝基和乙驢基。 該重氮二颯衍生物之明確實例包括以下化合物: 雙(甲磺醯基)重氮甲烷、雙(乙磺醯基)重氮甲燒、雙(丙 〜s盛基)重氮甲纟死、雙(1·甲基丙橫醯基)重氮甲故、雙(丁 磺醯基)重氮甲烷、雙(1-甲基丁磺醯基)重氮甲燒、雙(庚 磺醯基)重氮甲烷、雙(辛磺醯基)重氮甲烷、雙(壬續驢基) 重氮甲烷、雙(癸磺醯基)重氮甲烷、雙(十二烷磺醯基)重 氮甲烷、雙(三氟甲磺醯基)重氮甲烷、雙(環己磺醯基)重 氮甲垸、雙(爷確醯基)重氮甲烷、雙(2-氣苄磺醯基)重氮 甲烷、雙(4_氣苄磺醯基)重氮甲烷、雙(苯磺醯基)重氮甲 烷、雙(4 -甲氧基苯磺醯基)重氮曱烷、雙(2 -甲基苯橫酿 -61 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ϋ· «^1 ·ϋ ϋ I ϋ ^1 ·ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ ^1 n ϋ ^1 ϋ I ϋ ϋ ^1 ϋ I ϋ ϋ - 591337 A7 五、發明說明(59 ) 基)重氮甲烷、雙(3·甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(4-甲基 苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷、 雙(2,5-二甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(3,4_二甲基苯磺醯 基)重氮甲烷、雙(2,4,6-三甲基苯磺醯基)重氮甲烷、雙(4-氟苯磺醯基)重氮甲烷、雙(2,4-二氟苯磺醯基)重氮甲烷、 雙(2,4,6-二氟苯磺醯基)重氮甲烷及雙(4_硝基苯磺醯基)重 氮甲烷。 (5)由下列式(PAG8)代表之重氮酮砜衍生物:
R 21
•CO n2II -C一S07—R* 22 (FAG8) (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁) Φ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中R21和R22分別獨立代表可具取代基之烷基、環烷基或 可具取代基之芳基。其取代基之明確實例與(PAG7)之取代 基相同。 重氮酮颯衍生物之明確實例包括以下化合物: 甲磺醯基-苯甲醯基-重氮甲烷、乙磺醯基-苯甲醯基-重 氮甲烷、甲磺醯基-4-溴苯甲醯基-重氮甲烷、乙磺醯基_ 4 -溴苯甲醯基-重氮甲烷、苯磺醯基-苯甲醯基-重氮甲 烷、苯磺醯基-2-曱基苯基-重氮甲烷、苯磺醯基—3-甲基 苯基·重氮甲烷、苯磺醯基-4-甲基苯基-重氮甲烷、苯磺 醯基-3-甲氧苯基-重氮甲烷、苯磺醯基-4-甲氧苯基-重氮 甲烷、苯磺醯基-3_氣苯甲醯基·重氮甲烷、苯磺醯基- 4-氯苯基-重氮甲烷、甲苯磺醯基-3-氯苯甲醯基-重氮甲 烷、甲苯磺醯基-4-氣苯基-重氮甲烷、苯磺醯基-4-氟苯 -62- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
» * 一:口,1 ^1 ^1 11 ϋ i^i I B^i I I ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ 1« I I 591337
基-重氮甲烷及甲苯磺醯基氟苯基-重氮甲烷。 在此等化合物中’適合使用在以光化射線或㈣線照射 分解以產生有Μ酸之化合物。使用此類化合物可獲得良 好析像度和光阻劑性能之良好再現性。所时機树爲具 有機基團之磺酸。該有機基團之實例包括可具取代基之烷 基'可具取代基之苯基及可具取代基之茶基。其取代基之 實例包括具1至12個碳原子之線性或分支烷基、具1至6個 碳原子之烷氧基和齒原子(如氟、氣、溴和碘)。有機基團 之具體實例包括,烷基,如甲基、乙基、正丙基、異丙 基、正:基、異丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、第三 戊基、第一戊基、正己基、正戊基、正辛基、2 -乙基己 基、壬基、癸基及十二烷基;經取代烷基,如氣甲基、二 氣甲基、三氣甲基、氯乙基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲 基、全氟丁基及全氟辛基;經取代苯基,如苯基、甲苯磺 酿基、二甲苯基、三甲苯基、甲氧苯基、乙氧苯基、氯苯 基、溴苯基、硪苯基、氟苯基和五氟苯基;及經取代莕 基’如莕基、甲莕基、甲氧莕基、氣莕基、溴莕基及碘莕 基。在此等有機基團中,.較佳選用具氟原子者。 此類化合物之實例包括下列化合物(Β1)至(Β6),此等化合 物(Β1)至(Β6)出自由式(PAG1)至(PAG8)代表之化合物(產生 有機磺酸者)。 (Β1)具有有機磺酸陰離子作爲相反陰離子之硫鑌鹽化合物 (Β2)具有有機磺酸陰離子作爲相反陰離子之碘钂鹽化合物 (Β3)有機二颯衍生物 __ -63- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 591337 A7 _ _ B7 五、發明說明(61) (B4)亞胺磺酸衍生物 (B5)重氮二颯衍生物 (B6)重氮酮颯衍生物 作爲光化發酸劑,較佳選用以光化射線或輻射線照射產 生有機磺酸之化合物(B-3)至(B-6),因爲光阻圖案之析 像度良好;選用產生氟化有機磺酸之化合物(b_3)至(B-6) 更佳,因爲其敏感性高。 所加光化發酸劑(B )之量以本發明正型光阻組合物總重 量計(不包括塗料溶劑),通常爲0力01至4〇重量%,較佳 0·01至20重量%,更佳〇·ι至5重量%。如果能夠以光化射 線或輻射線照射分解並由之產生酸之化合物加入量小於 0·001重量% ’則敏感性降低,若加入量超過4 〇重量%,則 由光阻劑吸收之光線過度增加,分佈變壞,或者不利減小 處理邊限(特別爲烘焙)。 本發明之正型光阻組合物較佳包含(D)有機鹼性化合 物。有機鹼性化合物之實例包括具下列結構之化合物: R251 R2S。—jjj_R252 (A) 其中R250、尺251和R252可相同或不同,分別代表氫原子、具 1至6個碳原子之烷基、具1至6個碳原子之胺烷基、具1至 6個碳原子之羥烷基或具6至2 〇個碳原子之經取代或未經 取代芳基,但其限制條件爲和R252可彼此結合成環; ____-64- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) -------------#! (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
一:口、 ϋ i-i —i I ·ϋ ·ϋ ^1 ϋ ^1 ·1. ϋ n ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ ϋ ^1 .1- H ^1 I 591337 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ____B7 五、發明說明(62)I L ~ N-I I =c—N—c-—II. _ I Ψ j^| r254 r255 R253—C—N一C—R256I I 其中R253、R254、R255和R256可相同或不同,分別代表具1至6 個碳原子之烷基。 該化合物更佳爲在一個分子内具有化學環境不同兩個或 多個氮原子之含氮驗性化合物,更佳爲具有經取代或未經 取代胺基和含氮原子環結構二者之化合物或具烷胺基之化 合物。其較佳具體實例包括經取代或未經取代胍、經取代 或未經取代胺基吡啶、經取代或未經取代胺烷基吡啶、經 取代或未經取代胺基P比洛淀、經取代或未經取代吲峻、經 取代或未經取代吡唑、經取代或未經取代吡畊、經取代或 未經取代嘧啶、經取代或未經取代嘌呤、經取代或未經取 代咪唆淋、經取代或未經取代P比嗅淋、經取代或未經取代 哌畊、經取代或未經取代胺基嗎啉以及經取代或未經取代 胺烷基嗎啉。其取代基之較佳實例包括胺基、胺燒基、嫁 胺基、胺芳基、芳胺基、烷基、烷氧基、醯基、醯氧基、 芳基、芳氧基、硝基、羥基和氰基。 該化合物之較佳具體實例包括胍、1,卜二甲基脈、 (B) (C) 〇)) (E) --------^---------&—ΦΙΙ — f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} -65- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297 ) 591337 A7 __B7___ 五、發明說明(63) 1,1,3,3-四甲基胍、2 ·胺基吡啶、3 -胺基吡啶、4 -胺基吡 淀、2 -二甲胺基p比淀、4 -二甲胺基p比淀、2 -二乙胺基p比 啶、2 -胺甲基吡啶、2 -胺基_ 3 -甲基吡啶、2 -胺基-4 ·甲 基吡啶、2 -胺基-5 ·甲基吡啶、2 -胺基-6 -甲基吡啶、3 -胺乙基吡啶、4 -胺乙基吡啶、3 -胺基吡咯啶、哌畊、N-胺乙基)哌畊、N-(2-胺乙基)哌啶、4-胺基-2,2,6,6-四甲 基味淀、4 -喊淀基喊淀、2 -亞胺基喊淀、1-(2 -胺乙基)p比 咯啶、吡唑、3 -胺基-5 -甲基吡唑、5 -胺基-3 -甲基-1 -對 甲苯基p比吐、p比畊、2 -(胺甲基)-5-甲基p比畊、喊淀、2,4-二胺基p密淀、4,6 -二輕基喊淀、2 - p比嗤淋、3 - p比峻淋、三 級嗎啉衍生物[如N -胺基嗎啉、N - ( 2 ·胺乙基)嗎啉、1,5-二氮雜二環[4,3,0]壬烯-5、1,8-二氮雜二環[5,4,0]十一碳晞-7、2,4,5-三苯基咪唑、N -甲基嗎啉、N -乙基嗎啉、N -羥 乙基嗎啉、N -苄基嗎啉和環己基嗎啉乙基硫脲(CHMETU)] 以及曰本專利申請案第11-52575號所述之受阻胺(例如 [0005]中所述者),但本發明不限於此。 更佳具體實例包括1,5-二氮雜二環[4,3,0]壬烯-5、1,8-二 氮雜二環[5,4,0]-7-十一碳晞(DBU)、1,4-二氮雜二環[2,2,2] 辛烷、4 -二甲胺基吡啶、六亞甲基四胺、4,4-二甲基咪唑 琳、p比洛、说吐、咪峻、噠畊、嘧淀、三級嗎淋衍生物 (如CHMETU)和受阻胺[如雙(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基) 癸二酸g旨]。 在此等化合物中,更佳選自1,5·二氮雜二環[4,3,0]壬晞-5、1,8-二亂雜一 $衣[5,4.0]十一碳晞_7、l,4-二氮雜二環 -66- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 χ 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ---------^---------線丨 -----.------------------- 591337 A7 B7 五、發明説明(64 [2,2,2]辛燒、4 -二甲胺基P比淀、六亞甲基四胺、chmETU 及雙(1,2,2,6,6-五甲基_4-喊咬基)癸二酸@旨。 可單獨使用此等有機鹼性化合物,或使用兩種或多種其 混合物。所用有機鹼性化合物之量以光阻組合物全部固體 量計,一般自0.001至10重量%,較佳〇 〇1至5重量%。如果 用量小於0.001重量%,則不能得到加入有機鹼性化合物之 效果;如果大於10重量%,則易減低敏感度或非曝光區域顯影能力變壞。 本發明之正型光阻組合物較佳包含(E)界面活性劑,即, 較佳包括含氟界面活性劑、含矽界面活性劑、含氟原子和 矽原子二者之界面活性劑及非離子性界面活性劑之至少一 種界面活性劑。在此等中,更佳選用含氟界面活性劑、含 矽界面活性劑以及含氟原子和矽原子二者之界面活性劑。 此等界面活性劑之實例包括曰本專利申請案第62_36663號、第 61-226746號、第 61-226745 號、第 62-170950號、第 63_ 34540號、第 7-230165號、第 8-62834號、第 9-54432 號及第 9_ 5988號所述之界面活性劑。亦可使用以下市面上銷售之界 面活性劑。 可用市售界面活性劑之實例包括含氟界面活性劑及含♦ 界面活性-劑,如EFtop EF301和EF303 [由Κ· K·辛-阿齊塔, 卡塞生產(Shin-Akita Kasei Κ· K·)]、Florad FC430和431 [由 蘇密托莫 3M 公司生產(Sumitomo 3M Inc·)]、Megafac F171、F173、F176、F189和R08 [由代尼盤墨水及化學品公 司生產(Dainippon Ink & Chemicals,Inc·)]、Surflon S-382、 -67- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂
591337 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ' --------- 五、發明說明(65) SC101、102、103、1〇4、105和1〇6 [由阿薩悉-格拉斯公司 生產(Asahi Glass Co·,Ltd·)]以及 Troysol S-366 [由卓依化學 么司生產(Troy Chemical)]。此外,亦可使用聚矽氧烷聚合 物KP-341 [由辛-埃蘇化學公司生產(Shi心Etsu ,
Ltd·)]作爲含碎界面活性劑。 作爲界面活性劑另外實例之非離子性界面活性劑之具體 實例包括,聚乙二醇烷基醚,如聚乙二醇月桂醚、聚乙二 醇硬脂醚、聚乙二醇鯨蠟醚及聚乙二醇油醚;聚乙二醇烷 烷芳醚,如聚乙二醇辛基苯醚和聚乙二醇壬基苯醚;聚乙 一醇/聚丙二醇嵌段共聚物;脂肪酸脱水山梨糖醇酯,如 單月桂酸脱水山梨糖醇酯,單棕櫚酸脱水山梨糖醇酯,單 硬脂酸脱水山梨糖醇酯,單油酸脱水山梨糖醇酯,三油酸 脱水山梨糖酸酯和三硬脂酸脱水山梨糖醇酯;以及脂肪酸 聚乙二醇脱水山梨糖醇酯,如單月桂酸聚乙二醇脱水山梨 糖醇酯,單棕搁酸聚乙二醇脱水山梨糖醇酯,單硬脂酸聚 乙二醇脱水山梨糖醇酯,三油酸聚乙二醇脱水山梨糖醇酯 及三硬脂酸聚乙二醇脱水山梨糖醇酯。 所加界面活性劑(E)之量以本發明組合物中固體含量 计,通常爲0.001至2重量%,較佳約〇 〇丨至i重量%。 此等界面活性劑可單獨使用,或作爲兩種或多種之混合 物使用。 本發明之正型感光組合物通常包含溶解組分和之 溶劑。塗佈正型光阻組合物使用至少一種選自由下列各物 組成之群之溶劑:乙酸丙二醇酯單烷基醚,如乙酸丙二醇 — -68 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
I I I ^1 ϋ ϋ 一-0、I n I .^1 ϋ l^i I I I 1 .^1 ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ^1 ϋ n I ϋ ^1 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591337 A7 _______B7 五、發明説明(66 ) 酯單甲醚(PGMEA)和乙酸丙二醇酯單乙醚;乳酸烷酯,如 乳紅甲自曰和乳故乙@旨;丙二醇單貌基醚,如丙二醇單甲鍵 (PGME)和丙二醇單乙醚;乙二醇單烷基醚,如乙二醇單甲 醚和乙二醇單乙醚;乙酸乙二醇酯單烷基醚,如乙酸乙二 醇酯單甲醚和乙酸乙二醇酯單乙醚;2-庚酮;r -丁内 醋;fe氧基丙酸烷酯,如甲氧基丙酸甲酯和乙氧基丙酸乙 醋;丙酮酸烷酯,如丙酮酸甲酯和丙酮酸乙酯;N -甲基叶匕 咯啶酮;N,N -二甲基乙醯胺;和二甲亞颯。 在本發明之正型光阻組合物中,固體含量通常爲〇.5至 2 0重量%,較佳3至1 5重量%,更佳5至1 2重量%。 若需要,本發明之正型光阻組合物可額外包含酸分解溶 解-抑制化合物、染料、增塑劑、除上述外之界面活性 劑、感光劑、促進於顯影劑中溶解之化合物及類似物。 本發明之正型光阻組合物係塗於基板上,並形成薄膜。 所塗薄膜較佳具0.4至1.5微米之厚度。 可藉由適合塗覆方法(如旋轉器和塗覆器)將該組合物塗 覆於製造精密積體電路裝置之基板上(例如以矽/二氧化矽 塗覆之基材),通過預定掩模曝光,烘焙,隨後顯影,由 之得到極佳光阻圖案。所用曝光光線較佳爲2 5 〇納米或更 小波長遠紫外射線,更佳2 2 〇納米或更小。可更明確使用 K r F激元雷射線(2 4 8納米)、A r F激元雷射線(1 9 3納米)、 F 2激元雷射線(1 5 7納米)、X射線、電子束及類似射線。 在此等中,較佳選用A r F激元雷射線(1 9 3納米)。 對於以遠紫外線曝光之本發明正型光阻組合物,其顯影 -69- 本紙張尺度適财S 8家標準(CNS) A4規格(21G χ 297公巧 591337 A7 五、發明說明(67) 所用顯影劑爲無機鹼(如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、 矽酸鈉、偏矽酸鈉和水性氨)、一級胺(如乙胺和正丙 胺)、二級胺(如二乙胺和二正丁胺)、三級胺(如三乙胺 和甲基二乙胺)、醇胺(如二甲基乙醇胺和三乙醇 四 級銨鹽(如氫氧化四甲基銨和氫氧化四乙基鍵)或環性胺 (如吡咯和哌啶)之鹼性水溶液。 該鹼性水溶液可進一步分別以適量包含醇和界面活性 劑。 / 如果用由本發明正型光阻組合物形成之光阻劑作爲雙光 阻層上部光阻層,在以氧電漿蝕刻組成下層之有機聚合物 薄膜時,該上部光阻層對氧電漿顯示足夠高耐性,在此, 該上部光阻層圖案充當部分保護屏蔽。本發明正型光阻组 合物之抗氧電榘性依上部光阻層之碎含量、蚀刻裝置或蝕 刻條件變化,然而,蝕刻選擇比率(下部光阻層和上部光 阻層間之蝕刻速率比)可自丨〇至丨〇 〇,但這已足夠。 在用本發明之正型光阻組合物形成圖案時,首先於欲經 處理基板上形成有機聚合物薄膜。該有機聚合物薄膜可爲 已知光阻劑’其實例包括各種系列,如F Η系列和F H i系列 [由奥林,富吉薄膜公司生產(Fuji Film 〇Hn)]、〇iR]系列 [奥林公司生產(〇lln)]和PFT系列[由蘇密托莫化學公司生 產(Sumitomo Chemical Co·,Ltd)]。爲形成該有機聚合物薄 膜,將此已知材料溶於適合溶劑,由旋塗法、噴塗法或類 似万法塗佈所得溶液。然後在該第一層有機聚合物薄膜上 形成本發明之正型光阻組合物薄膜。用與第一層相同之方 •70- 本紙張尺度翻+國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮 591337
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 法’將光阻材料溶於適合溶劑,所得溶液由旋塗法、喷塗 法或類似方法塗佈。 然後使如此形成之雙光阻層經歷形成圖案步驟。第一階 及’在第二層(即上層)光阻組合物薄膜上形成圖案。更明 確$ 如需要,放置掩模,然後通過該掩模照射高能射 線,因此,經照射區域中光阻組合物變得溶於鹼水性溶 液,經用該鹼水性溶液顯影後形成圖案。 第一階段爲蝕刻該有機聚合物薄膜。操作時,用該光阻 組合物薄膜圖案作屏蔽進行氧電漿蝕刻,以形成具高度高 寬比之精細圖帛。該1電漿蚀刻#機聚合物薄膜係盘麵g 知光㈣操作㈣基板後,以_光阻薄料間進行電黎 灰化所用技術相同。可關柱形電㈣刻裝置或平行 裝置藉由氧氣流作爲反應氣體(即’触刻氣體)完 隨後’用所得光阻圖案作屏蔽處理基 進如濺射蚀刻、氣體電衆㈣和離子2 光:薄:::::膜:!層:阻薄膜法蚀刻處理係以剥離 材料= 層可藉由溶解第-層有機薄膜 之光阻^ 此時,由於該有機聚合物層爲經自由選擇 以=已光触刻操作修飾(例如,熟化),所 τ使用已知本身光阻劑之有機溶劑。亦叮 電裝蚀刻或類似方法制離該光阻薄膜。 '合诗, 實例 以下由述及實例更詳細描述本發明,但不應將該本發明 本紙張尺咖τϋϋ^_Α4 AW--------訂-------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -線· 591337 A7 ---— R7__ 五、發明説明(69 ) 限於此等。 合成實例(1 ) 合成樹脂(1 )至樹脂(6 ) 在氮氣流下將11.4克晞丙基三甲基矽烷、9.8克馬來酸 酐、9.7克甲基丙烯酸第三丁酯和5 〇克從-丙烯醯氧基·々,点 -一甲基_ Γ -丁内酯加至36亳升無水THF,使之完全溶解。 其後’在氮氣流下以佔單體總*莫耳數〇·33莫耳%之量加入 引發劑V-59 [沃克純化學工業公司製造(Wak〇 purechemical
Industries,Ltd·)],並加熱至 6 5 °C。 混合物反應20小時後,將反應混合物滴加至45〇毫升己 烷,過濾所沈澱白色粉末,然後在減壓下以室溫乾燥i小 時。隨後,將白色粉末溶於36毫升無aTHF,再次滴加 至4 5 0毫升己烷,過濾所沈澱白色粉末,然後在減壓下以 4 0 °C乾燥1 6小時得到樹脂(1 )。 經GPC檢測發現,用聚苯乙晞作標準樣,所得樹脂(1) 具有14,200之重均分子量按照Gpc面積比,具或更小 分子量之組分含量爲4 %。 樹脂(2 )至(6 )係用與上述相同之方法得到。 表1與結構式顯示樹脂(1)至樹脂(6)各重複單元之莫耳 比和^均子量。 合成實例(2): 合成樹脂(7): 在氮氣流下將11 ·4克烯丙基三甲基矽烷、9·8克馬來酸 酐、9.7克甲基丙晞酸第三丁酯和4.31克甲基丙晞酸乙氧基 -72- 591337 A7 B7 五、發明說明(70) 乙酿加至36毫升無水THF ’使之完全溶解。隨後用與合 成實例(1 )完全相同之方法得到樹脂(7 )。 經GPC檢測發現,用聚苯乙缔作標準樣,所得樹 具有13,5〇〇〇之重均分子量,按照Gpc面積比,且 更小分子量組分之含量小於3%。 〃 ’ ^ 表1與結構式顯示樹脂(7)之各種重複單元莫 分子量。 耳比和重均 樹脂(1 ) —(ch2-
Si(CH3)2 樹脂(2 )
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5i(CH3)3 樹脂(3 ) 一^CH2一 g
Γ^33 γ-^33 Si(CH3)3 樹脂⑷一^ -73- 適用中(CNS卿各⑽x 297·公愛
9°2 OOz
OH -----------参.!备--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 591337
五、發明說明(71 樹脂(5 )
—im卜in Si(CH3)3 . I 2 I
(CHa)2 0 9〇 (CH232 COOH 樹脂(6 ) *-tch2-c- ( 33 、厂 ^33 σ、〇人。 :CH^~ 严c Si(CH3)3 ?〇2 ch3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) # 樹脂(7 )(用於比較) 々Η厂^ 卜2 St(CH3)3
C(C叫 o^c 訂---------線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實例 將以下物負A於19 · 2克乙酸丙二醇g旨單甲醚 米薄膜濾器精確過濾。 樹脂(1),作爲可酸解樹脂(A)組分 (2,4,6 -二甲冬基)二苯基硫鑽-十七氟 辛烷磺酸鹽,作爲曝光時產生酸之複合組份 -74- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 通過0.1微 2克 0,12 克 591337 A7 Β7 五、發明說明(72) 0.012 克 0.003 克
DBU 界面活性劑w - 1 (下示) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 用由坎南公司(Canon)製造之塗覆器CDS-650將FHi-028D 光阻劑[用於i線之光阻劑,由奥林,富吉薄膜公司生產 (Fuji Film Olin)]塗於碎晶圓上,以9 〇 °C烘培9 〇秒鐘,形成 具0.83微米厚度之均勻薄膜。進一步將該薄膜以2〇〇Ό加熱 3分鐘,隨後該薄膜減至〇·71微米。在該薄膜上塗佈以上 所製備含矽光阻劑,以90°C烘焙90秒鐘,其具有〇.2〇微米 厚度層。 由其中裝載析像掩模之ArF階躍器(stepper)使所得晶圓 曝光,。同時改變曝光量和焦點。隨後在潔淨室内將該晶圓 以12(TC加熱90秒鐘,用氫氧化四甲銨顯影劑(2·38%)顯影 60秒鐘,用蒸餾水清洗,乾燥得到圖案。結果,經由掃描 式電子顯微鏡觀察該圖案,析像〇.14微米線/空間(析像 度)。經評定,粗糙度爲Α。 粗糙度係以目視通過S E Μ觀察〇. 15微米之線和空間圖案 内線邊緣部分之粗糙大小(不規則度),並根據自較高評價 以’入序A、Β和C進行二級評定。線邊緣幾乎無粗糙度(不 規則度)被評定爲A,線邊緣略微粗糙度(不規則度)評度爲 B、線邊緣上明顯粗糙度(不規則度)評定爲匸。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲評價顯影缺陷數目,將實例(丨)所製備光阻劑溶液塗 於6英吋裸矽基板,至〇.5微米厚度,在眞空抽吸式熱板上 以140°C烘焙6 〇秒鐘,用尼坎階躍器(Nik〇n咖叩叫nsR-1505EX通過〇·35微米接觸孔圖案之試驗掩模(孔密度比: 1.3)曝光,以120 C經曝光後_加熱9 〇秒鐘,然後用I%%氫 -75- 本紙張尺度過用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱)
Claims (1)
- 修正 591337 A8 第0901082¾號專利申請案 BS C8 中文申請專利範圍替換本(93年2月)D8 申請專利範圍 1. 一種正型光阻組合物,其包含(A) —樹脂;(B) —能夠以光 化射線或輻射線照射產生酸之化合物; (C) 一能夠溶解(A)和(B)之有機溶劑;和 (D) —有機鹼性化合物,其中該(A)樹脂包括: (a) —由以下所示式(I)代表之重複單元, (b )至少一由以下所示式(Ila)或(lib)代表之重複單 元, (c) 一由以下所示式(III)代表之重複單元,及 (d) —滿足以下條件之重複單元(I V) ·· 可與由式⑴至(III)代表重複單元對應之單體共聚, 包含至少一選自由以下各基團組成之群之官能團: 含内酯結構之基團、含内醯胺結構之基團、-OH、-OCH3、-OCORa、-NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra 、 -COOH 、 -COORa 、 -CONHRa 、-C0NHS02Ra、_C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN,其 中R、R a和Rb分別獨立代表具1至1 0個碳原子之烷基 或芳基,且各基團可經取代,及 大體不能由酸分解,且 在酸作用下於鹼顯影劑中之溶解度增加: -4-CH2—CH-)- Ηχ I I (CH2)—Si-R2 ⑴ 其中R1至R3分別獨立代表烷基、鹵烷基、鹵原子、烷 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)裝 玎 591337氧基、 0或1 ; 燒基甲石夕燒基或三垸基甲矽氧烷基,且η代表 Υ I (工 la) L——C02-Q 其中Y代表選自由氫原子、甲基、氰基和氯原子組成 之群之基團,L代表單鍵或二價連接基團,Q代表氫原 子或能夠由酸分解產生羧酸之基團; CH+ :〇 X、l· (IXb) h A1 其中X1和X2分別獨立代表選自氧原子、硫原子、_NE 和-NHS〇2-之基團;Ll和L2分別獨立代表單鍵或二價$ 接基團;A1代表-Q,或-C00q,,但其限制條件為,^ X1代表氧原子且Li代表單鍵時,"代表_Q,; A2代表j 原子、氰基、羥基、-C00H、_C〇〇R,、_c〇_nh r,,、^ 經取代之烷基、可經取代之環烴基、烷氧基或 COOQ’,其中R,和R”分別獨立代表可具有取代基之为 基;且Q’代表能夠由酸分解產生羧酸之基團·· 十尸- CHi— _ (III) 其中Z代表氧原子或N-R4,R4代表氫原子、羥基、具 -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐) ,88 8 , A BCD 591337 六、申請專利範園 性或分支鍵之坑基或-o-scvr5,R5代表烷基或三鹵$ 基,其中樹脂(A )之量以光阻劑中全部固體含量計為 40至99.99重量%,所加化合物(B)之量以本發明正型 光阻組合物總重量計(不包括塗料溶劑)為〇 · 〇 〇丨至4 〇重 量%,而所用有機鹼性化合物(D)之量以光阻組合物全 部固體量計為0.001至10重量%。 2·根據申請專利範圍第1項之正型光阻組合物,其中該重 複單元(IV)為滿足該重複單元(IV)所需條件且由下式 (IV)代表之重複單元: γ I (IV) X3—L3—A3 其中Y代表選自由氫原子、甲基、氰基和氯原子組成 之群之基團,X3代表選自由_C02-、-〇-及-CON(R)-組成 之群之基團,其中R具有與上述相同之含義,L 3代表 單鍵或二價連接基團,A2代表由以下式(V)或(VI)表 示之基團: -X4 -<-Rc)ml (V) 其中X 4代表可在環内包含羰键或酯鍵之脂環烴基,各 R c獨立代表氫原子、烷基、包含作為取代基之至少一個 官能團之烷基(該官能團選自由_011、-0<:113、-0C0Ra、-NHC0Ra、-NHS02Ra、-N(R)C0Ra、-N(R)S02Ra-、-COOH、- COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、- -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇χ 297公釐)591337 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之群)或選自由-0H 、-OCH3 、-OCORa、-NHCORa、-NHS02Ra、-N(R)C0Ra、-N(R)S02Ra、-C00H、-C00Ra、-C0NHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之群 之基團,其中R、Ra和Rb分別具有與上述相同之含 義,且ml代表0至5之整數; , 裝 ^ci -Crl2—C-*Rc2 (VI) Rc3 % 其中Rc 1和Rc3分別獨立代表氫原子、具1至1 〇個碳原 子可取代燒基、含作為取代基之至少一個官能團之燒 基(該官能團選自由-011、-0(:113、-0(:011&、乂 NHC0Ra、-NHS02Ra、-N(R)C0Ra、-N(R)S02Ra-、-C00H、-C00Ra、-C0NHRa、-C0NHS02Ra、_ C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之群)或選自 由-COOH、-COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之群之基團, 但其限制條件為RC1和RC3不同時為氫;且RC2代表選自 由- OH、- 〇CH3、- OCORa、- NHCORa、 -NHS02Ra、-N(R)CORa、-N(R)S02Ra、-COOH、-COORa、-CONHRa、-C0NHS02Ra、-C0N(R)S02Ra、-CON(Ra)(Rb)和-CN組成之群之基團,其中R、Ra和Rb 分別具有與上述相同之含義。 3.根據申請專利範圍第2項之正型光阻組合物,其中該式 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 591337 A8 B8 申請專利範圍 (IV)中A3為由以下式(VII)代表之基團: R丄 ㈣ 其中X代表選自-C0-0-和-C(=〇)-之基團,RC和ml分 別具有與上述相同之含義,m5代表〇至2之整數。 4·根據申請專利範圍第3項之正型光阻組合物,其中該由 式(vii)代表之基團為藉下列式(νιπ)或(ιχ)代表之基 團:5·根據申請專利範圍第2項之正型光阻組合物,其中該式 (V)中X4為金剛烷殘基。 6·根據申請專利範圍第丨項之正型光阻組合物,其中該組 分(Β )為以光化射線或輕射線照射產生有機橫酸之化合 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公董) 591337 8 8 8 8 A B c D 申請專利範圍 物 根據申請專利範圍第1項之正型光阻組合物,其進一步 包括(E)含氟界面活性劑、含矽界面活性劑和非離子性 界面活性劑之至少一界面活性劑者。 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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